JP6354252B2 - 画像形成装置、およびプロセスカートリッジ - Google Patents

Description

本発明は、画像形成装置、およびプロセスカートリッジに関する。

電子写真方式の画像形成装置は高速でかつ高印字の品質が得られ、複写機およびレーザービームプリンター等の画像形成装置において利用されている。画像形成装置において用いられる感光体としては、有機の光導電性材料を用いた有機感光体が主流となっている。有機感光体を製造する場合、例えば、アルミニウム基材の上に下引層（中間層と呼ばれる場合もある）を形成し、その後、感光層、特に電荷発生層および電荷輸送層からなる感光層を形成する場合が多い。

近年、電子写真感光体では、機械強度の高い樹脂が使用されており、更に長寿命化も図られている。例えば、特許文献１では、結着樹脂にエポキシ樹脂を用いた感光体が用いられており、特許文献２では、エポキシ樹脂及びエポキシ基を有する電荷輸送性材料が用いられている。また、特許文献３及び４では、保護層にフェノール樹脂及び水酸基を有する電荷輸送性材料が用いられている。

また、特許文献５では、感光体の表面層中にフッ素含有樹脂粒子を分散することにより、感光体表面層の表面エネルギーを低減する方法が提案されている。
さらには、特許文献６には、更なる高耐久化を図るにあたり、感光体表面に不飽和重合性官能基を有した化合物を重合させた保護層中にフッ素含有樹脂粒子を分散することが提案されている。
さらに特許文献７では、感光体を３８０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下の波長で露光し、重量平均粒径６μｍ以下のトナー粒子で現像し、高解像度の画像を得ることが提案されている。

また、特許文献８では、水に対する接触角が９０度以上である表面を有する像保持体に静電潜像を形成し、トナー保持体上にトナー層を形成し、像保持体とトナー保持体とを相互に回動させながら、該トナー層を静電潜像が形成されている像保持体の該表面と接触させ、静電潜像を該トナー層のトナーで現像してトナー像を形成することを特徴とする画像形成方法が開示されている。

特開昭５６−５１７４９号公報 特開平８−２７８６４５号公報 特開２００２−８２４６９号公報 特開２００３−１８６２３４号公報 特開昭６３−２２１３５５号公報 特開２００５−９１５００号公報 特開２００５−７０６４９号公報 特開平８−１９０２６４号公報

本発明は、解像度が高く、ハーフトーン画像の濃度ムラ及び画像流れの発生が抑制される画像形成装置を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため、以下の発明が提供される。
請求項１の発明は、導電性基体、前記導電性基体上に配置された感光層、及び前記感光層上に配置された反応性電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜であり、且つ表面に滑剤が存在する表面保護層を有する電子写真感光体と、前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電装置と、帯電された前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置と、平均形状係数ＳＦ１が１００以上１３０以下、且つ体積平均粒径が４．０μｍ以下のトナー粒子及び前記トナー粒子に付着した滑剤を含む現像剤を収容し、前記静電潜像を前記現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、前記トナー像を被転写媒体に転写する転写装置と、前記トナー像が前記被転写媒体に転写された後の前記電子写真感光体の表面に接触する部分の１００％モジュラスＭが３ＭＰａ以上３３ＭＰａ以下であるクリーニングブレードを有するクリーニング装置と、を備え、前記反応性電荷輸送材料が、反応性基として水酸基を少なくとも３つ有する電荷輸送材料及び反応性基としてメトキシ基を少なくとも３つ有する電荷輸送材料とを含み、前記電子写真感光体の表面保護層の表面に存在する前記滑剤と前記トナー粒子に付着した前記滑剤のうち一方がフッ素を含み、他方がフッ素を含まない画像形成装置である。

請求項２の発明は、前記電子写真感光体の前記表面保護層が、前記滑剤としてのフッ素含有樹脂粒子と、下記構造式Ａ及び構造式Ｂで表される繰り返し単位を有するフッ化アルキル基含有共重合体とを含み、前記トナー粒子に付着した前記滑剤がフッ素を含まない滑剤である請求項１に記載の画像形成装置である。

構造式Ａ及び構造式Ｂ中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。Ｘは、アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−又は単結合を表す。Ｙはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−（Ｃ_ｚＨ_２ｚ−１（ＯＨ））−又は単結合を表す。Ｑは−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。ｌ、ｍ及びｎは、それぞれ独立に１以上の整数を表す。ｐ、ｑ、ｒ及びｓは、それぞれ独立に０または１以上の整数を表す。ｔは、１以上７以下の整数を表す。ｚは１以上の整数を表す。

請求項３の発明は、導電性基体、前記導電性基体上に配置された感光層、及び前記感光層上に配置された反応性電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜であり、且つ表面に滑剤が存在する表面保護層を有する電子写真感光体と、平均形状係数ＳＦ１が１００以上１３０以下、且つ体積平均粒径が４．０μｍ以下のトナー粒子及び前記トナー粒子に付着した滑剤を含む現像剤を収容し、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を前記現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、前記トナー像が被転写媒体に転写された後の前記電子写真感光体の表面に接触する部分の１００％モジュラスＭが３ＭＰａ以上３３ＭＰａ以下であるクリーニングブレードを有するクリーニング装置と、を備え、前記反応性電荷輸送材料が、反応性基として水酸基を少なくとも３つ有する電荷輸送材料及び反応性基としてメトキシ基を少なくとも３つ有する電荷輸送材料とを含み、前記電子写真感光体の表面保護層の表面に存在する前記滑剤と前記トナー粒子に付着した前記滑剤のうち一方がフッ素を含み、他方がフッ素を含まないプロセスカートリッジである。

請求項４の発明は、前記電子写真感光体の前記表面保護層が、前記滑剤としてのフッ素含有樹脂粒子と、下記構造式Ａ及び構造式Ｂで表される繰り返し単位を有するフッ化アルキル基含有共重合体とを含み、前記トナー粒子に付着した前記滑剤がフッ素を含まない滑剤である請求項３に記載のプロセスカートリッジである。

構造式Ａ及び構造式Ｂ中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。Ｘは、アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−又は単結合を表す。Ｙはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−（Ｃ_ｚＨ_２ｚ−１（ＯＨ））−又は単結合を表す。Ｑは−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。ｌ、ｍ及びｎは、それぞれ独立に１以上の整数を表す。ｐ、ｑ、ｒ及びｓは、それぞれ独立に０または１以上の整数を表す。ｔは、１以上７以下の整数を表す。ｚは１以上の整数を表す。

請求項１に係る発明によれば、平均形状係数ＳＦ１が１００以上１３０以下、且つ体積平均粒径が４．０μｍ以下のトナー粒子を含む現像剤によりトナー像を形成する場合に、トナー像が被転写媒体に転写された後の電子写真感光体の表面にクリーニングブレードが接触する部分の１００％モジュラスＭが３ＭＰａ以上３３ＭＰａ以下の範囲外である場合、又は、電子写真感光体の表面保護層の表面に存在する滑剤とトナー粒子に付着している滑剤とが共にフッ素を含む場合又は共にフッ素を含まない場合に比べ、解像度が高く、ハーフトーン画像の濃度ムラ及び画像流れの発生が抑制される画像形成装置が提供される。また、請求項１に係る発明によれば、表面保護層に含まれる反応性電荷輸送材料が、反応性基として−ＮＨ _２ 、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを有する反応性電荷輸送材料である場合に比べ、解像度が高く、ハーフトーン画像の濃度ムラ及び画像流れの発生が抑制される画像形成装置が提供される。

請求項２に係る発明によれば、電子写真感光体の表面保護層が滑剤としてフッ素含有樹脂粒子を含まず、トナー粒子に付着した滑剤がフッ素を含む滑剤である場合に比べ、ハーフトーン画像の濃度ムラ及び画像流れの発生が抑制される画像形成装置が提供される。

請求項３に係る発明によれば、平均形状係数ＳＦ１が１００以上１３０以下、且つ体積平均粒径が４．０μｍ以下のトナー粒子を含む現像剤によりトナー像を形成する場合に、トナー像が被転写媒体に転写された後の電子写真感光体の表面にクリーニングブレードが接触する部分の１００％モジュラスＭが３ＭＰａ以上３３ＭＰａ以下の範囲外である場合、又は、電子写真感光体の表面保護層の表面に存在する滑剤とトナー粒子に付着している滑剤とが共にフッ素を含む場合又は共にフッ素を含まない場合に比べ、解像度が高く、ハーフトーン画像の濃度ムラ及び画像流れの発生が抑制されるプロセスカートリッジが提供される。また、請求項３に係る発明によれば、表面保護層に含まれる反応性電荷輸送材料が、反応性基として−ＮＨ _２ 、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを有する反応性電荷輸送材料である場合に比べ、解像度が高く、ハーフトーン画像の濃度ムラ及び画像流れの発生が抑制されるプロセスカートリッジが提供される。

請求項４に係る発明によれば、電子写真感光体の表面保護層が滑剤としてフッ素含有樹脂粒子を含まず、トナー粒子に付着した滑剤がフッ素を含む滑剤である場合に比べ、解像度が高く、ハーフトーン画像の濃度ムラ及び画像流れの発生が抑制されるプロセスカートリッジが提供される。

本実施形態に係る画像形成装置の構成の一例を示す概略図である。 本実施形態における電子写真感光体の層構成の一例を示す概略図である。 本実施形態に係る画像形成装置の構成の他の例を示す概略図である。

以下、本発明の一例である実施形態について説明する。

本実施形態に係る画像形成装置は、導電性基体、前記導電性基体上に配置された感光層、及び前記感光層上に配置された反応性電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜であり、且つ表面に滑剤が存在する表面保護層を有する電子写真感光体と、前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電装置と、帯電された前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置と、平均形状係数ＳＦ１が１００以上１３０以下、且つ体積平均粒径が４．０μｍ以下のトナー粒子及び前記トナー粒子に付着した滑剤を含む現像剤を収容し、前記静電潜像を前記現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、前記トナー像を被転写媒体に転写する転写装置と、前記トナー像が前記被転写媒体に転写された後の前記電子写真感光体の表面に接触する部分の１００％モジュラスＭが３ＭＰａ以上３３ＭＰａ以下であるクリーニングブレードを有するクリーニング装置と、を備え、前記電子写真感光体の表面保護層の表面に存在する前記滑剤と前記トナー粒子に付着した前記滑剤のうち一方がフッ素を含み、他方がフッ素を含まない構成を有する。

