CN111716951A - 壳体的制作工艺、壳体及电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请公开了一种壳体的制作工艺、壳体及电子设备，属于产品表面处理技术领域。该壳体的制作工艺包括如下步骤：提供具有目标纹理的转印模具，所述目标纹理包括多条第一弧形凹槽和多条第二弧形凹槽，所述多条第一弧形凹槽阵列排布，所述多条第二弧形凹槽阵列排布，所述第一弧形凹槽的延伸方向和所述第二弧形凹槽的延伸方向相交；将所述目标纹理转印至壳体基材的表面；在所述壳体基材的表面形成反射膜；在所述反射膜上形成遮光层；切割所述壳体基材形成目标形状，得到所述壳体。上述方案能够解决壳体的外观质感较差的问题。

Description

壳体的制作工艺、壳体及电子设备

技术领域

本申请属于产品表面处理技术领域，具体涉及一种壳体的制作工艺、壳体及电子设备。

背景技术

随着电子设备产品的日新月异，各品牌的产品竞争越来越激烈。然而，各品牌的产品在结构、风格方面大同小异，因此产品外观的差异化和时尚属性已成为产品成交率的决定性因素之一。

在实现本发明创造的过程中，发明人发现相关技术存在如下问题，传统的电子设备的壳体存在纹路单一的问题，导致壳体的外观质感较差，无法满足用户越来越高的审美要求。

发明内容

本申请实施例的目的是提供一种壳体的制作工艺、壳体及电子设备，能够解决壳体的外观质感差的问题。

为了解决上述技术问题，本申请是这样实现的：

本申请实施例提供了一种壳体的制作工艺包括如下步骤：

提供具有目标纹理的转印模具，所述目标纹理包括多条第一弧形凹槽和多条第二弧形凹槽，所述多条第一弧形凹槽阵列排布，所述多条第二弧形凹槽阵列排布，所述第一弧形凹槽的延伸方向和所述第二弧形凹槽的延伸方向相交；

将所述目标纹理转印至壳体基材的表面；

在所述壳体基材的表面形成反射膜；

在所述反射膜上形成遮光层；

切割所述壳体基材形成目标形状，得到所述壳体。

本申请实施例提供了一种壳体，由上述壳体的制作工艺加工而成。

本申请实施例提供了一种电子设备，包括上述壳体。

在本申请实施例中，转印模组具有的目标纹理包括多条第一弧形凹槽和多条第二弧形凹槽，第一弧形凹槽的延伸方向和第二弧形凹槽的延伸方向相交。此方案中，第一弧形凹槽转印形成第一纹路，第二凹槽形成第二纹路，第一纹路与第二纹路发生干涉现象，从而产生摩尔条纹，第一弧形凹槽形成的第一纹路、第二弧形凹槽形成的第二纹路以及摩尔条纹交错分布，在光线照射作用下具有三维深度和错视画的效果，其所呈现的光泽变化更加丰富，从而使得壳体具有更强的视觉冲击，促使壳体具有深邃感和神秘感，此时，采用该制作工艺加工而成的壳体具有更优的外观质感。

附图说明

图1是本申请实施例公开的壳体的制作工艺的流程示意图；

图2是本申请实施例公开的壳体的制作工艺中，转印模具的第一弧形凹槽的示意图；

图3是本申请实施例公开的壳体的制作工艺中，转印模具的第二弧形凹槽的示意图；

图4是本申请实施例公开的壳体的制作工艺中，转印模具的目标纹理的示意图；

图5是本申请实施例公开的壳体的制作工艺中，转印模具的目标纹理的局部放大图；

图6是本申请实施例公开的壳体的制作工艺中，第一弧形凹槽的局部示意图；

图7是本申请另一实施例公开的壳体的制作工艺的部分流程示意图；

图8为本申请再一实施例公开的壳体的制作工艺的部分流程示意图。

附图标记说明：

100-转印模具、110-第一弧形凹槽、120-第二弧形凹槽、130-摩尔条纹。

具体实施方式

下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

本申请的说明书和权利要求书中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便本申请的实施例能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，说明书以及权利要求中“和/或”表示所连接对象的至少其中之一，字符“/”，一般表示前后关联对象是一种“或”的关系。

