JP5696520B2 - 画像形成装置 - Google Patents

Description

本発明は画像形成装置に関する。

近年、帯電手段、露光手段、現像手段、転写手段、定着手段等を有する、いわゆるゼログラフィー方式の画像形成装置は、各部材、システムの技術進展により一層の高速化、長寿命化が図られている。
例えば、画像書き込みに使用される電子写真感光体（適宜「感光体」と記す）は、帯電手段、現像手段、転写手段、クリーニング手段などの電気的、機械的外力による傷や磨耗を抑制するため、表面層を構成する材料として機械強度の高い樹脂を使用することで、長寿命化が図られている。

特許文献１では、結着樹脂としてエポキシ樹脂を用いた感光体が開示されている。
特許文献２では、エポキシ樹脂及びエポキシ基を有する電荷輸送材料を用いることが開示されている。
特許文献３及び４では、保護層にフェノール樹脂及び水酸基を有する電荷輸送材料を用いることが開示されている。

また、感光体の表面に残留するトナー等を除去するクリーニング性を改善すべく、表面層の特性を改善する検討がなされている。
例えば、特許文献５では、感光体の表面層中にフッ素系樹脂粒子を分散することにより、感光体の表面層の表面エネルギーを低減する方法が開示されている。
さらに、特許文献６には、更なる高耐久化を図るにあたり、感光体表面に不飽和重合性官能基を有した化合物を重合させた保護層中にフッ素系樹脂粒子を分散することが提案されている。

特開昭５６−５１７４９号公報 特開平８−２７８６４５号公報 特開２００２−８２４６９号公報 特開２００３−１８６２３４号公報 特開昭６３−２２１３５５号公報 特開２００５−９１５００号公報

本発明は、繰り返して使用しても、耐摩耗性が維持されるとともに、像流れの発生が抑制される画像形成装置を提供することを目的とする。

請求項１に係る発明は、最表面層がフッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を含み、下記式（１）を満たす電子写真感光体と、
前記電子写真感光体を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を、トナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写手段と、
前記電子写真感光体の表面に残留する現像剤を除去するクリーニング手段と、
を備え、
前記電子写真感光体の最表面層が、
グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種と、
アルコキシ基を有する架橋性電荷輸送物質、及びアルコキシ基を有する架橋性電荷輸送物質に由来する構造から選択される少なくとも１種と、
を更に含み、
前記フッ素系樹脂粒子及び前記フッ化アルキル基含有共重合体を除いた最表面層の全固形分に対する、前記グアナミン化合物及び前記メラミン化合物の総含有量が０．１質量％以上２０質量％以下であり、
前記フッ素系樹脂粒子及び前記フッ化アルキル基含有共重合体を除いた最表面層の全固形分に対する、前記アルコキシ基を有する架橋性電荷輸送物質及び前記アルコキシ基を有する架橋性電荷輸送物質に由来する構造の総含有量が１０質量％以上４０質量％以下である画像形成装置。
１０≦Ａ×Ｂ≦５０ （１）
Ａ：最表面層に含まれるフッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体の総含有量［質量％］
Ｂ：電子写真感光体を１０００回転させたときの最表面層の摩耗量［ｎｍ］
請求項２に係る発明は、前記電子写真感光体の最表面層におけるフッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体の総含有量が２１質量％以下である請求項１に記載の画像形成装置。
請求項３に係る発明は、前記電子写真感光体の最表面層が、水酸基を有する架橋性電荷輸送物質、及び水酸基を有する架橋性電荷輸送物質に由来する構造から選択される少なくとも１種を更に含む請求項１又は請求項２に記載の画像形成装置。
請求項４に係る発明は、前記フッ素系樹脂粒子が、４フッ化エチレンの重合体及び４フッ化エチレンとパーフルオロアルコキシエチレンとの共重合体から選ばれる少なくとも１種を含む請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
請求項５に係る発明は、前記フッ化アルキル基含有共重合体が、下記構造式Ａ及び下記構造式Ｂで表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の画像形成装置。

（構造式Ａ及び構造式Ｂにおいて、ｌ、ｍ及びｎは１以上の整数を、ｐ、ｑ、ｒ及びｓは０または１以上の整数を、ｔは１以上７以下の整数を、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は水素原子又はアルキル基を、Ｘはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−又は単結合を、Ｙはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−（Ｃ_ｚＨ_２ｚ−１（ＯＨ））−又は単結合を表す。ｚは１以上の整数を表す。Ｑは−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。）
請求項６に係る発明は、前記帯電手段が、前記電子写真感光体に接触せずに該電子写真感光体を帯電する手段である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
請求項７に係る発明は、前記電子写真感光体の外周表面の移動速度が５００ｍｍ／ｓ以上である請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載の画像形成装置。

請求項１に係る発明によれば、電子写真感光体の最表面層に含まれるフッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体の総含有量と最表面層の摩耗量とが上記式（１）の関係を満たさない場合、及び電子写真感光体の最表面層に含まれる電荷輸送性材料の種類及び含有量を考慮しない場合に比べ、繰り返して使用しても、感光体の耐摩耗性が維持されるとともに、像流れの発生が抑制される画像形成装置が提供される。
請求項２に係る発明によれば、電子写真感光体の最表面層におけるフッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体の総含有量が２１質量％を超える場合に比べ、像流れの発生が抑制される画像形成装置が提供される。
請求項３に係る発明によれば、電子写真感光体の最表面層に含まれる電荷輸送性材料の種類を考慮しない場合に比較して、繰り返して使用しても、感光体の耐摩耗性が維持されるとともに、像流れの発生が抑制される画像形成装置が提供される。
請求項４に係る発明によれば、前記フッ素系樹脂粒子が、４フッ化エチレンの重合体及び４フッ化エチレンとパーフルオロアルコキシエチレンとの共重合体から選ばれる少なくとも１種を含まない場合に比べ、耐摩耗性が維持されるとともに、像流れの発生が抑制される画像形成装置が提供される。
請求項５に係る発明によれば、電子写真感光体の最表面層に含まれるフッ化アルキル基含有共重合体が、前記構造式Ａ及び前記構造式Ｂで表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体でない場合に比べ、耐摩耗性が維持されるとともに、像流れの発生が抑制される画像形成装置が提供される。
請求項６に係る発明によれば、前記帯電手段が、前記電子写真感光体に接触して該電子写真感光体を帯電する手段である場合に比べ、耐摩耗性が維持されるとともに、像流れの発生が抑制される画像形成装置が提供される。
請求項７に係る発明によれば、電子写真感光体の外周表面の移動速度が５００ｍｍ／ｓ以上と高速であっても、式（１）を満たさない場合に比べ、像流れの発生が抑制された画像が高い生産性で得られる画像形成装置が提供される。

本実施形態で用いられる電子写真感光体の一例を示す模式断面図である。 本実施形態で用いられる電子写真感光体の他の例を示す模式断面図である。 本実施形態で用いられる電子写真感光体の他の例を示す模式断面図である。 本実施形態の画像形成装置の一例を示す概略構成図である。 本実施形態で用いられるクリーニング装置が備えるクリーニングブレードの一例を示す概略構成図である。 本実施形態の画像形成装置の他の例を示す概略構成図である。 解像度評価の評価基準を示す図である。

以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する。
本実施形態に係る画像形成装置は、最表面層がフッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を含み、下記式（１）を満たす電子写真感光体と、前記電子写真感光体を帯電する帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成手段と、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を、トナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写手段と、前記電子写真感光体の表面に残留する現像剤を除去するクリーニング手段と、を備えている。
１０≦Ａ×Ｂ≦５０ （１）
Ａ：最表面層に含まれるフッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体の総含有量［質量％］
Ｂ：電子写真感光体を１０００回転させたときの最表面層の摩耗量［ｎｍ］

本発明者らは、電子写真感光体の最表面層に含まれるフッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体の総含有量が少なくても摩耗量が比較的多ければ像流れが抑制され、フッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体の総含有量が多くても摩耗量が少なければ像流れが抑制されることを見出した。そして、本実施形態に係る画像形成装置では、上記のごとく、電子写真感光体の最表面層に含まれるフッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体の総含有量（質量％）と、最表面層の摩耗量（ｎｍ）とが上記式（１）の関係を満たすことで、感光体の耐摩耗性が維持されるとともに、像流れの発生が抑制される。詳細は不明だが、感光体の最表面層に含まれるフッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体の総含有量と最表面層の摩耗量とが上記（１）を満たす関係にあるとき、像流れ等の画質異常を発生させる放電生成物等の付着物の除去と耐摩耗性とのバランスが取れ、画像形成を繰り返しても感光体の耐摩耗性が維持されるとともに、像流れの発生が抑制されると推測される。
なお、耐摩耗性の維持と、像流れの発生抑制の観点から、望ましくは、１２≦Ａ×Ｂ≦４２であり、さらに望ましくは、望ましくは、１５≦Ａ×Ｂ≦３０である。

［電子写真感光体］
まず、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ詳細に説明する。
図１は、本実施形態に係る電子写真用感光体の構成の一例を概略的に示し、図２及び図３はそれぞれ電子写真感光体の他の構成を概略的に示している。
図１に示す電子写真感光体７Ａは、いわゆる機能分離型感光体（又は積層型感光体）であり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生層２及び電荷輸送層３を順次形成して構成された感光層が設けられ、その上に最表面層として表面保護層５が設けられた構造を有するものである。

図２に示す電子写真感光体７Ｂは、図１に示す電子写真感光体７Ｂと同様に、電荷発生層２と、電荷輸送層３とに機能が分離された機能分離型感光体であり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷輸送層３及び電荷発生層２が順次形成された感光層６Ｂが設けられ、その上に表面保護層５が設けられた構造を有するものである。
図３に示す電子写真感光体７Ｃは、電荷発生材料と電荷輸送材料とを同一の層（電荷発生／電荷輸送層６）に含む機能一体型感光体であり、導電性基体４上に下引層１が設けられ、その上に電荷発生／電荷輸送層６、及び表面保護層５が順次形成された構造を有するものである。電子写真感光体７Ｃにおいては、電荷発生／電荷輸送層６からなる単層型の感光層が構成されている。
なお、図１乃至図３に示す電子写真感光体において、下引層１は設けても設けなくてもよい。また、下引層１と感光層との間に中間層を設けてもよい。また、表面保護層を設けず、感光層を最表面層としてもよい。
以下、代表例として図１に示す電子写真感光体７Ａに基づいて、各要素について説明する。