上記のような小径（体積平均粒径が４μｍ以下）の球状に近いトナーを用いることで解像度が高い画像が得られる。
一方、濃度ムラが抑制され、かつ画像流れの発生が抑制される理由は定かでないが、以下のように推測される。
高画質化を目的として小径トナーを用いると、トナーの帯電量が小さいため、電子写真感光体（以下、「感光体」と称する場合がある。）から被転写媒体に転写する際に転写性が低下する。転写性を改善するため、例えば感光体の表面やトナーに滑剤を添加することが考えられるが、特にハーフトーン画像を連続して形成すると濃度ムラや像流れが生じやすい。
本発明者が研究を重ねたところ、感光体の表面における滑剤とトナーに含まれる滑剤（外添剤）が馴染んで相互作用により画像流れが生じやすいと考えられるが、本実施形態では、感光体の表面における滑剤とトナー粒子に含まれる滑剤の一方がフッ素を含み、他方がフッ素を含まないことで滑剤同士の相互作用が抑制され、小径トナーを用いても濃度ムラが生じ難いと考えられる。
また、感光体の表面に接触するクリーニングブレードの硬度が特定の範囲内にあることで電子写真感光体の表面に残留する小径トナーが効率良く除去されて画像流れが抑制されると考えられる。

以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る画像形成装置について詳細に説明する。
なお、以下の説明では、電子写真感光体の表面保護層が滑剤としてフッ素含有樹脂粒子を含むことで表面に滑剤が存在し、トナー粒子に付着した滑剤（外添剤）がフッ素を含有しない場合について主に説明する。

図１は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図１に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。

図１におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。
なお、図１には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。

また、トナー像を転写した後の電子写真感光体７の表面に残留するトナーを清掃するクリーニング装置１３が配置されている。なお、トナー像を転写した後に残留する電荷を除去する除電装置（イレーズ装置）を配置してもよい。

−電子写真感光体−
図２は、本実施形態に係る感光体の層構成の一例を示す概略図である。本実施形態に係る感光体７Ａは、導電性基体４と、導電性基体４の上に、下引層１と、電荷発生層２と、電荷輸送層３と、表面保護層５と、がこの順に積層されている。

尚、下引層２は必要に応じて設けられる層であり、下引層２と電荷発生層２との間に別途中間層を設けてもよい。また、電荷発生層２と電荷輸送層３は、単層の感光層として設けてもよい。

電子写真感光体の各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する場合がある。

（導電性基体）
導電性基体４としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０^１３Ωｃｍ未満であることをいう。

導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。

粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。

粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。

陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。

陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。

導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。

ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。

（下引層）
下引層１は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。

無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０^２Ωｃｍ以上１０^１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。

無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ^２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。

無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。

無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。

表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。

アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。

表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。

ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。

電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。

以下、好ましい電子受容性化合物としてアントラキノン構造を有する化合物の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。なお、下記具体例においては「例示化合物」と称し、例えば下記（１−１）の化合物であれば「例示化合物（１−１）」と称す。

電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。

電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着せる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。

乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。

湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。

なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。

電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。

下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。

これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。

下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。

添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。

ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。

チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。

アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。

これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。

下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。

下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。

下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。

下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。

下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。

下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。

（中間層）
図示は省略するが、下引き層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。

これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。

中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。

中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。

（電荷発生層）
電荷発生層２は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。

電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。

これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。

一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。

４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長があるＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を２０μｍ以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基材からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のｐ−型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。

これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のｎ−型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。ｎ−型の電荷発生材料としては、例えば、特開２０１２−１５５２８２号公報の段落［０２８８］〜［０２９１］に記載された化合物（ＣＧ−１）〜（ＣＧ−２７）が挙げられるがこれに限られるものではない。
なお、ｎ−型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ−型とする。

電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、結着樹脂としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０^１３Ωｃｍ以上であることをいう。
これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。

なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが好ましい。

電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。

電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。

電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。

電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。

電荷発生層形成用塗布液を下引層上（又は中間層上）に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。

電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内に設定される。

（電荷輸送層）
電荷輸送層３は、例えば、電荷輸送材料と結着樹脂とを含む層である。電荷輸送層は、高分子電荷輸送材料を含む層であってもよい。

電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。電荷輸送材料としては、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上で用いられるが、これらに限定されるものではない。

電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が好ましい。

構造式（ａ−１）中、Ａｒ^Ｔ１、Ａｒ^Ｔ２、及びＡｒ^Ｔ３は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｃ（Ｒ^Ｔ４）＝Ｃ（Ｒ^Ｔ５）（Ｒ^Ｔ６）、又は−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｔ７）（Ｒ^Ｔ８）を示す。Ｒ^Ｔ４、Ｒ^Ｔ５、Ｒ^Ｔ６、Ｒ^Ｔ７、及びＲ^Ｔ８は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。

構造式（ａ−２）中、Ｒ^Ｔ９１及びＲ^Ｔ９２は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。Ｒ^Ｔ１０１、Ｒ^Ｔ１０２、Ｒ^Ｔ１１１及びＲ^Ｔ１１２は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ^Ｔ１２）＝Ｃ（Ｒ^Ｔ１３）（Ｒ^Ｔ１４）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｔ１５）（Ｒ^Ｔ１６）を示し、Ｒ^Ｔ１２、Ｒ^Ｔ１３、Ｒ^Ｔ１４、Ｒ^Ｔ１５及びＲ^Ｔ１６は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｎ１及びＴｎ２は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。

ここで、構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｔ７）（Ｒ^Ｔ８）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^Ｔ１５）（Ｒ^Ｔ１６）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。

高分子電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材は特に好ましい。なお、高分子電荷輸送材料は、単独で使用してよいが、結着樹脂と併用してもよい。

電荷輸送層に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの中でも、結着樹脂としては、ポリカーボネート樹脂又はポリアリレート樹脂が好適である。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上で用いる。
なお、電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は、質量比で１０：１から１：５までが好ましい。

電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。

電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。

電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。

電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。

電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下の範囲内に設定される。

（表面保護層）
表面保護層５は、電子写真感光体７における最表面層であり、電荷発生層２及び電荷輸送層３から構成される感光層を保護するために別途設けられた層である。表面保護層５を有することで、感光体の最表面に、磨耗、傷などに対する耐性を持たせ、且つトナーの転写効率を向上させうる。

本実施形態における表面保護層５は、反応性電荷輸送材料を含む組成物により形成された硬化膜であり、表面に滑剤が存在する。
表面保護層の表面に存在する滑剤は、表面保護層を形成した後に表面に付着させてもよいし、表面保護層を形成する塗布液に滑剤を添加して表面保護層を形成して表面に露出させてもよい。以下、滑剤として表面保護層がフッ素含有樹脂粒子を含む場合について主に説明する。

表面保護層は、反応性電荷輸送材料、滑剤としてのフッ素含有樹脂粒子、並びに後述する構造式Ａ及び構造式Ｂで表される繰り返し単位を有するフッ化アルキル基含有共重合体を含む組成物を硬化させて形成されていることが望ましく、更に、グアナミン構造を有する化合物（以下、「グアナミン化合物」と称する場合がある。）およびメラミン構造を有する化合物（以下、「メラミン化合物」と称する場合がある。）から選択される少なくとも１種を含む組成物を硬化させて形成されていることがより望ましい。
本実施形態における表面保護層は、フッ素含有樹脂粒子を含有することでブレードとの摩擦力が軽減され、さらに電子写真感光体の摩耗を大きく抑制することが可能となる。

反応性電荷輸送材料は、−ＯＨ、−ＯＣＨ_３、−ＮＨ_２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基の少なくとも１つを持つものが挙げられる。特に、反応性電荷輸送材料としては、−ＯＨ、−ＯＣＨ_３、−ＮＨ_２、−ＳＨ、及び−ＣＯＯＨから選択される置換基を少なくとも２つ（さらには３つ）持つものが好適に挙げられる。反応性電荷輸送材料に反応性官能基（当該置換基）が増えることで、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜が得られ、電子写真感光体の磨耗が抑制される。

なお、反応性電荷輸送材料は、反応性基としてメトキシ基を有する電荷輸送材料及び反応性基として水酸基を有する電荷輸送材料から選択される少なくとも１種であることが望ましい。

反応性電荷輸送材料としては、下記一般式（Ｉ）で示される化合物であることが望ましい。
Ｆ−((−Ｒ_１−Ｘ)_ｎ１（Ｒ_２）_ｎ２−Ｙ)_ｎ３ (Ｉ)
一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Ｒ_１及びＲ_２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を示し、ｎ１は０又は１を示し、ｎ２は０又は１を示し、ｎ３は１以上４以下の整数を示す。Ｘは酸素、ＮＨ、又は硫黄原子を示し、Ｙは−ＯＨ、−ＯＣＨ_３、−ＮＨ_２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。
一般式（Ｉ）中、Ｆを示す正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基における正孔輸送能を有する化合物としては、アリールアミン誘導体が好適に挙げられる。アリールアミン誘導体としては、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体が好適に挙げられる。
そして、一般式（Ｉ）で示される化合物は、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物であることが望ましい。一般式（ＩＩ）で示される化合物は、特に、電荷移動度、酸化などに対する安定性等に優れる。

一般式（ＩＩ）中、Ａｒ^１乃至Ａｒ^４は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ^５は置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−（−Ｒ_１−Ｘ）_ｎ１（Ｒ_２）_ｎ２−Ｙを示し、ｃはそれぞれ独立に０又は１を示し、ｋは０又は１を示し、Ｄの総数は１以上４以下である。また、Ｒ_１及びＲ_２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基を示し、ｎ１は０又は１を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｘは酸素、ＮＨ、又は硫黄原子を示し、Ｙは−ＯＨ、−ＯＣＨ_３、−ＮＨ_２、−ＳＨ、又は−ＣＯＯＨを示す。

一般式（ＩＩ）中、Ｄを示す「−(−Ｒ_１−Ｘ)_ｎ１（Ｒ_２）_ｎ２−Ｙ」は、一般式（Ｉ）と同様であり、Ｒ_１及びＲ_２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキレン基である。また、ｎ１として望ましくは、１である。また、ｎ２として望ましくは、１である。また、Ｘとして望ましくは、酸素である。また、Ｙとして望ましくは水酸基である。

なお、一般式（ＩＩ）におけるＤの総数は、一般式（Ｉ）におけるｎ３に相当し、望ましくは、２以上４以下であり、さらに望ましくは３以上４以下である。つまり、一般式（Ｉ）や一般式（ＩＩ）において、Ｄの総数を、望ましくは一分子中に２以上４以下、さらに望ましくは３以上４以下とすると、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜が得られ、特にブレードクリーナーを用いた際の電子写真感光体の回転トルクが低減され、ブレードへのダメージの抑制や、電子写真感光体の磨耗が抑制される。この詳細は不明であるが、反応性官能基の数が増すことで、架橋密度の高い硬化膜が得られ、電子写真感光体の極表面の分子運動が抑制されてブレード部材表面分子との相互作用が弱まるためと推測される。

