CN111736441B - 图像形成设备和处理盒 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种图像形成设备和处理盒，该图像形成设备包括：色调剂图像形成装置，其包括感光体并在感光体的表面上形成色调剂图像，所述感光体具有最外表面层，该最外表面层包含聚四氟乙烯颗粒和含有氟原子的分散剂并且相对于聚四氟乙烯颗粒具有25ppb以下的全氟辛酸含量；以及转印装置，其包括：中间转印体，其表面上转印有色调剂图像；进行一次转印的一次转印装置，该一次转印涉及将感光体的表面上的色调剂图像转印到中间转印体的表面上；以及进行二次转印的二次转印装置，该二次转印涉及将中间转印体的表面上的色调剂图像转印到记录介质的表面上，所述二次转印装置具有二次转印构件，该二次转印构件具有十六烷接触角为30度以上的表面。
Description
技术领域
本公开涉及图像形成装置和处理盒。
背景技术
日本未审查专利申请特开2015-018227号公报公开了一种具有基板和表面层的电子照相构件，该表面层包含具有丙烯酸骨架的粘合剂树脂和在一个分子中具有聚醚基团和羟基的改性硅氧烷化合物，表面层具有正十六烷接触角为30度以上的的表面。
日本未审查专利申请特开2017-090566号公报公开了“电子照相感光体，其包括含有表面活性剂和粘合剂树脂的感光层，其中相对于100.00质量份数的粘合剂树脂，表面活性剂含量为0.10质量份数或3.00质量份数以下，表面活性剂中的疏水基团为全氟烷基，并且表面活性剂为非离子型”。
日本未审查专利申请特开2010-181718号公报公开了一种“图像形成机构，其包括：图像载体，该图像载体包括感光层，感光层上将形成静电潜像，该感光层构成图像载体的表面并且包含润滑剂；显影单元，该显影单元通过使用包含润滑剂的显影剂将静电潜像显影成可见图像；以及清洁构件，该清洁构件包括与感光层接触的第一层和不与图像载体的表面接触的第二层，第二层由具有比第一层小的回弹性的材料构成并且堆叠在第一层上。
发明内容
因此，本公开的目的是提供这样一种图像形成设备，其与如下所述图像形成设备相比具有优异的二次转印构件清洁性维持性能，所述“如下所述图像形成设备”包括：色调剂图像形成装置，该色调剂图像形成装置包括感光体并在所述感光体的表面上形成色调剂图像，所述感光体具有最外表面层，该最外表面层包含聚四氟乙烯颗粒(下文中也可称为“PTFE颗粒”)和含有氟原子的分散剂(下文中也可称为“含氟分散剂”)并且相对于所述聚四氟乙烯颗粒具有25ppb以下的全氟辛酸(下文中也可称为“PFOA”)含量；以及转印装置，其包括：具有在其上转印色调剂图像的表面的中间转印体；进行一次转印的一次转印装置，该一次转印涉及将感光体的表面上的色调剂图像转印到中间转印体的表面上；以及进行二次转印的二次转印装置，该二次转印涉及将中间转印体的表面上的色调剂图像转印到记录介质的表面上，所述二次转印装置具有二次转印构件，该二次转印构件具有十六烷接触角小于30度的表面。
通过以下方面实现上述目的。
根据本公开的第一方面，提供一种图像形成设备，其包括：色调剂图像形成装置，其包括感光体并在所述感光体的表面上形成色调剂图像，所述感光体具有最外表面层，该最外表面层包含聚四氟乙烯颗粒和含有氟原子的分散剂，并且最外表面层相对于所述聚四氟乙烯颗粒具有25ppb以下的全氟辛酸含量；以及转印装置，其包括：中间转印体，该中间转印体具有在其上转印色调剂图像的表面；进行一次转印的一次转印装置，该一次转印涉及将感光体的表面上的色调剂图像转印到中间转印体的表面上；以及进行二次转印的二次转印装置，该二次转印涉及将中间转印体的表面上的色调剂图像转印到记录介质的表面上，所述二次转印装置具有二次转印构件，该二次转印构件具有十六烷接触角为30度以上的表面。
根据本公开的第二方面，提供根据第一方面所述的图像形成设备，其中，所述二次转印构件的表面由包含聚四氟乙烯颗粒和含氟原子的分散剂的树脂层形成。
根据本公开的第三方面，提供根据第二方面所述的图像形成设备，其中所述二次转印构件的所述树脂层相对于所述聚四氟乙烯颗粒具有25ppb以下的全氟辛酸含量。
根据本公开的第四方面，提供根据第二或第三方面所述的图像形成设备，其中所述聚四氟乙烯颗粒在所述二次转印构件的表面中暴露的面积比为20％以上且80％以下。
根据本公开的第五方面，提供根据第一方面所述的图像形成设备，其中所述二次转印构件的表面由包含树脂和全氟聚醚的树脂层形成。
根据本公开的第六方面，提供根据第一至第五方面中任一方面所述的图像形成设备，其中包含在所述感光体的最外表面层中的所述聚四氟乙烯颗粒的平均粒径为0.2μm以上且4.5μm以下。
根据本公开的第七方面，提供根据第一至第六方面中任一方面所述的图像形成设备，其中含有氟原子并包含在所述感光体的最外表面层中的所述分散剂是通过具有氟化烷基的聚合性化合物的均聚或共聚获得的聚合物。
根据本公开的第八方面，提供根据第七方面所述的图像形成设备，其中通过具有氟化烷基的聚合性化合物的均聚或共聚获得的所述聚合物是具有由以下通式(FA)表示的结构单元的含氟化烷基的聚合物或者具有由以下通式(FA)表示的结构单元以及由以下通式(FB)表示的结构单元的含氟化烷基的聚合物：
在通式(FA)和(FB)中，RF1、RF2、RF3和RF4各自独立地表示氢原子或烷基；XF1表示亚烷基链、卤素取代的亚烷基链、-S-、-O-、-NH-或单键；YF1表示亚烷基链、卤素取代的亚烷基链、-(CfxH2fx-1(OH))-或单键；QF1表示-O-或-NH-；fl、fm和fn各自独立地表示0或1以上的整数；fp、fq、fr和fs各自独立地表示0或1以上的整数；ft表示1以上且7以下的整数；并且fx表示1以上的整数。
根据本公开的第九方面，提供一种可拆卸地附接到图像形成设备的处理盒，该处理盒包括：色调剂图像形成装置，其包括感光体并在所述感光体的表面上形成色调剂图像，所述感光体具有最外表面层，该最外表面层包含聚四氟乙烯颗粒和含有氟原子的分散剂并且相对于所述聚四氟乙烯颗粒具有25ppb以下的全氟辛酸含量；以及转印装置，该转印装置包括：中间转印体，该中间转印体具有在其上转印色调剂图像的表面；进行一次转印的一次转印装置，该一次转印涉及将感光体的表面上的色调剂图像转印到中间转印体的表面上；以及进行二次转印的二次转印装置，该二次转印涉及将中间转印体的表面上的色调剂图像转印到记录介质的表面上，所述二次转印装置具有二次转印构件，该二次转印构件具有十六烷接触角为30度以上的表面。
根据本公开的第一、第二、第三、第五、第六、第七或第八方面，提供了一种图像形成设备，其与如下所述图像形成设备相比具有优异的二次转印构件清洁性维持性能，所述“如下所述图像形成设备”包括：色调剂图像形成装置，该色调剂图像形成装置包括感光体并在所述感光体的表面上形成色调剂图像，所述感光体具有最外表面层，该最外表面层包含聚四氟乙烯颗粒和含有氟原子的分散剂并且相对于PTFE颗粒具有25ppb以下的PFOA含量；以及转印装置，其包括：具有在其上转印色调剂图像的表面的中间转印体；进行一次转印的一次转印装置，该一次转印涉及将感光体的表面上的色调剂图像转印到中间转印体的表面上；以及进行二次转印的二次转印装置，该二次转印涉及将中间转印体的表面上的色调剂图像转印到记录介质的表面上，所述二次转印装置具有二次转印构件，该二次转印构件具有十六烷接触角小于30度的表面。
根据本发明的第四方面，提供一种图像形成设备，与二次转印构件的表面中暴露聚四氟乙烯颗粒的面积比小于20％的情况相比，其具有优异的二次转印构件清洁性维持性能。
根据本公开的第九方面，提供了一种处理盒，该处理盒与如下处理盒相比具有优异的二次转印构件清洁性保持性能，所述“如下处理盒”包括：色调剂图像形成装置，该色调剂图像形成装置包括感光体并在所述感光体的表面上形成色调剂图像，所述感光体具有最外表面层，该最外表面层包含聚四氟乙烯颗粒和含有氟原子的分散剂并且相对于所述聚四氟乙烯颗粒具有25ppb以下的全氟辛酸含量；以及转印装置，其包括：具有在其上转印色调剂图像的表面的中间转印体；进行一次转印的一次转印装置，该一次转印涉及将感光体的表面上的色调剂图像转印到中间转印体的表面上；以及进行二次转印的二次转印装置，该二次转印涉及将中间转印体的表面上的色调剂图像转印到记录介质的表面上，所述二次转印装置具有二次转印构件，该二次转印构件具有十六烷接触角小于30度的表面。
附图说明
将基于以下附图详细描述本公开的示例性实施方式，其中：
图1是示出根据示例性实施方式的图像形成设备的一个实施例的示意图；
图2是示出根据示例性实施方式的图像形成设备的另一实施例的二次转印单元及其周边的示意图；和
图3是示例性实施方式的电子照相感光体的层结构的一个实施例的示意性剖视图。
具体实施方式
现在将详细描述作为本公开的一个实施例的示例性实施方式。
该示例性实施方式的图像形成设备包括：色调剂图像形成装置，其包括感光体并在感光体的表面上形成色调剂图像，感光体具有最外表面层，该最外表面层包含聚四氟乙烯颗粒(PTFE颗粒)和含氟原子(含氟分散剂)的分散剂，并且相对于聚四氟乙烯颗粒具有25ppb以下的全氟辛酸(PFOA)含量；以及转印装置，其包括中间转印体、一次转印装置和二次转印装置，中间转印体具有供转印色调剂图像的表面，一次转印装置进行一次转印，一次转印涉及将感光体的表面上的色调剂图像转印到中间转印体的表面上，二次转印装置进行二次转印，二次转印涉及将中间转印体表面上的色调剂图像转印到记录介质的表面上，二次转印装置具有二次转印构件，该二次转印构件具有十六烷接触角为30度以上的表面。
已知将PTFE颗粒添加到感光体的最外表面层以改善清洁性(cleanability)。
同时，添加在感光体表面的PTFE颗粒经由中间转印体迁移到二次转印构件的表面。因为PTFE颗粒具有铺展性，所以当由清洁构件施加应力时，PTFE颗粒在二次转印构件的表面上铺展以形成膜。
然而，当感光体的最外表面层中的PTFE颗粒分散不良时，PTFE颗粒稀疏地迁移到二次转印构件的表面。因此，PTFE颗粒铺展成在二次转印构件的表面的一些部分上形成膜。因此，随着时间的推移，在二次转印构件的表面上发生清洁故障，并且可能发生条纹状图像缺陷。另外，当清洁构件是刮刀时，可能发生刮刀的翘曲。因此，清洁性维持特性可能降低。
相反，具有上述特征的示例性实施方式的图像形成设备具有优异的二次转印构件清洁性维持特性。这背后的原因大概如下。
通常，PTFE颗粒与含氟分散剂一起与诸如分散介质和粉末之类的组分混合。然而，当混合在一起的组分的状态发生变化(例如，分散介质的蒸发和粉末的熔化等变化)时，聚四氟乙烯颗粒的分散性趋于降低。
具体地，例如，当通过使用含有PTFE颗粒、氟分散剂、树脂以及分散介质的液体合成物(例如，成层涂布溶液等)形成包含PTFE颗粒的层状制品，分散介质在形成层状制品的过程中被干燥。在干燥(换句话说，蒸发)分散介质的过程中，PTFE颗粒的分散性可能降低，并且可能发生PTFE颗粒的聚集。
结果，形成含有分散不良的PTFE颗粒的层状制品。其原因如下。
PTFE颗粒通常含有PFOA，因为在生产PTFE颗粒的过程中使用PFOA或PFOA作为副产物出现。
当存在PFOA时，由于含氟分散剂，合成物中包含的PTFE颗粒高度分散。然而，当混合在一起的组分的状态改变时，附着至PTFE颗粒的含氟分散剂的状态发生变化。特别地，一些含氟分散剂可能由于PFOA而与PTFE颗粒分离。因此，PTFE颗粒的分散性降低，并且发生PTFE颗粒的聚集。
因此，在含有PTFE颗粒和含氟分散剂的液体合成物中，相对于PTFE颗粒的PFOA含量设定为25ppb以下。换句话说，PFOA含量为零或小(如果有的话)。以这种方式，抑制了当混合在一起的组分的状态改变时由于PFOA而发生的“附着至PTFE颗粒的含氟分散剂的状态的变化”。
