CN112126372B - 抗静电表面保护膜的制造方法、抗静电表面保护膜 - Google Patents

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Abstract

本发明提供在低速剥离速度及高速剥离速度下具有取得了平衡的粘着力，且可谋求兼顾抗静电性与抗污染性的抗静电表面保护膜。作为解决手段，将层叠有含抗静电剂的剥离剂层(4)的剥离膜(5)经剥离剂层(4)贴合于交联粘着剂组合物而成的粘着剂层(2)的表面，将剥离剂层(4)的抗静电剂转印至粘着剂层(2)的表面，所述粘着剂组合物含有：(A)丙烯酸类聚合物，其在烷基的碳原子数为C1～C10的(甲基)丙烯酸烷基酯的至少2种以上的合计100重量份中，以50重量份以上的比例含有丙烯酸2‑乙基己酯、以合计为5～40重量份的比例含有均聚物的Tg为0℃以上的单官能度甲基丙烯酸酯单体中的1种以上；(C)三官能度以上的异氰酸酯化合物；(D)交联延迟剂；除锡化物以外的(E)交联促进剂。

Description

抗静电表面保护膜的制造方法、抗静电表面保护膜
技术领域
本发明涉及能够适宜地使用于偏振片用表面保护膜等表面保护膜的抗静电表面保护膜的制造方法、抗静电表面保护膜。进一步详细而言，涉及提供在低速的剥离速度及高速的剥离速度下具有得到了平衡的粘着力，且可谋求兼顾抗静电性能与抗污染性能的抗静电表面保护膜的制造方法、抗静电表面保护膜。
背景技术
一直以来，在作为构成液晶显示器的构件的偏振片等光学构件的制造工序中，为了暂时保护光学构件的表面而贴合表面保护膜。这种表面保护膜仅在制造光学构件的工序中使用，将光学构件安装于液晶显示器时，将其从光学构件上剥离而去除。由于这种用于保护光学构件的表面的表面保护膜仅在光学构件的制造工序中使用，因此通常也被称作工序膜。
这种在制造光学构件的工序中使用的表面保护膜在具有光学透明性的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)树脂膜的单面上形成有粘着剂层。此外，为了在贴合于光学构件之前保护表面保护膜的粘着剂层，在表面保护膜的粘着剂层的表面上贴合有进行了脱模处理的脱模膜。
并且，偏振片等光学构件以贴合有表面保护膜的状态，接受伴随液晶显示板的显示能力、色调、对比度、杂质混入等光学评价的产品检验。因此，作为对表面保护膜的性能要求，要求粘着剂层中未混入气泡及杂质，且能够减少粘着剂组合物的低分子量成分附着于被粘物的表面，即要求具有抗污染性能。
此外，从偏振片等光学构件上剥离表面保护膜时，伴随着从被粘物上剥离粘着剂层时所产生的静电而产生剥离静电，而该剥离静电可能会对液晶显示器的电气控制电路的故障造成影响。因此，要求表面保护膜的粘着剂层具有优异的抗静电性能。
进一步，近年来，作为偏振片的起偏镜的保护层(有时也被称作保护膜)，除了以往所使用的三醋酸纤维素(TAC)以外，正在扩大对聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)等丙烯酸类树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等聚酯类树脂、环状烯烃类聚合物、聚碳酸酯等的、剥离偏振片的表面保护膜时容易产生剥离静电的材料的应用。因此，对用于偏振片的表面保护膜的粘着剂层所要求的抗静电性能需要比以往优异。
此外，要求最终从偏振片等光学构件上剥离表面保护膜时，能够快速地剥离。即，要求粘着力因剥离速度造成的变化小，以便即使在高速剥离的情况下也能够快速地剥离。
如上所述，近年来，从使用表面保护膜时的使用难易度出发，要求构成表面保护膜的粘着剂层具有如下性能：(1)在低速的剥离速度与高速的剥离速度下取得粘着力的平衡；(2)具有抗污染性能；(3)具有优异的抗静电性能等。
然而，关于对构成表面保护膜的粘着剂层的性能要求，即使能够分别满足上述(1)～(3)的个别的性能要求，同时满足对表面保护膜的粘着剂层所要求的(1)～(3)的所有性能要求也是非常困难的技术问题。
为了解决这样的技术问题，例如，针对(1)在低速的剥离速度与高速的剥离速度下取得粘着力的平衡、(2)具有抗污染性能以及(3)具有优异的抗静电性能，分别已知有如下方案。
关于(1)在低速的剥离速度与高速的剥离速度下取得粘着力的平衡，在将具有碳原子数为7以下的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯与含羧基的共聚性化合物的共聚物作为主要成分，并使用交联剂对其进行交联处理而成的丙烯酸类的粘着剂层中，在进行长时间粘合的情况下，存在粘着剂向被粘物一侧移动而附着于被粘物，或者对被粘物的粘合力的经时上升性较大的问题。为了避免该问题，已知一种粘着剂层及设置有该粘着剂层的表面保护构件，所述粘着剂层为使用具有碳原子数为8～10的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯与具有醇羟基的共聚性化合物的共聚物，并使用交联剂对其进行交联处理而成的凝胶分率为60％以上的粘着剂层(专利文献1)。
然而，专利文献1中记载的粘着剂层存在无法完全解决对被粘物的粘合力随时间变化而增大的问题。
此外，已知一种设置有下述粘着剂层的技术方案，所述粘着剂层为向与上述相同的共聚物中，掺合少量的(甲基)丙烯酸烷基酯与含羧基的共聚性化合物的共聚物，并使用交联剂对其进行交联处理而成的粘着剂层。然而，若将这些粘着剂层用于表面张力低且表面光滑的塑料板等的表面保护，则还存在因加工时或保存时的加热而产生浮起等剥离现象的问题、在手工操作领域的高速的剥离速度下的粘着力大且再剥离性差的问题。
为了解决这些技术问题，提出了一种粘着剂组合物，其在100重量份的a)以具有碳原子数为8～10的烷基的(甲基)丙烯酸烷基酯为主要成分的(甲基)丙烯酸烷基酯中，加入1～15重量份的b)含羧基的共聚性化合物以及3～100重量份的c)碳原子数为1～5的脂肪族羧酸的乙烯基酯而形成单体混合物的共聚物，并在该共聚物中掺合了相对于上述b)成分的羧基为当量以上的交联剂(专利文献2)。
对于使专利文献2中记载的粘着剂组合物交联而成的粘着剂层，在加工时或保存时不会产生浮起等剥离现象，并且粘合力的经时上升性小，再剥离性优异，即使长期保存、特别是在高温氛围下长期保存，也能够以较小的力进行再剥离，此时不会在被粘物上产生残胶，且即使在进行高速剥离时也能够以较小的力进行再剥离。
然而，对于使专利文献2中记载的粘着剂组合物交联而成的粘着剂层，实施例1～3中的粘着剂层的凝胶分率均为90％，在低速的剥离速度下的粘着力易于变得过大，未聚合单体或低聚物易于从粘着剂层中溶出。此外，专利文献2中没有关于抗静电性能及抗污染性能的记载，在将易于产生剥离静电的材料作为被粘物的情况下，存在难以改良成具备优异的抗静电性能及抗污染性能的粘着剂层的问题。
此外，关于(2)具有抗污染性能，公开了一种粘着剂组合物，其含有：100质量份的重均分子量为10万以上且小于100万的(甲基)丙烯酸类共聚物，该共聚物由0质量份以上且小于0.5质量份的含羧基单体、0.6～9质量份的含羟基的(甲基)丙烯酸类单体及99.4～90.5质量份的(甲基)丙烯酸酯单体形成；及0.1～5质量份的碳二亚胺类交联剂(专利文献3)。
专利文献3中记载的粘着剂组合物的特征在于，使用碳二亚胺类交联剂作为特定组成的(甲基)丙烯酸类共聚物的交联剂。由此，能够提供具有交联结构的粘着剂层，该交联结构可追随由压热处理时的压力及温度引起的收缩。因此，使用专利文献3中记载的粘着剂组合物而形成的粘着剂层即使在高温高压条件下(压热处理时)也能够抑制并防止起泡，抗污染性能优异，此外，透明性也优异。
然而，对于使专利文献3中记载的粘着剂组合物交联而成的粘着剂层，其抗污染性能虽然得到了改良，但未能实现在低速的剥离速度与高速的剥离速度下取得粘着力的平衡所带来的优异的粘着性能同抗静电性能的兼顾，还残留有需要进一步解决的技术问题。
此外，关于(3)具有优异的抗静电性能，作为用于对表面保护膜赋予抗静电性的方法，已知有向基材膜中捏合抗静电剂的方法等。作为抗静电剂，例如公开了：(a)具有季铵盐、吡啶鎓盐、伯～叔氨基等阳离子基团的各种阳离子抗静电剂；(b)具有磺酸盐基(スルホン酸塩基)、硫酸酯盐基(硫酸エステル塩基)、磷酸酯盐基(リン酸エステル塩基)、膦酸盐基(ホスホン酸塩基)等阴离子基团的阴离子抗静电剂；(c)氨基酸类、氨基硫酸酯类等两性抗静电剂；(d)氨基醇类、甘油类、聚乙二醇类等非离子抗静电剂；(e)将如上所述的各种抗静电剂高分子量化而成的高分子型抗静电剂等(专利文献4)。
然而，对于专利文献4中记载的表面保护膜，虽然有涉及垃圾附着于被粘物的有关赋予抗静电性能的记载，但并未记载兼顾优异的粘着性能与抗污染性能的解决手段，还残留有需要进一步解决的技术问题。
此外，近年来，提出了一种直接使粘着剂层含有抗静电剂，而不是使基材膜含有抗静电剂或者在基材膜的表面上涂布抗静电剂的方案。例如公开了一种抗静电性粘着剂组合物，其特征在于，具备含有氟代基及磺酰基的阴离子的盐以溶解于主链中包含聚醚基的聚醚酯类增塑剂的状态进行分散(专利文献5)。
关于专利文献5中记载的粘着剂组合物，公开了使用由下述酯构成的增塑剂作为增塑剂：由具有饱和或不饱和的非环式烃基的一元羧酸或二元羧酸与具有碳原子数为1～20的非环式烃基的醇形成的酯；或者所述不饱和的非环式烃基中的不饱和基团被环氧化而成的酯。认为：通过使这种具有饱和或不饱和的非环式烃基的一元羧酸或二元羧酸具有与构成用于粘着剂层的丙烯酸共聚物的丙烯酸单体的碳原子数相近的碳原子数，与抗静电性粘着剂组合物的相容性变得良好，增塑剂在丙烯酸类抗静电性粘着剂组合物中得到适当保持，因此渗出得以抑制。
