CN111885858B - 壳体组件及其制备方法和电子设备 - Google Patents

Abstract

本申请提供了一种壳体组件及其制备方法和电子设备。该壳体组件包括：基材，基材具有相对设置的凹面和凸面，基材包括平面和侧面，侧面和平面之间的夹角小于等于90°；第一光学镀膜，第一光学镀膜设置在基材的凸面或凹面；第一镀膜漆层，第一镀膜漆层设置在第一光学镀膜远离基材的表面上，且在基材的正投影覆盖基材；以及第二光学镀膜，第二光学镀膜设置在第一镀膜漆层远离基材的表面上，其中，第一光学镀膜层和第二光学镀膜层中的一个在基材上的正投影覆盖平面，另一个在基材上的正投影覆盖侧面。上述方案可以实现全面镀覆光学镀膜，进而有效实现壳体组件全面的增亮效果，避免平面和侧面之间出现光哑差别等不良现象。

Description

壳体组件及其制备方法和电子设备

技术领域

本申请涉及电子设备的壳体技术领域，具体的，涉及壳体组件及其制备方法和电子设备。

背景技术

现有光学镀膜设备只能镀覆单面基材，对于具有倒扣结构的电池盖等基材(所谓倒扣结构，就是侧面的某个弧面与大面(或平面)的夹角≤90°)，无法完成全面镀覆的效果。在上述情况之下，光学膜层只能附着在大面或大面和侧面某个过度弧面之上，对于与大面夹角≤90°的弧面，则无法实现光学膜层的镀覆。如此，容易导致与大面夹角≤90°的弧面与大面之间产生较为严重的异色现象，影响电池盖外观的效果。

因此，关于电子设备的壳体组件的研究有待深入。

发明内容

本申请旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本申请的一个目的在于提出一种壳体组件，该壳体组件中的光学镀膜可以有效覆盖基材的整个表面，而且成本较低，厚度便于控制。

在本申请的一个方面，本申请提供了一种壳体组件。根据本申请的实施例，该壳体组件包括：基材，所述基材具有相对设置的凹面和凸面，所述基材包括平面和围绕平面设置的侧面，所述侧面和所述平面之间的夹角小于等于90°；第一光学镀膜，所述第一光学镀膜设置在所述基材的凸面或凹面；第一镀膜漆层，所述第一镀膜漆层设置在所述第一光学镀膜远离所述基材的表面上，且在所述基材的正投影覆盖所述基材；以及第二光学镀膜，所述第二光学镀膜设置在所述第一镀膜漆层远离所述基材的表面上，其中，所述第一光学镀膜层和所述第二光学镀膜层中的一个在所述基材上的正投影覆盖所述平面，另一个在所述基材上的正投影覆盖所述侧面。由此，通过在平面正对应区域设置第一光学镀膜层或第二光学镀膜，在侧面对应正区域设置第二光学镀膜层或第一光学镀膜，实现全面镀覆光学镀膜，进而有效实现壳体组件全面的增亮效果，避免平面和侧面之间出现光哑差别等不良现象；且第一光学镀膜层和第二光学镀膜层不设置在同一层(中间间隔有第一镀膜漆层)，可以避免第一光学镀膜层和第二光学镀膜层交叉处发生异色现象。

在本申请的另一方面，本申请提供了一种制备壳体组件的方法。根据本申请的实施例，该制备壳体组件的方法包括：提供基材，所述基材具有相对设置的凹面和凸面，所述基材包括平面和围绕平面设置的侧面，所述侧面和所述平面之间的夹角小于等于90°；在所述基材的凸面或凹面沉积形成第一光学镀膜，且所述第一光学镀膜在所述基材上的正投影覆盖所述平面；在所述第一光学镀膜远离所述基材的表面上涂覆第一镀膜漆层，且所述第一镀膜漆层在所述基材上的正投影覆盖所述基材；在所述第一镀膜漆层远离所述基材的表面上沉积形成第二光学镀膜，其中，所述第一光学镀膜层和所述第二光学镀膜层中的一个在所述基材上的正投影覆盖所述平面，另一个在所述基材上的正投影覆盖所述侧面。由此，在上述方法中，通过在平面正对应区域设置第一光学镀膜层或第二光学镀膜，在侧面对应正区域设置第二光学镀膜层或第一光学镀膜，实现全面镀覆光学镀膜，进而有效实现壳体组件全面的增亮效果，避免平面和侧面之间出现光哑差别等不良现象；且第一光学镀膜层和第二光学镀膜层不设置在同一层(中间间隔有第一镀膜漆层)，可以避免第一光学镀膜层和第二光学镀膜层交叉处发生异色现象；而且上述制备方法的工艺可实施性强，便于工业化量产，而且光学镀膜的厚度便于控制，进而便于保证和控制壳体组件的外观效果。