＜表面保護層＞
表面保護層５は、電子写真感光体７Ａにおける最表面層であり、電荷発生層２及び電荷輸送層３から構成される感光層を保護するために設けられる層である。本実施形態に係る表面保護層５は、少なくともフッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を含んで構成される。かかる表面保護層５を有することで、感光体７Ａの表面に、磨耗、傷などに対する耐性を持たせ、且つトナーの転写効率の向上が図られる。

−フッ素系樹脂粒子−
表面保護層５がフッ素系樹脂粒子を含有することで、トナー像を転写した後の感光体の表面に残留するトナー等を除去するためのクリーニングブレード等の接触部材との摩擦力が軽減され、電子写真感光体の表面の摩耗が効果的に抑制される。その一方、残留トナーとクリーニングブレードとの間の摩擦力は保たれ、残留トナー等の異物は除去され易いと考えられる。

表面保護層５に含まれるフッ素系樹脂粒子としては、特に限定されるものではないが、４フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ）、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂及びそれらの共重合体の中から１種あるいは２種以上を選択するのが望ましく、耐摩耗性の観点から、フッ化エチレンの重合体及び４フッ化エチレンとパーフルオロアルコキシエチレンとの共重合体から選ばれる少なくとも１種を含むことがさらに望ましい。

フッ素系樹脂粒子の平均一次粒径は０．０５μｍ以上１μｍ以下が望ましく、更には０．１μｍ以上０．５μｍ以下が望ましい。
尚、上記フッ素系樹脂粒子の平均一次粒径は、レーザー回折式粒度分布測定装置ＬＡ−９２０（堀場製作所製）を用いて、フッ素系樹脂粒子が分散された分散液と同じ溶剤に希釈した測定液を屈折率１．３５で測定した値である。

表面保護層５の固形分全量に対するフッ素系樹脂粒子の含有量は１質量％以上４０質量％以下が望ましく、３質量％以上２０質量％以下がさらに望ましい。

−フッ化アルキル基含有共重合体−
表面保護層５がフッ化アルキル基含有共重合体を含有することで、フッ素系樹脂粒子の分散安定性が保たれる。
表面保護層５に含まれるフッ化アルキル基含有共重合体としては、特に限定されるものではないが、下記構造式（Ａ）及び構造式（Ｂ）で表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体であることが望ましく、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、等からなるマクロモノマー及びパーフルオロアルキルエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロアルキル（メタ）アクリレートを用いて例えばグラフト重合により合成される樹脂であることがより望ましい。ここで、（メタ）アクリレートはアクリレートまたはメタクリレートを示す。

構造式Ａ及び構造式Ｂにおいて、ｌ、ｍ及びｎは１以上の整数を、ｐ、ｑ、ｒ及びｓは０または１以上の整数を、ｔは１以上７以下の整数を、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は水素原子又はアルキル基を、Ｘはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−又は単結合を、Ｙはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−（Ｃ_ｚＨ_２ｚ−１（ＯＨ））−又は単結合を表す。ｚは１以上の整数を表す。Ｑは−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。

フッ化アルキル基含有共重合体の重量平均分子量は、１００００以上１０００００以下が望ましく、さらに望ましくは３００００以上１０００００以下である。

フッ化アルキル基含有共重合体において、構造式（Ａ）と構造式（Ｂ）との含有比即ちｌ：ｍは、１：９乃至９：１が望ましく、３：７乃至７：３がさらに望ましい。

構造式（Ａ）及び構造式（Ｂ）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４としては、水素原子、メチル基が望ましく、これらの中でもメチル基がさらに望ましい。

フッ化アルキル基含有共重合体は、構造式（Ｃ）で表される繰り返し単位をさらに含んでもよい。構造式（Ｃ）の含有量は、構造式（Ａ）及び構造式（Ｂ）の含有量の合計即ちｌ＋ｍとの比で、ｌ＋ｍ：ｚとして１０：０乃至７：３が望ましく、９：１乃至７：３がさらに望ましい。

〔構造式（Ｃ）において、Ｒ^５及びＲ^６は水素原子またはアルキル基を、ｚは１以上の整数を表す。〕

尚、Ｒ^５、Ｒ^６としては、水素原子、メチル基、エチル基が望ましく、これらの中でもメチル基がさらに望ましい。

表面保護層５におけるフッ化アルキル基含有共重合体の含有量は、フッ素系樹脂粒子の質量に対して１質量％以上１０質量％以下であることが望ましい。

また、表面保護層５におけるフッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体の総含有量は４０質量％以下であることが望ましく、２１質量％以下がより望ましい。当該総含有量が４０質量％以下であれば、解像度の低下を最小限に抑えながら、耐摩耗性の向上を達成できる可能性が高い。ただし、フッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体の総含有量は、耐摩耗性向上の効果を確実に発現させるという観点から、１質量％以上が望ましく、３質量％以上がより望ましい。

表面保護層５は、フッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体のほかに、グアナミン構造を有する化合物（以下、適宜「グアナミン化合物」と称する。）及びメラミン構造を有する化合物（以下、適宜「メラミン化合物」と称する。）から選択される少なくとも１種と、電荷輸送材料としてアルコキシ基を有する架橋性電荷輸送物質、及び、水酸基を有する架橋性電荷輸送物質とを含んで構成されることが望ましい。グアナミン化合物及びメラミン化合物の総含有量は、フッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を除いた最表面層の全固形分に対して０．１質量％以上２０質量％以下であり、フッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を除いた最表面層の全固形分に対する、アルコキシ基を有する架橋性電荷輸送物質の含有量が１０質量％以上４０質量％以下であることが望ましい。
表面保護層５が上記構成を有することで、電子写真感光体の耐摩耗性及び電気的安定性がより向上し、また像流れの発生も抑制し、良好な画質の形成が繰り返し得られ、画像形成装置の高信頼性、長寿命化がより高められる。

−グアナミン化合物−
ここで、グアナミン化合物について説明する。本実施形態で用いるグアナミン化合物は、グアナミン骨格（構造）を有する化合物であり、例えば、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、ホルモグアナミン、ステログアナミン、スピログアナミン、シクロヘキシルグアナミンなどが挙げられる。
グアナミン化合物としては、特に下記一般式（Ａ）で示される化合物及びその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ａ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。なお、一般式（Ａ）で示される化合物は、一種単独で用いもよいし、２種以上を併用してもよい。特に、一般式（Ａ）で示される化合物を２種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体（オリゴマー）として用いたりすると、溶剤に対する溶解性が向上する。

一般式（Ａ）中、Ｒ_１は、炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基、炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基、又は炭素数４以上１０以下の置換若しくは未置換の脂環式炭化水素基を示す。Ｒ_２乃至Ｒ_５は、それぞれ独立に水素、−ＣＨ_２−ＯＨ、又は−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^６を示す。Ｒ_６は、炭素数１以上１０以下の直鎖状又は分鎖状のアルキル基を示す。
一般式（Ａ）において、Ｒ_１を示すアルキル基は、炭素数が１以上１０以下であるが、望ましくは炭素数が１以下８以上であり、より望ましくは炭素数が１以上５以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。
一般式（Ａ）中、Ｒ_１を示すフェニル基は、炭素数６以上１０以下であるが、より望ましくは６以上８以下である。当該フェニル基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。
一般式（Ａ）中、Ｒ_１を示す脂環式炭化水素基は、炭素数４以上１０以下であるが、より望ましくは５以上８以下である。当該脂環式炭化水素基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。
一般式（Ａ）中、Ｒ_２乃至Ｒ_５を示す「−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ_６」において、Ｒ_６を示すアルキル基は、炭素数が１以上１０以下であるが、望ましくは炭素数が１以下８以上であり、より望ましくは炭素数が１以上６以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。望ましくは、メチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。
一般式（Ａ）で示される化合物としては、特に望ましくは、Ｒ_１が炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基を示し、Ｒ_２乃至Ｒ_５がそれぞれ独立に−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ_６を示される化合物である。また、Ｒ_６は、メチル基又はｎ−ブチル基から選ばれることが望ましい。
一般式（Ａ）で示される化合物は、例えば、グアナミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０ページ）で合成される。
以下、一般式（Ａ）で示される化合物の具体例を示すが、これらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体のものを示すが、これらを構造単位とする多量体（オリゴマー）であってもよい。

一般式（Ａ）で示される化合物の市販品としては、例えば、”スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４８−５５、スーパーベッカミン（Ｒ）１３−５３５、スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４５−６０、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１２６”以上大日本インキ社製、”ニカラックＢＬ−６０、ニカラックＢＸ−４０００”以上日本カーバイド社製、などが挙げられる。
また、一般式（Ａ）で示される化合物（多量体を含む）は、合成後又は市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。

−メラミン化合物−
次に、メラミン化合物について説明する。本実施形態で用いるメラミン化合物としては、メラミン骨格（構造）を有する化合物であり、特に下記一般式（Ｂ）で示される化合物及びその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ｂ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。なお、一般式（Ｂ）で示される化合物又はその多量体は、一種単独で用いもよいし、２種以上を併用してもよい。また、前記一般式（Ａ）で示される化合物又はその多量体と併用してもよい。特に、一般式（Ｂ）で示される化合物は、２種以上混合して用いたり、それを構造単位とする多量体（オリゴマー）として用いたりすると、溶剤に対する溶解性が向上する。

一般式（Ｂ）中、Ｒ^６乃至Ｒ^１１はそれぞれ独立に、水素原子、−ＣＨ_２−ＯＨ、−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^１２を示し、Ｒ^１２は炭素数１以上５以下の分岐してもよいアルキル基を示す。当該アルキル基としてはメチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。
一般式（Ｂ）で示される化合物は、例えば、メラミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０ページのメラミン樹脂と同様に合成される）で合成される。
以下、一般式（Ｂ）で示される化合物の具体例を示すが、これらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体のものを示すが、これらを構造単位とする多量体（オリゴマー）であってもよい。