然而，对于使专利文献5中记载的抗静电性粘着剂组合物交联而成的粘着剂层，虽然有公开抗静电性能及渗出的改良技术，但没有记载可获得在低速的剥离速度与高速的剥离速度下取得粘着力的平衡所带来的优异的粘着性能，还残留有得到具有优异的粘着性能的粘着剂层这一技术问题。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开昭63-225677号公报
专利文献2：日本特开平11-256111号公报
专利文献3：日本特开2011-122054号公报
专利文献4：日本特开平11-070629号公报
专利文献5：日本特开2014-118469号公报
发明内容
本发明要解决的技术问题
如上所述，尚没有现有技术解决同时实现作为对构成表面保护膜的粘着剂层的性能要求的以下要求这一技术问题：(1)在低速的剥离速度与高速的剥离速度下取得粘着力的平衡；(2)具有抗污染性能；(3)具有优异的抗静电性能。
此外，一直以来，使用具备抗静电性能的粘着剂组合物而形成的粘着剂层以及使用了该粘着剂层的表面保护膜的、抗静电性能与对被粘物的抗污染性能的关系处于权衡(trade-off)的关系，难以在维持抗静电性能的同时改善抗污染性能。
进一步，由于近年来表面保护膜所贴合的被粘物的材质的种类增加，且被粘物的表面处理后的状态也多种多样，因此，对构成表面保护膜的粘着剂层而言，特别是对所有被粘物满足上述的(1)在低速的剥离速度与高速的剥离速度下取得粘着力的平衡、以及(2)具有抗污染性变得更加困难。
本发明是鉴于上述情况而进行的，其技术问题在于提供在低速的剥离速度与高速的剥离速度下具有取得了平衡的粘着力、且可谋求兼顾抗静电性能与抗污染性能的抗静电表面保护膜的制造方法、抗静电表面保护膜。
解决技术问题的技术手段
为了解决上述技术问题，本发明的抗静电表面保护膜将(A)烷基的碳原子数为C1～C10的(甲基)丙烯酸烷基酯中的丙烯酸2-乙基己酯与均聚物的玻璃化转变温度(Tg)为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体的含有比例规定为特定范围。进一步，本发明的技术构思在于，涂布粘着剂组合物并使其干燥从而层叠粘着剂层后，对该粘着剂层的表面赋予适量的在20℃下为液体的硅酮类化合物及抗静电剂，由此将对被粘物的污染性抑制得较低(具有抗污染性能)，并且将从作为被粘物的光学用膜上剥离时的剥离静电压抑制得较低。
为了解决上述技术问题，本发明提供一种抗静电表面保护膜的制造方法，其为制造抗静电表面保护膜的方法，所述制造方法的特征在于，以工序(1)～(3)的顺序经过以下的工序(1)～(3)而制作抗静电表面保护膜：
工序(1)：制备粘着剂组合物的工序，所述粘着剂组合物含有丙烯酸类聚合物与交联剂，所述丙烯酸类聚合物为使合计为100重量份的(A)烷基的碳原子数为C1～C10的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少2种以上、合计为1.0～6.0重量份的(B)含有羟基的可共聚单体中的至少1种以上、及合计为1.0～50重量份的(F)构成聚亚烷基二醇链的含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中的至少1种以上，以不含有具有羧基的可共聚单体的方式共聚而成的、重均分子量超过30万且为100万以下的共聚物所形成的丙烯酸类聚合物，在所述(A)烷基的碳原子数为C1～C10的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少2种以上的合计100重量份中，以50重量份以上的比例含有丙烯酸2-乙基己酯、以合计为5～40重量份的比例含有均聚物的Tg为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体中的1种以上，所述粘着剂组合物含有作为所述交联剂的(C)三官能度以上的异氰酸酯化合物、以及(D)交联延迟剂与作为(E)交联促进剂的除锡化物以外的交联促进剂；
工序(2)：在由具有透明性的树脂形成的基材膜的单面上制作使所述粘着剂组合物交联而成的粘着剂层的工序；及
工序(3)：将在树脂膜的单面层叠有含有抗静电剂的剥离剂层的剥离膜经由所述剥离剂层而贴合于所述粘着剂层的表面，使所述剥离剂层的所述抗静电剂转印至所述粘着剂层的表面的工序，
所述剥离剂层由树脂组合物形成，所述树脂组合物包含以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、在20℃下为液体的硅酮类化合物及抗静电剂。
此外，优选：所述均聚物的Tg为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体为选自由甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯组成的化合物组中的1种以上。
此外，优选所述剥离剂层中的抗静电剂为碱金属盐。
此外，本发明提供一种抗静电表面保护膜，其在由具有透明性的树脂形成的基材膜的单面上形成有粘着剂层，所述粘着剂层由含有丙烯酸类聚合物与交联剂的粘着剂组合物交联而成，所述抗静电表面保护膜的特征在于，所述丙烯酸类聚合物为使合计为100重量份的(A)烷基的碳原子数为C1～C10的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少2种以上、合计为1.0～6.0重量份的(B)含有羟基的可共聚单体中的至少1种以上、及合计为1.0～50重量份的(F)构成聚亚烷基二醇链的含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中的至少1种以上，以不含有具有羧基的可共聚单体的方式共聚而成的、重均分子量超过30万且为100万以下的共聚物所形成的丙烯酸类聚合物，在所述(A)烷基的碳原子数为C1～C10的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少2种以上的合计100重量份中，以50重量份以上的比例含有丙烯酸2-乙基己酯、以合计为5～40重量份的比例含有均聚物的Tg为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体中的1种以上，所述粘着剂组合物含有作为所述交联剂的(C)三官能度以上的异氰酸酯化合物、以及(D)交联延迟剂与作为(E)交联促进剂的除锡化物以外的交联促进剂，将在树脂膜的单面层叠有含有抗静电剂的剥离剂层的剥离膜经由所述剥离剂层而贴合于所述粘着剂层的表面，使所述剥离剂层的所述抗静电剂转印至所述粘着剂层的表面，所述剥离剂层由树脂组合物形成，所述树脂组合物包含以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、在20℃下为液体的硅酮类化合物及抗静电剂。
此外，优选：所述均聚物的Tg为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体为选自由甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯组成的化合物组中的1种以上。
此外，优选所述剥离剂层中的抗静电剂为碱金属盐。
此外，优选：所述(F)构成聚亚烷基二醇链的含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中，构成聚亚烷基二醇链的环氧烷(alkylene oxide)的平均重复数为3～14，所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中的二酯组分为0.2％以下，所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体为选自由聚亚烷基二醇单(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚亚烷基二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基聚亚烷基二醇(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少1种以上。
此外，优选：将抗静电表面保护膜用作偏振片用表面保护膜，在所述偏振片用表面保护膜的用途中，作为被粘物的偏振片的起偏镜的保护层为选自由TAC类膜、PMMA类膜、PET类膜组成的组中的至少1种，且对所述偏振片的起偏镜的保护层的表面实施的表面处理为选自由未处理、AG处理、LR处理、AR处理、AG-LR处理、AG-AR处理组成的组中的至少1种。
此外，优选：所述(B)含有羟基的可共聚单体为选自由(甲基)丙烯酸8-羟基辛酯、(甲基)丙烯酸6-羟基己酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、N-羟基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟乙基(甲基)丙烯酰胺组成的化合物组中的至少1种以上。
此外，优选：所述(D)交联延迟剂为酮-烯醇互变异构体的化合物，相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，以0.1～300重量份的比例含有所述(D)交联延迟剂，所述(E)交联促进剂为选自由铝螯合化合物、钛螯合化合物、铁螯合化合物组成的组中的至少1种以上的金属螯合化合物，相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，以0.001～0.5重量份的比例含有所述(E)交联促进剂，所述(D)/所述(E)的重量份比为80～1000。