在本申请的又一方面，本申请提供了一种电子设备。根据本申请的实施例，该电子设备包括：前面所述的壳体组件；显示屏组件，所述显示屏组件与所述壳体组件相连，且所述显示屏组件和所述壳体组件之间限定出安装空间，其中，所述壳体组件的第一光学膜层远离所述显示屏组件设置；以及主板，所述主板设置在所述安装空间内且与所述显示屏组件电连接。由此，该电子设备的壳体组件的外观效果均匀一致，无异色现象。本领域技术人员可以理解，该电子设备具有前面所述的壳体组件的所有特征和优点，在此不再一一赘述。

附图说明

图1是本申请一个实施例中壳体组件的结构示意图。

图2是本申请一个实施例中基材的结构示意图。

图3是本申请另一个实施例中壳体组件的结构示意图。

图4是本申请又一个实施例中壳体组件的结构示意图。

图5是本申请又一个实施例中壳体组件的结构示意图。

图6是本申请又一个实施例中壳体组件的结构示意图。

图7是本申请又一个实施例中制备第一光学镀膜层的方法。

图8是本申请又一个实施例中制备第二光学镀膜层的方法。

图9是本申请又一个实施例中制备第二光学镀膜层的方法。

图10是本申请又一个实施例中壳体组件的结构示意图。

具体实施方式

下面详细描述本申请的实施例。下面描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。实施例中未注明具体技术或条件的，按照本领域内的文献所描述的技术或条件或者按照产品说明书进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市购获得的常规产品。

在本申请的一个方面，本申请提供了一种壳体组件。根据本申请的实施例，参照图1和图3，该壳体组件包括：基材10，基材10具有相对设置的凹面11和凸面12，基材10包括平面13和围绕平面13设置的侧面14，侧面14和平面13之间的夹角α小于等于90°(参照图2)；第一光学镀膜21，第一光学镀膜21设置在基材10的凸面12或凹面11(图1中以设置在凸面为例)；第一镀膜漆层31，第一镀膜漆层31设置在第一光学镀膜21远离基材10的表面上，且在基材的正投影覆盖基材10；以及第二光学镀膜22，第二光学镀膜22设置在第一镀膜漆层31远离基材10的表面上，其中，第一光学镀膜层21和第二光学镀膜层22中的一个在基材10上的正投影覆盖平面13，另一个在基材10上的正投影覆盖侧面14，即第一光学镀膜层21在基材10上的正投影覆盖平面13，第二光学镀膜层在基材10上的正投影覆盖侧面14(如图1所示)，或者第一光学镀膜层21在基材10上的正投影覆盖侧面14，第二光学镀膜层22在基材10上的正投影覆盖平面13(如图3所示)。由此，通过在平面正对应区域设置第一光学镀膜层或第二镀膜层，在侧面对应正区域设置第二光学镀膜层或第一镀膜层，实现全面镀覆光学镀膜，进而有效实现壳体组件全面的增亮效果，避免平面和侧面之间出现光哑差别等不良现象；且第一光学镀膜层和第二光学镀膜层不设置在同一层(中间间隔有第一镀膜漆层)，可以避免第一光学镀膜层和第二光学镀膜层交叉处发生异色现象。

根据本申请的实施例，如前所述，第一光学镀膜、第一镀膜漆层、第二光学镀膜等结构可以设置在基材的凸面或凹面，在一些实施例中，当第一光学镀膜、第一镀膜漆层、第二光学镀膜等结构设置在基材的凸面时，相比设置在凹面，在基材的侧面制备光学镀膜和第一镀膜漆层时制备工艺更便于实时操作，制备的镀膜厚度更为均匀，进而有助于提升壳体组件的外观效果。

其中，基材的具体材料没有特殊要求，本领域技术人员可以根据实际情况灵活选择。在一些实施例中，基材的具体材料包括但不限于玻璃、塑胶基材、金属等基材。其中，基材的侧面构成壳体组件的中框。

