CN112040701B - 膜片、膜片的制备方法及电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种膜片的制备方法，属于表面处理技术领域。该膜片的制备方法包括：准备母膜；在母膜的表面上形成第一纹理，所述第一纹理呈弧形，所述第一纹理的宽度在第一方向上由中部向两边逐渐减小；处理所述表面，使所述表面的光滑度形成渐变；将所述表面转印到第一基材的第一表面上；在所述第一表面上形成金属膜层；在所述金属膜层上设置油墨层。在本申请实施例中，通过将母膜上形成的第一纹理以及光滑度渐变的叠加效果转印到第一基材上形成膜片，使单一膜片上具有两种纹理效果，解决了现有的电子设备存在的纹理单一、视觉效果差的问题。

Description

膜片、膜片的制备方法及电子设备

技术领域

本申请属于表面处理技术领域，具体涉及一种膜片、膜片的制备方法及电子设备。

背景技术

随着电子设备的不断革新，用户对电子设备功能的要求不断提升，电子设备得市场内竞争激烈。为了提高用户的关注程度和喜爱程度，在功能以外的方面，对电子设备做进一步优化。

市场上不断推出吸引用户的新的电子设备，其中包括在电子设备的外部结构设置不同的纹理效果，但现有的电子设备多为单纹理效果，纹理单一，视觉效果差。

发明内容

本申请实施例的目的是提供一种膜片的制备方法，能够解决现有的电子设备存在纹理单一，视觉效果差的问题。

为了解决上述技术问题，本申请是这样实现的：

第一方面，本申请实施例提供了一种膜片的制备方法，该方法包括：

准备母膜；

在母膜的表面上形成第一纹理，所述第一纹理呈弧形，所述第一纹理的宽度在第一方向上由中部向两边逐渐减小；

处理所述表面，使所述表面的光滑度形成渐变；

将所述表面转印到第一基材的第一表面上；

在所述第一表面上形成金属膜层；

在所述金属膜层上设置油墨层。

第二方面，本申请实施例提供了一种膜片，该膜片通过上述膜片的制备方法制备而成。

第三方面，本申请实施例提供了一种电子设备，该电子设备包括：

上述的膜片；

外壳，所述第一基材的第二表面与所述外壳连接，所述第二表面与所述第一表面相背。

在本申请实施例中，通过将母膜上形成的第一纹理以及光滑度渐变的叠加效果转印到第一基材上形成膜片，使单一膜片上具有两种纹理效果，解决了现有的电子设备存在的纹理单一、视觉效果差的问题。

附图说明

图1是本申请一个实施例中的母膜的表面上形成的第一纹理的结构示意图。

图2是本申请一个实施例中的第一纹理的结构示意图。

图3是本申请一个实施例中的第一纹理的中部位置剖面的示意图。

附图标记：

1：母膜，2：第一纹理。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

本申请的说明书和权利要求书中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便本申请的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，说明书以及权利要求中“和/或”表示所连接对象的至少其中之一，字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

下面结合附图，通过具体的实施例及其应用场景对本申请实施例提供的电子设备进行详细地说明。

在本申请的一个实施例中，提供了一种膜片的制备方法，该制备方法包括包括：

准备母膜1；

在母膜1的表面上形成第一纹理2，所述第一纹理呈弧形，所述第一纹理的宽度在第一方向上由中部向两边逐渐减小；

处理所述表面，使所述表面的光滑度形成渐变；

将所述表面的结构转印到第一基材的第一表面上；

在所述第一表面上形成金属膜层；

在所述金属膜层上设置油墨层。

准备的母膜1可以是镍板，处理母膜的表面形成第一纹理2。镍板具有足够的强度，能够保持形成的纹理不变形，提高了该制备方法的可靠性。

如图1，图2所示，弧形的第一纹理2在母膜1的表面能够在视觉效果上形成立体光影效果。在第一方向上，第一纹理2由中部向两边延伸逐渐变窄，形成中间疏散，两边聚集的结构，能够使中间部分和两边产生光影对比，从而形成椭圆透镜光柱的立体光影效果。第一纹理2可以是至少一条由中部向两边延伸逐渐变窄的弧形纹理，第一方向指的是第一纹理2的延伸方向，延伸方向为弧形的第一纹理的弧线走向。例如图2中所示，由A位置到B位置再到C位置，沿该方向第一纹理2的宽度逐渐变窄。