一般式（Ｂ）で示される化合物の市販品としては、例えば、スーパーメラミＮｏ．９０（日本油脂社製）、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１３９−６０（大日本インキ社製）、ユーバン２０２０（三井化学）、スミテックスレジンＭ−３（住友化学工業）、ニカラックＭＷ−３０（日本カーバイド社製）、などが挙げられる。
また、一般式（Ｂ）で示される化合物（多量体を含む）は、合成後又は市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。

−電荷輸送性材料−
次に、電荷輸送性材料について説明する。表面保護層に含まれる電荷輸送性材料としては、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、チオール基、及びカルボキシル基から選択される置換基の少なくとも１つを持つものであるが挙げられる。特に、電荷輸送性材料としては、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、チオール基、及びカルボキシル基から選択される置換基を少なくとも２つ（さらには３つ）持つものが挙げられる。この如く、電荷輸送性材料に反応性官能基（当該置換基）が増えることで架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜が得られ、電子写真感光体の磨耗が抑制される。

電荷輸送性材料としては、下記一般式（Ｉ）で示される化合物であることが望ましい。
Ｆ−（（−Ｒ_１−Ｘ）_ｎ１（Ｒ_２）_ｎ２−Ｙ）_ｎ３ （Ｉ）
一般式（Ｉ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基、Ｒ_１及びＲ_２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基を示し、ｎ１は０又は１を示し、ｎ２は０又は１を示し、ｎ３は１以上４以下の整数を示す。Ｘは酸素、ＮＨ、又は硫黄原子を示し、Ｙは水酸基、アルコキシ基、アミノ基、チオール基、及びカルボキシル基を示す。
一般式（Ｉ）中、Ｆを示す正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基における正孔輸送能を有する化合物としては、アリールアミン誘導体が挙げられる。アリールアミン誘導体としては、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体が挙げられる。
そして、一般式（Ｉ）で示される化合物は、下記一般式（ＩＩ）で示される化合物であることが望ましい。一般式（ＩＩ）で示される化合物は、特に、電荷移動度、酸化などに対する安定性等に優れる。

一般式（ＩＩ）中、Ａｒ^１乃至Ａｒ^４は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ^５は置換若しくは未置換のアリール基又は置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−（−Ｒ_１−Ｘ）_ｎ１（Ｒ_２）_ｎ２−Ｙを示し、ｃはそれぞれ独立に０又は１を示し、ｋは０又は１を示し、Ｄの総数は１以上４以下である。また、Ｒ_１及びＲ_２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基を示し、ｎ１は０又は１を示し、ｎ２は０又は１を示し、Ｘは酸素、ＮＨ、又は硫黄原子を示し、Ｙは水酸基、アルコキシ基、アミノ基、チオール基、又はカルボキシル基を示す。
一般式（ＩＩ）中、Ｄを示す「−（−Ｒ_１−Ｘ）_ｎ１（Ｒ_２）_ｎ２−Ｙ」は、一般式（Ｉ）と同様であり、Ｒ_１及びＲ_２はそれぞれ独立に炭素数１以上５以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキレン基である。また、ｎ１として望ましくは、１である。また、ｎ２として望ましくは、１である。また、Ｘとして望ましくは、酸素である。また、Ｙとして望ましくは水酸基である。
なお、一般式（ＩＩ）におけるＤの総数は、一般式（Ｉ）におけるｎ３に相当し、望ましくは、２以上４以下であり、さらに望ましくは３以上４以下である。つまり、一般式（Ｉ）や一般式（ＩＩ）において、Ｄの総数を、望ましくは一分子中に２以上４以下、さらに望ましくは３以上４以下とすると、架橋密度が上がり、より強度の高い架橋膜が得られ、特にクリーニングブレードを用いた際の電子写真感光体の回転トルクが低減され、ブレードへのダメージの抑制や、電子写真感光体の磨耗が抑制される。この詳細は不明であるが、反応性官能基の数が増すことで、架橋密度の高い硬化膜が得られ、電子写真感光体の極表面の分子運動が抑制されてブレード部材表面分子との相互作用が弱まるためと推測される。
一般式（ＩＩ）中、Ａｒ^１乃至Ａｒ^４としては、下記式（１）乃至（７）のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記式（１）乃至（７）は、Ａｒ^１乃至Ａｒ^４の各々に連結され得る「−（Ｄ）_Ｃ１」乃至「−（Ｄ）_Ｃ４」を総括的に示した「−（Ｄ）_Ｃ」と共に示す。

式（１）乃至（７）中、Ｒ^９は水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｒ^１０乃至Ｒ^１２はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ａｒは置換又は未置換のアリーレン基を表し、Ｄ及びｃは一般式（ＩＩ）における「Ｄ」、「ｃ」と同様であり、ｓはそれぞれ０又は１を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。
ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記式（８）又は（９）で表されるものが望ましい。

式（８）、（９）中、Ｒ^１３及びＲ^１４はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。
また、式（７）中のＺ’としては、下記式（１０）乃至（１７）のうちのいずれかで表されるものが望ましい。

式（１０）乃至（１７）中、Ｒ^１５及びＲ^１６はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑ及びｒはそれぞれ１以上１０以下の整数を表し、ｔはそれぞれ１以上３以下の整数を表す。
上記式（１６）乃至（１７）中のＷとしては、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。

また、一般式（ＩＩ）中、Ａｒ^５は、ｋが０のときはＡｒ^１乃至Ａｒ^４の説明で例示された上記（１）乃至（７）のアリール基であり、ｋが１のときはかかる上記（１）乃至（７）のアリール基から所定の水素原子を除いたアリーレン基である。
一般式（Ｉ）で示される化合物の具体例としては、以下に示す化合物Ｉ−１乃至Ｉ−３４が挙げられる。なお、上記一般式（Ｉ）で示される化合物は、これらにより何ら限定されるものではない。

本実施形態における感光体の表面保護層は、耐摩耗性、画質特性、電気特性などの観点から、電荷輸送性材料として、アルコキシ基を有する架橋性電荷輸送物質と、水酸基を有する架橋性電荷輸送物質とを含むことが望ましい。以下、アルコキシ基を有する架橋性電荷輸送物質と水酸基を有する架橋性電荷輸送物質をまとめて「特定の電荷輸送性材料」と記す場合がある。

表面保護層５中における、グアナミン化合物及びメラミン化合物の総含有量は、フッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を除いた最表面層の全固形分に対して０．１質量％以上２０質量％以下であり、フッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を除いた最表面層の全固形分に対する、アルコキシ基を有する架橋性電荷輸送物質の含有量が１０質量％以上４０質量％以下であること望ましい。
グアナミン化合物（例えば、一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（例えば、一般式（Ｂ）で示される化合物）の総含有量が上記範囲内であれば、上記範囲未満である場合に比べて緻密な膜となり、耐摩耗性が向上し、上記範囲外である場合に比べて電気特性や耐ゴースト性が向上する。
また、アルコキシ基を有する架橋性電荷輸送物質の含有量が上記範囲内であれば、上記範囲未満である場合に比べ、電気特性の低下が抑制されるとともに、感光体の外部から電気的或いは機械的なストレスが感光体に付与された場合における耐性がより高まる。

なお、表面保護層５中における、上記電荷輸送性材料の総含有量や、上記グアナミン化合物及びメラミン化合物の総含有量は、表面保護層を形成するための塗布液におけるこれらの化合物の固形分濃度を調整することによって制御される。

−その他の成分−
表面保護層５には、グアナミン化合物（例えば一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（例えば一般式（Ｂ）で示される化合物）から選択される少なくとも１種と、上記電荷輸送性材料（例えば一般式（Ｉ）で示される化合物）との架橋物と共に、フェノール樹脂、メラミン樹脂、尿素樹脂、アルキッド樹脂などを混合して用いてもよい。また、強度を向上させるために、スピロアセタール系グアナミン樹脂（例えば「ＣＴＵ−グアナミン」（味の素ファインテクノ（株）））など、一分子中の官能基のより多い化合物を当該架橋物中の材料に共重合させることも効果的である。

表面保護層５には、放電生成ガスを吸着しすぎないように、放電生成ガスによる酸化を効果的に抑制する目的で、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの他の熱硬化性樹脂を混合してもよい。
また、表面保護層５には界面活性剤を添加することが望ましく、用いる界面活性剤としては、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造のうち少なくとも一種類を含む界面活性剤であれば特に制限はないが、上記構造を複数有するものが電荷輸送性有機化合物との親和性・相溶性が高く、表面保護層形成用塗布液の成膜性が向上し、表面保護層５のシワ・ムラが抑制される。

フッ素原子を有する界面活性剤としては、様々なものが挙げられる。フッ素原子及びアクリル構造を有する界面活性剤として具体的には、ポリフローＫＬ６００（共栄社化学社製）、エフトップＥＦ−３５１、ＥＦ−３５２、ＥＦ−８０１、ＥＦ−８０２、ＥＦ−６０１（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。アクリル構造を有する界面活性剤とは、アクリルもしくはメタクリル化合物などのモノマーを重合もしくは共重合したものが主に挙げられる。

また、フッ素原子を有する界面活性剤としては、例えば、パーフルオロアルキル基を持つ界面活性剤が挙げられ、さらに具体的には、パーフルオロアルキルスルホン酸類（例えば、パーフルオロブタンスルホン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸など）、パーフルオロアルキルカルボン酸類（例えば、パーフルオロブタンカルボン酸、パーフルオロオクタンカルボン酸など）、パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルが挙げられる。パーフルオロアルキルスルホン酸類、及びパーフルオロアルキルカルボン酸類は、その塩及びそのアミド変性体であってもよい。