根据本申请的实施例，第一光学镀膜层21在基材10上的正投影覆盖平面13，第二光学镀膜层在基材10上的正投影覆盖侧面14(如图1所示)时，在蒸镀制备第一光学镀膜和第二光学镀膜时，平面的第一光学镀膜材料会蒸镀到侧面正对应的部分区域S2(与平面相邻的部分区域)，即第一光学镀膜层21在基材10上的正投影延伸至侧面14的部分区域S2；同理，侧面14的第二光学镀膜材料会蒸镀到平面正对应的部分区域S1(与侧面相邻的部分区域)，即第二光学镀膜层22在基材10上的正投影延伸至平面13的部分区域S1，结构示意图可参照图4。如此，第一光学镀膜层和第二光学镀膜层在基材上的正投影会有重叠区域S1+S2，但是由于第一光学镀膜层和第二光学镀膜层之间设有第一镀膜漆层，即第一光学镀膜层和第二光学镀膜层为两层独立的光学镀膜层，两者在重叠区域的叠加不会导致重叠区域出现明显的异色现象；若第一光学镀膜层和第二光学镀膜层之间不设置有其他层结构，即第一光学镀膜层和第二光学镀膜层同层设置，那么重叠区域的第一光学镀膜层和第二光学镀膜层接触设置，可视为叠加的一层光学镀膜层，那么重叠区域的光学镀膜层的厚度远大于第一光学镀膜层的厚度以及第二光学镀膜层的厚度，这样大的厚度差会导致重叠区域的光学镀膜层与其他区域的光学镀膜层有较严重的异色现象，进而严重影响壳体组件外观色泽的均一性。其中，S1和S2的宽度分别为0.5～1.5mm。

同理，第一光学镀膜层21在基材10上的正投影覆盖侧面14，第二光学镀膜层22在基材10上的正投影覆盖平面13(如图3所示)时，在蒸镀制备第一光学镀膜和第二光学镀膜时，平面的第二光学镀膜材料会蒸镀到侧面正对应的部分区域S3(与平面相邻的部分区域)，即第二光学镀膜层22在基材10上的正投影延伸至侧面14的部分区域S3；同理，侧面14的第一光学镀膜材料会蒸镀到平面正对应的部分区域S4(与侧面相邻的部分区域)，即第一光学镀膜层21在基材10上的正投影延伸至平面13的部分区域S4，结构示意图可参照图5。如此，第一光学镀膜层和第二光学镀膜层在基材上的正投影会有重叠区域S3+S4，但是由于第一光学镀膜层和第二光学镀膜层之间设有第一镀膜漆层，即第一光学镀膜层和第二光学镀膜层为两层独立的光学镀膜层，两者在重叠区域的叠加不会导致重叠区域出现明显的异色现象；若第一光学镀膜层和第二光学镀膜层之间不设置有其他层结构，即第一光学镀膜层和第二光学镀膜层同层设置，那么重叠区域的第一光学镀膜层和第二光学镀膜层接触设置，可视为叠加的一层光学镀膜层，那么重叠区域的光学镀膜层的厚度远大于第一光学镀膜层的厚度以及第二光学镀膜层的厚度，这样大的厚度差会导致重叠区域的光学镀膜层与其他区域的光学镀膜层有较严重的异色现象，进而严重影响壳体组件外观色泽的均一性。其中，S3和S4的宽度为0.5～1.5mm。

进一步的，第一光学镀膜和第二光学镀膜的厚度相等。由此，可以有效保证平面和侧面的光泽度和色泽的一致性。需要说明的是，由于实际制备中，第一光学镀膜和第二光学镀膜的厚度是很难保证完全百分百的相等，所以只要第一光学镀膜和第二光学镀膜的厚度差异小于等于10％即可理解为第一光学镀膜和第二光学镀膜的厚度相等。

进一步的，第一光学镀膜和所述第二光学镀膜的厚度分别为10～100微米，比如10微米、15微米、20微米、30微米、40微米、50微米、60微米、70微米、80微米、90微米或100微米。由此，不仅可以有效保证壳体组件的全面增亮效果，而且不会使得第一光学镀膜和第二光学镀膜在重叠区域产生较为严重的异色现象。

进一步的，所述第一光学镀膜和所述第二光学镀膜的厚度分别为20～90微米。由此，不仅可以更好的有效保证壳体组件的全面增亮效果，而且不会使得第一光学镀膜和第二光学镀膜在重叠区域产生较为严重的异色现象。