下面结合附图，通过具体的实施例及其应用场景对本申请实施例提供的壳体的制作工艺进行详细地说明。

请参考图1～图8，本申请实施例公开一种壳体的制作工艺，该壳体可以应用于电子设备。本申请实施例公开的壳体的制作工艺具体包括如下步骤：

S101、提供具有目标纹理的转印模具100。

目标纹理可以预先制作在转印模具100上，需要对壳体进行表面处理时，直接使用该转印模具100即可，上述目标纹理可以包括多条第一弧形凹槽110和多条第二弧形凹槽120，本文中，弧形凹槽指的是贯穿轴线为弧线的凹槽，该贯穿轴线指的是与凹槽的贯通方向一致的轴线。多条第一弧形凹槽110阵列排布，多条第二弧形凹槽120阵列排布，阵列排布是指多条第一弧形凹槽110或者多条第二弧形凹槽120可以沿预设方向等间距的间隔排布。

第一弧形凹槽110的延伸方向和第二弧形凹槽120的延伸方向相交，此时，第一弧形凹槽110形成第一纹路，第二弧形凹槽120形成第二纹路，第一纹路和第二纹路发生干涉现象，从而形成摩尔条纹130，摩尔条纹130由两组条纹结构叠加而成，摩尔条纹130的叠加方式有多种，两组条纹结构通过不同角度或者不同方向的叠加得到不同的摩尔条纹130，摩尔条纹130的具体叠加方式本文不作限制。可选地，第一弧形凹槽110的尺寸和第二弧形凹槽120的尺寸可以相同，也可以不同。本文对此不作限制。

上述实施例中的目标纹理可以通过机械加工(例如CNC加工方式)形成于转印模具100上，需要注意的是，目标纹理在加工的过程中第一弧形凹槽110和第二弧形凹槽120的加工面应避免出现刀纹和麻点，从而确保壳体具有较高的加工精度。

S102、将目标纹理转印至壳体基材的表面。

在实施转印操作之前，可以先开料。具体地，可以将一整张防爆膜片材开切成多个(例如2个、3个、4个、6个等等)小的片材，该片材作为单个壳体的表面处理原材料。这里的防爆膜片材可以包括层叠设置的PET(Polyethylene terephthalate，聚对苯二甲酸乙二醇酯)基层和OCA(Optically Clear Adhesive)胶层，PET基层的厚度可以设置为50μm，OCA胶层的厚度可以设置为25μm。

经过转印操作后，转印模具100上的目标纹理将对应转印至壳体基材的表面。具体来讲，本申请实施例中的目标纹理为槽结构，那么转印至壳体基材的表面上的结构即为凸出的弧线结构。

S103、在壳体基材的表面形成反射膜。

目标纹理转印至壳体基材的表面以后，继续在壳体基材的表面上形成反射膜，该反射膜可以反射光线，进而使得用户可以明显地看到目标纹理以及目标纹理带来的光泽。可选地，形成反射膜的方式可以是真空镀膜。

S104、在反射膜上形成遮光层。

此步骤中形成的遮光层可以对壳体基材进行遮光保护，具体可以通过印刷的方式形成该遮光层。

S105、切割壳体基材形成目标形状，得到壳体。

在壳体基材的表面形成遮光层之后，还可以进一步的根据产品的结构要求进行切割操作，例如切割壳体基材的边缘，使其边缘处的弧度满足要求；再例如，可以在壳体基材上切割出孔或槽，该孔或槽可以避让电子设备的摄像头或者传感器等器件。

本申请公开的实施例中，第一弧形凹槽110形成第一纹路，第二凹槽形成第二纹路，第一纹路与第二纹路发生干涉现象，从而产生摩尔条纹130，摩尔条纹130具有较好的光影交错感，第一弧形凹槽110形成的第一纹路、第二弧形凹槽120形成的第二纹路以及摩尔条纹130交错分布，在光线照射作用下具有三维深度和错视画的效果，其所呈现的光泽变化更加丰富，从而使得壳体具有更强的视觉冲击，促使壳体具有深邃感和神秘感，此时，采用该壳体制作工艺加工而成的壳体具有更优的外观质感。

另外，第一弧形凹槽110和第二弧形凹槽120加工于同一转印模具100，因此该壳体制作工艺可以一次形成摩尔条纹130，进而简化了壳体的制作工艺，使得壳体的加工制作简单、方便，成本较低。