パーフルオロアルキルスルホン酸類の市販品としては、例えばメガファックＦ−１１４（大日本インキ化学工業株式会社製）、エフトップＥＦ−１０１、ＥＦ１０２、ＥＦ−１０３、ＥＦ−１０４、ＥＦ−１０５、ＥＦ−１１２、ＥＦ−１２１、ＥＦ−１２２Ａ、ＥＦ−１２２Ｂ、ＥＦ−１２２Ｃ、ＥＦ−１２３Ａ（以上、ＪＥＭＣＯ社製）、Ａ−Ｋ、５０１（以上、ネオス社製）などが挙げられる。
パーフルオロアルキルカルボン酸類の市販品としては、例えばメガファックＦ−４１０（大日本インキ化学工業株式会社製）、エフトップ ＥＦ−２０１、ＥＦ−２０４（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。
パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルの市販品としては、メガファックＦ−４９３、Ｆ−４９４（以上、大日本インキ化学工業株式会社製）エフトップ ＥＦ−１２３Ａ、ＥＦ−１２３Ｂ、ＥＦ−１２５Ｍ、ＥＦ−１３２、（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。

アルキレンオキサイド構造を持つ界面活性剤としてはポリエチレングリコール、ポリエーテル消泡剤、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。
ポリエチレングリコールとしては数平均分子量が２０００以下のものが望ましく、数平均分子量が２０００以下のポリエチレングリコールとしては、ポリエチレングリコール２０００（数平均分子量２０００）、ポリエチレングリコール６００（数平均分子量６００）、ポリエチレングリコール４００（数平均分子量４００）、ポリエチレングリコール２００（数平均分子量２００）等が挙げられる。
また、ポリエーテル消泡剤としては、ＰＥ−Ｍ、ＰＥ−Ｌ（以上、和光純薬工業社製）、消泡剤Ｎｏ．１、消泡剤Ｎｏ．５（以上、花王社製）等が挙げられる。

シリコーン構造を有する界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、ジフェニルシリコーンやそれらの誘導体のような一般的なシリコーンオイルが挙げられる。

さらに、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造の両方を有する界面活性剤としてはアルキレンオキサイド構造もしくはポリアルキレン構造を側鎖に有するものや、アルキレンオキサイドもしくはポリアルキレンオキサイド構造の末端がフッ素を含む置換基で置換されたものなどが挙げられる。アルキレンオキサイド構造を有する界面活性剤として、具体的には、例えば、メガファックＦ−４４３、Ｆ−４４４、Ｆ−４４５、Ｆ−４４６（以上、大日本インキ化学工業株式会社製）、ＰＯＬＹ ＦＯＸ ＰＦ６３６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ６５６（以上、北村化学社製）などが挙げられる。

また、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造の両方を有する界面活性剤としてはＫＦ３５１（Ａ）、ＫＦ３５２（Ａ）、ＫＦ３５３（Ａ）、ＫＦ３５４（Ａ）、ＫＦ３５５（Ａ）、ＫＦ６１５（Ａ）、ＫＦ６１８、ＫＦ９４５（Ａ）、ＫＦ６００４（以上、信越化学工業社製）、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４５３、ＴＳＦ４４６０（以上、ＧＥ東芝シリコン社製）、ＢＹＫ−３００、３０２、３０６、３０７、３１０、３１５、３２０、３２２、３２３、３２５、３３０、３３１、３３３、３３７、３４１、３４４、３４５、３４６、３４７、３４８、３７０、３７５、３７７，３７８、ＵＶ３５００、ＵＶ３５１０、ＵＶ３５７０等（以上、ビックケミー・ジャパン株式会社社製）が挙げられる。

界面活性剤の含有量は、表面保護層５のフッ素系樹脂粒子、あるいはフッ化アルキル基含有共重合体を除いた場合の固形分量に対して、望ましくは０．０１質量％以上１質量％以下、より望ましくは０．０２質量％以上０．５質量％以下である。フッ素原子を有する界面活性剤の含有量を０．０１質量％以上とすることでシワ・ムラが抑制などの塗膜欠陥の防止効果がより大きくなる傾向にある。また、フッ素原子を有する界面活性剤の含有量を１質量％以下とすることで、当該フッ素原子を有する界面活性剤と硬化樹脂の分離しにくくなり、得られる硬化物の強度が維持される傾向にある。
表面保護層５には、さらに、膜の成膜性、可とう性、潤滑性、接着性を調整するなどの目的から、他のカップリング剤、フッ素化合物を混合してもよい。各種シランカップリング剤、及び市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。

シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が用いられる。市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−８２３９（以上、信越シリコーン社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等が用いられる。

また、撥水性等の付与のために、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えても良い。シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、架橋膜の成膜性の観点から、フッ素を含まない化合物に対して質量で０．２５倍以下とすることが望ましい。

また、表面保護層５の放電ガス耐性、機械強度、耐傷性、粒子分散性、粘度コントロール、トルク低減、磨耗量コントロール、ポットライフの延長などの目的でアルコールに溶解する樹脂を加えてもよい。
ここで、アルコールに溶解する樹脂とは、炭素数５以下のアルコールに１質量％以上溶解する樹脂を意味する。アルコール系溶剤に溶解する樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋ等）、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、ポリビニルフェノール樹脂などがあげられる。特に、電気特性の点でポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が望ましい。
当該樹脂の重量平均分子量は２，０００以上１００，０００以下が望ましく、５，０００以上５０，０００以下がより望ましい。樹脂の分子量が２，０００未満であると樹脂の添加による効果が不充分となる傾向にあり、また、１００，０００を超えると溶解度が低下して添加量が制限され、さらには塗布時に製膜不良を招く傾向にある。
また、当該樹脂の添加量はフッ素系樹脂粒子、あるいはフッ化アルキル基含有共重合体を除いた場合において１質量％以上４０質量％以下が望ましく、１質量％以上３０質量％以下がより望ましく、５質量％以上２０質量％以下がさらに望ましい。当該樹脂の添加量が１質量％未満であると樹脂の添加による効果が不十分となる傾向にあり、また、４０質量％を超えると高温高湿下（例えば２８℃、８５％ＲＨ）での画像ボケが発生しやすくなる。

表面保護層５には、帯電装置で発生するオゾン等の酸化性ガスによる劣化を防止する目的で、酸化防止剤を添加することが望ましい。感光体表面の機械的強度を高め、感光体が長寿命になると、感光体が酸化性ガスに長時間にわたって接触することになるため、酸化耐性が要求される。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系又はヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。
酸化防止剤の添加量としてはフッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を除いた場合において２０質量％以下が望ましく、１０質量％以下がより望ましい。

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。

また、ヒンダードフェノール系酸化防止剤の市販品としては、「イルガノックス１０７６」、「イルガノックス１０１０」、「イルガノックス１０９８」、「イルガノックス２４５」、「イルガノックス１３３０」、「イルガノックス３１１４」、「イルガノックス１０７６」（以上、チバ・ジャパン製）、「３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシビフェニル」等が挙げられる。
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、「サノールＬＳ２６２６」、「サノールＬＳ７６５」、「サノールＬＳ７７０」、「サノールＬＳ７４４」（以上、三共ライフテック製）、「チヌビン１４４」、「チヌビン６２２ＬＤ」（以上、チバ・ジャパン製）、「マークＬＡ５７」、「マークＬＡ６７」、「マークＬＡ６２」、「マークＬＡ６８」、「マークＬＡ６３」（以上、アデカ社製）が挙げられ、チオエーテル系として「スミライザ−ＴＰＳ」、「スミライザーＴＰ−Ｄ」（以上、住友化学社製）が挙げられ、ホスファイト系として「マーク２１１２」、「マークＰＥＰ−８」、「マークＰＥＰ−２４Ｇ」、「マークＰＥＰ−３６」、「マーク３２９Ｋ」、「マークＨＰ−１０」（以上、アデカ社製）等が挙げられる。

更に、表面保護層５には、残留電位を下げる目的、又は強度を向上させる目的で、各種粒子を添加してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカ及びシリコーン粒子等が挙げられる。
ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、望ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下のシリカを、酸性もしくはアルカリ性の水分散液、アルコール、ケトン、エステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。
表面保護層５中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、製膜性、電気特性、強度の面から、表面保護層５のフッ素系樹脂粒子、あるいはフッ化アルキル基含有共重合体を除いた場合の固形分量を基準として、０．１質量％以上５０質量％以下、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下の範囲で用いられる。

ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものが使用される。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは１ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より望ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる小径粒子であり、さらに十分な特性を得るために必要とされる含有量が低いため、架橋反応を阻害することなく、電子写真感光体の表面性状が改善される。すなわち、強固な架橋構造中にバラツキが小さく取り込まれた状態で、電子写真感光体の表面の潤滑性、撥水性を向上させ、長期にわたって良好な耐磨耗性、耐汚染物付着性が維持される。
保護層５中のシリコーン粒子の含有量は、保護層５のフッ素系樹脂粒子、あるいはフッ化アルキル基含有共重合体を除いた場合の固形分量を基準として、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下、より望ましくは０．５質量％以上１０質量％以下である。

また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や“第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集 ｐ８９”に示される如く、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ＺｎＯ−Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２−Ｓｂ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３−ＳｎＯ_２、ＺｎＯ_２−ＴｉＯ_２、ＺｎＯ−ＴｉＯ_２、ＭｇＯ−Ａｌ_２Ｏ_３、ＦｅＯ−ＴｉＯ_２、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物が挙げられる。また、同様な目的でシリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル；アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル；ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類；１，３，５−トリメチル−１．３．５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類；ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類；（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類；メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類；ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。

また、表面保護層５には、金属、金属酸化物、カーボンブラック等の導電性粒子を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀、ステンレス等、又はこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズ、アンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いることも、２種以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合してもよいし、固溶体や融着の形にしてもよい。
導電性粒子の平均粒径は保護層の透明性の点で０．３μｍ以下、特に０．１μｍ以下が望ましい。

表面保護層５には、グアナミン化合物（例えば一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（例えば一般式（Ｂ）で示される化合物）や電荷輸送材料の硬化を促進するために硬化触媒を使用してもよい。硬化触媒として酸系の触媒を望ましく用いられる。酸系の触媒としては、酢酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、マレイン酸、マロン酸、乳酸などの脂肪族カルボン酸、安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸などの芳香族カルボン酸、メタンスルホン酸、ドデシルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、などの脂肪族、及び芳香族スルホン酸類などが用いられるが、含硫黄系材料を用いることが望ましい。