其中，第一光学镀膜和第二光学镀膜的材料分别包括但不限于氧化硅、氮化硅、氮氧化硅、氧化铌、氧化铊等材料。第一光学镀膜和第二光学镀膜分别可以由多层子光学镀膜层构成，具体的层数没有限制要求，本领域技术人员根据对壳体组件外观效果的具体要求等实际情况灵活选择。

根据本申请的实施例，参照图6(图中以“第一光学镀膜层21在基材10上的正投影覆盖平面13，第二光学镀膜层在基材10上的正投影覆盖侧面14”为例)，壳体组件还包括：第一处理剂层41，第一处理剂层41设置在基材10靠近第一光学镀膜层21的表面上；底漆层50，底漆层50设置在第一处理剂层41靠近第一光学镀膜层21的表面上；第二镀膜漆层32，第二镀膜漆层32设置在底漆层50靠近第一光学镀膜层21的表面上；第二处理剂层42，第二处理剂层42设置在第一光学镀膜层21与第一镀膜漆层31之间；第三处理剂层43，第三处理剂层43设置在第二光学镀膜层32远离基材10的表面上；面漆层60，面漆层60设置在第三处理剂层43远离基材10的表面上。本领域技术人员可以理解，上述第一处理剂层、第二处理剂层、第三处理剂层、第一镀膜漆层、第二镀膜漆层、底漆层和面漆层在基材上的正投影覆盖基材。

其中，第一处理剂层可以提高底漆层与基材之间的结合力，第二处理剂层可以提高第一光学镀膜与第一镀膜漆层之间结合力，第三处理剂层可以提高第二光学膜层与面漆层之间的结合力。第一处理剂层、第二处理剂层和第三处理剂层的厚度分别为3～5微米。第一处理剂层、第二处理剂层和第三处理剂层的材料分别为PU型树脂漆。

其中，本领域技术人员可以根据对壳体组件外观效果的要求，选择第一镀膜漆层和第二镀膜漆层为透明、半透明或半透明带有颜色的镀膜漆层。第一镀膜漆层和第二镀膜漆层的厚度分别为20～30微米，第一镀膜漆层和第二镀膜漆层的材料为UV型树脂漆，其中还可以根据壳体组件外观效果的要求，在UV型树脂漆中掺杂一定量的纳米Zr、Ti、Si等氧化物中至少一种。

其中，底漆层的作用为遮盖基材，提供整平打磨的作用，为了较好的遮盖基材，底漆层的颜色选用实色。底漆层的材料为PU型树脂漆，厚度为20～30微米。

其中，面漆层的材料为UV型树脂漆，厚度为15～40微米。

进一步，壳体组件还可以进一步的包括AF膜，AF膜设置在面漆层远离基材的表面上，用于提供疏水防指纹及耐磨等作用。其中，AF膜的厚度为5～20nm。

文中术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

在本申请的另一方面，本申请提供了一种制备壳体组件的方法。根据本申请的实施例，该制备壳体组件的方法包括：

S100：提供基材10，基材10具有相对设置的凹面和凸面，基材10包括平面13和围绕平面13设置的侧面14，所述侧面14和所述平面13之间的夹角α小于等于90°，结构示意图可参照图2；

S200：在基材10的凸面12或凹面沉积形成第一光学镀膜21；

S300：在第一光学镀膜21远离基材10的表面上涂覆第一镀膜漆层31，且第一镀膜漆层31在基材10上的正投影覆盖基材10；

S400：在第一镀膜漆层31远离基材10的表面上沉积形成第二光学镀膜22，其中，第一光学镀膜层21和第二光学镀膜层22中的一个在基材上的正投影覆盖平面13，另一个在基材上的正投影覆盖侧面14，即第一光学镀膜层21在基材10上的正投影覆盖平面13，第二光学镀膜层在基材10上的正投影覆盖侧面14(如图1所示)，或者第一光学镀膜层21在基材10上的正投影覆盖侧面14，第二光学镀膜层22在基材10上的正投影覆盖平面13(如图3所示)。