需要说明的是，第一弧形凹槽110和第二弧形凹槽120的条数可以设置的比较多，例如上百条，随着第一弧形凹槽110和第二弧形凹槽120的条数不断增加，壳体所呈现的光感将更加细腻，当然，壳体的加工成本也将随之增大。因此，为了在优化壳体的外观质感的前提下控制壳体的加工成本，可以合理设置第一弧形凹槽110和第二弧形凹槽120的条数。

进一步的实施例中，每个第一弧形凹槽110的直径和每个第二弧形凹槽120的直径均在90mm～200mm之间。此方案中，单个弧形凹槽的弯曲程度更大，从而形成的弧线结构的弯曲度较大，在光线照射作用下，弧线结构产生蜿蜒流动的动感光泽，使得目标纹理具有更好的感光效果，进而使得壳体的外观质感更强。优选地，第一弧形凹槽110的直径和第二弧形凹槽120的直径可以为110mm。

上述实施例中，第一弧形凹槽110可以为U型槽，但是U型槽的槽口的宽度和槽底的宽度基本一致，致使目标纹理的立体感较差。一种可选的实施例中，第一弧形凹槽110具有相对的两个第一内侧壁，在第一弧形凹槽110的槽口至第一弧形凹槽110的槽底的方向，第一弧形凹槽110的相对的两个第一内侧壁之间的距离逐渐减小。例如，在沿第一弧形凹槽110的槽口至第一弧形凹槽110的槽底的方向上截取的截面形状为V形，此时，第一弧形凹槽110可以为V形槽。此方案中，第一弧形凹槽110的槽口宽度大于第一弧形凹槽110的槽底的宽度(第一弧形凹槽110的槽口宽度如图5中a所示距离)，进而使得目标纹理的凹凸感更强，从而使得目标纹理的立体感更强，进而具有更强烈的视觉冲击，进一步提高了壳体的外观质感。

当然，第二弧形凹槽120也可以具有相对的两个第二内侧壁，在第二弧形凹槽120的槽口至第二弧形凹槽120的槽底的方向，第二弧形凹槽120的相对的两个第二内侧壁之间的距离逐渐减小，例如，在沿第二弧形凹槽120的槽口至第二弧形凹槽120的槽底的方向上截取的截面形状为V形，此时，第二弧形凹槽120可以为V形槽。此方案也能够达到与上述方案类似的效果，本文不再赘述。

进一步地，第一弧形凹槽110的槽口的宽度可以自第一弧形凹槽110的中心向第一弧形凹槽110的两端递减。具体而言，第一弧形凹槽110的槽口的宽度为第一弧形凹槽110的相对的两个第一内侧壁的外边缘之间的距离。在光线的照射用下，此种壳体所生产的光感可以由壳体的中心向两侧渐变，多束光线随着壳体的角度以及光源的变化而呈现出不同的感光层次变化，进一步提高了壳体的外观质感，尤其在聚光灯下，壳体的表面会产生细致优美的高光带，其所形成的动感光感将更加突出。因此，目标纹理采用此种设计时，可以使壳体给用户带来耳目一新的时尚感受，此种壳体的外观质感更能满足用户的需求。可选地，第一弧形凹槽110的中心位置的槽口宽度可以为80μm，第一弧形凹槽110的两端的槽口宽度可以为60μm。

可选地，第二弧形凹槽120的槽口的宽度可以自第二弧形凹槽120的中心向第二弧形凹槽120的两端递减，第二弧形凹槽120的槽口的宽度为第二弧形凹槽120的相对的两个第二内侧壁的外边缘之间的距离，此时，第一弧形凹槽110和第二弧形凹槽120干涉形成的摩尔条纹130的宽度，可以由壳体的中心向两边递减，从而形成不同的感光层次。可选地，第二弧形凹槽120的中心位置的槽口宽度可以为80μm，第一弧形凹槽110的两端的槽口宽度可以为60μm。

一种可选的实施例中，第一弧形凹槽110的槽底至第一弧形凹槽110的槽口的距离为第一距离(第一距离如图5中b所示的距离)，第一距离自第一弧形凹槽110的中心向第一弧形凹槽110的两端递减；和/或，第二弧形凹槽120的槽底至第二弧形凹槽120的槽口的距离为第二距离，第二距离自第二弧形凹槽120的中心向第二弧形凹槽120的两端递减。也就是说，弧形凹槽的中心处的深度较深，弧形凹槽两端的深度较浅。