一般式（ＩＩ）中、Ａｒ^１乃至Ａｒ^４としては、下記式（１）乃至（７）のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記式（１）乃至（７）は、Ａｒ^１乃至Ａｒ^４の各々に連結され得る「−（Ｄ）_Ｃ１」乃至「−（Ｄ）_Ｃ４」を総括的に示した「−（Ｄ）_Ｃ」と共に示す。

式（１）乃至（７）中、Ｒ^９は水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｒ^１０乃至Ｒ^１２はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表し、Ｄ及びｃは一般式（ＩＩ）における「Ｄ」、「ｃ」と同様であり、ｓはそれぞれ０又は１を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記式（８）又は（９）で表されるものが望ましい。

式（８）、（９）中、Ｒ^１３及びＲ^１４はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。
また、式（７）中のＺ’としては、下記式（１０）乃至（１７）のうちのいずれかで表されるものが望ましい。

式（１０）乃至（１７）中、Ｒ^１５及びＲ^１６はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑ及びｒはそれぞれ１以上１０以下の整数を表し、ｔはそれぞれ１以上３以下の整数を表す。
上記式（１６）乃至（１７）中のＷとしては、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。

また、一般式（ＩＩ）中、Ａｒ^５は、ｋが０のときはＡｒ^１乃至Ａｒ^４の説明で例示された上記（１）乃至（７）のアリール基であり、ｋが１のときはかかる上記（１）乃至（７）のアリール基から水素原子を除いたアリーレン基である。
一般式（Ｉ）で示される化合物の具体例としては、以下に示す化合物Ｉ−１乃至Ｉ−３４が挙げられる。なお、上記一般式（Ｉ）で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。

上記反応性電荷輸送材料の前記組成物における固形分濃度は、フッ素含有樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を除いた場合において８０質量％以上であることが望ましく、より望ましくは９０質量％以上であり、更に望ましくは９５質量％以上である。この固形分濃度は、上記範囲内にあることで、感光体外部から電気的或いは機械的なストレスが、感光体に付与された場合における耐性がより高まる。

次に、フッ素含有樹脂粒子について説明する。
フッ素含有樹脂粒子としては、特に限定されるものではないが、例えばポリテトラフルオロエチレン、ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、ポリジクロロジフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、またはテトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体等の粒子が挙げられる。
フッ素含有樹脂粒子は、１種を単独でまたは２種以上を併用してもよい。

フッ素含有樹脂粒子を構成するフッ素樹脂の重量平均分子量は、例えば、３０００以上５００万以下がよい。

フッ素含有樹脂粒子の平均一次粒径は、例えば、０．０１μｍ以上１０μｍ以下であることがよく、望ましくは０．０５μｍ以上２．０μｍ以下である。
なお、フッ素含有樹脂粒子の平均一次粒径はは、レーザー回折式粒度分布測定装置ＬＡ−７００（堀場製作所製）を用いて、フッ素含有樹脂粒子が分散された分散液と同じ溶剤に希釈した測定液を屈折率１．３５で測定した値をいう。

フッ素含有樹脂粒子の市販品としては、例えば、ルブロンシリーズ（ダイキン工業株式会社製）、テフロン（登録商標）シリーズ（デュポン社製）、ダイニオンシリーズ（住友３Ｍ社製）等が挙げられる。

表面保護層におけるフッ素樹脂粒子の含有量は、例えば、層全構成成分（固形分）に対して、１質量％以上３０質量％以下がよく、望ましくは２質量％以上２０質量％以下である。

次に、フッ化アルキル基含有共重合体について説明する。
フッ化アルキル基含有共重合体は、下記構造式Ａ及び構造式Ｂで表される繰り返し単位を持つフッ化アルキル基含有共重合体が挙げられる。

構造式Ａ及び構造式Ｂ中、
Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。
Ｘは、アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−又は単結合を表す。
Ｙはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−（Ｃ_ｚＨ_２ｚ−１（ＯＨ））−又は単結合を表す。
Ｑは−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。
ｌ、ｍ及びｎは、それぞれ独立に１以上の整数を表す。
ｐ、ｑ、ｒ及びｓは、それぞれ独立に０または１以上の整数を表す。
ｔは、１以上７以下の整数を表す。
ｚは１以上の整数を表す。

ここで、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４を表す基としては、水素原子、メチル基、エチル基が望ましく、これらの中でもメチル基がさらに望ましい。
Ｘ及びＹを表すアルキレン鎖（未置換アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖）としては、炭素数１以上１０以下のアルキレン鎖が望ましい。
Ｙを表す−（Ｃ_ｚＨ_２ｚ−１（ＯＨ））−中のｚは、ｚは１以上１０以下の整数を表すことがよい。
ｐ、ｑ、ｒ及びｓは、それぞれ独立に０または１以上１０以下の整数を表すことがよい。

フッ化アルキル基含有共重合体において、構造式（Ａ）と構造式（Ｂ）との含有比即ちｌ：ｍは、１：９乃至９：１が望ましく、３：７乃至７：３がさらに望ましい。

構造式（Ａ）及び構造式（Ｂ）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４としては、水素原子、メチル基が望ましく、これらの中でもメチル基がさらに望ましい。

フッ化アルキル基含有共重合体は、構造式（Ｃ）で表される繰り返し単位をさらに含んでもよい。構造式（Ｃ）の含有量は、構造式（Ａ）及び構造式（Ｂ）の含有量の合計即ちｌ＋ｍとの比で、ｌ＋ｍ：ｚとして１０：０乃至７：３が望ましく、９：１乃至７：３がさらに望ましい。

構造式（Ｃ）中、Ｒ^５及びＲ^６は水素原子またはアルキル基を表す。ｚは１以上の整数を表す。
Ｒ^５、Ｒ^６を表す基としては、水素原子、メチル基、エチル基が望ましく、これらの中でもメチル基がさらに望ましい。

フッ化アルキル基含有共重合体の市販品としては、例えば、ＧＦ３００、ＧＦ４００（東亞合成社製）、サーフロンシリーズ（ＡＧＣセイミケキカル社製）、フタージェントシリーズ（ネオス社製）、ＰＦシリーズ（北村化学社製）、メガファックシリーズ（ＤＩＣ製）、ＦＣシリーズ（３Ｍ製）等が挙げられる。
なお、フッ化アルキル基含有共重合体は、１種を単独でまたは２種以上を併用してもよい。

フッ化アルキル基含有共重合体の重量平均分子量は、例えば、２０００以上２５００００以下がよく、望ましくは３０００以上１５００００以下である。
フッ化アルキル基含有共重合体の重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定される。

フッ化アルキル基含有共重合体の含有量は、例えば、フッ素含有樹脂粒子の質量に対して０．５質量％以上１０質量％以下がよく、望ましくは１質量％以上７質量％以下である。

次に、グアナミン化合物について説明する。
グアナミン化合物は、グアナミン骨格（構造）を有する化合物であり、例えば、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、ホルモグアナミン、ステログアナミン、スピログアナミン、シクロヘキシルグアナミンなどが挙げられる。

グアナミン化合物としては、特に下記一般式（Ａ）で示される化合物及びその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ａ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。なお、一般式（Ａ）で示される化合物は、１種単独で用いもよいが、２種以上を併用してもよい。特に、一般式（Ａ）で示される化合物は、２種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体（オリゴマー）として用いたりすると、溶剤に対する溶解性が向上する。

一般式（Ａ）中、Ｒ_１は、炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基、炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基、又は炭素数４以上１０以下の置換若しくは未置換の脂環式炭化水素基を示す。Ｒ_２からＲ_５は、それぞれ独立に水素、−ＣＨ_２−ＯＨ、又は−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ_６を示す。Ｒ_６は、炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分岐状のアルキル基を示す。
一般式（Ａ）において、Ｒ_１を示すアルキル基は、炭素数が１以上１０以下であるが、望ましくは炭素数が１以下８以上であり、より望ましくは炭素数が１以上５以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分岐状であってもよい。
一般式（Ａ）中、Ｒ_１を示すフェニル基は、炭素数が６以上１０以下であるが、より望ましくは６以上８以下である。当該フェニル基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。
一般式（Ａ）中、Ｒ_１を示す脂環式炭化水素基は、炭素数４以上１０以下であるが、より望ましくは５以上８以下である。当該脂環式炭化水素基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。
一般式（Ａ）中、Ｒ_２からＲ_５を示す「−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ_６」において、Ｒ_６を示すアルキル基は、炭素数が１以上１０以下であるが、望ましくは炭素数が１以下８以下であり、より望ましくは炭素数が１以上６以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分岐状であってもよい。望ましくは、メチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。

一般式（Ａ）で示される化合物としては、特に望ましくは、Ｒ_１が炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基を示し、Ｒ_２からＲ_５がそれぞれ独立に−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ_６を示す化合物である。また、Ｒ_６は、メチル基又はｎ−ブチル基から選ばれることが望ましい。
一般式（Ａ）で示される化合物は、例えば、グアナミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、日本化学会編、実験化学講座第４版、２８巻、４３０ページ）で合成される。
以下、一般式（Ａ）で示される化合物の具体例として例示化合物：（Ａ）−１から例示化合物：（Ａ）−４２を示すが、本実施形態はこれらに限られるわけではない。また、以下の具体例は単量体であるが、これら単量体を構造単位とする多量体（オリゴマー）であってもよい。尚、以下の例示化合物において、「Ｍｅ」はメチル基を、「Ｂｕ」はブチル基を、「Ｐｈ」はフェニル基をそれぞれ示す。

また、一般式（Ａ）で示される化合物の市販品としては、例えば、スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４８−５５、スーパーベッカミン（Ｒ）１３−５３５、スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４５−６０、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１２６（以上ＤＩＣ社製）、ニカラックＢＬ−６０、ニカラックＢＸ−４０００（以上日本カーバイド社製）、などが挙げられる。
また、一般式（Ａ）で示される化合物（多量体を含む）は、合成後又は市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。

次に、メラミン化合物について説明する。
メラミン化合物としては、メラミン骨格（構造）であり、特に下記一般式（Ｂ）で示される化合物及びその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ａ）と同様に、一般式（Ｂ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。なお、一般式（Ｂ）で示される化合物又はその多量体は、１種単独で用いてもよいし２種以上を併用してもよい。また、前記一般式（Ａ）で示される化合物又はその多量体と併用してもよい。特に、一般式（Ｂ）で示される化合物は、２種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体（オリゴマー）として用いたりすると、溶剤に対する溶解性が向上する。