因此，通过使用该液体合成物形成的层状制品含有高度分散的PTFE颗粒。换句话说，在具有由该层状制品形成的最外表面层的感光体中，最外表面层中的PTFE颗粒处于高度分散状态。
同时，二次转印构件表面处的十六烷接触角设定为30度以上，使得对PTFE颗粒的亲和力高。结果，二次转印构件的表面处于允许PTFE颗粒主动且容易地粘附和铺展到其上的状态。
因此，PTFE颗粒以基本均匀的方式从感光体的最外表面层主动迁移到二次转印构件的整个表面，并在整个表面上铺展而形成膜。结果，抑制了二次转印构件的表面随时间推移的清洁故障(具体地，条纹状图像缺陷)。另外，当清洁构件是刮刀时，抑制了刮刀的翘曲。
鉴于上述情况，推测示例性实施方式的图像形成设备表现出优异的二次转印构件清洁性维持性。
本示例性实施方式的图像形成设备的色调剂图像形成装置的实施例是这样一种装置，其配备有：感光体；充电装置，该充电装置对感光体的表面充电；静电潜像形成装置，该静电潜像形成装置在感光体的带电表面上形成静电潜像；以及显影装置，该显影装置通过使用含有色调剂的显影剂在感光体的表面上使静电潜像显影以形成色调剂图像。
另选地，转印装置可以是经由多于一个中间转印体将色调剂图像转印到记录介质的表面上的装置。换句话说，转印装置可以是这样的装置，其将色调剂图像从感光体一次转印到第一中间转印体，将色调剂图像从第一中间转印体二次转印到第二中间转印体，然后将色调剂图像从第二中间转印体三次转印到记录介质上。
本示例性实施方式的图像形成设备应用于已知的图像形成设备，其实例包括：配备有定影单元的设备，该定影单元将转印到记录介质表面上的色调剂图像定影；配备有清洁单元的设备，该清洁单元在色调剂图像转印之后和充电之前清洁电子照相感光体的表面；配备有电荷擦除单元的设备，该电荷擦除单元通过在色调剂图像转印之后和充电之前用电荷擦除光照射电子照相感光体的表面来擦除电荷；和配备有电子照相感光体加热构件的设备，该电子照相感光体加热构件升高电子照相感光体的温度以降低相对温度。
该示例性实施方式的图像形成设备可以是干显影型或湿显影型(使用液体显影剂的显影型)。
在示例性实施方式的图像形成设备中，例如，包括电子照相感光体的部分可以构造为可拆卸地附接至图像形成设备的盒结构(处理盒)。例如，配备有色调剂图像形成装置和转印装置的处理盒可以用作所述处理盒。
现在将参考附图描述该示例性实施方式的图像形成设备的一个实施例。以下描述不限制该示例性实施方式的图像形成设备。仅描述附图中示出的相关部分，并且省略对其他部分的描述。
图像形成设备
图1是示出根据该示例性实施方式的图像形成设备的结构的示意图。
如图1中所示，图像形成设备100例如是通常称为串联型的中间转印型图像形成设备。图像形成设备100包括：图像形成单元1Y、1M、1C和1K，其电子照相地形成各个颜色成分的色调剂图像(色调剂图像形成装置的一个实施例)；一次转印单元10，其将由图像形成单元1Y、1M，1C和1K形成的各个颜色成分的色调剂图像顺序地转印到中间转印带15上(一次转印)；二次转印单元20，其将中间转印带15上的叠加的色调剂图像同时转印到用作记录介质的纸张K上(二次转印)；以及定影装置60，其将二次转印的图像定影到纸张K上。图像形成设备100还包括控制器40，其控制各个装置(单元)的操作。
图像形成设备100的每个图像形成单元1Y、1M、1C和1K配备有感光体11，感光体11将色调剂图像保持在表面上并沿箭头A的方向旋转。
在感光体11的周围，安装有作为充电单元的一个实施例的充电器12，该充电器12对感光体11充电，并且安装有作为静电潜像形成单元的一个实施例的激光曝光装置13，(在图中，曝光光束由附图标记Bm表示)，该激光曝光装置13在感光体11上写入静电潜像。
此外，在感光体11的周边上安装有：作为显影单元的一个实施例的显影系统14，该显影系统14含有相应颜色成分的色调剂并通过使用色调剂使感光体11上的静电潜像可视化；以及一次转印辊16，该一次转印辊16将感光体11上的各个颜色成分的色调剂图像转印到一次转印单元10中的中间转印带15上。
此外，在感光体11的周边上安装有感光体清洁器17，其去除感光体11上的残余色调剂，并且沿感光体11的旋转方向顺序地安装有电子照相装置，即充电器12、激光曝光装置13、显影系统14、一次转印辊16以及感光体清洁器17。图像形成单元1Y、1M、1C和1K从中间转印带15的上游侧按照黄色(Y)、品红色(M)、青色(C)和黑色(K)的顺序布置成大致直线。
作为中间转印体的一个实施例的中间转印带15形成为具有例如1×106Ωcm以上且1×1014Ωcm以下的体积电阻率以及约0.1毫米的厚度。
中间转印带15由各种类型的辊驱动，以适合于图1中所示的沿B方向的目的的速率循环(旋转)。各种类型的辊是：驱动辊31，其由马达(未示出)驱动，具有优异的恒速特性，因而使中间转印带15旋转；支撑辊32，其支撑沿着布置感光体11的方向延伸的中间转印带15；张力施加辊33，其向中间转印带15施加张力，并且用作防止中间转印带15迂曲的校正辊；后辊25，其安装在二次转印单元20中；清洁后辊34，其安装在清洁单元中，刮掉中间转印带15上的残余色调剂。
一次转印单元10由一次转印辊16形成，一次转印辊16布置成与感光体11相对，其间具有中间转印带15。一次转印辊16布置成与感光体11压力接触(其间具有中间转印带15)，并且具有与色调剂带电极性(负极性，以下同样适用)相反极性的电压(一次转印偏压)施加到一次转印辊16。以这种方式，感光体11上的色调剂图像被顺序地静电吸引到中间转印带15，从而在中间转印带15上形成叠加的色调剂图像。
二次转印单元20由后辊25和布置在中间转印带15的色调剂图像保持表面侧上的二次转印辊22形成。
后辊25形成为使得表面电阻率为1×107Ω/□以上且1×1010Ω/□以下，并且硬度设定为例如70°(Asker C，由Kobunshi Keiki有限公司生产，以下同样适用)。该后辊25设置在中间转印带15的后表面侧上，以用作用于二次转印辊22的对电极，并且金属供电辊26布置成与后辊25接触，金属供电辊26经施加有稳定的二次转印偏压。
同时，二次转印辊22是体积电阻率为107.5Ωcm以上且108.5Ωcm以下的圆柱形辊。二次转印辊22布置成与后辊25压力接触(其间具有中间转印带15)，并且接地使得在二次转印辊22和后辊25之间形成二次转印偏压。结果，色调剂图像转印(二次转印)到传送至二次转印单元20的纸张K上。
中间转印带的二次转印单元20的下游设置有中间转印带清洁构件35，该中间转印带清洁构件35在第二次转印之后去除中间转印带15上的残余色调剂和纸粉并清洁中间转印带15的表面。中间转印带清洁构件35可从中间转印带15拆卸并可附接到中间转印带15。
二次转印辊22的二次转印单元20的下游设置有二次转印辊清洁构件22A，二次转印辊清洁构件22A在二次转印之后去除二次转印辊22上的残余色调剂和纸粉并清洁中间转印带15的表面。二次转印辊清洁构件22A的实施例是清洁刮刀。另选地，可以使用清洁辊。
中间转印带15、一次转印辊16和二次转印辊22对应于转印装置的一个实施例。
这里，图像形成设备100可以具有这样的结构，在该结构中，二次转印带(二次转印构件的一个实施例)代替二次转印辊22。具体地，如图2中所示，图像形成设备100可以配备有：二次转印装置，其包括二次转印带23；驱动辊23A，其设置成面对后辊25，其间具有中间转印带15和二次转印带23；以及惰辊23B，其与驱动辊23A协作保持二次转印带23拉紧。
同时，黄色图像形成单元1Y的上游设置有参考传感器(原始位置传感器)42，其产生用于控制图像形成单元1Y、1M、1C和1K中的图像形成正时的参考信号。黑色图像形成单元1K的下游设置有用于调节图像质量的图像浓度传感器43。参考传感器42通过识别中间转印带15的后侧上的标记来产生参考信号，并且当控制器40基于参考信号的识别发送命令时图像形成单元1Y、1M、1C和1K开始形成图像。
此外，在该示例性实施方式的图像形成设备中，用于馈送纸张K的纸张馈送器系统包括：纸张存储单元50，其存储纸张K；纸张供应辊51，其从纸张存储单元50中的堆叠中拾取纸张K并在预定正时馈送纸张K；馈送器辊52，其馈送由供纸辊51拾取的纸张K；馈送器引导器53，其将由馈送器辊52馈送的纸张K发送至二次转印单元20；馈送器带55，其在通过二次转印辊22进行二次转印之后将纸张K馈送到定影装置60；以及定影入口引导器56，其将纸张K引导至定影装置60。
接下来，描述在该示例性实施方式的图像形成设备中实施的基本图像形成处理。
根据该示例性实施方式的图像形成设备，通过使用图像处理装置(未示出)，从图像读取器或个人计算机(PC)(未示出)等输出的图像数据经历图像处理，然后在图像形成单元1Y、1M、1C和1K中执行图像形成操作。
在图像处理装置中，输入反射率数据经历图像处理，例如包括阴影校正、未对准校正、亮度/颜色空间转换、伽马校正、帧删除、颜色编辑以及移动的各种类型的图像编辑。经历图像处理的图像数据被转换为四种颜色(即Y、M、C和K)的颜色材料色调数据，并输出到激光曝光装置13。
在激光曝光装置13中，响应于输入的颜色材料色调数据，从例如半导体激光器发射的曝光束Bm分别照射图像形成单元1Y、1M、1C和1K的感光器11。在图像形成单元1Y、1M、1C和1K中的感光体11的表面被充电器12充电之后，利用激光曝光装置13扫描和曝光所述表面，从而形成静电潜像。形成的静电潜像在图像形成单元1Y、1M、1C和1K中显影成四种颜色(即Y、M、C和K)的色调剂图像。
图像形成单元1Y、1M、1C和1K中的感光体11上形成的色调剂图像转印到中间转印带15上。该转印发生在感光体11与中间转印带15接触的一次转印单元10处。更具体地，在一次转印单元10处，一次转印辊16向中间转印带15的基板施加极性与色调剂带电极性(负极性)相反的电压(一次转印偏压)，并且色调剂图像顺序地叠加在中间转印带15的表面上，以完成一次转印。
在色调剂图像顺序地转印(一次转印)到中间转印带15的表面上之后，中间转印带15移动以将色调剂图像传送到二次转印单元20。在馈送器单元中，当色调剂图像传送至二次转印单元20时，供纸辊51与色调剂图像传送到二次转印单元20的正时同步性旋转，以从纸张存储单元50馈送所需尺寸的纸张K。由供纸辊51馈送的纸张K被馈送器辊52传送，纸张穿过馈送器引导器53，并到达二次转印单元20。在到达二次转印单元20之前，纸张K暂时静止。对准辊(未示出)与保持色调剂图像的中间转印带15的移动的正时同步性旋转，使得纸张K的位置和色调剂图像的位置对准。
在二次转印单元20中，二次转印辊22压靠后辊25，中间转印带15位于其间。在这个阶段，在同步正时馈送的纸张K挤在中间转印带15和二次转印辊22之间。这里，当从供电辊26施加具有与色调剂充电极性(负极性)相同极性的电压(二次转印偏压)时，二次转印辊22和后辊25之间形成转印电场。保持在中间转印带15上的未定影色调剂图像在图像被二次转印辊22和后辊25按压的二次转印单元20处同时静电转印到纸张K上。
随后，具有静电转印的色调剂图像的纸张K在借助二次转印辊22从中间转印带15上分离的同时被传送，然后传送到纸张馈送方向上二次转印辊22下游的馈送器带55。馈送器带55以对于定影装置60最佳的馈送速率将纸张K传送到定影装置60。馈送到定影装置60的纸张K上的未定影的色调剂图像通过经历定影装置60中涉及热和压力的定影过程定影到纸张K。具有定影图像的纸张K馈送到图像形成设备的排出单元中的排出纸张存储单元(未示出)。
同时，在完成向纸张K的转印之后，残留在中间转印带15上的残余色调剂在中间转印带15旋转时传送到清洁单元，并且由清洁后辊34和中间转印带清洁器35从中间转印带15移除。