此外，优选：相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，所述粘着剂组合物以0.01～0.5重量份的比例含有HLB值为6～12且重均分子量为10000以下的聚醚改性硅氧烷化合物。
此外，优选所述剥离剂层中的硅酮类化合物为聚醚改性硅酮。
此外，优选：所述剥离剂层中的抗静电剂为Li盐，为选自由LiTFSI、LiFSI、LiTF组成的化合物组中的至少1种以上。
发明效果
本发明的抗静电表面保护膜对被粘物的污染少，对被粘物的抗污染性能不会随时间变化。此外，根据本发明，即使为使用硅酮化合物或氟化物等对LR偏振片或AG-LR偏振片等被粘物的表面进行了抗污染处理的光学用膜，也能够将从被粘物上剥离抗静电表面保护膜时所产生的剥离静电压抑制得较低，能够提供一种不发生经时劣化且具有优异的抗剥离静电性能的抗静电表面保护膜。
根据本发明的抗静电表面保护膜，即使在以PMMA为基材的偏振片用表面保护膜中，也能够兼顾(1)在低速的剥离速度与高速的剥离速度下取得粘着力的平衡及(2)具有抗污染性能。
此外，通过将(A)烷基的碳原子数为C1～C10的(甲基)丙烯酸烷基酯中的丙烯酸2-乙基己酯与均聚物的玻璃化转变温度(Tg)为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体的含有比例规定为特定范围，从而特别是在以PMMA为基材的偏振片用表面保护膜中，也能够兼顾(1)在低速的剥离速度与高速的剥离速度下取得粘着力的平衡及(2)具有抗污染性能。
另外，含有均聚物的Tg为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体中的1种以上有助于兼顾(1)在低速的剥离速度与高速的剥离速度下取得粘着力的平衡及(2)具有抗污染性能的理由尚未解明。作为可考虑到的理由，推测其理由如下：即使这些甲基丙烯酸酯单体不具有羧基或酰胺基之类的极性官能团或超过C10的长链烷基，也可获得Tg较高的聚合物，因此能够大幅改善交联状态下的粘着性能，此外，在偏振片用表面保护膜的用途中，当作为被粘物的偏振片的起偏镜的保护层为PMMA类膜时，与作为该PMMA类膜的主要成分的甲基丙烯酸甲酯的亲和性得以提高等。
附图说明
图1为示出本发明的抗静电表面保护膜的概念的剖面图。
图2为示出从本发明的抗静电表面保护膜中剥离了剥离膜的状态的剖面图。
图3为示出本发明的光学部件的1个实施例的剖面图。
附图标记说明
1：基材膜；2：粘着剂层；3：树脂膜；4：剥离剂层；5：剥离膜；7：抗静电剂；8：被粘物(光学部件)；10：抗静电表面保护膜；11：剥离了剥离膜的抗静电表面保护膜；20：贴合有抗静电表面保护膜的光学部件。
具体实施方式
以下，基于实施方式，对本发明进行详细说明。
图1为示出本实施方式的抗静电表面保护膜的概念的剖面图。该抗静电表面保护膜10在透明的基材膜1的单面的表面上形成有粘着剂层2。该粘着剂层2的表面上贴合有在树脂膜3的表面上形成有剥离剂层4的剥离膜5。
作为用于本实施方式的抗静电表面保护膜10的基材膜1，可使用由具有透明性及可挠性的树脂形成的基材膜。由此，能够以将抗静电表面保护膜贴合于作为被粘物的光学部件的状态进行光学部件的外观检测。用作基材膜1的由具有透明性的树脂形成的膜可适当地使用聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、聚间苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯等聚酯膜。除了聚酯膜以外，只要具有所需的强度且具有光学适性，则也可使用由其他树脂形成的膜。基材膜1可以为无拉伸膜，也可以为经单轴或双轴拉伸的膜。此外，还可以将拉伸膜的拉伸倍率、或伴随拉伸膜的结晶化而形成的轴方向的取向角度控制为特定的值。
用于本实施方式的抗静电表面保护膜10的基材膜1的厚度没有特别限定，例如优选为12～100μm左右的厚度，若为20～50μm左右的厚度则容易操作，更加优选。
此外，可根据需要在基材膜1的与形成有粘着剂层2的面为相反侧的面上设置防止表面污染的防污层、抗静电层、防止伤痕的硬涂层等。此外，可对基材膜1的表面实施基于电晕放电的表面改性、锚固剂的涂覆等易粘合处理。
此外，用于本实施方式的抗静电表面保护膜10的粘着剂层2粘合于被粘物的表面，并能够在完成使用后简单地剥离，且只要为不易污染被粘物的粘着剂，则没有特别限定，若考虑到贴合于光学用膜后的耐久性等，则通常使用使丙烯酸类聚合物交联而成的丙烯酸类的粘着剂层。
作为构成所述粘着剂层2的粘着剂组合物，可列举出下述粘着剂组合物：丙烯酸类聚合物为使合计为100重量份的(A)烷基的碳原子数为C1～C10的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少2种以上、合计为1.0～6.0重量份的(B)含有羟基的可共聚单体中的至少1种以上、及合计为1.0～50重量份的(F)构成聚亚烷基二醇链的含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中的至少1种以上，以不含有具有羧基的可共聚单体的方式共聚而成的、重均分子量超过30万且为100万以下的共聚物所形成的丙烯酸类聚合物，在所述(A)烷基的碳原子数为C1～C10的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少2种以上的合计100重量份中，以50重量份以上的比例含有丙烯酸2-乙基己酯，以合计为5～40重量份的比例含有均聚物的Tg为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体中的1种以上，且含有作为所述交联剂的(C)三官能度以上的异氰酸酯化合物、以及(D)交联延迟剂与作为(E)交联促进剂的除锡化物以外的交联促进剂的粘着剂组合物。
作为所述(A)烷基的碳原子数为C1～C10的(甲基)丙烯酸烷基酯，可列举出(甲基)丙烯酸甲酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸正丙酯、(甲基)丙烯酸异丙酯、(甲基)丙烯酸正丁酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸仲丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸戊酯、(甲基)丙烯酸己酯、(甲基)丙烯酸庚酯、(甲基)丙烯酸辛酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯、(甲基)丙烯酸壬酯、(甲基)丙烯酸异壬酯、(甲基)丙烯酸癸酯、(甲基)丙烯酸环戊基酯、(甲基)丙烯酸环己基酯等。这些(甲基)丙烯酸烷基酯的烷基可以为非环状(直链、支链状)、环状(单环、多环)中的任意一种。
所述丙烯酸类聚合物优选在合计为100重量份的所述(A)中，以50重量份以上的比例含有丙烯酸2-乙基己酯、以合计为5～40重量份的比例含有均聚物的Tg为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体中的1种以上。
此外，在合计为100重量份的所述(A)中，优选以50重量份以上的比例、更优选以60重量份以上的比例、特别优选以70重量份以上的比例含有丙烯酸2-乙基己酯。
此外，作为所述(A)烷基的碳原子数为C1～C10的(甲基)丙烯酸烷基酯中的Tg为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体，可列举出选自由甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸正戊酯、甲基丙烯酸异戊酯、甲基丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸异己酯、甲基丙烯酸环己基酯、甲基丙烯酸异冰片酯、甲基丙烯酸二环戊基酯组成的化合物组中的1种以上。这些Tg为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体中，优选烷基的碳原子数为C1～C6的甲基丙烯酸酯单体，更优选烷基的碳原子数为C1～C4的甲基丙烯酸酯单体，特别优选选自由甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯组成的化合物组中的1种以上。
此外，在合计为100重量份的所述(A)中，优选以合计为5～40重量份的比例、更优选以合计为8～40重量份的比例、特别优选以合计为10～35重量份的比例含有Tg为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体中的1种以上。另外，在以下的说明中，对于单体，简称为Tg时有时指的是均聚物的Tg。
作为用于所述丙烯酸类聚合物的(B)含有羟基的可共聚单体，优选选自由(甲基)丙烯酸8-羟基辛酯、(甲基)丙烯酸6-羟基己酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、N-羟基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟乙基(甲基)丙烯酰胺等组成的化合物组中的至少1种以上。
相对于合计为100重量份的所述(A)，所述丙烯酸类聚合物优选以合计为1.0～6.0重量份的比例、更优选以合计为2.0～6.0重量份的比例、特别优选以合计为2.5～5.5重量份的比例含有所述(B)含有羟基的可共聚单体中的至少1种以上。