一般式（Ｂ）中、Ｒ^６からＲ^１１はそれぞれ独立に、水素原子、−ＣＨ_２−ＯＨ、−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^１２、−Ｏ−Ｒ^１２を示し、Ｒ^１２は炭素数１以上５以下の分岐してもよいアルキル基を示す。当該アルキル基としてはメチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。
一般式（Ｂ）で示される化合物は、例えば、メラミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法で合成される（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０ページのメラミン樹脂と同様に合成される）。
以下、一般式（Ｂ）で示される化合物の具体例として例示化合物：（Ｂ）−１から例示化合物：（Ｂ）−８を示すが、本実施形態はこれらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体のものを示すが、これらを構造単位とする多量体（オリゴマー）であってもよい。

一般式（Ｂ）で示される化合物の市販品としては、例えば、スーパーメラミＮｏ．９０（日油社製）、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１３９−６０（ＤＩＣ社製）、ユーバン２０２０（三井化学社製）、スミテックスレジンＭ−３（住友化学工業社製）、ニカラックＭＷ−３０（日本カーバイド社製）、などが挙げられる。

また、一般式（Ｂ）で示される化合物（多量体を含む）は、合成後又は市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。

ここで、グアナミン化合物（一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（一般式（Ｂ）で示される化合物）から選択される少なくとも１種の含有量（塗布液における固形分濃度）は、例えば、フッ素含有樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を除く層全構成成分（固形分）に対して、０．１質量％以上５質量％以下であることがよく、望ましくは１質量％以上３質量％以下であることがよい。この固形分濃度が、０．１質量％未満であると、緻密な膜となりにくいため十分な強度が得られ難く、５質量％を超えると電気特性や耐ゴースト（画像履歴による濃度ムラ）性が悪化することがある。

〔その他の成分〕
表面保護層５には、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アルキッド樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの熱硬化性樹脂を用いてもよい。また、スピロアセタール系グアナミン樹脂（例えば「ＣＴＵ−グアナミン」（味の素ファインテクノ（株）））など、一分子中の官能基のより多い化合物を当該架橋物中の材料に共重合させてもよい。

また、表面保護層５には界面活性剤を添加してもよい。用いる界面活性剤としては、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造のうち少なくとも一種類以上の構造を含む界面活性剤が好適に挙げられる。

表面保護層５には、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系またはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては２０質量％以下が望ましく、１０質量％以下がより望ましい。

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。

表面保護層５には、前記電荷輸送材料や前記グアナミン化合物およびメラミン化合物の硬化を促進するための硬化触媒を含有させてもよい。硬化触媒として酸系の触媒が望ましく用いられる。酸系の触媒としては、酢酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、マレイン酸、マロン酸、乳酸などの脂肪族カルボン酸、安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸などの芳香族カルボン酸、メタンスルホン酸、ドデシルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、などの脂肪族、および芳香族スルホン酸類などが用いられるが、含硫黄系材料を用いることが望ましい。

硬化触媒としての含硫黄系材料は、常温（例えば２５℃）、または加熱後に酸性を示すものが望ましく、有機スルホン酸およびその誘導体の少なくとも１種が最も望ましい。表面保護層５中にこれら触媒の存在は、エネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＳ）、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）等により容易に確認される。

有機スルホン酸および／またはその誘導体としては、例えば、パラトルエンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸（ＤＮＮＳＡ）、ジノニルナフタレンジスルホン酸（ＤＮＮＤＳＡ）、ドデシルベンゼンスルホン酸、フェノールスルホン酸等が挙げられる。これらの中でも、パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸が望ましい。また、硬化性樹脂組成物中で、解離し得るものであれば、有機スルホン酸塩を用いてもよい。

また、熱をかけた際に触媒能力が高くなる、所謂熱潜在性触媒を用いてもよい。
熱潜在性触媒として、たとえば有機スルホン化合物等をポリマーで粒子状に包んだマイクロカプセル、ゼオライトの如く空孔化合物に酸等を吸着させたもの、プロトン酸および／またはプロトン酸誘導体を塩基でブロックした熱潜在性プロトン酸触媒や、プロトン酸および／またはプロトン酸誘導体を一級もしくは二級のアルコールでエステル化したもの、プロトン酸および／またはプロトン酸誘導体をビニルエーテル類および／またはビニルチオエーテル類でブロックしたもの、三フッ化ホウ素のモノエチルアミン錯体、三フッ化ホウ素のピリジン錯体などが挙げられる。

中でも、プロトン酸および／またはプロトン酸誘導体を塩基でブロックしたものが望ましい。
熱潜在性プロトン酸触媒のプロトン酸として、硫酸、塩酸、酢酸、ギ酸、硝酸、リン酸、スルホン酸、モノカルボン酸、ポリカルボン酸類、プロピオン酸、シュウ酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フタル酸、マレイン酸、ベンゼンスルホン酸、ｏ、ｍ、ｐ−トルエンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ウンデシルベンゼンスルホン酸、トリデシルベンゼンスルホン酸、テトラデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等が挙げられる。また、プロトン酸誘導体として、スルホン酸、リン酸等のプロトン酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属円などの中和物、プロトン酸骨格が高分子鎖中に導入された高分子化合物（ポリビニルスルホン酸等）等が挙げられる。プロトン酸をブロックする塩基として、アミン類が挙げられる。

アミン類は、１級、２級または３級アミンに分類される。特に制限はなく、いずれも使用してもよい。

１級アミンとして、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、セカンダリーブチルアミン、アリルアミン、メチルヘキシルアミン等が挙げられる。

２級アミンとして、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジｎ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジｔ−ブチルアミン、ジヘキシルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、Ｎ−イソプロピルＮ−イソブチルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、ジセカンダリーブチルアミン、ジアリルアミン、Ｎ−メチルヘキシルアミン、３−ピペコリン、４−ピペコリン、２，４−ルペチジン、２，６−ルペチジン、３，５−ルペチジン、モルホリン、Ｎ−メチルベンジルアミン等が挙げられる。

３級アミンとして、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリｎ−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリｔ−ブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリ（２−エチルヘキシル）アミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ−メチルジアリルアミン、トリアリルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，２−ジアミノエタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，３−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラアリル−１，４−ジアミノブタン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン、４−エチルピリジン、Ｎ−プロピルジアリルアミン、３−ジメチルアミノプロパノ−ル、２−エチルピラジン、２，３−ジメチルピラジン、２，５−ジメチルピラジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジン、２，４，６−コリジン、２−メチル−４−エチルピリジン、２−メチル−５−エチルピリジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ −テトラメチルヘキサメチレンジアミン、Ｎ−エチル−３−ヒドロキシピペリジン、３−メチル−４−エチルピリジン、３−エチル−４−メチルピリジン、４−（５−ノニル）ピリジン、イミダゾ−ル、Ｎ−メチルピペラジン等が挙げられる。

市販品としては、キングインダストリーズ社製の「ＮＡＣＵＲＥ２５０１」（トルエンスルホン酸解離、メタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．２以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２１０７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ８．０以上ｐＨ９．０以下、解離温度９０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５００」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．０以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５３０」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、メタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ５．７以上ｐＨ６．５以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５４７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、水溶液、ｐＨ８．０以上ｐＨ９．０以下、解離温度１０７℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５５８」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、エチレングリコール溶媒、ｐＨ３．５以上ｐＨ４．５以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３５７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、メタノール溶媒、ｐＨ２．０以上ｐＨ４．０以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３８６」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、水溶液、ｐＨ６．１以上ｐＨ６．４以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＣ−２２１１」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、ｐＨ７．２以上ｐＨ８．５以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５２２５」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．０以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５４１４」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５５２８」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．０以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５９２５」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、ｐＨ７．０以上ｐＨ７．５以下、解離温度１３０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１３２３」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン溶媒、ｐＨ６．８以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１４１９」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン／メチルイソブチルケトン溶媒、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１５５７」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、ブタノール／２−ブトキシエタノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸ４９−１１０」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度９０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ３５２５」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．５以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３８３」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ３３２７」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ４１６７」（リン酸解離、イソプロパノール／イソブタノール溶媒、ｐＨ６．８以上ｐＨ７．３以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−２９７」（リン酸解離、水／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度９０℃、「ＮＡＣＵＲＥ４５７５」（リン酸解離、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．０以下、解離温度１１０℃）等が挙げられる。
これらの熱潜在性触媒は単独または二種類以上組み合わせても使用される。

ここで、触媒の配合量は、塗布液におけるフッ素含有樹脂を除いた全固形分に対し、０．１質量％以上１０質量％以下の範囲であることが望ましく、特に０．１質量％以上５質量％以下が望ましい。

〔表面保護層の形成方法〕
表面保護層５は、溶媒中に前述の各成分を含む表面保護層形成用の塗布液を準備し、該塗布液を塗布して塗布膜を形成する塗布工程と、前記塗布膜を加熱して少なくとも電荷輸送材料を縮合重合して重合体を形成させ且つ乾燥させて溶媒を除去する加熱工程と、を経て形成される。

尚、表面保護層形成用塗布液に用いられる溶媒としては、例えばシクロブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン等の環状脂肪族ケトン化合物；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シクロペンタノール等の環状或いは直鎖状アルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等の直鎖状ケトン類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状或いは直鎖状エーテル類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒等が挙げられる。溶媒は１種を単独で使用しても２種以上を混合して使用してもよい。

前記加熱工程においては、例えば温度１００℃以上１７０℃以下で３０分以上６０分以下加熱することで前述の反応性基を有する電荷輸送材料が縮合重合され、更に前述のグアナミン化合物やメラミン化合物を添加した場合であれば架橋重合が進行することで重合体が形成され、且つ溶媒が除去されて表面保護層５が得られる。

表面保護層５の膜厚は３μｍ以上４０μｍ以下が望ましく、５μｍ以上３５μｍ以下とするのがさらに望ましい。

（単層型の感光層）
単層型の感光層（電荷発生／電荷輸送層）は、例えば、結着樹脂、電荷発生材料、電荷輸送材料を含んで構成される。これら材料については、電荷発生層や電荷輸送層で説明したものが好適に挙げられる。
単層型の感光層において、電荷発生材料の含有量は１０質量％以上８５質量％以下程度が望ましく、より望ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。また、電荷輸送材料の含有量は５質量％以上５０質量％以下とすることが望ましい。
単層型の感光層の形成方法は、電荷発生層や電荷輸送層の形成方法が適用される。単層型感光層の厚さは５μｍ以上５０μｍ以下程度が望ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下とするのがさらに望ましい。

（その他）
本実施形態に係る電子写真感光体において、感光層や表面保護層には、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、又は光・熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤などの添加剤を添加してもよい。
また、感光層や表面保護層には、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として少なくとも１種の電子受容性物質を添加してもよい。
また、感光層や表面保護層には、各層を形成する塗布液にレベリング剤としてシリコーンオイルを添加し、塗膜の膜厚ムラを抑制してもよい。