此案方案中，由于弧形凹槽的槽口和槽底的距离由弧形凹槽的中心向弧形凹槽的两端递减，从而使得弧形凹槽的中心部分立体感较强，弧形凹槽的两端立体感较弱，在光照下，能够使得目标纹理出现明暗变化，从而具有更好的光感效果。可选的，弧形凹槽的中心处的槽底至槽口的距离可以为14.3μm，弧形凹槽的两端处的槽底至槽口的距离可以为10.5μm。

第一弧形凹槽110的槽口宽度和第一距离可以同时沿第一弧形凹槽110的中心向第一弧形凹槽110的两端递减，从而使得壳体具有更优的光感效果。当然，第二弧形凹槽120的槽口宽度和第二距离也可以同时沿第二弧形凹槽120的中心向第二弧形凹槽120的两端递减。

上述实施例中，当第一弧形凹槽110的相对的两个第一内侧壁之间的夹角较大时，第一弧形凹槽110的立体感较差。当第一弧形凹槽110的相对的两个第一内侧壁之间的夹角较小时，第一弧形凹槽110的加工难度较大。为此，一种可选的实施例中，第一弧形凹槽110的相对的两个第一内侧壁之间的夹角在100°～150°之间(第一弧形凹槽110的相对的两个第一内侧壁之间的夹角如图5中C所示的夹角)。此方案既能够保证第一弧形凹槽110具有较好的立体感，又能够使得第一弧形凹槽110的角度加工制作方便。优选的方案中，第一弧形凹槽110的相对的两个第一内侧壁之间的夹角为140°。

当然，第二弧形凹槽120的相对的两个第二内侧壁之间的夹角也可以在100°～150°之间，从而既能够使得第二弧形凹槽120具有较好的立体感，又能够使得第二弧形凹槽120的角度加工制作方便。优选的方案中，第二弧形凹槽120的相对的两个第二内侧壁之间的夹角为140°。

相关技术中，光线沿着线条的法线方向传播，第一弧形凹槽110和第二弧形槽凹槽120可以预设的角度相交，此时，第一弧形凹槽110形成的第一纹路和第二凹槽形成的第二纹路的法线方向相交，沿第一纹路传播的光线与沿第二纹路传播的光线叠加效果较差，因此光感效果较差。

为此，一种可选的实施例中，第一弧形凹槽110的曲率和第二弧形凹槽120的曲率相同，第一弧形凹槽110和第二弧形凹槽120可以沿壳体基材的长度方向或宽度方向分布，需要说明的是，壳体基材的长度方向和宽度方向对应到转印转印模具100上，相邻的第一弧形凹槽110和第二弧形凹槽120之间的距离为10mm～14mm。此方案中，第一弧形凹槽110可以沿壳体基材的长度方向或者宽度方向平移一定的距离得到第二弧形凹槽120，此时，第一弧形凹槽110和第二弧形凹槽120的纹路的法线方向相同，进而使得沿第一纹路传递的光线与沿第二纹路传递的光线叠加，目标纹路的亮度更强，因此光感效果更好，进而使得壳体具有较好的光感效果。在更加优选的方案中，相邻的第一弧形凹槽110和第二弧形凹槽120之间的距离可以为12mm。

另外，第一弧形凹槽110的曲率和第二弧形凹槽120的曲率相同，一方面可以简化目标纹理，使得转印模具100的制作成本有所降低；另一方面，可以使目标纹理的结构更加规则，壳体最终呈现出的光感效果也会更加优美。

一种可选的实施例中，可以通过UV转印工艺实现目标纹理的转印。UV转印工艺，又称UV灌注工艺或UV披覆工艺，其利用UV胶水与金属不粘的特性，将纹理转移至板材上。具体地，如图6所示，前述步骤S102包括：