感光体
现在将参考附图描述感光体11的一个实施例(下文中可以称为“示例性实施方式的感光体”)。
图3中所示的感光体11包括例如导电支持体4，还包括在导电支持体4上依次地堆叠的底涂层1、电荷产生层2和电荷传送层3。电荷产生层2和电荷传送层3构成感光层5。
感光体11可以具有不包括底涂层1的层结构。
感光体11可以包括单层型感光层，其中电荷产生层2和电荷传送层3的功能被整合。在具有单层型感光层的感光层的情况下，单层型感光层构成最外表面层。
另选地，感光体11可以包括在电荷传送层3或单层型感光层上的表面保护层。在具有表面保护层的感光体的情况下，表面保护层构成最外表面层。
在下面的描述中，详细描述了该示例性实施方式的感光体11的各个层。在以下描述中，省略了附图标记。
最外表面层
首先，描述最外表面层，该最外表面层含有PTFE颗粒和含氟分散剂并且相对于PTFE颗粒具有25ppb以下的PFOA含量。将该最外表面层的结构应用于形成下文描述的最外表面层的层(电荷传送层、单层型感光层或表面保护层)。
该示例性实施方式的附有分散剂的PTFE颗粒相对于聚四氟乙烯颗粒(PTFE颗粒)具有25ppb以下的全氟辛酸(PFOA)含量。
PFOA含量
在最外表面层中，PFOA含量相对于PTFE颗粒为25ppb以下。从提高分散状态维持性能的观点出发，PFOA含量优选为0ppb以上且20ppb以下，更优选为0ppb以上且15ppb以下。这里，“ppb”是基于质量的。
降低PFOA含量的方法的实例有如下方法：该方法涉及用纯水、碱性水、醇(甲醇、乙醇或异丙醇等)、酮(丙酮、甲基乙基酮或甲基异丁基酮等)、酯(乙酸乙酯等)或任何其它常见的有机溶剂(甲苯或四氢呋喃等)彻底地洗涤PTFE颗粒。洗涤可以在室温下进行，但是在加热下洗涤可以提高效率。
PFOA含量是通过以下方法测得的值。
样品的预处理
将最外表面层浸入溶剂(例如四氢呋喃)中以溶解除PTFE颗粒和不溶于溶剂的物质以外的物质，将所得溶液滴加到纯水中，并通过过滤分离沉淀物。收集在该过程中获得的含有全氟辛酸(PFOA)的溶液。将通过过滤获得的不溶物质进一步溶解在溶剂中，将所得溶液滴加到纯水中，并通过过滤分离沉淀物。结果获得的含有PFOA的溶液的收集进行五次，并且在所有收集操作中收集的水溶液用作预处理的水溶液。
测量
从如上所述获得的预处理水溶液制备样品溶液，并根据岩手县环境卫生实验室“在环境水、沉积物和生物体中分析全氟辛烷磺酸(PFOS)和全氟辛酸(PFOA)”中所示的方法进行调节和测量。
PTFE颗粒
PTFE颗粒的平均粒径(带有分散剂的PTFE颗粒的平均粒径)没有特别限制，但可以是0.2μm以上且4.5μm以下，或更优选0.2μm以上且4μm以下。平均粒径为0.2μm以上且4.5μm以下的PTFE颗粒具有含有大量PFOA的倾向。因此，平均粒径为0.2μm以上且4.5μm以下的PTFE颗粒倾向于处于劣化的分散状态，特别是当混合在一起的组分的状态发生变化时。然而，当PFOA含量被抑制在上述范围内时，尽管混合在一起的组分的状态发生变化，但平均粒径为0.2μm以上且4.5μm以下的PTFE颗粒的分散状态维持性能得到改善。
PTFE颗粒的平均粒径是通过以下方法测得的值。
使用扫描电子显微镜(SEM)，以例如5000X以上的放大率观察颗粒，测量氟树脂颗粒(通过初级颗粒的聚集形成的二级颗粒)的最大直径，并且将五十个颗粒的平均值用作PTFE颗粒的平均粒径。使用的SEM是JEOL Ltd.生产的JSM-6700F，并且观察到加速电压为5kV的二次电子图像。
PTFE粒子的含量相对于最外表面层中的总固体含量优选为1质量％以上且30质量％以下，更优选为3质量％以上且20质量％以下，进一步优选为5质量％以上且15质量％以下。
含氟分散剂
含氟分散剂至少部分地附着至PTFE颗粒的表面并含在最外表面层中。
含氟分散剂的实例包括通过具有氟化烷基的聚合性化合物的均聚或共聚获得的聚合物(下文中这些聚合物可称为“含氟化烷基的聚合物”)。
含氟分散剂的具体实例包括具有氟化烷基的(甲基)丙烯酸酯的均聚物，和由具有氟化烷基的(甲基)丙烯酸酯和无氟原子的单体得到的无规或嵌段共聚物。注意，(甲基)丙烯酸酯既指丙烯酸酯也指甲基丙烯酸酯。
具有氟化烷基的(甲基)丙烯酸酯的实例包括(甲基)丙烯酸2,2,2-三氟乙酯和(甲基)丙烯酸2,2,3,3,3-五氟丙酯。
无氟原子单体的实例包括(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸异丁酯、(甲基)丙烯酸叔丁酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸月桂酯、(甲基)丙烯酸十八烷基酯、(甲基)丙烯酸异冰片酯、(甲基)丙烯酸环己酯、(甲基)丙烯酸2-甲氧基乙酯、甲氧基三乙二醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-乙氧基乙酯、(甲基)丙烯酸四氢糠酯、(甲基)丙烯酸苄酯、乙基卡必醇(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯、2-羟基(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸2-羟基丙基酯、(甲基)丙烯酸4-羟基丁基酯、甲氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、苯氧基聚乙二醇(甲基)丙烯酸酯、羟乙基邻苯基苯酚(甲基)丙烯酸酯和邻苯基苯酚缩水甘油醚(甲基)丙烯酸酯。
含氟分散剂的其他具体实例包括5637142号美国专利和4251662号日本专利中公开的嵌段或支链聚合物。含氟分散剂的其他具体实例包括氟基表面活性剂。
其中，含氟分散剂优选为具有由以下通式(FA)表示的结构单元的含氟烷基的聚合物，更优选为具有由以下通式(FA)表示的结构单元和由以下通式(FB)表示的结构单元的含氟烷基的聚合物。
在下面的描述中，描述了具有由以下通式(FA)表示的结构单元和由以下通式(FB)表示的结构单元的含氟化烷基的聚合物。
在通式(FA)和(FB)中，RF1、RF2、RF3和RF4各自独立地表示氢原子或烷基，
XF1表示亚烷基链、卤素取代的亚烷基链、-S-、-O-、-NH-或单键，
YF1表示亚烷基链、卤素取代的亚烷基链、-(CfxH2fx-1(OH))-或单键，
QF1代表-O-或-NH-，
fl、fm和fn各自独立地表示1以上的整数，
fp、fq、fr和fs各自独立地表示0或1以上的整数，
ft表示1以上且7以下的整数，并且
fx表示1以上的整数。
在通式(FA)和(FB)中，作为由RF1、RF2、RF3和RF4表示的基团，优选氢原子、甲基、乙基、丙基等。更优选氢原子和甲基，进一步优选甲基。
在通式(FA)和(FB)中，具有1至10个碳原子的直链或支链亚烷基可用作由XF1和YF1表示的亚烷基链(未取代的亚烷基链和卤素取代的亚烷基链)。
在由YF1表示的-(CfxH2fx-1(OH))-中，fx可以表示1以上且10以下的整数。
此外，fp、fq、fr和fs可各自独立地表示0或1以上且10以下的整数。
例如，fn可以在1以上且60以下。
在含氟分散剂中，由通式(FA)表示的结构单元与由结构单元(FB)表示的结构单元的比例(换句话说，fl：fm)可以在1：9至9：1的范围内或可以在3：7至7：3的范围内。
此外，除了由通式(FA)表示的结构单元和由通式(FB)表示的结构单元之外，含氟分散剂还可以包含由通式(FC)表示的结构单元。由通式(FA)和(FB)表示的结构单元的总和(fl+fm)与由通式(FC)表示的结构单元的含量比(fl+fm：fz)优选在10：0至7：3的范围内，更优选在9：1至7：3的范围内。
在通式(FC)中，RF5和RF6各自独立地表示氢原子，烷基或-AO-RF7(其中AO表示烯化氧基团，RF7表示氢原子或烷基)。此外，fz表示1以上的整数。
在通式(FC)中，可以使用氢原子、甲基、乙基、丙基等作为由RF5和RF6表示的基团。更优选氢原子和甲基，进一步优选甲基。
含氟分散剂的市售产品的实例包括GF300和GF400(由Toagosei有限公司生产)、Surflon系列(由AGC SEIMI CHEMICAL有限公司生产)、Ftergent系列(由NEOS有限公司生产)、PF系列(由Kitamura Chemicals有限公司生产)、Megaface系列(由DIC Corporation生产)和FC系列(由3M生产)。
含氟分散剂的重均分子量可以为例如2000以上且250000以下，可以为3000以上且150000以下，或者可以为50000以上且100000以下。
含氟分散剂的重均分子量是通过凝胶渗透色谱法(GPC)测得的值。例如使用TOSOH株式会社生成的GPC·HLC-8120作为测量仪器搭配氯仿溶剂和TOSOH株式会社生成的TSKgel GMHHR-M+TSKgel GMHHR-M柱(7.8mm I.D.，30cm)进行GPC的分子量测测量，并且通过使用由单分散聚苯乙烯标准样品制备的分子量校准曲线，根据测量结果计算分子量。
相对于例如PTFE颗粒含有的含氟分散剂的量优选为0.5质量％以上且10质量％以下，更优选为1质量％以上且7质量％以下。
含氟分散剂可以单独使用或组合使用。
导电基板
导电基板的实例包括含金属(铝、铜、锌、铬、镍、钼、钒、铟、金、铂等)或合金(不锈钢等)的金属板、金属鼓和金属带。导电基板的其他实例包括涂覆、气相沉积或层压有导电化合物(例如，导电聚合物和氧化铟)、金属(例如，铝、钯和金)或合金的纸张片材、树脂膜和带。这里，“导电”是指体积电阻率小于1013Ωcm。
导电基板的表面可以被粗糙化至0.04μm以上且0.5μm以下的中心线平均粗糙度Ra，以便抑制在激光打印机中使用的电子照相感光体被激光束照射时产生的干涉条纹。当使用非相干光作为光源时，不需要为了防止干涉条纹而使表面粗糙化，但是使表面粗糙化抑制了由于导电基板表面上的不规则性而产生的缺陷，因此有望延长寿命。
表面粗糙化方法的实例包括：湿式珩磨方法，其中将悬浮在水中的磨料喷射到导电支持体上；无心研磨，其中将导电基板压在旋转的研磨石上以进行连续研磨；以及阳极氧化处理。
表面粗糙化方法的另一个实施例不涉及将导电基板的表面粗糙化，而是涉及将导电或半导电粉末分散在树脂中并在导电基板的表面上形成树脂层从而由层中分散的颗粒来产生粗糙的表面。
通过阳极氧化进行的表面粗糙化处理涉及通过使用金属(例如，铝)导电基板作为电解质溶液中的阳极，通过阳极氧化在导电基板的表面上形成氧化物膜。电解质溶液的实例包括硫酸溶液和草酸溶液。然而，通过阳极氧化形成的多孔阳极氧化膜本身是化学活性的，易被污染，并且具有根据环境显著变化的电阻率。因此，可以在多孔阳极氧化膜上进行孔密封处理，以由在加压蒸汽或沸水中的水合反应引起的体积膨胀来密封氧化膜中的细孔(可以添加诸如镍盐之类的金属盐)使得氧化物转化为更稳定的水合氧化物。
阳极氧化膜的厚度可以是例如0.3μm以上且15μm以下。当厚度在该范围内时，趋于表现出抗注射的阻隔性，并且倾向于抑制由重复使用引起的残留电势的增加。
可以用酸性处理溶液或勃姆石处理对导电基板进行处理。
用酸性处理溶液处理例如如下进行。首先，制备含有磷酸、铬酸和氢氟酸的酸性处理溶液。酸性处理溶液中的磷酸、铬酸和氢氟酸的共混合比例对于磷酸可以例如为10质量％以上且11质量％以下，对于铬酸可为3质量％以上且5质量％以下，并且对于氢氟酸可为0.5质量％以上且2质量％以下；并且这些酸的总浓度可以为13.5质量％以上且18质量％以下。处理温度可以是例如42℃以上且48℃以下。膜的厚度可以是0.3μm以上且15μm以下。