−帯電装置−
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。

−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。

−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。

以下、現像装置１１に使用される現像剤について説明する。
現像剤は、トナー単独の一成分現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分現像剤であってもよい。

トナーは、高解像度の画像を得る観点から、現像性及び転写性に優れる球状小径トナーが適用される。
具体的には、トナーの平均形状係数ＳＦ１は、１００以上１３０以下であり、望ましくは１００以上１２０以下、より望ましくは１００以上１１０以下である。
トナー（トナー粒子）の体積平均粒径は４．０μｍ以下であり、望ましくは２．５μｍ以上３．８μｍ以下、より望ましくは３．０μｍ以上３．５μｍ以下である。

ここで、トナー（トナー粒子）の平均形状係数ＳＦ１の測定方法は、次の通りである。
まず、スライドグラス上に散布したトナー（トナー粒子）の光学顕微鏡像（２５０倍に拡大した画像）を、ビデオカメラを通じてルーゼックス画像解析装置（ＬＵＺＥＸ ＩＩＩ、ニレコ社製）に取り込み、１００個のトナー（トナー粒子）について下記式に基づきＳＦ１を計算し、平均値を求めることにより得られる。
・式：ＳＦ１＝（ＭＬ²／Ａ）×（π／４）×１００
ここでＭＬは粒子の絶対最大長、Ａは粒子の投影面積である。

一方、トナー（トナー粒子）の体積平均粒径Ｄ５０ｖの測定法は、次の通りである。
まず、分散剤として界面活性剤（望ましくはアルキルベンゼンスルホン酸ナトリウム）の５質量％水溶液２ｍｌ中に、測定試料を０．５ｍｇ以上５０ｍｇ以下加え、これを電解液１００ｍｌ以上１５０ｍｌ以下中に添加した。この測定試料を懸濁させた電解液を超音波分散器で約１分間分散処理を行い、コールターマルチサイザーＩＩ型（ベックマン−コールター社製）により、アパーチャー径が１００μｍのアパーチャーを用いて、粒径が２．０μｍ以上６０μｍ以下の範囲の粒子の粒度分布を測定する。測定する粒子数は５０，０００とする。
得られた粒度分布を分割された粒度範囲（チャンネル）に対し、小粒径側から体積累積分布を引いて、累積５０％となる粒径を体積平均粒径Ｄ５０ｖとする。

−トナーの構成−
トナーは、トナー粒子とトナー粒子に付着した滑剤（外添剤）とを含んで構成されている。

・トナー粒子
トナー粒子は、例えば、結着樹脂と、必要に応じて、着色剤、離型剤その他内添剤と、を含有して構成される。

結着樹脂としては、特に制限はないが、スチレン類（例えばスチレン、クロロスチレン等）、モノオレフィン類（例えばエチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等）、ビニルエステル類（例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等）、α−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類（例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等）、ビニルエーテル類（例えばビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等）、ビニルケトン類（例えばビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等）等の単独重合体および共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。

特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられる。
また、代表的な結着樹脂としては、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等も挙げられる。

着色剤としては、磁性粉（例えばマグネタイト、フェライト等）、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等が代表的なものとして挙げられる。

離型剤としては、例えば、炭化水素系ワックス；カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等の天然ワックス；モンタンワックス等の合成或いは鉱物・石油系ワックス；脂肪酸エステル、モンタン酸エステル等のエステル系ワックス；などが挙げられるが、これに限定されるものではない。

その他内添剤としては、例えば、磁性体、帯電制御剤、無機粉体等が挙げられる。

・滑剤（外添剤）
本実施形態における滑剤（外添剤）としては、フッ素を含まない外添剤、例えば、無機粒子が挙げられる。該無機粒子として、ＳｉＯ_２、ＴｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＣｕＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ_２、ＣｅＯ_２、Ｆｅ_２Ｏ_３、ＭｇＯ、ＢａＯ、ＣａＯ、Ｋ_２Ｏ、Ｎａ_２Ｏ、ＺｒＯ_２、ＣａＯ・ＳｉＯ_２、Ｋ_２Ｏ・（ＴｉＯ_２）_ｎ、Ａｌ_２Ｏ_３・２ＳｉＯ_２、ＣａＣＯ_３、ＭｇＣＯ_３、ＢａＳＯ_４、ＭｇＳＯ_４等が挙げられる。

外添剤としての無機粒子の表面は、疎水化処理が施されていることがよい。疎水化処理は、例えば疎水化処理剤に無機粒子を浸漬する等して行う。疎水化処理剤は特に制限されないが、例えば、シラン系カップリング剤、シリコーンオイル、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤等が挙げられる。これらは１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
疎水化処理剤の量としては、通常、例えば、無機粒子１００質量部に対して、１質量部以上１０質量部である。

外添剤としては、樹脂粒子（ポリスチレン、ＰＭＭＡ、メラミン樹脂等の樹脂粒子）、クリーニング滑剤（例えば、ステアリン酸亜鉛に代表される高級脂肪酸の金属塩等）も挙げられる。

外添剤の外添量としては、例えば、トナー粒子に対して、０．０１質量％以上５質量％以下が好ましく、０．０１質量％以上２．０質量％以下がより好ましい。

なお、トナーの外添剤としてフッ素含有粒子を使用する場合は、感光体の表面保護層にはフッ素含有樹脂粒子を用いず、滑剤として例えばステアリン酸亜鉛を表面保護層に外部から付与する構成とすればよい。

−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。

クリーニングブレード１３１の耐磨耗性を向上させる目的で放電生成物を除去する手段を付加したり、ＢＣＯ（Ｂｅａｄ Ｃａｒｒｙ Ｏｖｅｒ；キャリアの一部が静電吸引力によって電子写真感光体表面に転移してしまう現象）の発生に伴い電子写真感光体７の表面に付着し、エッジ欠けの原因ともなる微粉キャリアを捕集する目的でキャリア捕集手段を付加してもよい。

クリーニングブレード１３１は、下式（Ｋ１）を満たすものである。具体的には、クリーニングブレード１３１は、少なくとも電子写真感光体７と接触する部位が下式（Ｋ１）を満たす高モジュラス（高硬度）な材料により構成されている。クリーニングブレード１３１が下式（Ｋ１）を満たすことにより、良好なクリーニング性を発揮しつつ、耐磨耗性にも優れる。
・式（Ｋ１） ３≦Ｍ≦３３
〔但し、式（Ｋ１）中、Ｍは１００％モジュラス（ＭＰａ）を表す。〕

ここで、クリーニングブレード１３１は、単層構造であってもよいが、以下に示す理由により、複層構造であることがよい。
なお、単層構造のクリーニングブレード１３１は、後述する複層構造の「第一層」の構成と同様であるため、説明を省略する。

まず、高モジュラスな材料により単層のゴムブレードを、クリーニングブレード１３１として使用すると、一般的には耐性は向上するが弾性が低下する場合がある。弾性が低下するとは、ゴムらしさが無くなり伸び難くなることである。伸び難くなる為、ＢＣＯの発生に伴い電子写真感光体７の表面に埋没したキャリア片などの異物が、クリーニングブレード１３１のエッジと電子写真感光体７の表面との接触部を通過する際、異物がエッジを変形させる力に追従して、エッジ先端が変形しないためにブレードエッジが欠け易くなってしまう場合がある。

また、高モジュラスな材料は永久伸びが大きいためにへたり（永久変形）が悪化してしまうことがあり、へたりの量が大きくなると接触圧が維持されなくなり、結果としてクリーニング不良を招いてしまう場合があった。

クリーニングブレード１３１のエッジ欠けを防止するためには、クリーニングブレード１３１のエッジと電子写真感光体７の表面との接触部を異物が通過する際に、エッジ先端が変形する（伸びる）低硬度の材料で、エッジ先端部が構成されていることが有利である。また、上記のへたりを防止する観点においても、低硬度の材料が有利である。
しかし、この低硬度の材料では、耐磨耗性に劣るため、長期に渡り良好なクリーニング性能を維持し得ない。

そのため、クリーニングブレード１３１としては、電子写真感光体７の表面と接触する第一層と、電子写真感光体７の表面と接触しない背面層と、から構成され、第一層の材料が、上記式（Ｋ１）を満たものとすることがよい。

ここで、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触する第一層の背面に、背面層としての第二層が設けられた２層構成であってもよいし、また、第一層の背面に第二層、第三層など複数の層からなる背面層を設けた構成であってもよい。なお、以下においては、第一層と背面層としての第二層とからなる２層構成のクリーニングブレード１３１を取り上げて、詳細に説明する。

（第一層）
クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面と接触する第一層の材料が、式（Ｋ１）を満たすため、良好なクリーニング性を発揮しつつ、耐磨耗性にも優れる。

１００％モジュラスＭが、３ＭＰａ以上であると、耐磨耗性が得られ、長期に渡り良好なクリーニング性が維持される。また、３３ＭＰａ以下であると、第一層材料が硬過ぎず、電子写真感光体７に対する追従性が得られ、良好なクリーニング性が発揮される。加えて、電子写真感光体７の表面の傷つけが抑制される。
なお、１００％モジュラスＭは、５ＭＰａ以上２０ＭＰａ以下の範囲内であることが望ましく、６．５ＭＰａ以上１５ＭＰａ以下の範囲内であることがより望ましい。

また、画像形成装置のクリーニングブレード１３１周辺温度つまり使用環境温度は概ね１０℃以上６０℃以下の範囲である。従って、電子写真感光体７の表面と接触する第一層の材料のガラス転移温度Ｔｇが使用環境温度を超えなければゴムらしさが維持されクリーニングブレード１３１の接触圧が安定する。それゆえ、第一層の材料のガラス転移温度Ｔｇは使用環境温度の下限値（１０℃）以下であることが望ましい。

一方、電子写真感光体７の表面と接触する第一層の材料の反発弾性Ｒは、当該材料のガラス転移温度Ｔｇが１０℃以下である場合、低温程反発弾性は小さくなる傾向にある。そのため、反発弾性Ｒが１０％以上であれば第一層先端のスティック＆スリップ挙動が鈍くなり過ぎず、ある接触姿勢で変形した状態で摺擦する部分が発生してしまうことが抑制される。
スティック＆スリップ挙動により接触姿勢が解放さることにより、第一層先端の姿勢が保たれたまま摺擦が起こることがなく、局所的な塑性変形の発生が抑制される。この局所的な塑性変形の発生が抑制されると、第一層先端と電子写真感光体７との密着性の低下が抑制され、クリーニング不良の発生が抑制される。この局所的な塑性変形を抑制する為には第一層先端は常にスティック＆スリップ挙動が行われている事が望ましく、そのためには、使用環境温度の実質的な下限値である温度１０℃以上の環境下において、反発弾性Ｒは、１０％以上であることが望ましく、１５％以上がより望ましく、２０％以上が更に望ましい。
なお、反発弾性Ｒは、前述の通りＪＩＳＫ６２５５（１９９６年）に基づいて測定される。