硬化触媒として含硫黄系材料を用いることにより、この含硫黄系材料がグアナミン化合物（例えば一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（例えば一般式（Ｂ）で示される化合物）や電荷輸送材料の硬化触媒として優れた機能を発揮し、硬化反応を促進して得られる表面保護層５の機械的強度がより向上される。
更に、電荷輸送性材料として上記一般式（Ｉ）（一般式（ＩＩ）含む）で表される化合物を用いる場合、含硫黄系材料は、これら電荷輸送性材料に対するドーパントとしても優れた機能を発揮し、得られる機能層の電気特性がより向上される。その結果、電子写真感光体を形成した場合に、機械強度、成膜性及び電気特性の全てが高水準で達成される。

硬化触媒としての含硫黄系材料は、常温（例えば２５℃）、又は、加熱後に酸性を示すものが望ましく、接着性、ゴースト、電気特性の観点で有機スルホン酸及びその誘導体の少なくとも１種が特に望ましい。保護層５中におけるこれらの触媒の存在は、ＸＰＳ等により容易に確認される。

有機スルホン酸及び／又はその誘導体としては、例えば、パラトルエンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸（ＤＮＮＳＡ）、ジノニルナフタレンジスルホン酸（ＤＮＮＤＳＡ）、ドデシルベンゼンスルホン酸、フェノールスルホン酸等が挙げられる。これらの中でも、触媒能、成膜性の観点から、パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸が望ましい。また、硬化性樹脂組成物中で、ある程度解離されれば、有機スルホン酸塩を用いてもよい。
また、一定以上の温度をかけたときに触媒能力が高くなる、所謂、熱潜在性触媒を用いることで、液保管温度では触媒能が低く、硬化時に触媒能が高くなるため、硬化温度の低下と、保存安定性が両立される。

熱潜在性触媒として、たとえば有機スルホン化合物等をポリマーで粒子状に包んだマイクロカプセル、ゼオライトの如く空孔化合物に酸等を吸着させたもの、プロトン酸及び／又はプロトン酸誘導体を塩基でブロックした熱潜在性プロトン酸触媒や、プロトン酸及び／又はプロトン酸誘導体を一級もしくは二級のアルコールでエステル化したもの、プロトン酸及び／又はプロトン酸誘導体をビニルエーテル類及び／又はビニルチオエーテル類でブロックしたもの、三フッ化ホウ素のモノエチルアミン錯体、三フッ化ホウ素のピリジン錯体などがあげられる。
中でも、触媒能、保管安定性、入手性、コストの面でプロトン酸及び／又はプロトン酸誘導体を塩基でブロックしたものが望ましい。

熱潜在性プロトン酸触媒のプロトン酸として、硫酸、塩酸、酢酸、ギ酸、硝酸、リン酸、スルホン酸、モノカルボン酸、ポリカルボン酸類、プロピオン酸、シュウ酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フタル酸、マレイン酸、ベンゼンスルホン酸、ｏ、ｍ、ｐ−トルエンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ウンデシルベンゼンスルホン酸、トリデシルベンゼンスルホン酸、テトラデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等が挙げられる。また、プロトン酸誘導体として、スルホン酸、リン酸等のプロトン酸のアルカリ金属塩又はアルカリ土類金属円などの中和物、プロトン酸骨格が高分子鎖中に導入された高分子化合物（ポリビニルスルホン酸等）等が挙げられる。プロトン酸をブロックする塩基として、アミン類が挙げられる。アミン類は、１級、２級又は３級アミンに分類される。特に制限はなく、いずれも使用してもよい。

１級アミンとして、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、セカンダリーブチルアミン、アリルアミン、メチルヘキシルアミン等が挙げられる。

２級アミンとして、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジｎ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジｔ−ブチルアミン、ジヘキシルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、Ｎ−イソプロピルＮ−イソブチルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、ジセカンダリーブチルアミン、ジアリルアミン、Ｎ−メチルヘキシルアミン、３−ピペコリン、４−ピペコリン、２，４−ルペチジン、２，６−ルペチジン、３，５−ルペチジン、モルホリン、Ｎ−メチルベンジルアミン等が挙げられる。

３級アミンとして、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリｎ−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリｔ−ブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリ（２−エチルヘキシル）アミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ−メチルジアリルアミン、トリアリルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ーテトラメチルー１，２ージアミノエタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ーテトラメチルー１，３ージアミノプロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ーテトラアリルー１，４ージアミノブタン、Ｎーメチルピペリジン、ピリジン、４ーエチルピリジン、Ｎープロピルジアリルアミン、３−ジメチルアミノプロパノ−ル、２−エチルピラジン、２，３−ジメチルピラジン、２，５−ジメチルピラジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジン、２，４，６−コリジン、２−メチル−４−エチルピリジン、２−メチル−５−エチルピリジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ −テトラメチルヘキサメチレンジアミン、Ｎ−エチル−３−ヒドロキシピペリジン、３−メチル−４−エチルピリジン、３−エチル−４−メチルピリジン、４−（５−ノニル）ピリジン、イミダゾ−ル、Ｎ−メチルピペラジン等が挙げられる。

市販品としては、キングインダストリーズ社製の「ＮＡＣＵＲＥ２５０１」（トルエンスルホン酸解離、メタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．２以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２１０７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ８．０以上ｐＨ９．０以下、解離温度９０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５００」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．０以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５３０」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、メタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ５．７以上ｐＨ６．５以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５４７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、水溶液、ｐＨ８．０以上ｐＨ９．０以下、解離温度１０７℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５５８」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、エチレングリコール溶媒、ｐＨ３．５以上ｐＨ４．５以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３５７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、メタノール溶媒、ｐＨ２．０以上ｐＨ４．０以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３８６」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、水溶液、ｐＨ６．１以上ｐＨ６．４以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＣ―２２１１」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、ｐＨ７．２以上ｐＨ８．５以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５２２５」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．０以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５４１４」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５５２８」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．０以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５９２５」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、ｐＨ７．０以上ｐＨ７．５以下、解離温度１３０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１３２３」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン溶媒、ｐＨ６．８以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１４１９」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン／メチルイソブチルケトン溶媒、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１５５７」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、ブタノール／２−ブトキシエタノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸ４９−１１０」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度９０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ３５２５」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．５以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３８３」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ３３２７」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ４１６７」（リン酸解離、イソプロパノール／イソブタノール溶媒、ｐＨ６．８以上ｐＨ７．３以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−２９７」（リン酸解離、水／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度９０℃、「ＮＡＣＵＲＥ４５７５」（リン酸解離、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．０以下、解離温度１１０℃）等が挙げられる。

これらの熱潜在性触媒は単独又は二種類以上組み合わせても使用される。
ここで、触媒の配合量は、上記グアナミン化合物（例えば一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（例えば一般式（Ｂ）で示される化合物）から選択される少なくとも１種の量（塗布液におけるフッ素系樹脂粒子、あるいはフッ化アルキル基含有共重合体を除いた場合の固形分濃度）に対し、０．１質量％以上５０質量％以下の範囲であることが望ましく、特に１０質量％以上３０質量％以下が望ましい。この配合量が上記範囲未満であると、触媒活性が低すぎることがあり、上記範囲を超えると耐光性が悪くなることがある。なお、耐光性とは、感光層が室内光などの外界からの光にさらされたときに、照射された部分が濃度低下を起こす現象のことを言う。原因は、明らかではないが、特開平５−０９９７３７号公報にあるように、光メモリー効果と同様の現象が起こっているためであると推定される。

−表面保護層の形成−
以上の構成の表面保護層５は、フッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を含み、望ましくは、グアナミン化合物（一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（一般式（Ｂ）で示される化合物）から選択される少なくとも１種と前記特定の電荷輸送性材料とを含む表面保護層形成用塗布液を用いて形成される。この表面保護層形成用塗布液は、必要に応じて、表面保護層５の任意の他の構成成分が添加される。

表面保護層形成用塗布液の調製は、無溶媒で行うか、必要に応じてメタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジオキサン等のエーテル類等の溶剤を用いて行ってもよい。かかる溶剤は１種を単独で又は２種以上を混合して使用されるが、望ましくは沸点が１００℃以下のものである。溶剤としては、特に、少なくとも１種以上の水酸基を持つ溶剤（例えば、アルコール類等）を用いることがよい。

溶剤量は任意に設定されるが、少なすぎるとグアナミン化合物（例えば一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（例えば一般式（Ｂ）で示される化合物）が析出しやすくなるため、グアナミン化合物（例えば一般式（Ａ）で示される化合物）及びメラミン化合物（例えば一般式（Ｂ）で示される化合物）から選択される少なくとも１種の１質量部に対し０．５質量部以上３０質量部以下、望ましくは１質量部以上２０質量部以下で使用される。

また、上記成分を反応させて塗布液を得るときには、単純に混合、溶解させるだけでもよいが、室温（例えば２５℃）以上１００℃以下、望ましくは、３０℃以上８０℃以下で１０分以上１００時間以下、望ましくは１時間以上５０時間以下で加温してもよい。また、この際に超音波を照射することも望ましい。これにより、恐らく部分的な反応が進行し、塗膜欠陥が少なく膜厚のバラツキが少ない膜が得られやすくなる。

そして、表面保護層形成用塗布液を電荷輸送層３の上に、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法により塗布した後、必要に応じて例えば温度１００℃以上１７０℃以下で加熱して硬化させることで、表面保護層５が得られる。

表面保護層５の膜厚は、望ましくは１μｍ以上１５μｍ以下、より望ましくは３μｍ以上１０μｍ以下である。表面保護層５の膜厚が１μｍ以上であれば、長寿命を達成しやすく、１５μｍ以下であれば良好な電気特性を達成しやすい 。

＜導電性基体＞
導電性基体４としては、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属又は合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、及び金属ベルト、又は、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等が挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０^１３Ωｃｍ未満であることをいう。