勃姆石处理是通过将导电基板浸入90℃以上且100℃以下的纯水中5至60分钟或通过使导电基板与90℃以上且120℃以下的加压蒸汽接触5至60分钟来进行的。膜的厚度可以是0.1μm以上且5μm以下。勃姆石处理体可以通过使用电解质溶液进一步阳极氧化，所述电解质溶液例如是具有低的膜溶解能力的己二酸、硼酸、硼酸盐、磷酸盐、邻苯二甲酸盐、马来酸盐、苯甲酸盐、酒石酸盐或柠檬酸盐。
底涂层
底涂层例如是含有无机颗粒和粘合剂树脂的层。
无机颗粒的实例包括粉末电阻率(体积电阻率)为102Ωcm以上且1011Ωcm以下的无机颗粒。
作为具有该电阻值的无机颗粒，例如，优选诸如氧化锡颗粒、氧化钛颗粒、氧化锌颗粒或氧化锆颗粒之类的金属氧化物颗粒，并且特别优选氧化锌颗粒。
由BET法测得的无机颗粒的比表面积可以是例如10m2/g以上。
无机颗粒的体积平均粒径可以是例如50nm以上且2000nm以下(或可以是60nm以上且1000nm以下)。
相对于粘合剂树脂含有的无机颗粒的量例如优选为10质量％以上且80质量％以下，并且更优选为40质量％以上且80质量％以下。
可以对无机颗粒进行表面处理。可以使用经历不同表面处理或具有不同粒径的两种以上种无机颗粒的混合物。
表面处理剂的实例包括硅烷偶联剂、钛酸酯基偶联剂、铝基偶联剂和表面活性剂。特别优选硅烷偶联剂，更优选含氨基的硅烷偶联剂。
含氨基的硅烷偶联剂的实例包括但不限于3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷以及N,N-双(2-羟乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷。
可以混合使用两种以上种硅烷偶联剂。例如，含氨基的硅烷偶联剂可以与另外的硅烷偶联剂组合使用。该另外的硅烷偶联剂的实例包括但不限于乙烯基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N,N-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷和3-氯丙基三甲氧基硅烷。
使用表面处理剂的表面处理方法可以是任何已知的方法，例如，可以是干法或湿法。
相对于无机颗粒，表面处理剂的处理量可以例如为0.5质量％以上且10质量％以下。
这里，从电性能的长期稳定性和载流子阻挡性能的观点出发，底涂层可以含有无机颗粒和电子接受化合物(受体化合物)。
电子接受性化合物的实例包括电子传输物质，如醌类化合物(如四氯苯醌和四溴苯醌)；四氰基醌二甲烷化合物；芴酮化合物(如2,4,7-三硝基芴酮和2,4,5,7-四硝基-9-芴酮)；噁二唑化合物(如2-(4-联苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1,3,4-噁二唑、2,5-双(4-萘基)-1,3,4-噁二唑和2,5-双(4-二乙氨基苯基)-1,3,4-噁二唑)；氧杂蒽酮化合物；噻吩化合物；和二苯醌化合物(如3,3'，5,5'-四叔丁基二苯醌)。
特别地，具有蒽醌结构的化合物可用作电子接受化合物。具有蒽醌结构的化合物的实例包括羟基蒽醌化合物、氨基蒽醌化合物和氨基羟基蒽醌化合物，其更具体的所述例包括蒽醌、茜素、喹吖啶、蒽绛酚和红紫素。
电子接受化合物可以与无机颗粒一起分散在底涂层中，或者可以附着到无机颗粒的表面。
用于将电子接受化合物附着到无机颗粒表面的方法的实例包括干法和湿法。
干法是例如这样的方法，其中用具有大剪切力的混合器等搅拌无机颗粒，同时与干燥空气或氮气一起逐滴添加或喷射电子接受化合物本身或溶解在有机溶剂中的电子接受化合物，以使电子接受化合物附着到无机颗粒的表面。当逐滴添加或喷射电子接受化合物时，温度可以等于或低于溶剂的沸点。在逐滴添加或喷射电子接受化合物后，可以在100℃以上温度下进一步进行烘焙。烘焙的温度和时间没有特别限制，只要获得电子照相特性即可。
湿法是例如这样的方法，其中通过搅拌、超声波或使用砂磨机、磨碎机或球磨机将无机颗粒分散在溶剂中的同时添加电子接受化合物，然后搅拌或分散，然后除去溶剂以使电子接受化合物附着到无机颗粒的表面。通过例如过滤或蒸馏除去溶剂。除去溶剂后，可以在100℃以上温度下进一步进行烘焙。烘焙的温度和时间没有特别限制，只要获得电子照相特性即可。在湿法中，可以在添加电子接受化合物之前去除包含在无机颗粒中的水分。例如，可以通过在溶剂中搅拌和加热无机颗粒或通过与溶剂一起煮沸来去除水分。
可以在借助表面处理剂对无机颗粒进行表面处理之前、之后或同时进行电子接受化合物的附着。
相对于无机颗粒，电子接受性化合物的含量可以例如为0.01质量％以上且20质量％以下，并且优选为0.01质量％以上且10质量％以下。
用于底涂层中的粘合剂树脂的实例包括已知的材料，例如已知的聚合物化合物，例如缩醛树脂(例如，聚乙烯醇缩丁醛)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、不饱和聚酯树脂、甲基丙烯酰系树脂、丙烯酰系树脂、聚氯乙烯树脂、聚醋酸乙烯酯树脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯-马来酸酐树脂、硅氧烷树脂、硅氧烷-醇酸树脂、脲树脂、酚树脂、酚醛树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂和环氧树脂；锆螯合物；钛螯合物；铝螯合物；钛醇盐化合物；有机钛化合物；和硅烷偶联剂。
用于底涂层中的粘合剂树脂的其他实例包括：具有电荷输送基团的电荷输送树脂；和导电树脂(例如，聚苯胺)。
其中，在上覆层中不溶于涂布溶剂的树脂适合作为底涂层中使用的粘合剂树脂。特别合适的树脂的实例包括：热固性树脂，例如脲树脂、酚树脂、酚醛树脂、三聚氰胺树脂、聚氨酯树脂、不饱和聚酯树脂、醇酸树脂和环氧树脂；以及通过固化剂与选自由聚酰胺树脂、聚酯树脂、聚醚树脂、甲基丙烯酰系树脂、丙烯酰系树脂、聚乙烯醇树脂和聚乙烯醇缩醛树脂构成的基团中的至少一种树脂之间的反应获得的树脂。
当组合使用这些粘合剂树脂中的两种以上种时，根据需要设定混合比。
底涂层可含有各种添加剂以改善电性能、环境稳定性和图像质量。
添加剂的实例包括已知材料，例如基于多环缩合材料和偶氮材料的电子输送颜料、锆螯合物、钛螯合物、铝螯合物、钛醇盐化合物、有机钛化合物和硅烷偶联剂。如上所述，硅烷偶联剂用于表面处理无机颗粒，但可以进一步作为添加剂添加到底涂层中。
用作添加剂的硅烷偶联剂的实例包括：乙烯基三甲氧基硅烷；3-甲基丙烯酰氧基丙基-三(2-甲氧基乙氧基)硅烷；2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷；3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷；乙烯基三乙酰氧基硅烷；3-巯基丙基三甲氧基硅烷；3-氨基丙基三乙氧基硅烷；N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷；N-2-(氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷；N,N-双(2-羟基乙基)-3-氨基丙基三乙氧基硅烷；和3-氯丙基三甲氧基硅烷。
锆螯合物的实例包括丁醇锆、锆乙酰乙酸乙酯、三乙醇胺锆、乙酰丙酮酸丁醇锆、乙酰乙酸乙酯丁醇锆、乙酸锆、草酸锆、乳酸锆、膦酸锆、辛酸锆、环烷酸锆、月桂酸锆、硬脂酸锆、异硬脂酸锆、甲基丙烯酸丁醇锆、硬脂酸丁醇锆和异硬脂酸丁醇锆。
钛螯合物的实例包括钛酸四异丙酯、钛酸四正丁酯、钛酸丁酯二聚物、钛酸四(2-乙基己基)酯、乙酰丙酮酸钛、聚乙酰丙酮酸钛、辛二醇钛、乳酸钛铵盐、乳酸钛、乳酸钛乙酯、三乙醇胺钛和多羟基硬脂酸钛。
铝螯合物的实例包括异丙醇铝、二异丙醇单丁氧基铝、丁酸铝、二乙酰乙酸乙酯二异丙醇铝和三(乙酰乙酸乙酯)铝。
可以单独使用这些添加剂，也可以使用两种以上的化合物作为混合物或缩聚产物。
底涂层可以具有35以上的维氏硬度。
为了抑制莫尔图像，可以将底涂层的表面粗糙度(十点平均粗糙度)调节到λ的1/(4n)(n表示上覆层的折射率)至1/2的范围内，λ表示用于曝光的激光波长。
为了调节表面粗糙度，可以将树脂颗粒等添加到底涂层。树脂颗粒的实例包括硅氧烷树脂颗粒和交联聚甲基丙烯酸甲酯树脂颗粒。可以抛光底涂层的表面以调节表面粗糙度。抛光方法的实例包括擦亮抛光、喷砂、湿珩磨和研磨。
可以通过任何已知方法形成底涂层。例如，通过使用通过将上述组分添加到溶剂中、干燥并且根据需要加热而制备的底涂层形成溶液来形成涂膜。
用于制备底涂层形成溶液的溶剂的实例包括已知的有机溶剂，如醇溶剂、芳烃溶剂、卤代烃溶剂、酮溶剂、酮醇溶剂、醚溶剂和酯溶剂。
溶剂的具体实例包括常用的有机溶剂，如甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、二氧六环、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯和甲苯。
在制备底涂层形成溶液中分散无机颗粒的方法的实例包括使用辊磨机、球磨机、振动球磨机、超微磨碎机、砂磨机、胶体磨机和涂料振摇器的已知方法。
将底涂层形成溶液施加到导电基板的方法的实例包括常用方法，例如刮刀涂布法、线棒涂布法、喷涂法、浸涂法、珠涂法、气刀涂布法和帘式涂布法。
底涂层的厚度优选设定在15μm以上的范围内，更优选在20μm以上且50μm以下的范围内。
中间层
尽管未在附图中示出，但是可以在底涂层和感光层之间进一步设置中间层。
中间层例如是含树脂的层。用于中间层的树脂的实例包括聚合物化合物，例如缩醛树脂(例如，聚乙烯醇缩丁醛)、聚乙烯醇树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、酪蛋白树脂、聚酰胺树脂、纤维素树脂、明胶、聚氨酯树脂、聚酯树脂、甲基丙烯酰系树脂、丙烯酰系树脂、聚氯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐树脂、硅氧烷树脂、硅氧烷-醇酸树脂、酚醛树脂和三聚氰胺树脂。
中间层可以含有有机金属化合物。用于中间层中的有机金属化合物的实例包括含有诸如锆、钛、铝、锰和硅之类的金属原子的有机金属化合物。
可以单独使用用于中间层中的这些化合物，或者可以使用两种以上种化合物作为混合物或缩聚产物。
特别地，中间层可以是包含含有锆原子或硅原子的有机金属化合物的层。
可以通过任何已知方法形成中间层。例如，通过使用通过将上述组分添加到溶剂中，干燥，并且根据需要加热而制备的中间层形成溶液来形成涂膜。
用于形成中间层的施加方法的实例包括常用方法，例如浸涂法、提拉涂布法、线棒涂布法、喷涂法、刮刀涂布法、刮涂法和帘式涂布法。
中间层的厚度可以设定在例如0.1μm以上且3μm以下的范围内。中间层可以用作底涂层。
电荷产生层
电荷产生层例如是包含电荷产生材料和粘合剂树脂的层。电荷产生层可以是电荷产生材料的气相沉积层。当使用诸如发光二极管(LED)或有机电致发光(EL)图像阵列之类的非相干光时，可以使用电荷产生材料的气相沉积层。
电荷产生材料的实例包括偶氮颜料，例如双偶氮和三偶氮颜料；稠环芳香族颜料，如二溴蒽酮；二萘嵌苯颜料；吡咯并吡咯颜料；酞菁颜料；氧化锌；和三角硒。
其中，为了与近红外激光曝光相容，可以使用金属酞菁颜料或不含金属的酞菁颜料作为电荷产生材料。其具体实例包括：日本未审查专利申请特开5-263007号和5-279591号公报中公开的羟基镓酞菁；日本未审查专利申请特开5-98181号公报中公开的氯镓酞菁；日本未审查专利申请特开5-140472号和5-140473号公报中公开的二氯锡酞菁；日本未审查专利申请特开4-189873号公报中公开的钛氧基酞菁。