优选所述丙烯酸类聚合物共聚有(F)构成聚亚烷基二醇链的含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体。进一步，也可将所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体作为与所述丙烯酸类聚合物不同的成分而添加至粘着剂组合物中。在任意情况下，所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体均可作为抗静电助剂而发挥功能。
作为所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体，只要为聚亚烷基二醇所具有的多个羟基中的一个羟基被酯化成(甲基)丙烯酸酯的化合物即可。由于(甲基)丙烯酸酯基为聚合性基团，因此能够与所述丙烯酸类聚合物共聚。可以是其他羟基仍为OH的聚亚烷基二醇单(甲基)丙烯酸酯，也可以是其他羟基被转化为烷基醚的烷氧基聚亚烷基二醇单(甲基)丙烯酸酯等。另外，由于聚亚烷基二醇单(甲基)丙烯酸酯属于所述(F)，因此即使含有羟基，也不会被归类为所述(B)。
作为构成所述聚亚烷基二醇链的聚亚烷基二醇，只要为具有1种或2种以上的亚烷基的二醇化合物即可，例如可列举出聚乙二醇、聚丙二醇、聚丁二醇、聚乙二醇-聚丙二醇、聚乙二醇-聚丁二醇、聚丙二醇-聚丁二醇、聚乙二醇-聚丙二醇-聚丁二醇等。
优选所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中的构成聚亚烷基二醇链的环氧烷的平均重复数为3～14。“环氧烷的平均重复数”是指，在所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体的分子结构所包含的“聚亚烷基二醇链”的部分中，环氧烷单元重复的平均数。
此外，所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中的二酯组分优选为0.2％以下。“单体中的二酯组分”是指，所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中包含的聚亚烷基二醇二(甲基)丙烯酸酯的含有率(重量％)。
作为所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体，优选选自由聚亚烷基二醇单(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚亚烷基二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基聚亚烷基二醇(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少1种以上。
相对于合计为100重量份的所述(A)，所述丙烯酸类聚合物优选以1～50重量份的比例、更优选以1～35重量份的比例、特别优选以1～25重量份的比例共聚有作为所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体的、选自由聚亚烷基二醇单(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚亚烷基二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基聚亚烷基二醇(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少1种以上。
所述丙烯酸类聚合物的制备方法没有特别限定，可使用溶液聚合法、乳液聚合法等适宜且公知的聚合方法。优选所述丙烯酸类聚合物的重均分子量超过30万且为100万以下。此外，所述丙烯酸类聚合物为以不含有具有羧基的可共聚单体的方式共聚而成的丙烯酸类聚合物。所述丙烯酸类聚合物的酸值优选为0.1～1.0。由此，能够改善抗污染性能。此处，“酸值”是表示酸含量的指标之一，以中和1g含有羧基的聚合物所需要的氢氧化钾的mg数来表示。
本实施方式的粘着剂组合物进一步含有(C)三官能度以上的异氰酸酯化合物作为交联剂。作为(C)三官能度以上的异氰酸酯化合物，例如可列举出六亚甲基二异氰酸酯、异佛尔酮二异氰酸酯、二苯基甲烷二异氰酸酯、甲苯二异氰酸酯、苯二亚甲基二异氰酸酯等二异氰酸酯类的缩二脲改性体或异氰脲酸酯改性体、与三羟甲基丙烷或甘油等3价以上的多元醇的加合物等。作为(C)三官能度以上的异氰酸酯化合物的比例，例如相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，优选以0.1～10重量份的比例、更优选以0.1～6重量份的比例含有(C)三官能度以上的异氰酸酯化合物。
本实施方式的粘着剂组合物含有(D)交联延迟剂。作为(D)交联延迟剂，可列举出乙酰乙酸甲酯、乙酰乙酸乙酯、乙酰乙酸辛酯、乙酰乙酸油醇酯(oleyl acetoacetate)、乙酰乙酸月桂酯、乙酰乙酸十八烷基酯等β-酮酯，或者乙酰丙酮、2,4-己二酮、苯甲酰丙酮等β-二酮。这些(D)交联延迟剂为酮-烯醇互变异构体的化合物，通过对(C)三官能度以上的异氰酸酯化合物所具有的异氰酸酯基进行封端(block)，能够抑制掺合交联剂后的粘着剂组合物的过度的粘度上升及凝胶化，能够延长粘着剂组合物的贮存期(pot-life)。(D)交联延迟剂特别优选为选自由乙酰丙酮、乙酰乙酸乙酯组成的化合物组中的至少1种以上。相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，优选以0.1～300重量份的比例含有(D)交联延迟剂。
本实施方式的粘着剂组合物含有除锡化物以外的交联促进剂作为(E)交联促进剂。当将(C)三官能度以上的异氰酸酯化合物作为交联剂时，(E)交联促进剂只要为对丙烯酸类聚合物与交联剂的反应(交联反应)作为催化剂而发挥功能的物质即可。作为(E)交联促进剂，优选金属螯合化合物。金属螯合化合物为在中心金属原子M上键合有1个以上的多齿配体L的化合物。金属螯合化合物可以具有键合于金属原子M上的1个以上的单齿配体X，也可以不具有键合于金属原子M上的单齿配体X。作为金属螯合化合物的具体实例，可列举出三(2,4-戊二酮)铁(III)、三乙酰丙酮铁、三乙酰丙酮钛、三乙酰丙酮钌、双乙酰丙酮锌、三乙酰丙酮铝、四乙酰丙酮锆、三(2,4-己二酮)铁(III)、双(2,4-己二酮)锌、三(2,4-己二酮)钛、三(2,4-己二酮)铝、四(2,4-己二酮)锆等。
作为(E)交联促进剂，优选选自由铝螯合化合物、钛螯合化合物、铁螯合化合物组成的组中的至少1种以上的金属螯合化合物。相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，优选以0.001～0.5重量份的比例含有(E)交联促进剂。
(D)交联延迟剂与(E)交联促进剂相反，其具有抑制交联的效果，因此优选适当地设定(D)交联延迟剂与(E)交联促进剂的比例。为了延长粘着剂组合物的贮存期、提高贮藏稳定性，(D)/(E)的重量份比优选为80～1000，更优选为80～700，特别优选为80～300。此处，(D)/(E)的重量份比是指(D)的重量份除以(E)的重量份而得到的商的值。
本实施方式的粘着剂组合物还可以含有(G)聚醚改性硅氧烷化合物作为任意成分。所述聚醚改性硅氧烷化合物为具有聚醚基的硅氧烷化合物，除了具有通常的硅氧烷单元[-SiR1 2-O-]以外，还具有带聚醚基的硅氧烷单元[-SiR1(R2O(R3O)nR4)-O-]。此处，R1表示1种或2种以上的烷基或芳基、R2及R3表示1种或2种以上的亚烷基、R4表示1种或2种以上的烷基或酰基等(末端基团)。作为聚醚基，可列举出聚氧亚乙基[(C2H4O)n]或聚氧亚丙基[(C3H6O)n]等聚氧亚烷基。在具有聚醚基的硅氧烷单元中，聚醚基的末端可以为OH基(上述通式中R4＝H)。
优选所述聚醚改性硅氧烷化合物为HLB值为6～12的聚醚改性硅氧烷化合物。此外，相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，优选以0.01～0.5重量份的比例、更优选以0.02～0.35重量份的比例、特别优选以0.02～0.25重量份的比例含有所述聚醚改性硅氧烷化合物。HLB值是指例如JIS K3211(表面活性剂术语)等中规定的亲水亲油平衡值(亲水亲油比)。
所述聚醚改性硅氧烷化合物例如能够通过以下方式得到：利用氢化硅烷化反应，使具有不饱和键及聚氧亚烷基的有机化合物接枝于具有氢化硅基的聚有机硅氧烷主链。具体而言，可列举出二甲基硅氧烷-甲基(聚氧亚乙基)硅氧烷共聚物、二甲基硅氧烷-甲基(聚氧亚乙基)硅氧烷-甲基(聚氧亚丙基)硅氧烷共聚物、二甲基硅氧烷-甲基(聚氧亚丙基)硅氧烷聚合物等。
通过将所述聚醚改性硅氧烷化合物掺合于粘着剂组合物，能够改善粘着剂层的粘着力及再操作性能。所述聚醚改性硅氧烷化合物的重均分子量优选为10000以下。从与所述丙烯酸类聚合物的相容性的角度出发，虽然HLB值低且分子量低时相容性更良好，但为分子量低的聚醚改性硅氧烷化合物时，即使HLB值比较高且与所述丙烯酸类聚合物的相容性略低，也可获得优异的抗静电性。
不限于上述添加剂，也可向本实施方式的粘着剂组合物中适当掺合表面活性剂、固化促进剂、增塑剂、填充剂、固化延迟剂、加工助剂、抗老化剂、抗氧化剂等公知的添加剂。这些添加剂可单独使用，或者也可同时使用2种以上。