根据本申请的实施例，在上述制备方法中，通过在平面正对应区域设置第一光学镀膜层或第二光学镀膜层，在侧面对应正区域设置第二光学镀膜层或第一光学镀膜层，实现全面镀覆光学镀膜，进而有效实现壳体组件全面的增亮效果，避免平面和侧面之间出现光哑差别等不良现象；且第一光学镀膜层和第二光学镀膜层不设置在同一层(中间间隔有第一镀膜漆层)，可以避免第一光学镀膜层和第二光学镀膜层交叉处发生异色现象；而且上述制备方法的工艺可实施性强，便于工业化量产，而且光学镀膜的厚度便于控制，进而便于保证和控制壳体组件的外观效果。

下面以“第一光学镀膜层21在基材10上的正投影覆盖平面13，第二光学镀膜层在基材10上的正投影覆盖侧面14”的情况为例，详细描述一下第一光学镀膜层和第二光学镀膜层的形成方法：

在一些实施例中，参照图7，在镀膜时，蒸发源直接对准壳体组件的平面进行光学镀膜，以便得到覆盖平面的第一光学镀膜。由此，可以在平面上沉积得到厚度均匀的第一光学膜。其中，在光学镀膜过程中，覆盖平面的第一光学镀膜层会延伸至侧面的部分区域，即第一光学镀膜层在基材上的正投影会覆盖侧面的部分区域。

在另一些实施例中，参照图8和图9，沉积形成第二光学镀膜的步骤包括：在与平面平行的平面内，使基材围绕基材且与平面垂直的中心轴15自转(自转方向可以为如图8或9的顺时针方向，也可以为逆时针方向)。由此，有助于得到厚度均匀一致且覆盖侧面的第二光学镀膜。其中，在光学镀膜过程中，覆盖侧面的第二光学镀膜层会延伸至平面的部分区域，即第二光学镀膜层在基材上的正投影会覆盖平面的部分区域。

其中，第一光学镀膜和第二光学镀膜的具体形成方法包括但不限于物理气相沉积(比如磁控溅射)或化学气相沉积等，上述方法工艺成熟，便于实施和操作。

根据本申请的实施例，制备壳体组件的方法还包括：在基材10靠近所述第一光学镀膜层21的表面上涂覆形成第一处理剂层41；在第一处理剂层41靠近所述第一光学镀膜层21的表面上需形成底漆层50；在底漆层50靠近第一光学镀膜层21的表面上喷涂形成第二镀膜漆层32；在第一光学镀膜层21与第一镀膜漆层31之间形成第二处理剂层42；在第二光学镀膜层22远离基材10的表面上形成第三处理剂层43；在第三处理剂层43远离基材10的表面上形成面漆层60，结构示意图可参照图6。

其中，第一处理剂层、第二处理剂层和第三处理剂层在涂覆形成过程中，烘烤温度为70℃～80℃，烘烤时间为30分钟。

其中，第一镀膜漆层和第二镀膜漆层的材料为UV型树脂漆，第一镀膜漆层和第二镀膜漆层在喷涂形成过程中UV固化的能量为1000～1200mj/cm²。

其中，涂覆形成底漆层的过程中的烘烤温度为70℃～80℃，烘烤时间为30分钟。

其中，面漆层的材料为UV型树脂漆，面漆层在喷涂形成过程中UV固化的能量为800～1200mj/cm²。

在本申请的又一方面，本申请提供了一种电子设备。根据本申请的实施例，该电子设备包括：前面所述的壳体组件100；显示屏组件，所述显示屏组件与所述壳体组件100相连，且所述显示屏组件和所述壳体组件100之间限定出安装空间，其中，所述壳体组件100的第一光学膜层远离所述显示屏组件设置；以及主板，所述主板设置在所述安装空间内且与所述显示屏组件电连接。由此，该电子设备的壳体组件的外观效果均匀一致，无异色现象。本领域技术人员可以理解，该电子设备具有前面所述的壳体组件的所有特征和优点，在此不再一一赘述。

根据本申请的实施例，该电子设备的具体种类不受特别的限制，本领域技术人员可以根据实际需求灵活选择。在一些实施例中，该电子设备的具体种类包括但不限于手机(如图10所示)、笔记本、iPad、kindle等电子设备。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外，在不相互矛盾的情况下，本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。

尽管上面已经示出和描述了本申请的实施例，可以理解的是，上述实施例是示例性的，不能理解为对本申请的限制，本领域的普通技术人员在本申请的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。

Claims (11)