为了与近紫外激光曝光相容，电荷产生材料可以是日本未审查专利申请特开2004-78147号和2005-181992号公报等中公开的稠环芳族颜料，如二溴蒽酮；硫代靛蓝颜料；四氮杂卟啉化合物；氧化锌；三角硒；双偶氮颜料。
当使用发射中心波长在450nm以上且780nm以下的范围内的诸如LED或有机EL图像阵列之类的非相干光源时，可以使用上述电荷产生材料，然而，从分辨率的观点出发，当感光层薄至20μm以下时，感光层中的电场强度增加，从基板注入的电荷减少，并且趋于发生称为黑点的图像缺陷。当使用p导电型并且容易产生暗电流的电荷产生材料(例如三角硒或酞菁颜料)时，这尤其明显。
相反，当使用诸如稠环芳族颜料、二萘嵌苯颜料或偶氮颜料的n型半导体作为电荷产生材料时，很少发生暗电流，并且即使当厚度小时，也能够抑制称为黑点的图像缺陷。n型电荷产生材料的实例包括但不限于日本未审查专利申请特开2012-155282号公报第[0288]至[0291]段中描述的化合物(CG-1)至(CG-27)。
由通常采用的飞行时间方法基于在其中流动的光电流的极性确定是否是n型。其中电子作为载流子比空穴流动地更顺畅的材料被确定为n型。
用于电荷产生层中的粘合剂树脂选自各种绝缘树脂。另选地，粘合剂树脂可选自有机光导聚合物，例如聚-N-乙烯基咔唑、聚乙烯基蒽、聚乙烯基芘和聚硅烷。
粘合剂树脂的实例包括聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚芳酯树脂(双酚和芳族二羧酸的缩聚物等)、聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、苯氧基树脂、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、聚酰胺树脂、丙烯酰系树脂、聚丙烯酰胺树脂、聚乙烯吡啶树脂、纤维素树脂、聚氨酯树脂、环氧树脂、酪蛋白、聚乙烯醇树脂和聚乙烯吡咯烷酮树脂。这里，“绝缘”是指体积电阻率为1013Ωcm以上。
这些粘合剂树脂可单独使用或作为混合物组合使用。
电荷产生材料与粘合剂树脂的混合比在质量比的基础上可以在10：1至1:10的范围内。
电荷产生层可含有其他已知的添加剂。
可以通过任何已知方法形成电荷产生层。例如，通过使用通过将上述组分添加到溶剂中、干燥并且根据需要加热而制备的电荷产生层形成溶液来形成涂膜。可以通过气相沉积电荷产生材料来形成电荷产生层。可以通过气相沉积形成电荷产生层，特别是当稠环芳族颜料或二萘嵌苯颜料用作电荷产生材料时。
用于制备电荷产生层形成溶液的溶剂的具体实例包括甲醇、乙醇、正丙醇、正丁醇、苯甲醇、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丙酮、甲基乙基酮、环己酮、乙酸甲酯、乙酸正丁酯、二氧六环、四氢呋喃、二氯甲烷、氯仿、氯苯和甲苯。这些溶剂被单独使用或作为混合物组合使用。
为了在电荷产生层形成溶液中分散颗粒(例如电荷产生材料)，可以使用诸如球磨机、振动球磨机、磨碎机、砂磨机或卧式砂磨机之类的介质分散器或者诸如搅拌器、超声分散器、辊磨机或高压均化器之类的无介质分散器。高压均化器的实例包括碰撞型均化器和渗透型均化器，在碰撞型均化器中，高压状态下的分散体通过液-液碰撞或液-壁碰撞而分散；在渗透型均化器中，使高压状态下的流体穿透细通道。
在分散中，有效的是将电荷产生层形成溶液中的电荷产生材料的平均粒径设定为0.5μm以下，优选0.3μm以下，更优选0.15μm以下。
用于将电荷产生层形成溶液施加到底涂层(或中间层)的方法的实例包括常规方法，例如刮刀涂布法、线棒涂布法、喷涂法、浸涂法、珠涂法、气刀涂布法和帘式涂布法。
电荷产生层的厚度优选设定在例如0.1μm以上且5.0μm以下的范围内，更优选在0.2μm以上且2.0μm以下的范围内。
电荷输送层
电荷输送层是例如包含电荷输送材料和粘合剂树脂的层。电荷输送层可以是包含聚合物电荷输送材料的层。
电荷输送材料的实例包括：电子输送化合物，例如醌化合物(例如对苯醌、四氯苯醌、四溴苯醌和蒽醌)；四氰基醌二甲烷化合物；芴酮化合物，例如2,4,7-三硝基芴酮；氧杂蒽酮化合物；二苯甲酮化合物；氰基乙烯基化合物；和乙烯化合物。电荷输送材料的其他实例包括空穴输送化合物，例如三芳基胺化合物、联苯胺化合物、芳基烷烃化合物、芳基取代的乙烯化合物、芪化合物、蒽化合物和腙化合物。这些电荷输送材料可以单独使用或组合使用，但不是限制性的。
从电荷迁移率的观点出发，电荷输送材料可以是由下面结构式(a-1)表示的三芳基胺衍生物或由下面结构式(a-2)表示的联苯胺衍生物。
在结构式(a-1)中，ArT1、ArT2和ArT3各自独立地表示取代或未取代的芳基、-C6H4-C(RT4)＝C(RT5)(RT6)或-C6H4-CH＝CH-CH＝C(RT7)(RT8)。RT4、RT5、RT6、RT7和RT8各自独立地表示氢原子、取代或未取代的烷基或取代或未取代的芳基。
上述各基团的取代基的实例包括卤原子、具有1至5个碳原子的烷基和具有1至5个碳原子的烷氧基。上述各基团的取代基的实例包括被具有1至3个碳原子的烷基取代的取代氨基。
在结构式(a-2)中，RT91和RT92各自独立地表示氢原子、卤素原子、具有1至5个碳原子的烷基或具有1至5个碳原子的烷氧基。RT101、RT102、RT111和RT112各自独立地表示卤原子、具有1至5个碳原子的烷基、具有1至5个碳原子的烷氧基、被具有1或2个碳原子的烷基取代的氨基、取代或未取代的芳基、-C(RT12)＝C(RT13)(RT14)或-CH＝CH-CH＝C(RT15)(RT16)；并且RT12、RT13、RT14、RT15和RT16各自独立地表示氢原子、取代或未取代的烷基或取代或未取代的芳基。Tm1、Tm2、Tn1和Tn2各自独立地表示0以上且2以下的整数。
上述各基团的取代基的实例包括卤原子、具有1至5个碳原子的烷基和具有1至5个碳原子的烷氧基。上述各基团的取代基的实例包括被具有1至3个碳原子的烷基取代的取代氨基。
这里，在结构式(a-1)表示的三芳基胺衍生物和以上结构式(a-2)表示的联苯胺衍生物中，从电荷迁移率的观点出发，可以使用具有-C6H4-CH＝CH-CH＝C(RT7)(RT8)的三芳基胺衍生物或具有-CH＝CH-CH＝C(RT15)(RT16)的联苯胺衍生物。
可以使用的聚合物电荷输送材料的实例包括已知的电荷输送材料，例如聚-N-乙烯基咔唑和聚硅烷。特别优选日本未审查专利申请特开8-176293号和8-208820号公报中公开的聚酯聚合物电荷输送材料。聚合物电荷输送材料可以单独使用或与粘合剂树脂组合使用。
用于电荷输送层中的粘合剂树脂的实例包括聚碳酸酯树脂、聚酯树脂、聚芳酯树脂、甲基丙烯酰系树脂、丙烯酰系树脂、聚氯乙烯树脂、聚偏二氯乙烯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙酸乙烯酯树脂、苯乙烯-丁二烯共聚物、偏二氯乙烯-丙烯腈共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、氯乙烯-乙酸乙烯酯-马来酸酐共聚物、硅氧烷树脂、硅氧烷醇酸树脂、酚醛树脂、苯乙烯-醇酸树脂、聚-N-乙烯基咔唑和聚硅烷。其中，聚碳酸酯树脂或聚芳酯树脂可用作粘合剂树脂。这些粘合剂树脂被单独使用或组合使用。
电荷输送材料与粘合剂树脂的共混合比基于质量比可以在10：1至1：5的范围内。
电荷输送层可以含有其他已知的添加剂。
可以通过任何已知方法形成电荷输送层。例如，通过使用通过将上述组分添加到溶剂中、干燥并且根据需要加热制备的电荷输送层形成溶液形成涂膜。
用于制备电荷输送层形成溶液的溶剂的实例包括：常用的有机溶剂，如芳烃(如苯、甲苯、二甲苯和氯苯)；酮类，如丙酮和2-丁酮；卤代脂族烃，如二氯甲烷、氯仿和氯化乙烯；和环状或线性醚，如四氢呋喃和乙醚。这些溶剂被单独使用或作为混合物组合使用。
用于将电荷输送层形成溶液施加到电荷产生层的方法的实例包括常规方法，例如刮刀涂布法、线棒涂布法、喷涂法、浸涂法、珠涂法，气刀涂布法和帘式涂布法。
电荷输送层的厚度优选设定在例如5μm以上且50μm以下的范围内，更优选在10μm以上至30μm以下的范围内。
保护层
如果需要，保护层设置在感光层上。例如，形成保护层以避免感光层在充电期间的化学变化，并进一步改善感光层的机械强度。
因此，保护层可以是由固化膜(交联膜)形成的层。这种层的实例包括下面1)和2)中表示的层。
1)由如下组合物的固化膜形成的层，该组合物含有在相同分子中具有反应性基团和电荷输送骨架的含反应性基团的电荷输送材料(换句话说，包含含有反应性基团的电荷输送材料的聚合物或交联体的层)。
2)由如下组合物的固化膜形成的层，该组合物含有非反应性电荷输送材料和不具有电荷输送骨架但具有反应性基团的含反应性基团的非电荷输送材料(换言之，含有非反应性电荷传输材料和含反应性基团的非电荷传输材料的聚合物或交联体的层)。
含反应性基团的电荷输送材料中包含的反应性基团的实例包括链聚合性基团、环氧基团、-OH、-OR(其中R表示烷基)、-NH2、-SH、-COOH和-SiRQ1 3-Qn(ORQ2)Qn(其中RQ1表示氢原子、烷基、或取代或未取代的芳基，RQ2表示氢原子、烷基或三烷基甲硅烷基，并且Qn表示1至3的整数)。
链聚合性基团可以是任何可自由基聚合的官能团，并且其实例是具有至少含有碳-碳双键的基团的官能团。其具体实例是包含选自乙烯基、乙烯基醚基、乙烯基硫醚基、苯乙烯基(乙烯基苯基)、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基及其衍生物中的至少一种的基团。其中，链聚合性基团可以是含有选自乙烯基、苯乙烯基(乙烯基苯基)、丙烯酰氧基、甲基丙烯酰氧基及其衍生物中的至少一种的基团，因为它们具有优异的反应性。
含反应性基团的电荷输送材料的电荷输送骨架可以是电子照相感光体中使用的任何已知结构，并且其实例包括衍生自含氮空穴输送化合物(例如三芳基胺化合物、联苯胺化合物和腙化合物)并且与氮原子共轭的骨架。其中，优选三芳基胺骨架。
具有这种反应性基团和电荷输送骨架的含反应性基团的电荷输送材料、非反应性电荷输送材料和含反应性基团的非电荷输送材料可选自已知材料。
保护层可含有其他已知的添加剂。
可以通过任何已知方法形成保护层。例如，通过使用通过将上述组分添加到溶剂中、干燥并且根据需要例如通过加热固化制备的保护层形成溶液形成涂膜。
用于制备保护层形成溶液的溶剂的实例包括：芳族溶剂，如甲苯和二甲苯；酮溶剂，如甲基乙基酮、甲基异丁基酮和环己酮；酯溶剂，如乙酸乙酯和乙酸丁酯；醚溶剂，如四氢呋喃和二氧六环；溶纤剂溶剂，如乙二醇单甲醚；和醇溶剂，如异丙醇和丁醇。这些溶剂被单独使用或作为混合物组合使用。
形成保护层的溶液可以是无溶剂溶液。
用于将保护层形成溶液施涂到感光层(例如，电荷输送层)上的施涂方法的实例包括常用方法，例如浸涂法、提升涂布法、线棒涂布法，喷涂法、刮刀涂布法、刮涂法和帘式涂布法。
保护层的厚度优选设定在例如1μm以上且20μm以下的范围内，更优选在2μm以上且10μm以下的范围内。
单层型感光层
单层型感光层(电荷产生/电荷输送层)是例如包含电荷产生材料、电荷输送材料和任选的粘合剂树脂和其他已知添加剂的层。这些材料与关于电荷产生层和电荷输送层所述的那些相同。
单层型感光层中含有的电荷产生材料的量相对于总固体含量可以为0.1质量％以上且10质量％以下，并且优选0.8质量％以上且5质量％以下。单层型感光层中含有的电荷输送材料的量相对于总固体含量可以为5质量％以上且50质量％以下。
形成单层型感光层的方法与形成电荷产生层和电荷输送层的方法相同。
单层型感光层的厚度可以是例如5μm以上且50μm以下，并且优选为10μm以上且40μm以下。