用于本实施方式的抗静电表面保护膜10的粘着剂层2的厚度虽然没有特别限定，例如优选为5～40μm左右的厚度，更优选为10～30μm左右的厚度。当粘着剂层2具有抗静电表面保护膜对被粘物的表面的剥离强度(粘着力)为0.03～0.3N/25mm左右的微粘着力时，将抗静电表面保护膜从被粘物上剥离时的操作性优异，故而优选。此外，由于从抗静电表面保护膜10上剥离剥离膜5时的操作性优异，因此将剥离膜5从粘着剂层2上剥离的剥离力优选为0.2N/50mm以下。
此外，对于用于本实施方式的抗静电表面保护膜10的剥离膜5，其利用树脂组合物在树脂膜3的单面上形成有剥离剂层4，所述树脂组合物包含以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、在20℃下为液体的硅酮类化合物及抗静电剂。
作为树脂膜3，可列举出聚酯膜、聚酰胺膜、聚乙烯膜、聚丙烯膜、聚酰亚胺膜等，但由于透明性优异及价格比较便宜，因此特别优选聚酯膜。树脂膜可以为无拉伸膜，也可以为经单轴或双轴拉伸的膜。此外，还可以将拉伸膜的拉伸倍率、或伴随拉伸膜的结晶化而形成的轴方向的取向角度控制为特定的值。
树脂膜3的厚度没有特别限定，例如优选为12～100μm左右的厚度，若为20～50μm左右的厚度，则容易操作，更加优选。
此外，可根据需要，对树脂膜3的表面实施基于电晕放电的表面改性、锚固剂的涂覆等易粘合处理。
对于构成剥离剂层4的以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂，可列举出加成反应型、缩合反应型、阳离子聚合型、自由基聚合型等公知的硅酮类剥离剂。作为加成反应型硅酮类剥离剂而市售的产品，例如可列举出KS-776A、KS-847T、KS-779H、KS-837、KS-778、KS-830(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制造)、SRX-211、SRX-345、SRX-357、SD7333、SD7220、SD7223、LTC-300B、LTC-350G、LTC-310(Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造)等。作为缩合反应型而市售的产品，例如可列举出SRX-290、SYLOFF-23(Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造)等。作为阳离子聚合型而市售的产品，例如可列举出TPR-6501、TPR-6500、UV9300、VU9315、UV9430(Momentive Performance Materials Inc.制造)、X62-7622(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制造)等。作为自由基聚合型而市售的产品，例如可列举出X62-7205(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制造)等。
作为构成剥离剂层4的在20℃下为液体的硅酮类化合物，可列举出聚醚改性硅酮、烷基改性硅酮、甲醇高级脂肪酸酯改性硅酮等。本实施方式中，为了提高粘着剂层的表面的抗静电性，可使用处于相容于以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂层中的状态，且在20℃下为液体的硅酮类化合物。就本实施方式的用途而言，在改性硅酮化合物中，优选聚醚改性硅酮。聚醚改性硅酮中的聚醚链由环氧乙烷、环氧丙烷等构成，例如通过选择用于侧链的聚环氧乙烷的分子量，可调节与硅酮剥离剂的相容性或抗静电效果等物性。
此外，作为聚醚改性硅酮而市售的产品，例如可列举出KF-351A、KF-352A、KF-353、KF-354L、KF-355A、KF-642(Shin-Etsu Chemical Co.,Ltd.制造)、SH8400、SH8700、SF8410(Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造)、TSF-4440、TSF-4441、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4450(Momentive Performance Materials Inc.制造)、BYK-300、BYK-306、BYK-307、BYK-320、BYK-325、BYK-330(BYK Japan KK.制造)等。
在20℃下为液体的硅酮类化合物相对于以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂的添加量因硅酮化合物的种类或与剥离剂的相容性的程度而不同，考虑将抗静电表面保护膜从被粘物上剥离时所期望的剥离静电压、对被粘物的抗污染性能、粘着特性等而设定即可。
作为构成剥离剂层4的抗静电剂，优选在以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂溶液中的分散性良好、且不阻碍以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂的固化的抗静电剂。作为这样的抗静电剂，碱金属盐较为适宜。作为所述碱金属盐，可列举出由锂、钠、钾组成的金属盐。具体而言，例如可适宜地使用由Li+、Na+、K+组成的阳离子与由Cl-、Br-、I-、BF4 -、PF6 -、SCN-、ClO4 -、CF3SO3 -、(FSO2)2N-、(CF3SO2)2N-、(C2F5SO2)2N-、(CF3SO2)3C-组成的阴离子构成的金属盐。特别优选：剥离剂层4中的抗静电剂为Li盐，为选自由LiTFSI、LiFSI、LiTF组成的化合物组中的至少1种以上。此处，LiTFSI表示Li(CF3SO2)2N。此外，LiFSI表示Li(FSO2)2N。此外，LiTF表示LiCF3SO3。这些碱金属盐可以单独使用，也可以混合使用2种以上。为了离子性物质的稳定化，可添加含有聚氧亚烷基结构的化合物。
抗静电剂相对于以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂的添加量因抗静电剂的种类或与剥离剂的亲和性的程度而不同，考虑将抗静电表面保护膜从被粘物上剥离时所期望的剥离静电压、对被粘物的抗污染性能、粘着特性等而设定即可。
以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂与聚醚改性硅酮及抗静电剂的混合方法没有特别限定。可以为下述方法中的任意一种方法：向以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂中添加聚醚改性硅酮及抗静电剂并进行混合后，添加并混合剥离剂固化用的催化剂的方法；预先用有机溶剂稀释以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂，然后添加、混合聚醚改性硅酮及抗静电剂与剥离剂固化用的催化剂的方法；预先将以硅氧烷为主要成分的剥离剂稀释于有机溶剂后，添加并混合催化剂，然后添加、混合聚醚改性硅酮与抗静电剂的方法等。此外，可根据需要添加硅烷偶联剂等密合改进剂、或辅助含有聚氧亚烷基的化合物等的抗静电效果的材料。
以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂与聚醚改性硅酮及抗静电剂的混合比没有特别限定，相对于100重量份的以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂的固体成分，优选聚醚改性硅酮及抗静电剂以固体成分计为5～100重量份左右的重量比。相对于100重量份的以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂的固体成分，若聚醚改性硅酮及抗静电剂的固体成分换算的添加量为少于5重量份的比例，则抗静电剂在粘着剂层的表面的转印量也变少，难以在粘着剂中发挥抗静电的功能。此外，相对于100重量份的以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂的固体成分，若聚醚改性硅酮及抗静电剂的固体成分换算的添加量为超过100重量份的比例，则以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂也会与聚醚改性硅酮及抗静电剂一同转印至粘着剂层的表面，因此存在使粘着剂的粘着特性降低的可能性。
利用公知的方法进行在本实施方式的抗静电表面保护膜10的基材膜1上形成粘着剂层2的方法及贴合剥离膜5的方法即可，没有特别限定。具体而言，可列举出：(1)在基材膜1的单面上涂布用于形成粘着剂层2的树脂组合物并进行干燥而形成粘着剂层，然后贴合剥离膜5的方法；(2)在剥离膜5的表面上涂布用于形成粘着剂层2的树脂组合物并进行干燥而形成粘着剂层，然后贴合基材膜1的方法等，可使用任意一种方法。
此外，利用公知的方法在基材膜1的表面上形成粘着剂层2即可。具体而言，能够使用反向涂布(reverse coating)、逗号涂布(comma coating)、凹版涂布(gravurecoating)、狭缝式挤压型涂布(slot-die coating)、迈耶棒涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
此外，同样地，利用公知的方法在树脂膜3上形成剥离剂层4即可。具体而言，能够使用凹版涂布、迈耶棒涂布、气刀涂布等公知的涂布方法。