電子写真感光体７Ａがレーザープリンターに使用される場合、レーザー光を照射する際に生じる干渉縞を防止するために、導電性基体４の表面は、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化することが望ましい。Ｒａが０．０４μｍ未満であると、鏡面に近くなるので干渉防止効果が不十分となる傾向があり、Ｒａが０．５μｍを越えると、被膜を形成しても画質が粗くなる傾向がある。なお、非干渉光を光源に用いる場合には、干渉縞防止の粗面化は特に必要なく、導電性基体４の表面の凹凸による欠陥の発生が防げるため、より長寿命化に適する。

粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて導電性基体４の表面に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、又は回転する砥石に導電性基材４を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が望ましい。
また、他の粗面化の方法としては、導電性基体４の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基材４を構成する支持体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も望ましく用いられる。

ここで、陽極酸化による粗面化処理は、アルミニウムを陽極とし、電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが望ましい。
陽極酸化膜の膜厚については、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。この膜厚が０．３μｍ未満であると、注入に対するバリア性が乏しく効果が不十分となる傾向がある。他方、１５μｍを超えると、繰り返し使用による残留電位の上昇を招く傾向にある。

また、導電性基体４には、酸性水溶液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性水溶液による処理としては、例えば、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液による処理が挙げられる。リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液による処理は、以下のようにして実施される。先ず、酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲が望ましい。処理温度は、４２℃以上４８℃以下が望ましいが、処理温度を高く保つことにより、当該処理温度の範囲よりも低い場合に比べ一層速く、かつ厚い被膜が形成される。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。０．３μｍ未満であると、注入に対するバリア性が乏しく効果が不十分となる傾向がある。他方、１５μｍを超えると、繰り返し使用による残留電位の上昇を招く傾向がある。

ベーマイト処理は、９０℃以上１００℃以下の純水中に５分間以上６０分間以下浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分間以上６０分間以下接触させることにより行われる。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が望ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の他種に比べ被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理をしてもよい。

＜下引層＞
下引層１は、例えば、結着樹脂に無機粒子を含有して構成される。
無機粒子としては、粉体抵抗（体積抵抗率）１０^２Ω・ｃｍ以上１０^１１Ω・ｃｍ以下のものが望ましく用いられる。これは下引層１はリーク耐性、キャリアブロック性獲得のために適切な抵抗を得ることが必要であるためである。なお、上記範囲の下限よりも無機粒子の抵抗値が低いと十分なリーク耐性が得られず、この範囲の上限よりも高いと残留電位の上昇を引き起こしてしまう懸念がある。
中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の無機粒子（導電性金属酸化物）を用いるのが望ましく、特に酸化亜鉛は望ましく用いられる。

無機粒子は表面処理を行ったものでもよく、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものなど２種以上混合して用いてもよい。
無機粒子の体積平均粒径は５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（望ましくは６０以上１０００以下）の範囲であることが望ましい
また、無機粒子としては、ＢＥＴ法による比表面積が１０ｍ^２／ｇ以上のものが望ましく用いられる。比表面積値が１０ｍ^２／ｇ未満のものは帯電性低下を招きやすく、良好な電子写真特性を得にくい傾向がある。
さらに、無機粒子と共にアクセプター性化合物を含有させることで、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性に優れた下引層が得られる。

アクセプター性化合物としては、所望の特性が得られるものならばいかなるものでも使用されるが、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質などが望ましく、特にアントラキノン構造を有する化合物が望ましい。さらに、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が望ましく用いられ、具体的にはアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。

これらのアクセプター性化合物の含有量は所望の特性が得られる範囲であれば任意に設定してもよいが、望ましくは無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下含有される。さらに電荷蓄積防止と無機粒子の凝集を防止する観点から０．０５質量％以上１０質量％以下が望ましい。無機粒子の凝集は、導電路形成にバラツキが生じやすくなり、繰り返し使用時に残留電位の上昇など維持性の悪化を招きやすくなるだけでなく、黒点などの画質欠陥も引き起こしやすくなる。
アクセプター化合物は、下引層の塗布時に添加するだけでもよいし、無機粒子表面にあらかじめ付着させておいてもよい。無機粒子表面にアクセプター化合物を付与させる方法としては、乾式法又は湿式法が挙げられる。

乾式法にて表面処理を施す場合には、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させたアクセプター化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによってバラツキが生じることなく処理される。添加又は噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが望ましい。溶剤の沸点以上の温度で噴霧すると、バラツキが生じることなく攪拌される前に溶剤が蒸発し、アクセプター化合物が局部的にかたまってしまいバラツキのない処理がされ難く、望ましくない。添加又は噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施される。

湿式法としては、無機粒子を溶剤中で攪拌、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、アクセプター化合物を添加し攪拌又は分散したのち、溶剤除去することでバラツキが生じることなく処理される。溶剤除去方法はろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後にはさらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは所望の電子写真特性が得られる温度、時間であれば任意の範囲で実施される。湿式法においては表面処理剤を添加する前に無機粒子含有水分の除去も行われ、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いてもよい。

また、無機粒子はアクセプター化合物を付与する前に表面処理を施してもよい。表面処理剤としては所望の特性が得られるものであればよく、公知の材料から選択される。例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材等が挙げられる。特に、シランカップリング剤は良好な電子写真特性を与えるため望ましく用いられる。さらにアミノ基を有するシランカップリング剤は下引層１に良好なブロッキング性を与えるため望ましく用いられる。
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、所望の電子写真感光体特性を得られるものであればいかなる物でも用いてもよいが、具体的例としてはγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。

シランカップリング剤は２種以上混合して使用してもよい。前記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いてもよいシランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
これらの表面処理剤を用いた表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でも使用されるが、乾式法又は湿式法を用いることが望ましい。また、アクセプター付与とカップリング剤等による表面処理を一緒に行ってもよい。
下引層１中の無機粒子に対するシランカップリング剤の量は、所望の電子写真特性が得られる量であれば任意に設定されるが分散性向上の観点から、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が望ましい。

下引層１に含有される結着樹脂としては、良好な膜が形成されるもので、かつ、所望の特性が得られるものであれば公知のいかなるものでも使用されるが、例えば、ポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等を用いられる。中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が望ましく用いられる。これらを２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。

下引層形成用塗布液中の、表面にアクセプター化合物を付与した無機粒子（アクセプター性を付与した金属酸化物）と結着樹脂、又は、無機粒子と結着樹脂との比率は所望する電子写真感光体特性を得られる範囲で任意に設定される。

下引層１には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加物を用いてもよい。添加物としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料を用いられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに下引層形成用塗布液に添加してもよい。

添加剤としてのシランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
また、ジルコニウムキレート化合物の例としては、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。

チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
これらの化合物は単独に若しくは複数の化合物の混合物又は重縮合物として用いてもよい。

下引層形成用塗布液を調製するための溶媒としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から任意で選択される。溶媒として、具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が用いられる。
また、これらの溶剤は単独又は２種以上混合して用いてもよい。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤として結着樹脂を溶かし得る溶剤であれば、いかなるものでも使用される。

下引層形成用塗布液を調製する際の無機粒子の分散方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法が用いられる。
さらに、下引層１を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
このようにして得られた下引層形成用塗布液を用い、導電性基体上に下引層１が成膜される。

また、下引層１は、ビッカース硬度が３５以上とされていることが望ましい。
さらに、下引層１は、所望の特性が得られるのであれば、いかなる厚さに設定されるが、厚さ１５μｍ以上が望ましく、さらに望ましくは１５μｍ以上５０μｍ以下とされていることが望ましい。
下引層１の厚さが１５μｍ未満であるときには、充分な耐リーク性能が得られ難く、また、５０μｍ以上であるときには、長期使用した場合に残留電位が残りやすくなるため画像濃度異常を招きやすい欠点がある。

また、下引層１の表面粗さ（十点平均粗さ）はモアレ像防止のために、使用される露光用レーザー波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整される。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂などの粒子を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が用いられる。

ここで、下引層１は、結着樹脂及び導電性金属酸化物を含み、且つ厚み２０μｍにおける波長９５０ｎｍの光に対する光透過率が４０％以下（望ましくは１０％以上３５％以下、より望ましくは１５％以上３０％以下）であることが望ましい。長寿命化を目標とした電子写真感光体において、安定した高画質を維持することが必要である。架橋型最表面層（保護層）を用いる場合にも同様の特性が求められる。架橋型最表面層（表面保護層）を使用した場合、多くの場合硬化のために酸触媒が用いられ、最表面層（表面保護層）中の固形分に対して量が多いほど膜強度が得られ、耐刷性を高められるため長寿命化が図られる。

一方でバルク中の残留触媒が電荷のトラップサイトとなるため、光疲労耐性が低くなりメンテナンス時などの光曝露等によって画像濃度ムラが生じる原因となる。この耐光性（光疲労耐性）は、材料（特に電荷輸送材料、酸触媒）の量を最適化することで実使用上問題ないレベルまでは改善されるが、通常のオフィスなどより明るい環境、例えばショウルームなどの場所での照射や、電子写真感光体表面に付着した異物を観察するときなどの高輝度かつ長時間の曝露に対しては十分とはいえるものではなく、さらなる長寿命化を図るために硬化触媒を増やし、膜強度を高める必要があるが、その場合、耐光性が十分ではなくなることある。そこで、上記所定の光透過率（即ち光透過率が低い）を有する下引層１を用いることによって、電子写真感光体への入射光を下引層１が吸収することによって、強度の強い光に対する耐光性に優れ、長期に渡り安定して画像が得られる。即ち、導電性基体表面からの反射光が減るため、高輝度かつ長時間の光曝露に対して耐光性（光疲労耐性）が獲得されると共に、例えば、硬化触媒量を増やし最表面層（表面保護層）の強度を高め耐刷性を向上させても、長寿命化が実現される。

なお、上記下引層１の光透過率は次のようにして測定される。下引層形成用塗布液を、ガラスプレート上に乾燥後の厚さが２０μｍとなるように塗布し、乾燥後、分光光度計を用いて波長９５０ｎｍでの膜の光透過率を測定する。光度計による光透過率は、分光光度計として装置名「Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ（Ｕ−２０００）」、日立社製を用いる。
この下引層１の光透過率は、前記、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等を用いた分散時の分散時間を調整することで、制御される。分散時間は、特に限定しないが、５分から１０００時間の任意の時間が望ましく、さらには３０分から１０時間がより望ましい。分散時間を長くすると、光透過率は低下する傾向にある。