なお、式（Ｋ１）に示す１００％モジュラスＭは、ＪＩＳＫ６２５１（１９９３年）に準拠して、ダンベル状３号形試験片を用い、引張速度５００ｍｍ/ｍｉｎで計測し、１００％歪み時の応力より求めた。なお、測定装置は、東洋精機（株）製、ストログラフＡＥエラストマを用いた。

さらに、電子写真感光体７の表面と接触する第一層の材料のガラス転移温度や、後述するソフトセグメント材料やハードセグメント材料のガラス転移温度は、粘弾性測定装置により温度分散を測定し、ｔａｎδ（損失正接）のピーク温度として求めた。

ここで、ｔａｎδ値は、以下に説明する貯蔵及び損失弾性率から導かれるものである。線形弾性体に、正弦波の歪みを定常振動的に与えたとき、応力は式（Ｋ２）で表される。｜Ｅ＊｜は複素弾性率と呼ばれる。また、レオロジー学の理論より、弾性体成分は式（Ｋ３）、及び粘性体成分は式（Ｋ４）で表される。ここで、Ｅ’は貯蔵弾性率、Ｅ''は損失弾性率と呼ばれる。δは応力と歪みとの位相差角を表し、“力学的損失角”と呼ばれるものである。
ｔａｎδ値は、式（Ｋ５）の様にＥ''／Ｅ’で表され、“損失正弦”と呼ばれるものであり、その値が大きい程、その線形弾性体は、ゴム弾性を有するものとなる。
式（Ｋ２） σ＝｜Ｅ＊｜γcos(ωt)
式（Ｋ３） Ｅ’＝｜Ｅ＊｜cosδ
式（Ｋ４） Ｅ”＝｜Ｅ＊｜sinδ
式（Ｋ５） ｔａｎδ＝Ｅ”／Ｅ’
ｔａｎδ値は、レオペクトラ−ＤＶＥ−Ｖ４（レオロジー（株）製）によって静止歪み５％、１０Ｈｚ 正弦波引張加振を温度範囲−６０℃以上１００℃以下で測定した。

以上に説明したように上記クリーニングブレード１３１に用いられる第一層用材料は、耐磨耗性及び耐欠け性の双方に優れ、長期に渡り良好なクリーニング性能が維持される。
このため、ＢＣＯの発生に伴い、電子写真感光体７の表面に埋没・固着した異物等のように、電子写真感光体７の表面に存在する異物、特に表面に埋没・固着した異物に対応するために、従来のように画像形成装置内に別途耐磨耗性や耐欠け性を向上させるための装置を新たに設ける必要が無いため、装置の大型化・高コスト化が防止される。

加えて、クリーニングブレード１３１の寿命が長くなるため、上記クリーニングブレード１３１を具備したプロセスカートリッジや、クリーニング装置、画像形成装置の長寿命化や、メンテナンスコストの低減が容易である。特に、表面の耐磨耗性を向上させた電子写真感光体７及びクリーニングブレード１３１の双方を具備したプロセスカートリッジや、画像形成装置であれば、上述した利点をより一層享受し得る。

式（Ｋ１）を満たす材料は、エラストマー材料であれば特に限定されないが、ハードセグメント及びソフトセグメントを含むエラストマー材料であることが特に望ましい。エラストマー材料が、ハードセグメント及びソフトセグメントの双方を含むことにより、式（Ｋ１）に示す物性を満たすことが容易となり、耐磨耗性及び耐欠け性の双方を、より高いレベルで両立し得るためである。
なお、「ハードセグメント」及び「ソフトセグメント」とは、エラストマー材料中で、前者を構成する材料の方が、後者を構成する材料よりも相対的に硬い材料からなり、後者を構成する材料の方が前者を構成する材料よりも相対的に柔らかい材料からなるセグメントを意味する。

ここで、ハードセグメント及びソフトセグメントを含むエラストマー材料のガラス転移温度は、−５０℃以上３０℃以下の範囲内であることが望ましく、−３０℃以上１０℃以下の範囲内であることが望ましい。ガラス転移温度が３０℃以下であると、クリーニングブレード１３１を使用する実用温度域において脆化の発生が抑制される。また、ガラス転移温度が−５０℃以上であると、実使用領域において十分な硬度、応力が得られる。
従って、上述したガラス転移温度を実現するためには、エラストマー材料のハードセグメントを構成する材料（以下、「ハードセグメント材料」と称す場合がある）のガラス転移温度は、３０℃以上１００℃以下の範囲内であることが望ましく、３５℃以上６０℃以下の範囲内であることがより望ましく、ソフトセグメントを構成する材料（以下、「ソフトセグメント材料」と称す場合がある）のガラス転移温度は、−１００℃以上−５０℃以下の範囲内であることが望ましく、−９０℃以上−６０℃以下の範囲内であることがより望ましい。

また、上述したガラス転移温度を有するハードセグメント材料及びソフトセグメント材料を用いる場合、ハードセグメント材料及びソフトセグメント材料の総量に対するハードセグメントを構成する材料の質量比（以下、「ハードセグメント材料比」と称す場合がある）が４６質量％以上９６質量％以下の範囲内であることが望ましく、５０質量％以上９０質量％以下の範囲内であることがより望ましく、６０質量％以上８５質量％以下の範囲内であることが更に望ましい。
ハードセグメント材料比が、４６質量％以上であると、第一層先端の耐磨耗性が確保され、磨耗の発生が抑制されることにより、長期に渡って良好なクリーニング性が維持される。また、ハードセグメント材料比が９６質量％以下であると、第一層先端が硬くなり過ぎず、柔軟性や伸張性が得られ、欠けの発生が抑制されることにより、長期に渡って良好なクリーニング性が維持される。

ハードセグメント材料とソフトセグメント材料との組み合わせとしては、特に限定されず、一方が他方に対して相対的に硬く、他方が一方に対して相対的に柔らかい組み合わせとなるように公知の樹脂材料から選択されるが、以下の組み合わせが好適である。
すなわち、ハードセグメント材料としては、ポリウレタン樹脂を用いることが望ましい。この場合のポリウレタン樹脂の重量平均分子量は、１０００以上４０００以下の範囲内であることが望ましく、１５００以上３５００以下の範囲内であることがより望ましい。
重量平均分子量が１０００以上の場合、クリーニングブレード１３１が低温環境下で使用される場合にハードセグメントを構成するポリウレタン樹脂の弾性が失われないために、クリーニング不良が抑制される。また、重量平均分子量が４０００以下の場合は、ハードセグメントを構成するポリウレタン樹脂の永久歪みが大きくなり過ぎず、第一層先端が、電子写真感光体７に対して接触圧力を保持し得るため、クリーニング不良が抑制される。
なお、上述したハードセグメント材料として用いられるポリウレタン樹脂としては、例えば、ダイセル化学社製、プラクセル２０５やプラクセル２４０などが挙げられる。

クリーニングブレード１３１の押し付け圧は、望ましくは１．７ｇｆ／ｍｍ以上６．５ｇｆ／ｍｍ以下、より望ましくは２．０ｇｆ／ｍｍ以上６．０ｇｆ／ｍｍ以下に設定される。該下限値以上であると高硬度ブレードを用いた場合でもトナーのクリーニング不良が抑制され、該上限値以下であると電子写真感光体７との摩擦が高くなり過ぎず、トルク上昇、電子写真感光体７の磨耗、ブレードエッジの欠けによるスジの発生、電子写真感光体７との摩擦によるゴーストの発生などが抑制される。

−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。

−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。

次に、本実施形態に係る画像形成装置１００の動作について説明する。まず、電子写真感光体７が回転すると同時に、帯電装置８により負に帯電する。

帯電装置８によって表面が負に帯電した電子写真感光体７は、露光装置１０により露光され、表面に静電潜像が形成される。

電子写真感光体７における静電潜像の形成された部分が現像装置１１に近づくと、現像装置１１により、静電潜像にトナーが付着し、トナー像が形成される。

トナー像が形成された電子写真感光体７が回転すると、転写装置４０によりトナー像は中間転写体５０に１次転写され、さらに不図示の記録紙に２次転写される。これにより、記録紙にトナー像が形成される。
１次転写後、電子写真感光体７に残留するトナーはクリーニング装置１３によって除去される。

トナー像が形成された記録紙は、不図示の定着装置によりトナー像が定着される。

なお、中間転写体５０を用いずに感光体７の表面に形成されたトナー像が記録紙に直接転写されてもよい。

図３は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図３に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。

なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体等を備える部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体と、現像装置と、クリーニング装置と、を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを更に備えてもよい。

以下、実施例および比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。尚、以下において「部」および「％」は、特に断りのない限り、質量基準を表す。本実施例においては、「実施例１、２、４〜１１」は「参考例１、２、４〜１１」に読み替えるものとする。

［感光体１の作製］
−下引層の作製−
酸化亜鉛（平均粒子径：７０ｎｍ、テイカ社製、比表面積値：１５ｍ^２／ｇ）１００部をテトラヒドロフラン５００部と攪拌混合し、シランカップリング剤として、ＫＢＭ６０３（信越化学工業社製）１．２５部を添加し、２時間攪拌した。その後、テトラヒドロフランを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛微粒子を得た。

前記表面処理を施した酸化亜鉛微粒子６０部と、前述の例示化合物（１−２）に示す電子受容性化合物０．６部と、硬化剤としてブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１３．５部と、ブチラール樹脂（エスレック ＢＭ−１、積水化学工業社製）１５部とを、メチルエチルケトン８５部に溶解した溶液３８部と、メチルエチルケトン２５部とを混合し、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間の分散を行い分散液を得た。

得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５部と、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４．０部とを添加し、下引層形成用塗布液を得た。この塗布液を、浸漬塗布法にて直径３０ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１８０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ２５μｍの下引層を得た。

−電荷発生層の作製−
次に、電荷発生材料として、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．４゜、１６．６゜、２５．５゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶１５部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイト社製）１０部およびｎ−ブチルアルコール３００部からなる混合物を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散して電荷発生層形成用の塗布液を得た。この電荷発生層形成用塗布液を前記下引層上に浸漬塗布し、１２０℃、５分間乾燥して、厚みが０．２μｍの電荷発生層を得た。