在该第一纹理2的基础上，继续对母膜1的该表面进行处理，处理达到使该表面的光滑度发生渐变的目的，从而在第一纹理2的立体光影效果基础上还具有光滑度渐变的效果，光滑度渐变使表面产生渐变的磨砂效果。第一纹理2产生的立体光影效果和光滑度渐变的磨砂效果叠加在一起形成透镜景深效果。

将具有透镜景深效果纹理的表面结构转印到第一基材的第一表面上，从而使第一表面具有该透镜景深效果。在第一基材的第一表面具有透镜景深的效果后，在第一表面上形成一层金属膜层。金属膜层能够使第一表面具有金属反射的质感，从而使透镜景深效果进一步增强。

金属膜层将第一表面的纹理填平，金属膜层具有与第一表面互补的结构。这样使金属膜层的不同位置具有不同的尺寸，在光的反射和折射下能够发出不同的颜色，形成强烈的金属反射质感。在金属膜层的基础上再设置油墨层，提升透镜景深效果。

第一基材为片材，第一表面与第二表面为片材的相背的两个表面。第二表面与电子设备连接，使用户从第一表面看到纹理效果。油墨层能够提升第一表面上产生的透镜景深效果。

在该实施例中，第一纹理和光滑度渐变的纹理效果叠加形成透镜景深效果。第一纹理2为弧形，具有周期性，光滑度渐变也具有周期性。两个具有周期性的纹理叠加出的纹理效果有周期性，使得转印到第一表面上的透镜景深效果的纹理简单大方，具有深邃感和神秘感。通过在母膜的一个表面叠加两种效果，不需要叠加两层膜片实现，也避免了单一纹理的过于单调的问题，提升了用户体验。解决了现有的电子设备存在的纹理单一，视觉效果差的问题。

在一个实施例中，所述第一纹理2包括多个凹槽，所述凹槽在所述表面上沿相同方向排列。

弧形的第一纹理2的周期性是沿中间向两边宽度渐变，第一纹理2向着凹槽排列方向的两侧周期性渐变。光滑度渐变的方向可以与凹槽排列的方向相同。两个纹理以特定角度叠加出透镜景深效果。

组成第一纹理2的凹槽的排列方向与光滑度渐变的方向之间的角度还可以是其他角度，以形成其他的叠加效果。使最终制备的膜片可以具有的不同的叠加效果，以适应不同用户的不同选择。

在一个实施例中，如图3所示，所述凹槽的宽度为10μm～30μm。

在该实施例中，将第一纹理2为多个加工出的弧形凹槽组成，弧形凹槽的宽度可以由最中部的30μm渐变至弧形两端的10μm。从30μm到10μm的渐变产生光影对比，多个凹槽排列使第一纹理2的光影对比形成椭圆透镜光柱的立体光影效果。

凹槽的具体结构可以是不同的形状。凹槽从中部向两端的宽度是渐变的，宽度方向的剖面的形状为尺寸不同的同类型的形状，可以是凹槽的宽度方向上的剖面全是矩形、三角形和弧形中的一种。如图3所示，在凹槽的宽度方向上的剖面为三角形。凹槽的宽度指的是凹槽的槽口位置的宽度。

在一个例子中，两个凹槽之间的宽度小于凹槽的最宽位置的宽度，从而使凹槽占用更多的表面空间。可以是两个凹槽之间的宽度小于或等于30μm，组成第一纹理2的凹槽为弧形的结构，在两个相邻的凹槽之间形成的凸起的宽度也是从中部向两端渐变的。两个凹槽之间的凸起的中部的宽度可以是15μm，从而使凹槽占用更大的表面空间，提高了第一纹理2的视觉效果。

在一个实施例中，通过激光在所述母膜的表面上形成所述第一纹理2。

利用强度可变的激光束对母膜1进行处理，以激光直写的方式处理母膜1，以形成第一纹理2，该实施例中通过激光直写对母膜1处理得到第一纹理2。通过计算机控制高精度激光束扫描，可以更精确地形成第一纹理2，形成的光影对比效果更明显。

在一个实施例中，所述第一纹理2为对称结构。

组成第一纹理2的凹槽宽度是从中部向两端逐渐变窄，形成光影对比的效果，从而使多个凹槽排列形成的第一纹理2具有椭圆透镜光柱的立体光影效果。第一纹理2为对称结构能够使形成的椭圆透镜光柱的立体光影效果规则对称，提升美感。