图2为示出从抗静电表面保护膜10中剥离了剥离膜5的状态的剖面图。通过从图1所示的抗静电表面保护膜10中剥离剥离膜5，由此剥离膜5的剥离剂层4中包含的抗静电剂7的一部分转印(附着)至抗静电表面保护膜10的粘着剂层2的表面。因此，图2中，用符号7的斑点示意性表示已转印至抗静电表面保护膜的粘着剂层2的表面的抗静电剂。
对于本实施方式的抗静电表面保护膜，将图2所示的剥离了剥离膜的状态的抗静电表面保护膜11贴合于被粘物时，已转印至该粘着剂层2的表面的抗静电剂7与被粘物的表面接触。由此，能够再次将从被粘物上剥离抗静电表面保护膜时的剥离静电压抑制得较低。另外，除了抗静电剂7以外，在20℃下为液体的硅酮类化合物也可以从剥离剂层4转印至粘着剂层2的表面。
图3为示出本实施方式的光学部件的实施例的剖面图。
从本实施方式的抗静电表面保护膜10中剥离剥离膜5而使粘着剂层2露出，以此状态，经由该粘着剂层2而贴合于作为被粘物的光学部件8。
即，图3中示出了贴合有本实施方式的抗静电表面保护膜10的光学部件20。作为光学部件，可列举出偏振片、相位差板、透镜膜、相位差板兼用的偏振片、透镜膜兼用的偏振片等光学用膜。这样的光学部件可用作液晶显示面板等液晶显示装置、各种计量仪器类的光学系统装置等的构成构件。此外，作为光学部件，还可列举出防反射膜、硬涂膜、触控面板用透明导电性膜等光学用膜。特别是能够适宜地用作，贴合于使用硅酮化合物或氟化物等对表面进行了防污染处理的低反射处理偏振片(LR偏振片)或防眩低反射处理偏振片(AG-LR偏振片)等光学用膜的进行了防污染处理的面的抗静电表面保护膜。
根据本实施方式的光学部件，将抗静电表面保护膜10从作为被粘物的光学部件(光学用膜)上剥离去除时，由于能够将剥离静电压抑制得充分地低，因此不会破坏驱动器IC、TFT元件、栅线驱动电路等电路部件，能够提高制造液晶显示面板等的工序的生产效率，确保生产工序的可靠性。
本实施方式的抗静电表面保护膜10适合作为偏振片用表面保护膜。抗静电表面保护膜10的粘着剂层2也可贴合于偏振片的起偏镜的保护层。此处，在偏振片用表面保护膜的用途中，作为被粘物的偏振片的起偏镜的保护层可列举出选自由TAC类膜、PMMA类膜、PET类膜组成的组中的至少1种以上。此处，TAC为三醋酸纤维素的缩写，PMMA为聚甲基丙烯酸甲酯的缩写，PET为聚对苯二甲酸乙二醇酯的缩写。
此外，在偏振片用表面保护膜的用途中，对作为被粘物的偏振片的起偏镜的保护层的表面实施的表面处理可以为选自由未处理、AG处理、LR处理、AR处理、AG-LR处理、AG-AR处理组成的组中的至少1种以上。此处，AG是指防眩(Anti Glare)，LR是指低反射(LowReflection)，AR是指抗反射(Anti Reflection)。
在本实施方式的抗静电表面保护膜10中，转印有剥离剂层4的抗静电剂的使所述粘着剂组合物交联而成的粘着剂层2的表面电阻率优选为1.0×10+12Ω/□以下，更优选为5.0×10+11Ω/□以下，特别优选为1.0×10+11Ω/□以下。若粘着剂层2的表面电阻率大，则释放从被粘物上剥离粘着剂层2时所产生的静电的性能差。因此，通过使粘着剂层2的表面电阻率充分地小，可降低伴随从被粘物上剥离粘着剂层2时所产生的静电而产生的剥离静电压，抑制对被粘物造成影响。
在本实施方式的抗静电表面保护膜10中，对于转印有剥离剂层4的抗静电剂的使所述粘着剂组合物交联而成的粘着剂层2，粘着剂层2对使用含有氟化物的低折射率层形成用组合物而形成的低折射率层的剥离静电压优选在+0.3～-0.3kV的范围内。作为用于低折射率层形成用组合物的氟化物，可列举出为氟化烯烃类、氟化乙烯基醚类、氟化(甲基)丙烯酸烷基酯等中的1种或2种以上的聚合物的含氟共聚物、含氟化烷基的硅烷化合物等的缩合物。除了经氟化的单体以外，含氟共聚物中也可共聚有烯烃类、乙烯基醚类、(甲基)丙烯酸酯等未经氟化的单体。低折射率层也可与高折射率层等进行组合而构成防反射层。
测定对低折射率层的剥离静电压时，作为用于在表面形成低折射率层的基材，可列举出PMMA基材及TAC基材。此外，在本实施方式的抗静电表面保护膜10中，转印有剥离剂层4的抗静电剂的使所述粘着剂组合物交联而成的粘着剂层2对在PMMA基材及TAC基材的表面未做任何处理的平面(plain)层的剥离静电压优选在+0.3～-0.3kV的范围内。
优选：将粘着剂层2贴合于偏振片等被粘物后，在温度为60℃、湿度为90％RH的氛围下放置2天(48hr)，从所述氛围下取出，然后经过1天后剥离时没有污染。作为被粘物，可列举出在起偏镜上层叠保护层并使用含有氟化物的组合物对保护层的表面进行了低反射表面处理的偏振片。用于低反射表面处理的含有氟化物的组合物可以与上述含有氟化物的低折射率层形成用的树脂组合物相同，也可以不同。作为保护层及表面处理，可列举出上述起偏镜的保护层及对其表面实施的表面处理。具体而言，可列举出下述偏振片：表面基材为选自由TAC类膜、PMMA类膜、PET类膜组成的组中的1种，且对所述表面基材的表面实施的表面处理为选自由未处理、AG处理、LR处理、AR处理、AG-LR处理、AG-AR处理组成的组中的1种的偏振片。
在本实施方式的抗静电表面保护膜10中，将转印有剥离剂层4的抗静电剂的使所述粘着剂组合物交联而成的粘着剂层2以15μm的厚度层叠于厚度为38μm的聚酯膜的单面而形成抗静电表面保护膜10，将该抗静电表面保护膜10贴合于偏振片的表面后，从所述偏振片上剥离抗静电表面保护膜10时，优选在低速的剥离速度0.3m/分钟下的粘着力为0.01～0.1N/25mm、在高速的剥离速度30m/分钟下的粘着力为1.0N/25mm以下，更优选在高速的剥离速度30m/分钟下的粘着力为0.2～0.8N/25mm。由此，可获得粘着力因剥离速度造成的变化小的性能，即使通过高速剥离，也可快速地剥离。此外，即使在为了重新贴合而暂时剥离抗静电表面保护膜10时，也不需要过大的力，可容易地从被粘物上剥离。
在本实施方式的抗静电表面保护膜10中，转印有剥离剂层4的抗静电剂的使所述粘着剂组合物交联而成的粘着剂层2的凝胶分率优选为95～100％，更优选为97～100％。由于粘着剂层2的凝胶分率如此地高，因此在低速的剥离速度下的粘着力不会变得过大，未聚合单体或低聚物从粘着剂层2中的溶出得以降低，能够改善再操作性及高温高湿度下的耐久性，并抑制被粘物的污染。
本实施方式的粘着膜在树脂膜的单面或两面上形成有使本实施方式的粘着剂组合物交联而成的粘着剂层。此外，本实施方式的表面保护膜为在树脂膜的单面上形成有使本实施方式的粘着剂组合物交联而成的粘着剂层的表面保护膜。本实施方式的表面保护膜通过在粘着剂层2的表面转印剥离剂层4的抗静电剂，从而成为抗静电表面保护膜，并具备优异的抗静电性能。进一步，在低速的剥离速度与高速的剥离速度下，本实施方式的抗静电表面保护膜的粘着力的平衡优异，进一步具有抗污染性能。因此，能够适宜地用于偏振片的表面保护膜的用途。
此外，通过将转印有剥离剂层4的抗静电剂的使所述粘着剂组合物交联而成的粘着剂层2层叠于光学膜的至少一个面，能够得到带粘着剂层的光学膜。作为光学膜，可列举出偏振膜、相位差膜、防反射膜、防眩(Anti Glare)膜、紫外线吸收膜、红外线吸收膜、光学补偿膜、亮度提高膜等。作为光学构件所适用的设备，可列举出液晶面板、有机EL面板、触控面板等。
在为偏振片用的表面保护膜等的光学用的表面保护膜及粘着膜的情况下，优选基材膜及粘着剂层具有充分的透明性。
实施例
以下，通过实施例对本发明进行具体的说明。
＜粘着剂组合物的制备＞
[实施例1]
向具备搅拌机、温度计、回流冷凝器及氮导入管的反应装置中导入氮气，从而用氮气置换反应装置内的空气。然后，向反应装置中同时添加80重量份的丙烯酸2-乙基己酯、20重量份的甲基丙烯酸正丁酯、4.5重量份的丙烯酸8-羟基辛酯、10重量份的聚丙二醇单丙烯酸酯(n＝12)以及溶剂(乙酸乙酯)。然后，经2小时滴加0.1重量份的作为聚合引发剂的偶氮二异丁腈，于65℃反应6小时，得到实施例1的丙烯酸类聚合物溶液。向该丙烯酸类聚合物溶液中添加8.5重量份的乙酰丙酮并搅拌后，添加2.0重量份的CORONATE HX(六亚甲基二异氰酸酯化合物的异氰脲酸酯体)、0.1重量份的三乙酰丙酮钛、0.05重量份的聚醚改性硅氧烷化合物(HLB＝7)并搅拌混合，得到实施例1的粘着剂组合物。
[实施例2～6及比较例1～4]
除了将实施例1的粘着剂组合物的组成分别调整为表1中的记载以外，以与实施例1相同的方式得到实施例2～6及比较例1～4的粘着剂组合物。比较例1、2的粘着剂组合物的情况下，进一步向粘着剂组合物中添加表2的“抗静电剂”所示的化合物。另外，实施例1～6及比较例1～3的丙烯酸类聚合物为重均分子量超过30万且为100万以下的共聚物。比较例4的丙烯酸类聚合物为重均分子量为10万的共聚物。
在表1的各栏及表2的“抗静电剂”中，将(A)烷基的碳原子数为C1～C10的(甲基)丙烯酸烷基酯的合计设为100重量份来求出各成分的重量份。表2的“(D)/(E)”为重量份比。此外，表1的(B)～(G)的各栏中，将作为(A)、(B)、(F)的重量份的合计而计算的丙烯酸类聚合物的重量份设为100重量份，以括号()内的数值表示此时各成分的含有比例(重量份)。此外，在表2的“抗静电剂”中，LiTFSI表示Li(CF3SO2)2N，LiTF表示LiCF3SO3。
[表1]
[表2]
(D)/(E) 抗静电剂
实施例1 85 -
实施例2 140 -
实施例3 138 -
实施例4 125 -
实施例5 110 -
实施例6 150 -
比较例1 85 LiTFSI 0.3
比较例2 100 LiTF 0.1
比较例3 100 -
比较例4 85 -
此外，将表1中使用的(A)～(G)的各成分的缩写符号的化合物名称示于表3。另外，CORONATE(注册商标)HX、CORONATE HL及CORONATEL为TOSOH CORPORATION的商品名称，TAKENATE(注册商标)D-140N、D-110N为Mitsui Chemicals,Inc.的商品名称。