1.一种壳体组件，其特征在于，包括：

基材，所述基材具有相对设置的凹面和凸面，所述基材包括平面和围绕所述平面设置的侧面，所述侧面和所述平面之间的夹角小于等于90°；

第一光学镀膜，所述第一光学镀膜设置在所述基材的凸面或凹面；

第一镀膜漆层，所述第一镀膜漆层设置在所述第一光学镀膜远离所述基材的表面上，且在所述基材的正投影覆盖所述基材；以及

第二光学镀膜，所述第二光学镀膜设置在所述第一镀膜漆层远离所述基材的表面上，

其中，所述第一光学镀膜层和所述第二光学镀膜层中的一个在所述基材上的正投影覆盖所述平面且不覆盖所述侧面，另一个在所述基材上的正投影覆盖所述侧面且不覆盖所述平面，且所述第一光学镀膜层的材料和所述第二光学镀膜层的材料相同。

2.根据权利要求1所述的壳体组件，其特征在于，所述第一光学镀膜和所述第二光学镀膜的厚度相等。

3.根据权利要求2所述的壳体组件，其特征在于，所述第一光学镀膜和所述第二光学镀膜的厚度分别为10～100微米。

4.根据权利要求3所述的壳体组件，其特征在于，所述第一光学镀膜和所述第二光学镀膜的厚度分别为20～90微米。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的壳体组件，所述第一光学镀膜层在所述基材上的正投影覆盖所述平面，且延伸至所述侧面的部分区域；所述第二光学镀膜层在所述基材上的正投影覆盖所述侧面，且延伸至覆盖所述平面的部分区域。

6.根据权利要求1～4中任一项所述的壳体组件，所述第一光学镀膜层在所述基材上的正投影覆盖所述侧面，且延伸至所述平面的部分区域；所述第二光学镀膜层在所述基材上的正投影覆盖所述平面，且延伸至所述侧面的部分区域。

7.根据权利要求1～4中任一项所述的壳体组件，还包括：

第一处理剂层，所述第一处理剂层设置在所述基材靠近所述第一光学镀膜层的表面上；

底漆层，所述底漆层设置在所述第一处理剂层靠近所述第一光学镀膜层的表面上；

第二镀膜漆层，所述第二镀膜漆层设置在所述底漆层靠近所述第一光学镀膜层的表面上；

第二处理剂层，所述第二处理剂层设置在所述第一光学镀膜层与所述第一镀膜漆层之间；

第三处理剂层，所述第三处理剂层设置在所述第二光学镀膜层远离所述基材的表面上；

面漆层，所述面漆层设置在所述第三处理剂层远离所述基材的表面上。

8.一种制备壳体组件的方法，其特征在于，包括：

提供基材，所述基材具有相对设置的凹面和凸面，所述基材包括平面和围绕平面设置的侧面，所述侧面和所述平面之间的夹角小于等于90°；

在所述基材的凸面或凹面沉积形成第一光学镀膜；

在所述第一光学镀膜远离所述基材的表面上涂覆第一镀膜漆层，且所述第一镀膜漆层在所述基材上的正投影覆盖所述基材；

在所述第一镀膜漆层远离所述基材的表面上沉积形成第二光学镀膜，

其中，所述第一光学镀膜层和所述第二光学镀膜层中的一个在所述基材上的正投影覆盖所述平面，另一个在所述基材上的正投影覆盖所述侧面。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，沉积形成所述第二光学镀膜的步骤包括：

在与所述平面平行的平面内，使所述基材围绕所述基材且与所述平面垂直的中心轴自转。

10.根据权利要求8或9所述的方法，其特征在于，还包括：

在所述基材靠近所述第一光学镀膜层的表面上涂覆形成第一处理剂层；

在所述第一处理剂层靠近所述第一光学镀膜层的表面上需形成底漆层；

在所述底漆层靠近所述第一光学镀膜层的表面上喷涂形成第二镀膜漆层；

在所述第一光学镀膜层与所述第一镀膜漆层之间形成第二处理剂层；

在所述第二光学镀膜层远离所述基材的表面上形成第三处理剂层；

在所述第三处理剂层远离所述基材的表面上形成面漆层。

11.一种电子设备，其特征在于，包括：

权利要求1～7中任一项所述的壳体组件；

显示屏组件，所述显示屏组件与所述壳体组件相连，且所述显示屏组件和所述壳体组件之间限定出安装空间，其中，所述壳体组件的第一光学膜层远离所述显示屏组件设置；以及

主板，所述主板设置在所述安装空间内且与所述显示屏组件电连接。

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