在一个实施例中，所述表面的光滑度沿所述表面的一端到另一端形成渐变。

第一纹理2形成的光影对比向对称轴的两侧分布。那么将表面上的光滑度渐变的方向设置为沿凹槽排列的方向渐变，即沿着表面上的第一个凹槽向最后一个凹槽的方向光滑度发生渐变。这样就会使光影对比向着光滑度渐变的两侧延伸，形成多个方向的纹理变化。多个方向的纹理变化在一层膜片上叠加出透镜景深效果，提高了纹理的深邃感和神秘感，提升电子设备的外观美感。

在该实施例中，通过激光使所述表面的光滑度形成渐变。

通过激光加工表面，形成光滑度渐变的效果。可以是激光雕刻技术，激光雕刻技术的适用范围广，能够在不同材料的母膜1上处理表面的光滑度。激光雕刻处理过的材料表面光滑无刻痕，通过激光雕刻在母膜1表面形成光滑度渐变的效果。可以是通过激光打点在得到第一纹理2后的表面上进行处理，具体处理过程是通过将表面上的砂点通过激光打掉，沿需要形成渐变的方向打点，越光滑的位置打掉的砂点越多，剩余的砂点越少，从而形成光滑度渐变的效果。

在一个实施例中，通过UV转印将所述表面转印到第一表面上。

UV转印技术利用UV转印胶水与金属的不粘特性实现转印的目的，通过UV转印后的能够在第一表面上形成与母膜相同的纹理，即能够在第一表面形成第一纹理2叠加光滑度渐变的效果，在第一表面形成透镜景深效果。能够保持原有的纹理，转印效果良好。转印后进行光照固化，使转印出的纹理保持在第一表面上。光照能量设置在800mj-1100mj的范围内，提高固化的可靠性。

在一个实施例中，所述第一基材的为聚酯材料(PET)或塑胶(PC)。

将母膜1表面纹理的结构转印到第一基材上的第一表面上，使第一基材上也具有透镜景深效果。将具有透镜景深效果的第一基材切割加工成膜片设置在电子设备上，使电子设备的外观具有透镜景深效果，提升用户使用体验。聚酯材料用作膜片设置在电子设备外壳上既能起到保护外壳的作用，还能对电子设备起到缓冲的作用，以提高防摔性能。并且材料成本低适合大批量生产。第一基材还可以是塑料。

在一个实施例中，通过光学镀膜在所述第一表面上形成金属膜层。

在第一表面上形成金属膜层，金属膜层平整地覆盖在第一表面的纹理上，从而在金属膜层形成不同的与纹理结构嵌合的结构，使金属膜层的不同位置具有不同结构厚度。在金属膜层表面形成金属反射质感，能够将纹理的透镜景深效果加强，并且不同厚度的金属能够反射出不同颜色，提高了第一表面上的纹理的深邃感和神秘感，进一步提升用户体验。

光学镀膜是用物理或化学的方法在材料表面镀上一层透明的电解质膜，或镀一层金属膜，目的是改变材料表面的反射和透射特性。通过将镀膜材料从固态转化为气态或离子态并抵达第一表面进行沉积形成膜层。

在该实施例中，所述光学镀膜的过程包括：

提供真空条件；真空条件能够避免空气中的其他粒子掺杂在用于镀膜的靶材中，避免镀膜中产生杂质影响金属膜层的金属反射质感。

将氧化硅和氧化钛靶材加热蒸发；使靶材蒸发后成为气态或离子态能够漂浮穿越至第一表面上。

通过辉光放电使靶材沉积到第一表面形成金属膜层。辉光放电能够给气态或离子态的靶材提供足够的能量，使靶材沉积到第一表面。在沉积足够量的靶材后形成金属膜层，沉积形成的金属膜层更加均匀，具有强烈的金属反射质感，提高了转印在第一表面上的第三纹理的透镜景深效果。

在该实施例中，氧化硅和氧化钛的靶材可以是由氧化硅和氧化钛材料形成的层叠靶材。可以是两层氧化钛材料层之间夹一层氧化硅材料层形成靶材。该靶材加热蒸发并沉积形成的金属膜层具有更好的金属质感。

两层氧化钛的层厚是168.2nm，氧化硅的层厚是143.3nm。该厚度下方便进行镀膜工艺，并且更容易在加热状态下蒸发形成均匀的离子态或气态的靶材，提高了形成金属膜层具有更好金属质感的可靠性。加热温度为60℃-70℃，可以通过直接加热或间接加热的方式对靶材进行加热。