二次转印构件
接下来，描述二次转印辊22和二次转印带23(下文中可以称为“该示例性实施方式的二次转印构件”)。在以下描述中，省略了附图标记。
该示例性实施方式的二次转印构件的表面(外周表面)具有30度以上的十六烷接触角。从提高清洁性维持性能的观点出发，该角度可以为35度以上。但是，如果表面的十六烷接触角过大，则二次转印构件的清洁性有降低的倾向。因此，表面的十六烷接触角可以是例如90度以下。
这里，“表面的十六烷接触角”是如下测得的值。
从待测量的二次转印构件取样。接着，在温度为25℃，湿度为50％的环境中，通过使用接触角计(型号：Kyowa Interface Science股份有限公司生产的CA-X-FACE)将3μl十六烷(纯度：99％)滴在样品的测量表面上(换句话说，对应于二次转印构件的外周表面的表面)，通过使用光学显微镜对滴下后3秒的液滴进行成像。然后通过θ/2方法从获得的图像确定十六烷接触角θ。
在表面具有满足上述范围的十六烷接触角的二次转印构件的实例包括以下第一和第二示例性实施方式的二次转印构件。
第一示例性实施例
第一示例性实施方式的二次转印构件具有由包含聚四氟乙烯颗粒(PTFE颗粒)和含氟原子的分散剂(含氟分散剂)的树脂层形成的表面(下文中该树脂层可称为“含PTFE颗粒的树脂层”)。
第一示例性实施方式的二次转印构件可以具有：由含PTFE颗粒的树脂层形成的单层结构；或者包括两层以上层的多层结构，其最外层是含PTFE颗粒的树脂层。
当第一示例性实施方式的二次转印构件是二次转印带时，包括两层以上层的多层结构的实例是这样的堆叠结构，该堆叠结构包括基底层和设置在基底层上的含PTFE颗粒的树脂层；当二次转印构件是二次转印辊时，多层结构的实例是是这样的堆叠结构，该堆叠结构包括基底(轴等)、基底上的弹性层和弹性层上的含有PTFE颗粒的树脂层。
现在将描述含PTFE颗粒的树脂层。
含PTFE颗粒的树脂层中包含的树脂的实例包括已知树脂，例如聚氨酯树脂、氟化聚氨酯树脂、聚酰胺树脂、氟化聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂、聚酰胺酰亚胺树脂、聚醚酰亚胺树脂、聚醚醚酯树脂、聚芳酯树脂、聚酯树脂、聚醚醚酮树脂、聚醚砜树脂、聚苯砜、聚砜树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂、聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂、聚缩醛树脂、聚碳酸酯树脂和丙烯酰系树脂。
其中，从提高清洁性维持性能的观点出发，树脂可以是聚酰亚胺树脂、聚酰胺酰亚胺树脂、聚碳酸酯树脂或丙烯酰系树脂。
含PTFE颗粒的树脂层可以是包含两种以上种这些树脂的树脂层。
含PTFE颗粒的树脂层中含有的PTFE颗粒的实例包括感光体的最外表面层中含有的PTFE颗粒。
含PTFE颗粒的树脂层中的PTFE颗粒含量相对于含PTFE颗粒的树脂层中的树脂优选为10质量％以上且50质量％以下，更优选为15质量％以上且35质量％以下。
例如，含PTFE颗粒的树脂层中含有的含氟分散剂的类型和含量与感光体的最外表面层中含有的含氟分散剂相同。
含PTFE颗粒的树脂层中的全氟辛酸(PFOA)含量相对于PTFE颗粒可以为25ppb以下。该PFOA含量与感光体的最外表面层中的PFOA含量相同。
当含PTFE颗粒的树脂层中的PFOA含量在上述范围内时，如上所述，PTFE颗粒的分散性得到改善，并且含PTFE颗粒的树脂层捕获以基本均匀的方式从感光体的最外表面迁移到二次转印构件的整个表面上的PTFE颗粒。因此，易于改善清洁性维持性能。
从提高清洁性维持性能的观点出发，PTFE颗粒在含PTFE颗粒的树脂层的表面(换句话说，二次转印构件的表面)中暴露的面积比(下文中该面积比也可称为“PTFE颗粒暴露的面积比”)可以设定为20％以上且80％以下(优选为30％以上且70％以下)。
当PTFE颗粒暴露的面积比增加到上述范围内时，二次转印构件表面上暴露的PTFE颗粒捕获已从感光体的最外表面层迁移的PTFE颗粒，因此，能够进一步改善清洁性维持性能。
将PTFE颗粒暴露的面积比调节到上述范围内的方法的实例包括涉及增加PTFE颗粒含量的方法和涉及使PTFE颗粒以高浓度朝含PTFE颗粒树脂层的表面(换言之，二次转印构件的表面)分布的方法。
PTFE颗粒暴露的面积比是通过以下方法测得的值。
从待测量的二次转印构件切出样品，并且通过使用X射线光电子分光镜(XPS)(由JEOL股份有限公司生产的“JPS-9000MX”)计算二次转印构件表面上的F元素比率以确定PTFE颗粒暴露的面积比。这里，假设PTFE颗粒中F元素的存在比率为70％，并且通过F元素比率(atm％)/0.7计算暴露的面积比率。
含PTFE颗粒的树脂层可含有导电剂。也可含有其他添加剂。
导电剂的实例包括炭黑；诸如铝和镍之类的金属；金属氧化物，如氧化钇和氧化锡；离子导电物质，如钛酸钾和氯化钾；和导电聚合物，如聚苯胺、聚吡咯、聚砜和聚乙炔。其中，从导电性和经济效益的观点出发，优选炭黑。
炭黑的实例包括科琴黑、油炉黑、槽黑、乙炔黑和表面氧化的炭黑(下文中称为“表面处理的炭黑”)。其中，从随时间消逝电阻稳定性的观点出发，优选表面处理炭黑。
经表面处理的炭黑通过例如将羧基、醌基、内酯基和羟基等附接到表面而获得。
相对于100质量份树脂，添加的导电剂的量优选为10质量份以上且30质量份以下，并且更优选为13质量份以上且25质量份以下。
其他添加剂的实例包括已知的添加剂，例如抗氧化剂、表面活性剂、耐热抗降解剂、分散剂、各种填料、催化剂和流平材料。
第二示例性实施例
第二示例性实施方式的二次转印构件具有由包含树脂和全氟聚醚(下文中也可称为“PFPE”)的树脂层(在下文中，该树脂层可称为“含PFPE的树脂层”)形成的表面。
第二示例性实施方式的二次转印构件可以具有：由含PTFE颗粒的树脂层形成的单层结构；或者包括两层以上层的多层结构，其最外层是含PTFE颗粒的树脂层。
当第一示例性实施方式的二次转印构件是二次转印带时，包括两层以上层的多层结构的实例是这样的堆叠结构，该堆叠结构包括基底层和设置在基底层上的含PFPE的树脂层；当二次转印构件是二次转印辊时，多层结构的实例是这样的堆叠结构，该堆叠结构包括基底(轴等)、基底上的弹性层和弹性层上的含PFPE的树脂层。
现在将描述含PFPE的树脂层。
含PFPE的树脂层可以具有海岛结构，该海岛结构具有包含树脂的海部分和包含PFPE的岛部分。换句话说，PFPE可以构成树脂中的域。
含PFPE的树脂层中含有的树脂是PFPE以外的树脂。树脂的实例包括已知的树脂，例如(甲基)丙烯酰系树脂、苯乙烯树脂、聚酯树脂、环氧树脂、聚醚树脂、硅氧烷树脂和聚乙烯醇缩丁醛树脂。
含PFPE的树脂层可以是含有两种以上这些树脂的树脂层。
含PFPE的树脂层中含有的PFPE的实例是具有全氟亚烷基醚作为结构单元的聚合物。PFPE可以是低聚物。低聚物是其中聚合有限数量(例如，5以上且100以下)的单体的聚合物。
用作PFPE的结构单元的全氟亚烷基醚的实例包括具有1至8个碳原子(优选1至3个碳原子)的全氟亚烷基醚(例如，全氟亚甲基醚、全氟亚乙基醚和全氟亚丙基醚)。
具有全氟亚甲基醚结构单元(-(O-CF2)-))和全氟亚乙基醚结构单元(-(O-CF2-CF2)-)中的至少一种的PFPE可用作PFPE。
市售PFPE产品的实例包括“DEMNUM(由Daikin Industries股份有限公司生产)”、“Krytox(由DuPont生产)”和“Fomblin(由Solvay Solexis，股份有限公司生产)”。
PFPE的另一个实例是具有反应性官能团的PFPE。反应性官能团的实例包括氧硅烷基和(甲基)丙烯酰基。
具有反应性官能团的PFPE可以是由下面的通式(A)表示的PFPE或由下面的通式(B)表示的PFPE。
由通式(A)表示的PFPE
CH2＝C(-CH3)-C(＝O)-O-CH2-CF2-Rf-O-CF2-CH2-O-C(＝O)-C(-CH3)＝CH2
由通式(B)表示的PFPE
CH2＝C(-CH3)-C(＝O)-O-(CH2)2-NH-C(＝O)-O-CH2-CF2-Rf-O-CF2-CH2-O-C(＝O)-NH-(CH2)2-O-C(＝O)-C(-CH3)＝CH2
这里，在通式(A)和(B)中，Rf表示具有全氟亚甲基醚结构单元(-(O-CF2)-))和全氟亚乙基醚结构单元(-(O-CF2-CF2)-)的重复单元中的至少一种。
全氟亚甲基醚结构单元的重复数和全氟亚乙基醚结构单元的重复数可以分别独立地为0以上且50以下，或者2以上且40以下。但是，两个结构单元的总重复数为1以上。
当存在全氟亚甲基醚结构单元和全氟亚乙基醚结构单元两者时，这些结构单元可以采取无规共聚物结构或嵌段共聚物结构。
用于具有反应性官能团的PFPE的市售产品的实例包括“Fluorolink S10”(具有由Solvay Solexis股份有限公司生产的氧硅烷基的PFPE)、“Fluorolink MD500、MD700、5101X、5113X和AD1700”(含有(甲基)丙烯酰基的PFPE，由Solvay Solexis股份有限公司生产)和“OPTOOL DAC”(具有由Daikin Industries股份有限公司生产的(甲基)丙烯酰基的PFPE)。
PFPE的数均分子量优选为100以上且20000以下，更优选为380以上且20,000以下。
通过凝胶渗透色谱法(GPC)测得PFPE的数均分子量。具体地，通过使用TOSOH株式会社生成的HPLC1100作为测量仪器搭配四氢呋喃(THF)溶剂和TOSOH株式会社生成的TSKgel GMHHR-M+TSKgel GMHHR-M柱(7.8mm I.D.，30cm)进行测量。通过使用从单分散聚苯乙烯标准样品获得的分子量校准曲线，从测量结果计算数均分子量。
在含PFPE的树脂层中相对于总固体含量，PFPE含量优选为5.0质量％以上且70.0质量％以下，更优选为10.0质量％以上且60.0质量％以下，进一步优选为20.0质量％以上且50.0质量％以下。
含PFPE的树脂层可含有其他添加剂。
其他添加剂的实例包括已知的添加剂，例如分散剂、导电剂、填料、着色剂和流平材料。
从稳定PFPE域的观点出发，分散剂可以是具有氟烷基的乙烯基单体和(甲基)丙烯酸酯之间的嵌段共聚物，或者是具有氟烷基的甲基丙烯酸酯和在侧链中具有聚甲基丙烯酸甲酯的甲基丙烯酸酯大分子单体之间的梳形接枝共聚物。
接下来，描述示例性实施方式的二次转印构件中除含PTFE颗粒的树脂层和含PFPE的树脂层之外的层(基底层和弹性层)。
当示例性实施方式的二次转印构件是二次转印带时，用作含PTFE颗粒的树脂层和含PFPE的树脂层下面的层的基底可以是任何的基底，并且采用在典型的二次转印带中使用的任何基底层。
基底层的实例包括含有导电剂的树脂层(树脂层的实例包括聚氨酯树脂层、氟化聚氨酯树脂层、聚酰亚胺树脂层、氟化聚酰亚胺树脂层、聚酰胺树脂层、聚酰胺酰亚胺树脂层、聚醚酰亚胺树脂层、聚醚醚酯树脂层、聚芳酯树脂层、聚酯树脂层、聚醚醚酮树脂层、聚醚砜树脂层、聚苯砜树脂层、聚砜树脂层、聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂层、聚对苯二甲酸丁二醇酯树脂层、聚缩醛树脂层和聚碳酸酯树脂层)和含有导电剂的橡胶层(橡胶层的实例包括异戊二烯橡胶、氯丁橡胶(CR)、表氯醇橡胶(ECO)、丁基橡胶、聚氨酯、硅氧烷橡胶、氟橡胶、苯乙烯-丁二烯橡胶、丁二烯橡胶、丁腈橡胶、乙丙橡胶、环氧氯丙烷-环氧乙烷共聚物裂解橡胶、环氧氯丙烷-环氧乙烷-烯丙基缩水甘油基醚共聚物橡胶、乙烯-丙烯-二烯三元共聚物橡胶(EPDM)、丙烯腈-丁二烯共聚物橡胶(NBR)和天然橡胶中的一种或任意组合的层)。