此外，(F)构成聚亚烷基二醇链的含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中，F-1～F-3是二酯组分为0.2wt％以下的单体，F-4是二酯组分为0.8wt％的单体。n的值表示环氧烷的平均重复数。
此外，(G)聚醚改性硅氧烷化合物中，G-1～G-6的重均分子量为10000以下。
[表3]
＜抗静电表面保护膜的制作＞
[实施例1]
将5重量份的加成反应型的硅酮(Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造，产品名称：SRX-345)、0.15重量份的聚醚改性硅酮(Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造，产品名称：SH8400)、0.5重量份的作为抗静电剂的双(三氟甲基磺酰基)酰亚胺锂(LiTFSI)、95重量份的甲苯与乙酸乙酯的1:1的混合溶剂、及0.05重量份的铂催化剂(Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造，产品名称：SRX-212CATALYST)进行掺混，并进行搅拌及混合，制备形成实施例1的剥离剂层的涂料。使用迈耶棒，以使干燥后的厚度为0.2μm的方式，将形成实施例1的剥离剂层的涂料涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上，并用120℃的热风循环式烘箱干燥1分钟，得到实施例1的剥离膜。
以使干燥后的厚度为15μm的方式，将实施例1的粘着剂组合物涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上后，用100℃的热风循环式烘箱干燥2分钟，形成粘着剂层。然后，在该粘着剂层的表面上贴合上述制作的实施例1的剥离膜的剥离剂层(硅酮处理面)。将所得到的粘着膜在40℃的环境下保温5天，使粘着剂固化，得到实施例1的抗静电表面保护膜。
[实施例2～6]
除了将形成实施例1的剥离剂层的涂料的组成分别调整为表4中的记载以外，以与实施例1相同的方式，得到形成实施例2～6的剥离剂层的涂料。
此外，除了将实施例1的粘着剂组合物及形成剥离剂层的涂料分别调整为实施例2～6的粘着剂组合物及形成剥离剂层的涂料以外，以与实施例1相同的方式，得到实施例2～6的抗静电表面保护膜。
[比较例1]
将5重量份的加成反应型的硅酮(Dow Corning Toray Co.,Ltd.制造，产品名称：SRX-345)、95重量份的甲苯与乙酸乙酯的1:1的混合溶剂及0.05重量份的铂催化剂(DowCorning Toray Co.,Ltd.制造，产品名称：SRX-212CATALYST)进行掺混，并进行搅拌及混合，制备形成比较例1的剥离剂层的涂料。使用迈耶棒，以使干燥后的厚度为0.2μm的方式，将形成比较例1的剥离剂层的涂料涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上，并用120℃的热风循环式烘箱干燥1分钟，得到比较例1的剥离膜。
以使干燥后的厚度为15μm的方式，将比较例1的粘着剂组合物涂布在厚度为38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜的表面上后，用100℃的热风循环式烘箱干燥2分钟，形成粘着剂层。然后，在该粘着剂层的表面上贴合上述制作的比较例1的剥离膜的剥离剂层(硅酮处理面)。将所得到的粘着膜在40℃的环境下保温5天，使粘着剂固化，得到比较例1的抗静电表面保护膜。
[比较例2]
除了将比较例1的粘着剂组合物调整为比较例2的粘着剂组合物以外，以与比较例1相同的方式，得到比较例2的抗静电表面保护膜。
[比较例3～4]
除了将形成实施例1的剥离剂层的涂料的组成分别调整为表4中的记载以外，以与实施例1相同的方式，得到形成比较例3～4的剥离剂层的涂料。此外，除了将实施例1的粘着剂组合物及形成剥离剂层的涂料分别调整为比较例3～4的粘着剂组合物及形成剥离剂层的涂料以外，以与实施例1相同的方式，得到比较例3～4的抗静电表面保护膜。
另外，在表4的“抗静电剂”中，LiTFSI表示Li(CF3SO2)2N，LiFSI表示Li(FSO2)2N，LiTF表示LiCF3SO3。
[表4]
＜试验方法及评价＞
分别将实施例1～6及比较例1～4中的抗静电表面保护膜在温度为23℃、湿度为50％RH的氛围下熟化7天后，通过以下的试验方法进行评价。另外，实施例1～6及比较例3～4的抗静电表面保护膜中，通过剥离脱模膜，能够使剥离剂层的抗静电剂转印至粘着剂层的表面。比较例1～2中，粘着剂层整体含有抗静电剂。
＜粘着力的试验方法＞
剥离脱模膜，将露出厚度为15μm的粘着剂层的抗静电表面保护膜经由粘着剂层贴合于偏振片的表面，并放置1天后，于50℃、5个大气压下，进行20分钟压热处理，进一步于室温下放置12小时后，将其作为粘着力的测定样品。使用拉伸试验机、沿180°方向在低速度(0.3m/分钟)或高速度(30m/分钟)下剥离所得到的测定样品，将测定的剥离强度作为粘着力。
此处，所述偏振片的起偏镜的保护层为具有AG-LR处理层的聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
＜表面电阻率的试验方法＞
在熟化抗静电表面保护膜后、并在将其贴合于偏振片之前，剥离脱模膜而露出粘着剂层，使用电阻率仪Hiresta(注册商标)UP-HT450(Mitsubishi Chemical Analytech,Co.,Ltd.制造)测定粘着剂层的表面电阻率。
＜剥离静电压的试验方法＞
剥离脱模膜，将露出粘着剂层的抗静电表面保护膜贴合在具有低折射率层的偏振片上，所述低折射率层通过在被粘面上使用含有氟化物的低折射率层形成用组合物而形成。使用高精度静电传感器SK-035、SK-200(KEYENCE CORPORATION制造)，测定以30m/分钟的拉伸速度对抗静电表面保护膜进行180°剥离时，被粘物带电而产生的电压(静电压)，将测定值的最大值作为剥离静电压。
＜抗污染性能的试验方法＞
使用贴合机，将具有表6所示的表面基材及表面处理(Plain时为未处理)的偏振片经由粘着剂层(双面粘着胶带)贴合在玻璃板的单面上。然后，使用贴合机，将抗静电表面保护膜贴合于所述偏振片的表面。贴合于被粘物后，在温度为60℃、湿度为90％RH的氛围下放置2天(48hr)，从所述氛围下取出，然后经过1天后，剥离抗静电表面保护膜，通过目视观察偏振片的表面的污染状态。关于抗污染性能的判断基准，将对所述偏振片的表面无污染的情况评价为“○”、有轻微污染的情况评价为“△”、有污染的情况评价为“×”。
表5～6中示出了关于实施例1～6及比较例1～4的抗静电表面保护膜的评价结果。表5的“表面电阻率”通过将“m×10+n”记作“mE+n”的方式(其中，m为任意的实数值，n为正整数)进行表示。
[表5]
[表6]
实施例1～6的抗静电表面保护膜对作为被粘物的偏振片的、在低速的剥离速度0.3m/分钟下的粘着力为0.01～0.1N/25mm，在高速的剥离速度30m/分钟下的粘着力为1.0N/25mm以下，因此在低速的剥离速度与高速的剥离速度下，取得粘着力的平衡所带来的粘着性能优异。
此外，对于实施例1～6的抗静电表面保护膜，由于将剥离剂层的抗静电剂转印至粘着剂层的表面，因此粘着剂层的表面电阻率为1.0×10+12Ω/□以下，粘着剂层对使用含有氟化物的低折射率层形成用组合物而形成的低折射率层的剥离静电压在+0.3～-0.3kV的范围内，抗静电性能优异。
进一步，将实施例1～6的抗静电表面保护膜贴合于被粘物后，在温度为60℃、湿度为90％RH的氛围下放置48hr，从所述氛围下取出并经过1天后，对作为被粘物的各种偏振片也没有污染，抗污染性能也优异。
即，根据表5～6所示的评价结果，证实了实施例1～6的抗静电表面保护膜能够解决本发明的技术问题。
比较例1的抗静电表面保护膜(共聚在丙烯酸类聚合物中的单官能度的甲基丙烯酸酯单体的Tg小于0℃，粘着剂层整体含有抗静电剂，剥离剂层不含有在20℃下为液体的硅酮类化合物与抗静电剂)的抗污染性能稍差。
此外，比较例2的抗静电表面保护膜(共聚在丙烯酸类聚合物中的单官能度的甲基丙烯酸酯单体及含羟基单体过多，丙烯酸类聚合物不含有构成聚亚烷基二醇链的含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体，粘着剂层整体含有抗静电剂，剥离剂层不含有在20℃下为液体的硅酮类化合物与抗静电剂)的粘着力大，剥离静电压高，抗污染性能差。
此外，比较例3的抗静电表面保护膜(丙烯酸类聚合物不含有Tg为0℃以上的甲基丙烯酸酯单体及构成聚亚烷基二醇链的含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体，含有含羧基单体)的粘着力大，表面电阻值大，剥离静电压高，抗污染性能差。
此外，比较例4的抗静电表面保护膜(丙烯酸类聚合物的重均分子量小)的抗污染性能差。
如上所述，比较例1～4的抗静电表面保护膜未能解决本发明的技术问题。

Claims (13)

1.一种抗静电表面保护膜的制造方法，其为制造抗静电表面保护膜的方法，所述抗静电表面保护膜的制造方法的特征在于，以工序(1)～(3)的顺序经过以下的工序(1)～(3)而制作抗静电表面保护膜：