S111、在转印模具100中滴入UV胶水。

转印模具100可以预先定位固定到UV转印机上。

S112、将壳体基材放入转印模具100，并使壳体基材与UV胶水贴合。

具体地，可以采用胶辊辊压壳体基材，使得壳体基材紧压UV胶水，保证两者的贴合度，提升纹理转印的效果。

S113、照射壳体基材和UV胶水，直至UV胶水凝固。

具体地，可以将携带壳体基材和UV胶水的转印模具100放入光固化机中，通过光线(具体可以为紫外光)照射的方式，光照能量可以为800-1100MJ，促使UV胶水固化，达到转印纹理的目的。UV胶水凝固后，即可将壳体基材与转印模具100分离。

需要说明的是，将转印模具100中的目标纹理转印至壳体基材的表面上之后，可以在壳体基材的目标纹理上覆盖保护膜，方便周转壳体基材。

一种可选的实施例中，可以通过光学镀膜的方式，在壳体基材的表面形成反射膜。具体地，上述步骤103可以包括：将壳体基材放入光学镀膜装置中进行镀膜，经过50min-60min后，取出表面形成反射膜的壳体基材。实施镀膜操作时，可以调整镀膜参数，同时光学镀膜装置可以发射光线，使得形成反射膜的原材料在光线的照射作用下转化为气态，进而附着于壳体基材具有目标纹理的一面，并最终沉积于该面，得到所需的反射膜。

另一种可选的实施例中，镀膜所采用的原材料可以是氧化硅、氧化钛，进而形成偏蓝相的反射膜，蓝光波长为436nm至495nm，该反射膜可以反射该波长范围内的蓝光。进一步地，反射膜可以具有三层结构，其中，第一层和第三层为氧化钛，第二层为氧化硅。通过在壳体基材的表面沉积一定层数和厚度的金属膜层，使得壳体具有强烈的金属反射质感，进而提高了壳体的外观质感。

当然，上述反射膜仅作为示例，在实施本申请实施例时，可以根据实际情况设置其他反射膜，例如，偏红相的金属膜、偏绿相的金属膜或者其他金属膜，本申请实施例对此不作限制。另外，除了上述反射膜外，本领域技术人员还可以根据实际需要采用其它反射膜，本申请实施例对此也不加以限制。

需要说明的是，若壳体基材的目标纹理上覆盖有保护膜，则去除该保护膜之后，再在壳体基材的目标纹理上形成反射膜。此外，在壳体基材的目标纹理上形成反射膜之后，可以在壳体基材的反射膜上覆盖保护膜，方便周转。

一种可选的实施例中，可以在反射膜上形成遮光层。具体地，如图7所示，步骤S104可以包括：

S121、在反射膜上印刷具有目标色的油墨。

可以采用丝网印刷的方式形成遮光层，该丝网网版的目数可以为350lpi，使用的油墨通常可以是黑色油墨，油墨的厚度可以为7um至9um。

S122、烘烤壳体基层，烘烤温度为75℃～85℃，烘烤时间为40min～50min。

印刷了油墨的壳体基材可以放置在支撑架上，然后将该支撑架连同壳体基材一起放入烤箱中进行烘烤。

S123、以预设次数循环上述步骤S121～S122。

即，反复对壳体基材进行印刷油墨、烘烤操作，使得壳体基材上所形成的遮光层的厚度、均匀度能够满足要求，达到更好的遮光效果。具体地，上述预设次数可以是三次，当然，也可以更少或者更多，本发明实施例对此不作限制。

需要说明的是，若壳体基材的反射膜上覆盖有保护膜，则去除保护膜之后，再在壳体基材的反射膜上形成遮光层。此外，在壳体基材的反射膜上形成遮光层之后，可以在壳体基材的遮光层上覆盖保护膜，方便周转。

前文提到，对于经过纹理转印、成型反射膜、成型遮光层的壳体基材，还可以进行切割加工，以获得具有目标形状的壳体。可选地，本申请实施例可以通过镭雕的方式将壳体基材加工成具有目标形状的壳体，进一步地，可以采用CNC(Computerized NumericalControl，计算机数控)镭雕工艺。镭雕工艺可以由镭雕机实施，其可以利用激光器发射的高强度激光束聚焦在焦点处，使该焦点处的材料氧化进而对其进行加工。此种加工工艺更便于实施，且可以通过灵活控制加工参数适应不同的结构，且所加工出的结构的精度较高。