また、表面粗さの調整のために下引層１の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が用いられる。
下引層１は、導電性基体４上に塗布した前述の下引層形成用塗布液を乾燥させることで得られる。通常、乾燥は、溶剤が蒸発して製膜される温度で行われる。

＜電荷発生層＞
電荷発生層２は電荷発生材料及び結着樹脂を含有する層である。
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、酸化亜鉛、三方晶系セレン等が挙げられる。これらの中でも、近赤外域のレーザー露光に対しては、金属及又は無金属フタロシアニン顔料が望ましく、特に、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報、特開平５−４３８２３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより望ましい。また、近紫外域のレーザー露光に対してはジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、チオインジゴ系顔料、ポルフィラジン化合物、酸化亜鉛、三方晶系セレン等がより望ましい。電荷発生材料としては、３８０ｎｍ以上５００ｎｍの露光波長の光源を用いる場合には無機顔料が望ましく、７００ｎｍ以下８００ｎｍの露光波長の光源を用いる場合には、金属及び無金属フタロシアニン顔料が望ましい。

電荷発生材料としては、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を用いることが望ましい。このヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、従来のＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料とは異なるものであり、より優れた分散性が得られるため望ましい。このように、分光吸収スペクトルの最大ピーク波長を従来のＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料よりも短波長側にシフトさせることにより、顔料粒子の結晶配列が制御された微細なヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料となり、電子写真感光体の材料として用いた場合に、優れた分散性と、十分な感度、帯電性及び暗減衰特性とが得られる。

また、上記の８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが望ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが望ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより望ましく、一方、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ^２／ｇ以上であることが望ましく、５０ｍ^２／ｇ以上であることがより望ましく、５５ｍ^２／ｇ以上１２０ｍ^２／ｇ以下であることが特に望ましい。平均粒径は、体積平均粒径（ｄ５０平均粒径）でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ−７００、堀場製作所社製）にて測定した値である。また、ＢＥＴ式比表面積測定器（島津製作所製：フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
平均粒径が０．２０μｍより大きい場合、又は比表面積値が４５ｍ^２／ｇ未満である場合は、顔料粒子が粗大化しているか、又は顔料粒子の凝集体が形成されており、電子写真感光体の材料として用いた場合の分散性や、感度、帯電性及び暗減衰特性といった特性に欠陥が生じやすい傾向にあり、それにより画質欠陥を生じやすい傾向にある。

また、上記ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒子径の最大値）は、１．２μｍ以下であることが望ましく、１．０μｍ以下であることがより望ましく、より望ましくは０．３μｍ以下である。かかる最大粒径が上記範囲を超えると、微小黒点が発生しやすい傾向にある。
更に、感光体が蛍光灯などに暴露されたことに起因する濃度ムラをより確実に抑制する観点から、上記ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が０．２μｍ以下、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、比表面積値が４５ｍ^２／ｇ以上であることが望ましい。

また、上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°及び２８．３°に回折ピークを有するものであることが望ましい。
また、上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、２５℃から４００℃まで昇温したときの熱重量減少率が２．０％以上４．０％以下であることが望ましく、２．５％以上３．８％以下であることがより望ましい。なお、熱重量減少率は熱天秤等により測定される。上記熱重量減少率が４．０％を超えると、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料に含有される不純物が電子写真感光体に影響を及ぼし、感度特性、繰り返し使用時における電位の安定性や画像品質の低下が生じる傾向にある。また、２．０％未満であると、感度の低下が生じる傾向にある。これは、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料が結晶中に微量含有する溶剤分子との相互作用によって増感作用を示すことに起因すると考えられる。

上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を電子写真感光体の電荷発生材料として用いた場合には、感光体の最適な感度や優れた光電特性が得られる点、及び感光層に含まれる結着樹脂中への分散性に優れているので画質特性に優れる点で特に有効である。
ここで、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の平均粒径及びＢＥＴ比表面積を規定することによって，初期のかぶりや黒点の発生を抑えられることが知られてきたが，長期使用によりかぶりや黒点が発生するという問題があった．これに対し，後述する所定の最表面層（グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種と特定の電荷輸送材料とを用いた架橋膜からなる保護層）を組み合わせることによって，従来の最表面層及び電荷発生層の組み合わせで問題となっていた長期間の使用によるかぶりや黒点の発生が抑えられる。これは，長期使用によって発生する膜磨耗や帯電能力の低下が前記保護層を使用することによって抑制されるためであると考えられる。また，電気特性改善（残留電位低減）に効果がある電荷輸送層の薄膜化に対しても、従来感光体では発生してしまうかぶりや黒点の抑制も実現される。

電荷発生層２に使用される結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。望ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。電荷発生材料と結着樹脂の配合比は質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが望ましい。ここで、「絶縁性」とは、ここで、「絶縁性」とは体積抵抗率が１０^１３Ωｃｍ以上であることをいう。
電荷発生層２は、電荷発生材料及び結着樹脂を所定の溶剤中に分散した塗布液を用いて形成される。

分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられ、これらは１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
また、電荷発生材料及び結着樹脂を溶剤中に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法を用いられる。これらの分散方法により、分散による電荷発生材料の結晶型の変化が防止される。さらにこの分散の際、電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、望ましくは０．３μｍ以下、さらに望ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。

また、電荷発生層２を形成する際には、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法を用いられる。
このようにして得られる電荷発生層２の膜厚は、望ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、さらに望ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下である。

＜電荷輸送層＞
電荷輸送層３は、電荷輸送材料と結着樹脂を含有して、又は高分子電荷輸送材を含有して形成される。
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物があげられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられるが、これらに限定されるものではない。

電荷輸送材料としては電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が望ましい。

構造式（ａ−１）中、Ｒ^８は、水素原子又はメチル基を示す。ｎは１又は２を示す。Ａｒ^６及びＡｒ^７は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｃ（Ｒ^９）＝Ｃ（Ｒ^１０）（Ｒ^１１）、又は−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^１２）（Ｒ^１３）を示し、Ｒ^９乃至Ｒ^１３はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。置換基としてはハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、又は炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。

構造式（ａ−２）中、Ｒ^１４及びＲ^１４’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。Ｒ^１５、Ｒ^１５’、Ｒ^１６、及びＲ^１６’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ^１７）＝Ｃ（Ｒ^１８）（Ｒ^１９）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^２０）（Ｒ^２１）を示し、Ｒ^１７乃至Ｒ^２１は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、又は置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ及びｎは各々独立に０以上２以下の整数を示す。

ここで、上記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び上記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^１２）（Ｒ^１３）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^２０）（Ｒ^２１）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度、保護層との接着性、前画像の履歴が残ることで生じる残像（以下「ゴースト」と言う場合がある）などの観点で優れ望ましい。

電荷輸送層３に用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。また、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材等高分子電荷輸送材を用いてもよい。これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は質量比で１０：１から１：５までが望ましい。

特に、結着樹脂としては、特に限定しないが、粘度平均分子量５００００以上８００００以下のポリカーボネート樹脂、及び粘度平均分子量５００００以上８００００以下のポリアリレート樹脂の少なくとも１種が良好な成膜が得やすいことから望ましい。
また、電荷輸送材料として高分子電荷輸送材を用いてもよい。高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものを用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は、他種に比べ高い電荷輸送性を有しており、特に望ましいものである。高分子電荷輸送材はそれだけでも成膜されるが、結着樹脂と混合して成膜してもよい。

電荷輸送層３は、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独又は２種以上混合して用いられる。また、上記各構成材料の分散方法としては、公知の方法が使用される。
電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層２の上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
電荷輸送層３の膜厚は、望ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より望ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下である。

なお、上記では、図１に示される電子写真感光体７Ａが有する機能分離型の感光層の例を説明したが、例えば、図３に示される電子写真感光体７Ｃが有する単層型感光層６（電荷発生／電荷輸送層）中の電荷発生材料の含有量は、１０質量％以上８５質量％以下程度、望ましくは２０質量％以上５０質量％以下である。また、電荷輸送材料の含有量は５質量％以上５０質量％以下とすることが望ましい。単層型感光層６（電荷発生／電荷輸送層）の形成方法は、電荷発生層２や電荷輸送層３の形成方法と同様である。単層型感光層（電荷発生／電荷輸送層）６の膜厚は５μｍ以上５０μｍ以下程度が望ましく、１０μｍ以上４０μｍ以下とするのがさらに望ましい。

なお、図１乃至図３に示した電子写真感光体７Ａ、７Ｂ、７Ｃにおいて感光層を構成する各層には、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、あるいは光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層を構成する各層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の添加剤を添加してもよい。例えば、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物等があげられる。

光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾトリアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペリジン等の誘導体が挙げられる。また、感度の向上、残留電位の低減、繰り返し使用時の疲労低減等を目的として、少なくとも１種の電子受容性物質が含有させる。使用される電子受容物質としては、例えば、無水コハク酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸が挙げられる。これらの中でも、フルオレノン系、キノン系やＣｌ−、ＣＮ−、ＮＯ_２−等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特に望ましい。

さらに、図１乃至図３に示した電子写真感光体７Ａ、７Ｂ、７Ｃにおける表面保護層５を、ブレード部材の場合と同様にフッ素系樹脂を含有する水性分散液で処理すると、さらなるトルク低減が図れるとともに転写効率の向上も図れるため望ましい。

［画像形成装置／プロセスカートリッジ］
図４は、実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。画像形成装置１００は、図４に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９と、転写装置４０と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７を露光する位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。

図４におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８、現像装置１１及びクリーニング装置１３を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１（ブレード部材）を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。

−帯電手段−
帯電装置８としては、例えば、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等が使用される。また、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器も使用される。なお、本実施形態では、耐摩耗性や高速時における帯電能力の観点から、感光体と接触せずに帯電を行う非接触型の帯電手段を用いることが望ましい。
なお、図示しないが、画像の安定性を高める目的で、電子写真感光体７の周囲には、電子写真感光体７の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。

−静電潜像形成手段−
静電潜像形成手段となる露光装置９としては、例えば、感光体７の表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、所望の像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザーや青色レーザーとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下近傍に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビーム出力をするタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。