−電荷輸送層の作製−
続いて、電荷輸送物質としてＮ，Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ′−ジフェニルベンジジン２部、Ｎ，Ｎ′−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン２重量、ビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：４０，０００）６部、酸化防止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．１部を混合してテトラヒドロフラン２４部及びトルエン１１部を混合溶解し、電荷輸送層形成用塗布液を得た。この電荷輸送層形成用塗布液を前記電荷発生層上に浸漬塗布し、１２０℃、４０分間乾燥して、厚みが２２μｍの電荷輸送層を得た。

−表面保護層の作製−
続いて、４フッ化エチレン樹脂粒子としてルブロンＬ−２（ダイキン工業社製）１０部、及び下記構造式２で表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体（重量平均分子量５０，０００、ｌ：ｍ＝１：１、ｓ＝１、ｎ＝６０）０．３部とシクロペンタノン４０部に十分に攪拌混合して、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。

構造式２

次に、前述の化学式Ｉ−８で表される化合物を８０部、化学式Ｉ−２１で表される化合物を２０部、及びベンゾグアナミン樹脂（ニカラックＢＬ−６０、三和ケミカル社製）を４部をシクロペンタノン２２０部に加えて、十分に溶解混合した後、前記４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を加えて、攪拌混合した。その後、微細な流路をもつ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（吉田機械興業製 ＹＳＮＭ−１５００ＡＲ）を用いて、７００ｋｇｆ／ｃｍ^２まで昇圧しての分散処理を２０回繰返した後、ジメチルポリシロキサン（グラノール４５０、共栄社化学）を１部、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）を０．１部加え表面保護層形成用塗布液を調製した。
この表面保護層形成用塗布液を浸漬塗布法で電荷輸送層の上に塗布し１５５℃で３５分乾燥し、膜厚約６μｍの表面保護層を形成した感光体１を作製した。

［感光体２乃至３の作製］
表面保護層を形成するための反応性電荷輸送材料を表１に示す材料に変更した表面保護層形成用塗布液を準備し、これを用いた以外は、感光体１と同様にして、それぞれ感光体２乃至３を作製した。
［感光体４乃至６の作製］
感光体１と比較して、４フッ化エチレン樹脂粒子、およびフッ化アルキル基含有共重合体を混合せず、かつ、反応性電荷輸送材料としてそれぞれ下記表１に示す材料を含む表面保護層形成用塗布液を準備し、これを用いた以外は、感光体１と同様にして、それぞれ比較感光体４乃至６を作製した。その後、ステアリン酸亜鉛を前記感光体表面に塗布した。

［比較現像剤１］
（比較トナー粒子１の作製）
−結晶性ポリエステル樹脂（１）の合成−
加熱乾燥した３口フラスコに、エチレングリコール１２４部、５−スルホイソフタル酸ナトリウムジメチル２２．２部、セバシン酸ジメチル２１３部、と触媒としてジブチル錫オキサイド０．３部を入れた後、減圧操作により容器内の空気を窒素ガスにより不活性雰囲気下とし、機械攪拌にて１８０℃で５時間攪拌を行った。その後、減圧下にて２２０℃まで徐々に昇温を行い４時間攪拌し、粘稠な状態となったところで空冷し、反応を停止させ、結晶性ポリエステル樹脂（１）２２０部を合成した。
ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによる分子量測定（ポリスチレン換算）で、得られた結晶性ポリエステル樹脂（１）の重量平均分子量（ＭＷ）は１９０００であり、数平均分子量（Ｍｎ）は５８００であった。
また、結晶性ポリエステル樹脂（１）の融点（Ｔｍ）を、示差走査熱量計（ＤＳＣ）を用いて測定したところ、明確なピークを有し、ピークトップの温度は７０℃であった。

−樹脂分散液の調製−
結晶性ポリエステル樹脂（１）１５０部を蒸留水８５０部中に入れ、８０℃に加熱しながらホモジナイザー（ＩＫＡジャパン社製：ウルトラタラクス）にて混合攪拌して、樹脂粒子分散液を得た。

−着色剤分散液を調製−
カーボンブラック２５０部、アニオン界面活性剤２０部（第一工業製薬（株）社製：ネオゲンＲＫ）、イオン交換水７００部を混合し、溶解させた後、ホモジナイザー（ＩＫＡ社製：ウルトラタラクス）を用いて分散し、着色剤（フタロシアニン顔料）を分散させてなる着色剤分散液を調製した。

−離型剤分散液の調製−
パラフィンワックス（ＨＮＰ０１９０、日本精蝋社製、融点８５℃）１００部、カチオン性界面活性剤（サニゾールＢ５０、花王社製）５部、イオン交換水２４０部を、丸型ステンレス鋼製フラスコ中でホモジナイザー（ウルトラタラックスＴ５０、ＩＫＡ社製）を用いて１０分間分散した後、圧力吐出型ホモジナイザーで分散処理し、平均粒径５５０ｎｍの離型剤粒子が分散された離型剤分散液を調製した。

−比較トナー粒子１の作製―
樹脂粒子分散液２４００部、着色剤分散液１００部、離型剤分散液６３部、過酸化ラウロイル１０部、硫酸アルミニウム５部（和光純薬工業社製）、イオン交換水１００部、を丸型ステンレス製フラスコ中に収容させ、ｐＨ２．０に調整した後、ホモジナイザー（ＩＫＡ社製：ウルトラタラックスＴ５０）を用いて分散させた後、加熱用オイルバス中で６５℃まで攪拌しながら加熱した。６５℃で２．５時間保持した後、光学顕微鏡にて観察すると、平均粒径が約４．５μｍである凝集粒子が形成されていることが確認された。

この凝集粒子液のｐＨは２．４であった。そこで炭酸ナトリウム（和光純薬工業社製）を０．５質量％に希釈した水溶液を穏やかに添加し、ｐＨを５．０に調整した後、攪拌を継続しながら７５℃まで加熱し、３．５時間保持した。
その後、反応生成物をろ過し、イオン交換水で十分に洗浄した後、真空乾燥機を用いて乾燥させることにより、Ｋ（ブラック）色の比較トナー粒子１を得た。得られた比較トナー粒子１の融点は６５℃であった。
得られたＫ色の比較トナー粒子１について、Ｄ５０（体積平均粒径）を測定したところ、Ｄ５０は４．２μｍ、平均形状係数ＳＦ１は１２９であった。

（比較現像剤１の作製）
得られたＫ色の比較トナー粒子１に外添剤として、ルブロンＬ−２（ダイキン工業社製、平均一次粒子径２００ｎｍ）１％、ヘキサメチルジシラザン処理したシリカ（平均粒径４０ｎｍ）０．５％、メタチタン酸にイソブチルトリメトキシシラン５０％処理後焼成して得られたチタン化合物（平均粒径３０ｎｍ）０．７％を加え（何れもトナーに対する質量比）、７５Ｌヘンシェルミキサーにて１０分間混合し、その後、風力篩分機ハイボルター３００（新東京機械社製）にて篩分し、外添トナーを作製した。

平均粒径５０μｍのフェライトコア１００部に対して、０．１５部にあたる弗化ビニリデン、及び１．３５部にあたるメチルメタアクリレートとトリフロロエチレンとの共重合体（重合比８０：２０）樹脂をニーダー装置を用いて被覆し、キャリアを作製した。
得られたキャリアと外添トナーとを１００部：８部の割合で２リッターのＶブレンダーで混合し、比較現像剤１を作製した。

［比較現像剤２］
比較現像剤１の比較トナー粒子１の作製において、６５℃加熱撹拌の保持時間を２時間に、炭酸ナトリウム水溶液添加によるｐＨ調整後の７５℃加熱撹拌時間を３時間に変更した以外は同様にして、Ｋ色の比較トナー粒子２を作製し、比較現像剤２を得た。
［比較現像剤３］
比較現像剤１の比較トナー粒子１の作製において、６５℃加熱撹拌の保持時間を２時間に、炭酸ナトリウム水溶液添加によるｐＨ調整後の７５℃加熱撹拌時間を５時間に変更した以外は同様にして、Ｋ色の比較トナー粒子３を作製し、比較現像剤３を得た。

［現像剤１］
比較現像剤１の比較トナー粒子１の作製において、６５℃加熱撹拌の保持時間を２時間に、炭酸ナトリウム水溶液添加によるｐＨ調整後の７５℃加熱撹拌時間を５時間に変更した以外は同様にして、Ｋ色のトナー粒子１を作製した。
〔ステアリン酸亜鉛の製造例〕
エタノール５，０００部にステアリン酸１，１４５部を加え、７５℃で混合したものに、水酸化亜鉛２００部を少しずつ加えていき、投入終了後から１時間混合した。混合後２０℃まで冷却し、生成物をろ別してエタノール及び反応残渣を除き、取り出した生成固形物を加熱型真空乾燥機を用いて１５０℃で３時間乾燥させた。乾燥機から取り出し放冷後、ステアリン酸亜鉛の固形物を得た。
ステアリン酸亜鉛の固形物をジェットミルで粉砕した後、エルボージェット分級機（マツボー製）で分級し、個数平均粒径１．６μｍの粉体状のステアリン酸亜鉛を得た。
（現像剤１の作製）
得られたＫ色のトナー粒子１に外添剤として、上述のステアリン酸亜鉛１％を加え（トナーに対する質量比）、７５Ｌヘンシェルミキサーにて１０分間混合した。その後、風力篩分機ハイボルター３００（新東京機械社製）にて篩分し、外添トナーを作製し、比較現像剤１の作製と同様にキャリアと外添トナーを混合し、現像剤１を得た。

［現像剤２］
比較現像剤１の比較トナー粒子１の作製において、６５℃加熱撹拌の保持時間を２時間に、炭酸ナトリウム水溶液添加によるｐＨ調整後の７５℃加熱撹拌時間を４時間に変更した以外は同様にして、Ｋ色のトナー粒子２を作製し、次いで現像剤１と同様にして現像剤２を得た。

［現像剤３］
比較現像剤１の比較トナー粒子１の作製において、６５℃加熱撹拌の保持時間を２時間に、炭酸ナトリウム水溶液添加によるｐＨ調整後の７５℃加熱撹拌時間を３．５時間に変更した以外は同様にして、Ｋ色のトナー粒子３を作製し、次いで現像剤１と同様にして現像剤３を得た。

［現像剤４］
比較現像剤１の比較トナー粒子１の作製において、６５℃加熱撹拌の保持時間を１．５時間に、炭酸ナトリウム水溶液添加によるｐＨ調整後の７５℃加熱撹拌時間を３．５時間に変更した以外は同様にして、Ｋ色のトナー粒子４を作製し、次いで現像剤１と同様にして現像剤４を得た。