当示例性实施方式的二次转印构件是二次转印辊时，用作含PTFE颗粒的树脂层和含PFPE的树脂层下面的层的弹性层可以是任何的弹性层，并且采用在典型的二次转印中使用的任何弹性层。
弹性层的实例包括含有导电剂的橡胶层(橡胶层的实例包括异戊二烯橡胶、氯丁橡胶(CR)、环氧氯丙烷橡胶(ECO)、丁基橡胶、聚氨酯、硅氧烷橡胶、氟橡胶、丁苯橡胶、丁二烯橡胶、丁腈橡胶、乙丙橡胶、环氧氯丙烷-环氧乙烷共聚物橡胶、环氧氯丙烷-环氧乙烷-烯丙基缩水甘油基醚共聚物橡胶、乙烯-丙烯-二烯三元共聚物橡胶(EPDM)、丙烯腈-丁二烯共聚物橡胶(NBR)和天然橡胶中的一种或任意组合的层)。弹性层可以是泡沫层或非泡沫层。
该示例性实施方式的二次转印构件不限于上述第一和第二示例性实施方式的二次转印构件。
实施例
现在将更详细地描述本公开的实施例，但是本公开不限于这些实施例。除非另有说明，否则“份”和“％”是基于质量的。
感光体A
PTFE颗粒A的制备
将市售的平均粒径为3.5μm(一次粒径：0.2μm)的PTFE颗粒洗涤，然后如下所述用含氟分散剂处理以形成PTFE颗粒A。
取400质量份四氢呋喃和15质量份PTFE颗粒制备混合物，高压均化器(商品名：LA-33S，由NANOMIZER股份有限公司生产)的压力设定为500kg/cm2，将混合物穿过高压均化器四次以洗涤混合物。在离心分离器中处理所得分散体后，去除透明上层部分中的液体。接下来，添加四氢呋喃使得液体的量为415质量份，并且在将所得混合物再次分散在高压均化器中之后，在离心分离器中处理所得分散体，并且去除透明上层部分中的液体。在该操作进一步重复三次后，将作为含氟分散剂的1.5份GF400(由Toagosei有限公司生产，表面活性剂，该表面活性剂中至少具有氟化烷基的甲基丙烯酸酯用作聚合组分)添加到所得混合物中，添加四氢呋喃使得液体的量为415质量份，并将所得混合物再次分散在高压均化器中后，在减压下蒸馏除去溶剂。然后，将干燥的颗粒在研钵中粉碎。所得颗粒用作PTFE颗粒A。
根据上述方法测量所得PTFE颗粒A的“PFOA含量”，发现其为5ppb。
PTFE合成物L-A的制备
在350份甲苯和150份四氢呋喃中，溶解45份由下式(CT-1)表示的联苯胺化合物和55份具有由下式(B-1)表示的重复单元的聚合物化合物(粘均分子量：40,000)，将10份PTFE颗粒A添加到所得溶液中，并用高压均化器处理所得混合物五次以制备PTFE合成物L-A。
通过使用激光衍射粒度分析仪(MASTERSIZER 3000：Malvern)评估所得PTFE合成物L-A中PTFE的分散状态，发现平均粒径为0.22μm。
感光体A的制备
感光体A如下制备。
底涂层的形成
将100份氧化锌(平均粒径：70nm，由Tayca Corporation生产，比表面积：15m2/g)与500份四氢呋喃混合，并且添加1.3份硅烷偶联剂(由Shin-Etsu Chemical有限公司生产的KBM503)，然后搅拌2小时。然后，通过真空蒸馏蒸馏除去四氢呋喃，在120℃烘焙3小时，结果，得到用硅烷偶联剂表面处理过的氧化锌。
将110份表面处理过的氧化锌和500份四氢呋喃混合并搅拌，向所得混合物中添加通过将0.6份茜素溶解在50份四氢呋喃中制备的溶液，并将所得混合物在50℃搅拌5小时。随后，通过真空过滤分离茜素掺杂的氧化锌，并在60℃真空干燥。结果，获得了茜素掺杂的氧化锌。
60份茜素掺杂氧化锌、13.5份固化剂(封端异氰酸酯，Sumidur 3175，由SumitomoBayer Urethane有限公司生产)、15份丁缩醛树脂(Sekisui化学有限公司生产的S-LEC BM-1)和85份甲基乙基酮混合，得到混合溶液。将38份该混合溶液和25份甲基乙基酮混合，并使用1mmΦ玻璃珠在砂磨机中将所得混合物分散2小时，得到分散体。
向所得分散体中添加0.005份作为催化剂的二月桂酸二辛基锡和45份硅氧烷树脂颗粒(由Momentive Performance Materials Japan LLC生产的Tospearl 145)，得到底涂层形成溶液。通过浸涂法将该溶液施加到直径为47mm、长度为357mm、厚度为1mm的铝基板上，并在170℃干燥和固化30分钟，以获得厚度为25μm的底涂层。
电荷产生层的形成
接下来，在X射线衍射光谱中在7.5°、9.9°、12.5°、16.3°、18.6°、25.1°和28.3°的布拉格角(2θ±0.2°)处具有强衍射峰的1份羟基镓酞菁、1份聚乙烯醇缩丁醛(由SekisuiChemical有限公司生产的S-LEC BM-S)和80份乙酸正丁酯混合，并将所得混合物用玻璃珠在涂料振摇器中分散1小时以制备电荷产生层形成溶液。通过浸涂将所得溶液施加到导电支持体上的底涂层上，并在100℃加热10分钟以形成厚度为0.15μm的电荷产生层。
电荷输送层的形成
通过浸涂将PTFE合成物A施加到电荷产生层，并在130℃加热45分钟以制备厚度为13μm的电荷输送层。
根据上述方法测得电荷输送层的“PFOA含量”，发现其为5ppb。电荷输送层中PTFE颗粒的平均粒径为0.23μm。
通过上述步骤制备感光体A。
感光体B
PTFE颗粒B的制备
与PTFE颗粒A一样，用含氟分散剂洗涤和处理平均粒径为4.5μm(一次粒径：0.2μm)的市售PTFE颗粒，以形成PTFE颗粒B。
根据上述方法测量所得PTFE颗粒B的“PFOA含量”，发现其为0ppb。
PTFE合成物L-B的制备
除了将PTFE颗粒A改为PTFE颗粒B之外，通过进行与PTFE合成物L-A相同的过程制备PTFE合成物L-B。
通过使用激光衍射粒度分析仪(MASTERSIZER 3000：Malvern)评估所得PTFE合成物L-B中PTFE的分散状态，发现平均粒径为0.21μm。
感光体B的制备
除了将PTFE合成物L-A改为PTFE合成物L-B之外，通过进行与感光体A相同的过程制备感光体B。
根据上述方法测量电荷输送层的“PFOA含量”，发现其为0ppb。电荷输送层中PTFE颗粒的平均粒径为0.22μm。
感光体C
除了将总PFOA含量调节至25ppb之外，与PTFE颗粒A一样，通过用含氟分散剂洗涤和处理来制备PTFE颗粒C。
PTFE合成物L-C的制备
除了将PTFE颗粒A改为PTFE颗粒C以外，通过进行与PTFE合成物L-A相同的过程制备PTFE合成物L-C。
通过使用激光衍射粒度分析仪(MASTERSIZER 3000：Malvern)评估所得PTFE合成物L-C中PTFE的分散状态，发现平均粒径为0.22μm。
感光体C的制备
除了将PTFE合成物L-A改为PTFE合成物L-C之外，通过进行与感光体A相同的过程制备感光体C。
根据上述方法测量电荷输送层的“PFOA含量”，发现其为25ppb。电荷输送层中PTFE颗粒的平均粒径为0.24μm。
比较感光体D
除了将总PFOA含量调节至30ppb以外，与PTFE颗粒A一样，通过用含氟分散剂洗涤和处理来制备PTFE颗粒D。
PTFE合成物L-D的制备
除了将PTFE颗粒A改为PTFE颗粒D以外，通过进行与PTFE合成物L-A相同的过程制备PTFE合成物L-D。
通过使用激光衍射粒度分析仪(MASTERSIZER 3000：Malvern)评估所得PTFE合成物L-D中PTFE的分散状态，发现平均粒径为0.25μm。
比较感光体D的制备
除了将PTFE合成物L-A改为PTFE合成物L-D之外，通过进行与感光体A相同的过程制备比较感光体D。
根据上述方法测量电荷输送层的“PFOA含量”，发现其为30ppb。电荷输送层中PTFE颗粒的平均粒径为0.35μm。
二次转印带A
如下制备二次转印带A。
基底橡胶的制备
通过以下述橡胶共混比共混各组分来制备橡胶合成物。
-橡胶共混物1-
EPDM：(乙烯丙烯二烯橡胶，由JSR公司生产的EP33)35份
CR：(氯酚橡胶，由东曹株式会社生成的TSR-61)35份
ECO：(由DAISO有限公司生产的环氧氯丙烷橡胶，610)15份
NBR：(丁腈橡胶，由ZEON CORPORATION生产的DN211)15份
电子导电材料：CB(炭黑，由Mitsubishi Chemical Corporation生产的#3030B)23份
硫：(由鹤见化学工业株式会社生成)0.5份
ZnO：(由Kyoudou Kagaku Kougyou有限公司生产)5份
硫化促进剂：(由OUCHI SHINKO CHEMICAL INDUSTRIAL有限公司生产的NOCCELERM)1份
硬脂酸：0.5份
将具有上述橡胶共混物的合成物置于班伯里密炼机中并捏制，并将所得橡胶合成物用两个辊捏制。通过使用管状十字头挤出成型机将所获得的捏制混合物形成环形带。
接下来，将形成环形带的橡胶合成物在加压蒸汽(温度：126℃，压力：1.5kg/cm2)下在硫化罐中加热，以硫化并形成基底橡胶。将得到的基底橡胶放置在金属管的外侧，并对表面进行抛光，以制备具有环形带状的基底橡胶层(直径：40mm，宽度：340mm，厚度：492μm)。
表面层的制备
表面层的形成
·二季戊四醇六丙烯酸酯：10质量份
·季戊四醇四丙烯酸酯：20质量份
·甲基乙基酮：45质量份
·乙二醇：15质量份
·掺杂锑的氧化锌微粒：5.0质量份
·聚合引发剂(由BASF生产的IRGACURE 184)：4.0质量份
·分散剂(由Toagosei有限公司生产的GF-400)：20质量份
·PFPE(由Solvay Solexis股份有限公司生产的MD700)：7.0质量份
将上述材料在均化器中混合以获得表面层涂布溶液。将涂布溶液喷涂在基底橡胶层上形成涂膜，将涂膜在70℃干燥3分钟，然后使用高压汞灯(由Eye Graphics有限公司生产的H04-L41)从100mm的照射距离处用紫外光照射6分钟以形成厚度为5μm的表面层。
通过上述步骤获得二次转印带A。
通过上述方法测量二次转印带B的表面(外周表面)处的“十六烷接触角”，并且发现其为30度。
二次转印带B
通过使用二次转印带A的基底橡胶层作为基底并通过将氟基润滑剂HANARL(由KANTO KASEI有限公司生产)施加到带表面上来获得二次转印带B。
通过上述方法测量二次转印带B的表面(外周表面)处的“十六烷接触角”，并且发现其为60度。
二次转印带C
表面层的制备
表面层的形成
在含有联苯四羧酸二酐(BPDA)和对苯二胺(PDA)的聚酰胺酸N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)溶液(由UNITIKA股份有限公司生产的U Imide KX，固体成分浓度：20质量％)中，注入固体质量比为20质量％以上且30质量％以下的炭黑(SPECIAL Black 4，Evonik Japan有限公司)，添加33质量％的PTFE颗粒D，得到的混合物通过使用喷射磨分散器(由Geanus有限公司生产的Geanus PY)分散(200N/mm2，5次)。将得到的混合溶液通过20μm不锈钢网以去除异物和炭黑附聚物。将溶液在真空下脱气15分钟，同时搅拌以制备PTFE混合的PI树脂前体溶液。
接下来，通过螺旋涂布法将PTFE混合的PI树脂前体溶液施加到二次转印带A的基底橡胶层以形成涂膜，并且将涂膜在90℃干燥30分钟，然后在320℃加热2小时，形成厚度为15μm的表面层。
通过上述步骤获得二次转印带C。
通过上述方法测量二次转印带C的表面(外周表面)处的“十六烷接触角”，并且发现其为40度。
二次转印带D
除了将要添加到用于形成表面层的PTFE混合PI树脂前体溶液中的PTFE颗粒改为PTFE颗粒A并且将其添加量改为33质量份之外，与二次转印带C一样地获得二次转印带D。