在一个实施例中，所述油墨的印刷厚度为7μm～9μm，印刷后在75℃～85℃的温度条件下烘烤形成油墨层。

印刷油墨在金属膜层上形成一层油墨层，油墨层能够给第一表面上的金属膜层纹理效果提供保护，避免金属膜层直接与空气接触发生反应。提高第一基材形成的膜片的可靠性，有助于保持透镜景深效果。将印有油墨的第一表面背向电子设备，另一面与电子设备的外壳连接，使第一表面的纹理能够展现在用户视线内。

印刷的油墨层会增加第一基材的厚度，将油墨的印刷厚度设置在7μm～9μm的范围内，既能够满足印刷油墨层形成保护纹理的效果，又不会使第一基材厚度过大。印刷后在75℃～85℃的温度条件下烘烤使油墨固化形成油墨层，烘烤时间可以为30min。油墨层与金属膜层结合更加牢固。

例如，膜片的该制备方法中的设置油墨层的步骤中包括设置三层所述油墨层。形成一层油墨层后，再印刷第二层油墨，并再次进行烘烤固化，再以同样的方法形成第三层油墨。设置三层油墨层能够更有效地映衬处纹理的效果，避免设置膜片的电子设备上的颜色或结构对纹理的效果造成影响。

在一个例子中，将母膜1表面的纹理转印到第一基材的过程中，可以是根据电子设备的尺寸已经切割到预定尺寸的第一基材上，再将纹理转印到第一基材的第一表面上。还可以是将纹理转印到第一基材并形成膜片后，再通过切割加工的方式将第一基材切割为预定的尺寸。为了方便大批量生产，切割的方式可以是CNC切割加工。

在本申请的一个实施例中，提供了一种膜片，该膜片通过上述任意一个实施例中所述的膜片的制备方法制备而成。该膜片具有透镜景深效果，表面的金属膜层提高了金属反射质感，进一步增强的透镜景深效果，从而使用户产生深邃感和神秘感。

在本申请的一个实施例中，提供了一种电子设备，该电子设备包括：

如上述的膜片；以及外壳，所述第一基材的第二表面与所述外壳连接，第二表面与所述第一表面相背。

在该实施例中，第二表面与外壳的连接方式可以是将第二表面粘接在外壳的表面，还可以是通过压合的方式是第二表面与外壳连接在一起。第二表面与外壳连接后，第一表面所在的一侧能够呈现在设置膜片后的电子设备的最外层，使纹理的透镜景深效果展现出来。增加了电子设备的深邃感和神秘感。

上面结合附图对本申请的实施例进行了描述，但是本申请并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本申请的启示下，在不脱离本申请宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，均属于本申请的保护之内。

Claims (10)

1.一种膜片的制备方法，其特征在于，包括：

准备母膜；

在母膜的表面上形成第一纹理，所述第一纹理呈弧形，所述第一纹理的宽度在第一方向上由中部向两边逐渐减小；

处理所述表面，使所述表面的光滑度形成渐变；

将所述表面转印到第一基材的第一表面上；

在所述第一表面上形成金属膜层；

在所述金属膜层上设置油墨层。

2.根据权利要求1所述的膜片的制备方法，其特征在于，所述第一纹理包括多个凹槽，所述凹槽在所述表面上沿相同方向排列。

3.根据权利要求2所述的膜片的制备方法，其特征在于，所述凹槽的宽度为10μm～30μm。

4.根据权利要求1所述的膜片的制备方法，其特征在于，通过激光在所述母膜的表面上形成所述第一纹理。

5.根据权利要求1所述的膜片的制备方法，其特征在于，通过激光使所述表面的光滑度形成渐变；所述表面的光滑度沿所述表面的一端到另一端形成渐变。

6.根据权利要求1所述的膜片的制备方法，其特征在于，通过UV转印将所述表面转印到所述第一表面上。

7.根据权利要求1所述的膜片的制备方法，其特征在于，通过光学镀膜在所述第一表面上形成金属膜层，所述光学镀膜的过程包括：

提供真空条件；

将氧化硅和氧化钛靶材加热蒸发；

通过辉光放电使靶材沉积到第一表面形成所述金属膜层。

8.根据权利要求1所述的膜片的制备方法，其特征在于，所述油墨的印刷厚度为7μm～9μm，印刷后在75℃～85℃的温度条件下烘烤形成油墨层。

9.一种膜片，其特征在于，通过权利要求1-8任意一项所述的膜片的制备方法制备而成。

10.一种电子设备，其特征在于，包括

如权利要求9所述的膜片；

外壳，所述第一基材的第二表面与所述外壳连接，所述第二表面与所述第一表面相背。

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