［現像剤５］
比較現像剤１の比較トナー粒子１の作製において、６５℃加熱撹拌の保持時間を１時間に、炭酸ナトリウム水溶液添加によるｐＨ調整後の７５℃加熱撹拌時間を３．５時間に変更した以外は同様にして、Ｋ色のトナー粒子５を作製し、次いで現像剤１と同様にして現像剤５を得た。

作製した各現像剤（トナー）の特性及び外添剤（滑剤）を一覧にして表２に示す。

［クリーニングブレード１の作製］
はじめに、クリーニング層（第一層）用の部材を以下のようにして形成した。
まず、ポリオール成分として、ポリカプロラクトンポリオール（ダイセル化学社製、プラクセル２０５、平均分子量５２９、水酸基価２１２ＫＯＨｍｇ／ｇ）及びポリカプロラクトンポリオール（ダイセル化学社製、プラクセル２４０、平均分子量４１５５、水酸基価２７ＫＯＨｍｇ／ｇ）とからなるハードセグメント材料と、２つ以上のヒドロキシル基を含むアクリル樹脂（綜研化学社製、アクトフローＵＭＢ−２００５Ｂ）からなるソフトセグメント材料とを、ハードセグメント材料比４６質量％となるようにして混合した。

次に、このハードセグメント材料とソフトセグメント材料との混合物１００部に対して、イソシアネート化合物として４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート（日本ポリウレタン工業社製、ミリオネートＭＴ、以下「ＭＤＩ」という）を６．２６部加えて、窒素雰囲気下で７０℃で３時間反応させた。なお、この反応で使用したイソシアネート化合物量は、反応系に含まれる水酸基に対するイソシアネート基の比（イソシアネート基／水酸基）が０．５となるように選択したものである。続いて、上記イソシアネート化合物を更に３４．３部加え、窒素雰囲気下で７０℃で３時間反応させて、プレポリマーを得た。
なお、プレポリマーの使用に際して利用したイソシアネート化合物の全量は４０．５６部である。

次に、このプレポリマーを１００℃に昇温し、減圧下で１時間脱泡した後、プレポリマー１００部に対して、１，４−ブタンジオールとトリメチロールプロパンとの混合物（質量比＝６０／４０）を７．１４部加え、３分間泡を巻き込まないように充分に混合し、クリーニング層形成用組成物Ａ１を調製した。
次いで、１４０℃に金型を調整した遠心成形機に上記クリーニング層形成用組成物Ａ１を流し込み、１時間硬化反応させ、平板状のクリーニング層を形成した。

一方、背面層（第２層）用の部材として以下の方法により調製した背面層形成用組成物Ａ１を準備した。
脱水処理したポリテトラメチルエーテルグリコールに、ジフェニルメタン−４，４−ジイソシアネートを混入し１２０℃で１５分反応させ、生成したプレポリマーに硬化剤として１，４−ブタジオール及びトリメチロールプロパンを併用したものを用いた。

なお、上記クリーニング層と背面層との接着は、前述の通りクリーニング層を平板状に形成した後の遠心成形機に、背面層形成用組成物Ａ１を流し込み硬化させることによって行い、クリーニング層の背面に背面層を形成した。
この平板を１１０℃で２４時間架橋後冷却し、予め定めた寸法に切断して、クリーニング層厚さ０．５ｍｍ、背面層厚さ１．５ｍｍのクリーニングブレード１を得た。

［クリーニングブレード２、比較クリーニングブレード３、４の作製］
下記表３に従って、クリーニング層（第一層）におけるハードセグメント材料比を変更した以外は、クリーニングブレード１と同様にして、それぞれ、クリーニングブレード２、比較クリーニングブレード３、４を得た。

＜実施例１＞
続いて、感光体１、現像剤１、クリーニングブレード１の組み合わせで、富士ゼロックス社製「ＡｐｅｏｓＰｏｒｔ−ＩＩＩ Ｃ４４００」に装着し、以下の評価を行った。結果を表４に示す。

［初期文字解像度評価］
文字解像度評価は７ポイントサイズの文字「響」をプリントし、解像度を目視にて観察し判断した。
評価基準は以下の通りである。
Ａ：文字のつぶれなし。
Ｂ：若干の文字のつぶれあり。
Ｃ：解像度が明らかに不良。

［プリント後文字解像度評価］
Ａ４用紙１，０００，０００枚プリント後、再び文字解像度評価は７ポイントサイズの文字「響」をプリントし、解像度を目視にて観察し判断した。
評価基準は以下の通りである。
Ａ：文字のつぶれなし。
Ｂ：若干の文字のつぶれあり。
Ｃ：解像度が明らかに不良。

［初期ハーフトーン画像ムラ評価］
ハーフトーン画像ムラ評価は全面ハーフトーン３０％濃度をプリントし目視にて観察し判断した。
評価基準は以下の通りである。
Ａ：ムラなし。
Ｂ：若干のムラあり。
Ｃ：ムラがあり許容できない。

［プリント後ハーフトーン画像ムラ評価］
Ａ４用紙１，０００，０００枚プリント後、再びハーフトーン画像ムラ評価を行った。評価は全面ハーフトーン３０％濃度をプリントし目視にて観察し判断した。
評価基準は以下の通りである。
Ａ：ムラなし。
Ｂ：若干のムラあり。
Ｃ：ムラがあり許容できない。

［初期画像流れ評価］
画像流れ評価は全面ハーフトーン３０％濃度をプリントし目視にて観察し判断した。
評価基準は以下の通りである。
Ａ：未発生。
Ｂ：若干の発生あり。
Ｃ：発生し許容できない。

［プリント後画像流れ評価］
Ａ４用紙１，０００，０００枚プリント後、再び画像流れ評価を行った。評価は全面ハーフトーン３０％濃度をプリントし目視にて観察し判断した。
評価基準は以下の通りである。
Ａ：未発生。
Ｂ：若干の発生あり。
Ｃ：発生し許容できない。

＜実施例２乃至１１＞
表４に従って、感光体、現像剤、クリーニングブレードの組み合わせを変更した以外は、実施例１と同様に評価を行った。結果を表４に示す。

＜比較例１乃至１１＞
表５に従って、感光体、現像剤、及びクリーニングブレードを組み合わせた以外は、実施例１と同様に評価を行った。結果を表５に示す。

１ 下引層、２ 電荷発生層、３ 電荷輸送層、４ 導電性基体、５ 表面保護層、７Ａ，７ 電子写真感光体、８ 帯電装置、９ 露光装置、１１ 現像装置、１３ クリーニング装置、１４ 潤滑材、４０ 転写装置、５０ 中間転写体、１００ 画像形成装置、１２０ 画像形成装置、３００ プロセスカートリッジ

Claims (4)

1. 導電性基体、前記導電性基体上に配置された感光層、及び前記感光層上に配置された反応性電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜であり、且つ表面に滑剤が存在する表面保護層を有する電子写真感光体と、
   前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電装置と、
   帯電された前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成装置と、
   平均形状係数ＳＦ１が１００以上１３０以下、且つ体積平均粒径が４．０μｍ以下のトナー粒子及び前記トナー粒子に付着した滑剤を含む現像剤を収容し、前記静電潜像を前記現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、
   前記トナー像を被転写媒体に転写する転写装置と、
   前記トナー像が前記被転写媒体に転写された後の前記電子写真感光体の表面に接触する部分の１００％モジュラスＭが３ＭＰａ以上３３ＭＰａ以下であるクリーニングブレードを有するクリーニング装置と、
   を備え、
   前記反応性電荷輸送材料が、反応性基として水酸基を少なくとも３つ有する電荷輸送材料及び反応性基としてメトキシ基を少なくとも３つ有する電荷輸送材料とを含み、
   前記電子写真感光体の前記表面保護層の表面に存在する前記滑剤と前記トナー粒子に付着した前記滑剤のうち一方がフッ素を含み、他方がフッ素を含まない画像形成装置。
2. 前記電子写真感光体の前記表面保護層が、前記滑剤としてのフッ素含有樹脂粒子と、下記構造式Ａ及び構造式Ｂで表される繰り返し単位を有するフッ化アルキル基含有共重合体とを含み、前記トナー粒子に付着した前記滑剤がフッ素を含まない滑剤である請求項１に記載の画像形成装置。
   
   
   
   （構造式Ａ及び構造式Ｂ中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。Ｘは、アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−又は単結合を表す。Ｙはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−（Ｃ_ｚＨ_２ｚ−１（ＯＨ））−又は単結合を表す。Ｑは−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。ｌ、ｍ及びｎは、それぞれ独立に１以上の整数を表す。ｐ、ｑ、ｒ及びｓは、それぞれ独立に０または１以上の整数を表す。ｔは、１以上７以下の整数を表す。ｚは１以上の整数を表す。）
3. 導電性基体、前記導電性基体上に配置された感光層、及び前記感光層上に配置された反応性電荷輸送材料を含む組成物の硬化膜であり、且つ表面に滑剤が存在する表面保護層を有する電子写真感光体と、
   平均形状係数ＳＦ１が１００以上１３０以下、且つ体積平均粒径が４．０μｍ以下のトナー粒子及び前記トナー粒子に付着した滑剤を含む現像剤を収容し、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を前記現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、
   前記トナー像が被転写媒体に転写された後の前記電子写真感光体の表面に接触する部分の１００％モジュラスＭが３ＭＰａ以上３３ＭＰａ以下であるクリーニングブレードを有するクリーニング装置と、
   を備え、
   前記反応性電荷輸送材料が、反応性基として水酸基を少なくとも３つ有する電荷輸送材料及び反応性基としてメトキシ基を少なくとも３つ有する電荷輸送材料とを含み、
   前記電子写真感光体の表面保護層の表面に存在する前記滑剤と前記トナー粒子に付着した前記滑剤のうち一方がフッ素を含み、他方がフッ素を含まないプロセスカートリッジ。
4. 前記電子写真感光体の前記表面保護層が、前記滑剤としてのフッ素含有樹脂粒子と、下記構造式Ａ及び構造式Ｂで表される繰り返し単位を有するフッ化アルキル基含有共重合体とを含み、前記トナー粒子に付着した前記滑剤がフッ素を含まない滑剤である請求項３に記載のプロセスカートリッジ。
   
   
   
   （構造式Ａ及び構造式Ｂ中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ独立に水素原子又はアルキル基を表す。Ｘは、アルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−又は単結合を表す。Ｙはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−（Ｃ_ｚＨ_２ｚ−１（ＯＨ））−又は単結合を表す。Ｑは−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。ｌ、ｍ及びｎは、それぞれ独立に１以上の整数を表す。ｐ、ｑ、ｒ及びｓは、それぞれ独立に０または１以上の整数を表す。ｔは、１以上７以下の整数を表す。ｚは１以上の整数を表す。）