通过上述方法测量二次转印带D的表面(外周表面)处的“十六烷接触角”，并且发现其为40度。
二次转印带E
除了将添加到用于形成表面层的PTFE混合PI树脂前体溶液中的PTFE颗粒改为PTFE颗粒A并且将其添加量改为50质量份之外，与二次转印带C一样地获得二次转印带E。
通过上述方法测量二次转印带E的表面(外周表面)处的“十六烷接触角”，并且发现其为60度。
二次转印带F
除了将要添加到用于形成表面层的PTFE混合PI树脂前体溶液中的PTFE颗粒改为PTFE颗粒A并且将其添加量改为10质量份之外，与二次转印带C一样地获得二次转印带F。
通过上述方法测量二次转印带F的表面(外周表面)处的“十六烷接触角”，并且发现其为35度。
二次转印带G
除了将添加到用于形成表面层的PTFE混合PI树脂前体溶液中的PTFE颗粒改为PTFE颗粒A并且将其添加量改为8质量份之外，与二次转印带C一样地获得二次转印带G。
通过上述方法测量二次转印带G的表面(外周表面)处的“十六烷接触角”，并且发现其为30度。
二次转印辊H
如下制备二次转印辊H。
通过在直径为Φ6mm的金属轴上聚合异氰酸酯和多元醇形成辊状聚氨酯层，并通过加热硫化和发泡以形成直径为Φ23mm的聚氨酯泡沫层，用作离子导电辊。苯磺酰肼用作发泡剂。随后，抛光聚氨酯泡沫层的外周表面以制备两个端部处直径为Φ20.5mm并且弹性层的轴向长度为340.6mm的转印辊基底。
与二次转印带A一样，在制备的转印辊基底上形成厚度为5μm的表面层。
通过上述步骤获得二次转印辊H。
通过上述方法测量二次转印辊H的表面(外周表面)处的“十六烷接触角”，并且发现其为30度。
比较二次转印带I
除了将要添加到用于形成表面层的PTFE混合PI树脂前体溶液中的PTFE颗粒改为PTFE颗粒A并且将其添加量改为4质量份之外，与二次转印带C一样地获得比较的二次转印带I。
通过上述方法测量比较的二次转印带I的表面(外周表面)处的“十六烷接触角”，并且发现为10度。
实施例1至8和比较例1至3
根据表中表示的组合，将所获得的感光体和二次转印带各自装载到图像形成设备(由富士施乐有限公司生产的ApeosPort-VII C7773的改进型)。
然而，对于二次转印辊，所用的设备是图像形成设备ApeosPort-VII C7773(由富士施乐有限公司生产)。
这些图像形成设备被指定成实施例1至8和比较例1至3的图像形成设备。
评估
实施例1至8和比较例1至3的图像形成设备用于进行图像形成评估(1)和(2)。结果如表中所示。
图像形成评估
图像形成评估(1)进行如下。
通过使用各个实施例的设备在5000张A4纸上输出30％的半色调图像。观察第5000张纸上的图像，并评估由二次转印构件的清洁故障引起的条纹状图像缺陷。评估标准如下：
G0：未发现条纹状的图像缺陷。
G1：发现肉眼无法识别的非常轻微的条纹状图像缺陷(可接受)。
G2：发现肉眼几乎看不到的条纹状图像缺陷(可接受)。
G3：发现肉眼可识别的条纹状图像缺陷(不可接受)。
G4：发现肉眼可识别的多条条状图像缺陷(不可接受)。
G5：在整个表面都发现了肉眼可识别的条纹状图像缺陷(不可接受)。
图像形成评估(2)
图像形成评估(2)进行如下。
通过使用各个实施例的设备在200000张A4纸上输出30％的半色调图像。然后，研究二次转印构件的清洁刮刀的翘曲状态。
实施例和比较例总结于表中。
结果表明，与比较例的图像形成设备相比，实施例的图像形成设备具有较少的条纹状图像缺陷和较少的二次转印构件的清洁刮刀的翘曲。
结果表明，实施例的图像形成设备具有优异的二次转印构件清洁性维持性能。
为说明和描述之目的提供了对于本发明的示例性实施方式的以上描述。并不旨在穷举本发明或者将本发明限制于确切的公开内容。显然，多个变型和变更对本领域技术人员来说是显而易见的。所选择和描述的实施方式是为了更好地解释本发明的原理和其实际应用，因此使得本领域的其他技术人员能够理解本发明的各种实施方式及各种适用于完成特殊目的的修改。本发明的保护范围理应由所附权利要求及其等同物来限定。
Claims (9)
1.一种图像形成设备，其包括：
色调剂图像形成装置，该色调剂图像形成装置包括感光体并在所述感光体的表面上形成色调剂图像，所述感光体具有最外表面层，该最外表面层包含聚四氟乙烯颗粒和含有氟原子的分散剂，并且
所述最外表面层相对于所述聚四氟乙烯颗粒具有25ppb以下的全氟辛酸含量，以抑制当混合在一起的包括聚四氟乙烯颗粒和含有氟原子的分散剂的组分的状态改变时聚四氟乙烯颗粒的分散性的降低；以及
转印装置，该转印装置包括：
中间转印体，该中间转印体具有在其上转印所述色调剂图像的表面；
进行一次转印的一次转印装置，该一次转印涉及将所述感光体的表面上的色调剂图像转印到所述中间转印体的表面上；以及
进行二次转印的二次转印装置，该二次转印涉及将所述中间转印体的表面上的色调剂图像转印到记录介质的表面上，所述二次转印装置具有二次转印构件，该二次转印构件具有十六烷接触角为30度以上的表面。
2.根据权利要求1所述的图像形成设备，其中，所述二次转印构件的表面由包含聚四氟乙烯颗粒和含氟原子的分散剂的树脂层形成。
3.根据权利要求2所述的图像形成设备，其中，所述二次转印构件的所述树脂层相对于所述聚四氟乙烯颗粒具有25ppb以下的全氟辛酸含量。
4.根据权利要求2或3所述的图像形成设备，其中，所述聚四氟乙烯颗粒在所述二次转印构件的表面中暴露的面积比为20％以上且80％以下。
5.根据权利要求1所述的图像形成设备，其中，所述二次转印构件的表面由包含树脂和全氟聚醚的树脂层形成。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的图像形成设备，其中，包含在所述感光体的最外表面层中的所述聚四氟乙烯颗粒的平均粒径为0.2μm以上且4.5μm以下。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的图像形成设备，其中，含有氟原子并包含在所述感光体的最外表面层中的所述分散剂是通过具有氟化烷基的聚合性化合物的均聚或共聚获得的聚合物。
8.根据权利要求7所述的图像形成设备，其中，通过具有氟化烷基的聚合性化合物的均聚或共聚获得的所述聚合物是具有由以下通式(FA)表示的结构单元的含氟化烷基的聚合物或者具有由以下通式(FA)表示的结构单元以及由以下通式(FB)表示的结构单元的含氟化烷基的聚合物
在通式(FA)和(FB)中，RF1、RF2、RF3和RF4各自独立地表示氢原子或烷基；XF1表示亚烷基链、卤素取代的亚烷基链、-S-、-O-、-NH-或单键；YF1表示亚烷基链、卤素取代的亚烷基链、-(CfxH2fx-1(OH))-或单键；QF1表示-O-或-NH-；fl、fm和fn各自独立地表示0或1以上的整数；fp、fq、fr和fs各自独立地表示0或1以上的整数；ft表示1以上且7以下的整数；并且fx表示1以上的整数。
9.一种可拆卸地附接到图像形成设备的处理盒，该处理盒包括：
色调剂图像形成装置，其包括感光体并在所述感光体的表面上形成色调剂图像，所述感光体具有最外表面层，该最外表面层包含聚四氟乙烯颗粒和含有氟原子的分散剂，
并且所述最外表面层相对于所述聚四氟乙烯颗粒具有25ppb以下的全氟辛酸含量，以抑制当混合在一起的包括聚四氟乙烯颗粒和含有氟原子的分散剂的组分的状态改变时聚四氟乙烯颗粒的分散性的降低；以及
转印装置，该转印装置包括：
中间转印体，该中间转印体具有在其上转印所述色调剂图像的表面；
进行一次转印的一次转印装置，该一次转印涉及将所述感光体的表面上的色调剂图像转印到所述中间转印体的表面上；以及
进行二次转印的二次转印装置，该二次转印涉及将所述中间转印体的表面上的色调剂图像转印到记录介质的表面上，所述二次转印装置具有二次转印构件，该二次转印构件具有十六烷接触角为30度以上的表面。
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| CN118421030A (zh) * | 2024-07-05 | 2024-08-02 | 四川大学 | 一种粒子填充聚四氟乙烯复合材料及其制备方法 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103365126A (zh) * | 2012-03-26 | 2013-10-23 | 富士施乐株式会社 | 电子照相感光体、图像形成装置和处理盒 |
| CN106468862A (zh) * | 2015-08-19 | 2017-03-01 | 富士施乐株式会社 | 电子照相感光元件、处理盒和图像形成装置 |
| JP2018101108A (ja) * | 2016-12-21 | 2018-06-28 | キヤノン株式会社 | 電子写真用部材、中間転写体及び電子写真画像形成装置 |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4622393B2 (ja) * | 2004-03-22 | 2011-02-02 | 富士ゼロックス株式会社 | 画像形成装置 |
| JP5434413B2 (ja) * | 2009-09-14 | 2014-03-05 | 富士ゼロックス株式会社 | 静電荷像現像用トナー、静電荷像現像剤、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 |
| JP5531599B2 (ja) * | 2009-12-15 | 2014-06-25 | 富士ゼロックス株式会社 | 静電潜像現像用トナー、静電潜像現像剤、トナーカートリッジ、プロセスカートリッジ及び画像形成装置 |
| JP5445108B2 (ja) * | 2009-12-21 | 2014-03-19 | 株式会社リコー | 電子写真感光体、画像形成方法、画像形成装置及び画像形成装置用プロセスカートリッジ |
| US8647746B2 (en) * | 2011-03-23 | 2014-02-11 | Xerox Corporation | Intermediate transfer member |
| EP3770215A1 (en) * | 2016-08-04 | 2021-01-27 | Daikin Industries, Ltd. | Powder comprising low molecular weight polytetrafluoroethylene and uses thereof |
| JP6465175B2 (ja) * | 2016-08-04 | 2019-02-06 | ダイキン工業株式会社 | 低分子量ポリテトラフルオロエチレンの製造方法、低分子量ポリテトラフルオロエチレン及び粉末 |
-
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Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103365126A (zh) * | 2012-03-26 | 2013-10-23 | 富士施乐株式会社 | 电子照相感光体、图像形成装置和处理盒 |
| CN106468862A (zh) * | 2015-08-19 | 2017-03-01 | 富士施乐株式会社 | 电子照相感光元件、处理盒和图像形成装置 |
| JP2018101108A (ja) * | 2016-12-21 | 2018-06-28 | キヤノン株式会社 | 電子写真用部材、中間転写体及び電子写真画像形成装置 |
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