基于上述壳体的制作工艺，本申请实施例还公开了一种壳体，该壳体可以采用上述任意一种壳体的制作工艺加工而成。

基于本申请实施例公开的壳体，本申请实施例还公开一种电子设备，该电子设备包括上述壳体。

本申请实施例公开的电子设备可以是智能手机、笔记本电脑、平板电脑、可穿戴设备(例如智能手表)等，本发明实施例不限制电子设备的具体种类。

上面结合附图对本申请的实施例进行了描述，但是本申请并不局限于上述的具体实施方式，上述的具体实施方式仅仅是示意性的，而不是限制性的，本领域的普通技术人员在本申请的启示下，在不脱离本申请宗旨和权利要求所保护的范围情况下，还可做出很多形式，均属于本申请的保护之内。

Claims (10)

1.一种壳体的制作工艺，其特征在于，包括如下步骤：

提供具有目标纹理的转印模具，所述目标纹理包括多条第一弧形凹槽和多条第二弧形凹槽，所述多条第一弧形凹槽阵列排布，所述多条第二弧形凹槽阵列排布，所述第一弧形凹槽的延伸方向和所述第二弧形凹槽的延伸方向相交；

将所述目标纹理转印至壳体基材的表面；

在所述壳体基材的表面形成反射膜；

在所述反射膜上形成遮光层；

切割所述壳体基材形成目标形状，得到所述壳体。

2.根据权利要求1所述的壳体的制作工艺，其特征在于，每个所述第一弧形凹槽的直径和每个所述第二弧形凹槽的直径均在90mm～200mm之间。

3.根据权利要求1所述的壳体的制作工艺，其特征在于，所述第一弧形凹槽具有相对的两个第一内侧壁，在所述第一弧形凹槽的槽口至所述第一弧形凹槽的槽底的方向，所述第一弧形凹槽的相对的两个所述第一内侧壁之间的距离逐渐减小，所述第一弧形凹槽的相对的两个所述第一内侧壁之间的夹角在100°～150°之间；和/或，

所述第二弧形凹槽具有相对的两个第二内侧壁，在所述第二弧形凹槽的槽口至所述第二弧形凹槽的槽底的方向，所述第二弧形凹槽的相对的两个所述第二内侧壁之间的距离逐渐减小，所述第二弧形凹槽的相对的两个所述第二内侧壁之间的夹角在100°～150°之间。

4.根据权利要求3所述的壳体的制作工艺，其特征在于，所述第一弧形凹槽的槽口的宽度自所述第一弧形凹槽的中心向所述第一弧形凹槽的两端递减；和/或，

所述第二弧形凹槽的槽口的宽度自所述第二弧形凹槽的中心向所述弧形凹槽的两端递减。

5.根据权利要求3所述的壳体的制作工艺，其特征在于，所述第一弧形凹槽的槽底至所述第一弧形凹槽的槽口的距离为第一距离，所述第一距离自所述第一弧形凹槽的中心向所述第一弧形凹槽的两端递减；和/或，

所述第二弧形槽的槽底至所述第二弧形凹槽的槽口的距离为第二距离，所述第二距离自所述第二弧形槽的中心向所述第二弧形凹槽的两端递减。

6.根据权利要求1所述的壳体的制作工艺，其特征在于，所述第一弧形凹槽的曲率和所述第二弧形凹槽的曲率相同，所述第一弧形凹槽和所述第二弧形凹槽沿所述壳体基材的长度方向或宽度方向分布，相邻的所述第一弧形凹槽和所述第二弧形凹槽之间的距离为10mm～14mm。

7.根据权利要求1至6中任一项所述的壳体的制作工艺，其特征在于，将所述目标纹理转印至壳体基材的表面的步骤包括：

在所述转印模具中滴入UV胶水；

将所述壳体基材放入所述转印模具，并使所述壳体基材与所述UV胶水贴合；

照射所述壳体基材和所述UV胶水，直至所述UV胶水凝固。

8.根据权利要求1至6中任一项所述的壳体的制作工艺，其特征在于，在所述反射膜上形成遮光层的步骤包括：

(1)、在所述反射膜上印刷具有目标色的油墨；

(2)、烘烤所述壳体基层，烘烤温度为75℃～85℃，烘烤时间为20min～40min；

(3)、以预设次数循环所述步骤(1)～(2)。

9.一种壳体，其特征在于，所述壳体采用权利要求1至8中任一项所述的壳体的制作工艺加工而成。

10.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求9所述的壳体。

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