工序(1)：制备粘着剂组合物的工序，所述粘着剂组合物含有丙烯酸类聚合物与交联剂，所述丙烯酸类聚合物为使合计为100重量份的(A)烷基的碳原子数为C1～C10的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少2种以上、合计为1.0～6.0重量份的(B)含有羟基的可共聚单体中的至少1种以上、及合计为1.0～50重量份的(F)构成聚亚烷基二醇链的含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中的至少1种以上，以不含有具有羧基的可共聚单体的方式共聚而成的、重均分子量超过30万且为100万以下的共聚物所形成的丙烯酸类聚合物，
在所述(A)烷基的碳原子数为C1～C10的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少2种以上的合计100重量份中，以50重量份以上的比例含有丙烯酸2-乙基己酯、以合计为5～40重量份的比例含有均聚物的Tg为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体中的1种以上，
所述均聚物的Tg为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体为选自由甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸正戊酯、甲基丙烯酸异戊酯、甲基丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸异己酯、甲基丙烯酸环己基酯、甲基丙烯酸异冰片酯及甲基丙烯酸二环戊基酯组成的化合物组中的1种以上，
所述粘着剂组合物含有作为所述交联剂的(C)三官能度以上的异氰酸酯化合物、以及(D)交联延迟剂、作为(E)交联促进剂的除锡化物以外的交联促进剂及(G)HLB值为6～12且重均分子量为10000以下的聚醚改性硅氧烷化合物；
工序(2)：在由具有透明性的树脂形成的基材膜的单面上制作使所述粘着剂组合物交联而成的粘着剂层的工序；及
工序(3)：将在树脂膜的单面层叠有含有抗静电剂的剥离剂层的剥离膜经由所述剥离剂层而贴合于所述粘着剂层的表面，使所述剥离剂层的所述抗静电剂转印至所述粘着剂层的表面的工序，
所述剥离剂层由树脂组合物形成，所述树脂组合物包含以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、在20℃下为液体的硅酮类化合物及抗静电剂。
2.根据权利要求1所述的抗静电表面保护膜的制造方法，其特征在于，所述均聚物的Tg为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体为选自由甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯组成的化合物组中的1种以上。
3.根据权利要求1或2所述的抗静电表面保护膜的制造方法，其特征在于，所述剥离剂层中的抗静电剂为碱金属盐。
4.一种抗静电表面保护膜，其在由具有透明性的树脂形成的基材膜的单面上形成有粘着剂层，所述粘着剂层由含有丙烯酸类聚合物与交联剂的粘着剂组合物交联而成，所述抗静电表面保护膜的特征在于，
所述丙烯酸类聚合物为使合计为100重量份的(A)烷基的碳原子数为C1～C10的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少2种以上、合计为1.0～6.0重量份的(B)含有羟基的可共聚单体中的至少1种以上、及合计为1.0～50重量份的(F)构成聚亚烷基二醇链的含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中的至少1种以上，以不含有具有羧基的可共聚单体的方式共聚而成的、重均分子量超过30万且为100万以下的共聚物所形成的丙烯酸类聚合物，
在所述(A)烷基的碳原子数为C1～C10的(甲基)丙烯酸烷基酯中的至少2种以上的合计100重量份中，以50重量份以上的比例含有丙烯酸2-乙基己酯，以合计为5～40重量份的比例含有均聚物的Tg为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体中的1种以上，
所述均聚物的Tg为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体为选自由甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸正戊酯、甲基丙烯酸异戊酯、甲基丙烯酸正己酯、甲基丙烯酸异己酯、甲基丙烯酸环己基酯、甲基丙烯酸异冰片酯及甲基丙烯酸二环戊基酯组成的化合物组中的1种以上，
所述粘着剂组合物含有作为所述交联剂的(C)三官能度以上的异氰酸酯化合物、以及(D)交联延迟剂、作为(E)交联促进剂的除锡化物以外的交联促进剂及(G)HLB值为6～12且重均分子量为10000以下的聚醚改性硅氧烷化合物，
将在树脂膜的单面层叠有含有抗静电剂的剥离剂层的剥离膜经由所述剥离剂层而贴合于所述粘着剂层的表面，使所述剥离剂层的所述抗静电剂转印至所述粘着剂层的表面，
所述剥离剂层由树脂组合物形成，所述树脂组合物包含以二甲基聚硅氧烷为主要成分的剥离剂、在20℃下为液体的硅酮类化合物及抗静电剂。
5.根据权利要求4所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，所述均聚物的Tg为0℃以上的单官能度的甲基丙烯酸酯单体为选自由甲基丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸异丁酯、甲基丙烯酸仲丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸异丙酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸甲酯组成的化合物组中的1种以上。
6.根据权利要求4或5所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，所述剥离剂层中的抗静电剂为碱金属盐。
7.根据权利要求4或5所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，所述(F)构成聚亚烷基二醇链的含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中，构成聚亚烷基二醇链的环氧烷的平均重复数为3～14，
所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体中的二酯组分为0.2％以下，
所述含聚亚烷基二醇链的单(甲基)丙烯酸酯单体为选自由聚亚烷基二醇单(甲基)丙烯酸酯、甲氧基聚亚烷基二醇(甲基)丙烯酸酯、乙氧基聚亚烷基二醇(甲基)丙烯酸酯组成的组中的至少1种以上。
8.根据权利要求4或5所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，其为被用作偏振片用表面保护膜的抗静电表面保护膜，
在所述偏振片用表面保护膜的用途中，作为被粘物的偏振片的起偏镜的保护层为选自由TAC类膜、PMMA类膜、PET类膜组成的组中的至少1种，且对所述偏振片的起偏镜的保护层的表面实施的表面处理为选自由未处理、AG处理、LR处理、AR处理、AG-LR处理、AG-AR处理组成的组中的至少1种。
9.根据权利要求4或5所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，所述(B)含有羟基的可共聚单体为选自由(甲基)丙烯酸8-羟基辛酯、(甲基)丙烯酸6-羟基己酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁酯、(甲基)丙烯酸2-羟基乙酯、N-羟基(甲基)丙烯酰胺、N-羟甲基(甲基)丙烯酰胺、N-羟乙基(甲基)丙烯酰胺组成的化合物组中的至少1种以上。
10.根据权利要求4或5所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，所述(D)交联延迟剂为酮-烯醇互变异构体的化合物，
相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，以0.1～300重量份的比例含有所述(D)交联延迟剂，
所述(E)交联促进剂为选自由铝螯合化合物、钛螯合化合物、铁螯合化合物组成的组中的至少1种以上的金属螯合化合物，
相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，以0.001～0.5重量份的比例含有所述(E)交联促进剂，
所述(D)/所述(E)的重量份比为80～1000。
11.根据权利要求4或5所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，相对于100重量份的所述丙烯酸类聚合物，所述粘着剂组合物以0.01～0.5重量份的比例含有所述(G)HLB值为6～12且重均分子量为10000以下的聚醚改性硅氧烷化合物。
12.根据权利要求4或5所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，所述剥离剂层中的硅酮类化合物为聚醚改性硅酮。
13.根据权利要求4或5所述的抗静电表面保护膜，其特征在于，所述剥离剂层中的抗静电剂为Li盐，为选自由LiTFSI、LiFSI、LiTF组成的化合物组中的至少1种以上。
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