−現像手段−
現像装置１１としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤又は二成分系現像剤等を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。

−転写手段−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。

中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いられる。

−クリーニング手段−
クリーニングブレード１３１は、例えば、図５に示すように、支持部材１３１Ｄ（支持部）に、ゴム部材１３１Ｃとを備える。ゴム部材１３１Ｃは、感光体（不図示）表面へ圧接させる部材であり、エッジ層１３１Ａ及びベース層１３１Ｂからなる２層構造を有して構成されてもよい。２層構造を有する場合は、ゴム部材１３１Ｃは、支持部材１３１Ｄの一端部（幅方向に一端部）の主面に、ベース層１３１Ｂがその主面を対向させて接着などにより接合している。

以下、２層構造を有するクリーニングブレードについて説明する。ゴム部材１３１Ｃにおいて、エッジ層１３１Ａは、感光体表面に残留したトナーを掻き取る機能を有し、ベース層１３１Ｂは弾性ゴム部材１３１Ｃのエッジ部が感光体に接触させる力を調節する機能を有する。

ベース層１３１Ｂは、エッジ層１３１Ａが有する硬さよりも低い硬さを有する層である。ベース層１３１Ｂとしては、２３℃において、タイプＡデュロメータ硬さ（ＪＩＳＡ硬さ）がＨｓＡ５８以上ＨｓＡ７６以下（望ましくは、ＨｓＡ６０以上ＨｓＡ７５以下）であり、反発弾性率が２１％以上４０％（望ましくは、２５％以上３５％以下）であり、かつ、永久伸びが３％以下（望ましくは、０．５％以上１．５％以下）である材料からなるものであることが望ましい。

図５中のａで示すエッジ層１３１Ａの厚さとして、０．２ｍｍ以上１．５ｍｍ以下が望ましく、０．５ｍｍ以上１．０ｍｍ以下がさらに望ましい。図５中のｂで示すベース層１３１Ｂの厚さとして、１．０ｍｍ以上３．０ｍｍ以下が望ましく、１．５ｍｍ以上２．５ｍｍ以下がさらに望ましい。また、エッジ層１３１Ａとベース層１３１Ｂの厚さの比（ａ：ｂ）としては、１：２０乃至１：２が望ましく、１：１０乃至１：３がさらに望ましい。

ゴム部材１３１Ｃを形成するための弾性材料としては、具体的には、例えば、ポリウレタンからなるものであることが望ましい。ポリウレタンとしては、通常ポリウレタンの形成に用いられるものであれば特に限定されないが、例えば、ポリエチレンアジペート、ポリカプロラクトンなどのポリエステルポリオールなどのポリオールとジフェニルメタンジイソシアネートなどのイソシアネートとからなるウレタンプレポリマー、及び、１，４−ブタンジオール、トリメチロールプロパン、エチレングリコールやこれらの混合物などの架橋剤を原料とするものが、得られるゴム部材が、耐摩耗性にすぐれ、機械的強度が大きいという点から望ましい。なお、ウレタンプレポリマーとしては、例えばＮＣＯ基の含有量が４質量％以上１０質量％以下、７０℃での粘度が１０００ｍＰａ・ｓ以上３０００ｍＰａ・ｓ以下のものが望ましい。

ゴム部材１３１Ｃをポリウレタンから製造する際には、通常、用いられるポリウレタン成形方法を用いれば良く、例えば、以下に示す方法等が挙げられる。まず、脱水処理を行った上記ポリオールと上記イソシアネートとを混合し、温度１００℃以上１２０℃以下で３０分間以上９０分間以下反応させて得られるプレポリマーに、上記架橋剤等を加えて、１４０℃に予熱した遠心成形機の金型内に注入し、５分間以上１５分間以下硬化させて、ベース層１３１Ｂを形成する。硬化反応の後、同様に前処理したエッジ層用材料を硬化したベース層上に注入し、３０分間以上６０分間以下硬化させて、エッジ層１３１Ａを形成する。硬化反応後、金型から取り出すことにより、厚さ２ｍｍ以上３ｍｍ以下の円柱状の２層構造シート体を得る。これを幅５ｍｍ以上３０ｍｍ以下、長さ２００ｍｍ以上５００ｍｍ以下の短冊状にカットし、ゴム部材１３１Ｃを得る。

支持部材１３１Ｄは、特に限定されず、例えば、クリーニング装置の筐体と一体となるものや、当該筐体に取り付けるための取り付け金具などが該当する。この取り付け金具は、例えば、金属、プラスチック、セラミックなどからなるものが挙げられるが、特に、無処理の鋼板、リン酸亜鉛処理やクロメート処理などの表面処理を施した鋼板、そのほかメッキ処理を施した鋼板などからなる取り付け金具が、とくに腐蝕などの経時変化を起こさないという点から望ましい。

ゴム部材１３１Ｃと支持部材１３１Ｄとの接着方法としては特に限定されず、例えば、ＥＶＡ系、ポリアミド系、ポリウレタン系ホットメルト接着剤やエポキシ系、フェノール系接着剤を用いる接着方法等が用いられる。これら接着方法の中ではホットメルト接着法を用いることが望ましい。

クリーニングブレード１３１（ゴム部材１３１Ｃ）の感光体に対する圧接力は、１０Ｎ／ｍ以上８０Ｎ／ｍ以下であることが望ましく、より望ましくは１５Ｎ／ｍ以上６０Ｎ／ｍ以下であり、さらに望ましくは２０Ｎ／ｍ以上５０Ｎ／ｍ以下である。この圧接力を上記範囲とすることで、トナー除去能が向上されると共に、感光体表面への局所的な力が働くことが抑制される。結果、感光体表面の局所的な磨耗が抑制され、長期にわたって繰り返し良好な画像が得られ易い。

また、潤滑材１４を感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、クリーニングをアシストする繊維状部材１３３（平ブラシ状）を用いた例を示してあるが、これらは必要に応じて使用してもよい。

画像形成装置１００は、上述した各装置の他に、例えば、感光体７に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。

図６は、他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略断面図である。画像形成装置１２０は、図６に示すように、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式のフルカラー画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。

タンデム型の画像形成装置に本実施形態の電子写真感光体を用いた場合、４本の感光体の電気特性が安定することから、より長期に渡ってカラーバランスの優れた画質が得られる。
また、本実施形態に係る画像形成装置（プロセスカートリッジ）において、現像装置（現像手段）は、磁性体を有する現像剤保持体を備え、磁性キャリア及びトナーを含む２成分系現像剤で静電潜像を現像するものであることが望ましい。この構成では、一成分系現像剤、特に非磁性一成分現像剤の場合に比べ、カラー画像でよりきれいな画質が得られ、更に高水準で高画質化及び高寿命化が実現される。

尚、本実施形態に係る画像形成装置においては、そのプロセススピード、即ち電子写真感光体の外周表面の移動速度が５００ｍｍ／ｓ以上の高速度であることが望ましい。このような高速プロセスで繰り返し画像形成を行っても、感光体の表面保護層の摩耗が抑制されるとともに、像流れが抑制された画像が高い生産性で得られる。

以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。尚、以下において「部」は、特に断りのない限り質量基準である。

酸化亜鉛（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ^２／ｇ）１００質量部をトルエン５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ６０３：信越化学社製）１．２５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛顔料を得た。
前記表面処理を施した酸化亜鉛１００質量部を５００質量部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン１質量部を５０質量部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて５時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行い、アリザリン付与酸化亜鉛顔料を得た。
このアリザリン付与酸化亜鉛顔料６０質量部と硬化剤ブロック化イソシアネート スミジュール３１７５（住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部とブチラール樹脂ＢＭ−１（積水化学社製）１５質量部をメチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部と、メチルエチルケトン ２５質量部とを混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間の分散を行い、分散液を得た。

得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート ０．００５質量部、シリコーン樹脂粒子トスパール１４５（ＧＥ東芝シリコーン社製） ４０質量部を添加し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い、下引層形成用塗布液を得た。
この塗布液を浸漬塗布法にて直径６０ｍｍ、長さ３５７ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に浸漬塗布し、厚さ２０μｍの下引層を得た。

＜電荷発生層＞
次いで、電荷発生物質としてＸ線回折スペクトルにおけるブラッグ角（２θ±０．２°）が、７．４°、１６．６°、２５．５°、２８．３°に強い回折ピークを持つクロロガリウムフタロシアニン結晶１質量部を、ポリビニルブチラール樹脂（商品名：エスレックＢＭ−Ｓ、積水化学社製）１質量部とともに酢酸ブチル１００質量部に加え、ガラスビーズとともにペイントシェーカーで１時間処理して分散させた後、得られた塗布液を前記下引層の表面に浸漬塗布し、１００℃にて１０分間加熱乾燥して、膜厚約０．２μｍの電荷発生層を形成した。

＜電荷輸送層＞
更に、下記式で示される化合物１を２．１質量部、下記構造式１で示される高分子化合物（粘度平均分子量：３９，０００）２．９質量部をテトラヒドロフラン１０質量部及びトルエン５質量部に溶解して得られた塗布液を、電荷発生層の表面に浸漬塗布し、１３５℃にて３５分間加熱乾燥して、膜厚２４μｍの電荷輸送層を形成した。

＜表面保護層＞
４フッ化エチレン樹脂粒子としてルブロンＬ−２（ダイキン工業製）１０部、及び下記構造式２で表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体（重量平均分子量５０，０００、ｌ：ｍ＝１：１、ｓ＝１、ｎ＝６０）０．５部とシクロペンタノン４０部に十分に攪拌混合して、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。
次に、前述の化学式Ｉ−８で表される化合物を６５部、化学式Ｉ−２６で表される化合物を３０部、ベンゾグアナミン樹脂（ニカラックＢＬ−６０、三和ケミカル社製）を４部、それぞれシクロペンタノン２２０部に加えて、十分に溶解混合した後に、前記４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を加えて、攪拌混合した。次いで、微細な流路をもつ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（吉田機械興業製 ＹＳＮＭ−１５００ＡＲ）を用いて、７００ｋｇｆ／ｃｍ^２まで昇圧しての分散処理を２０回繰返した後、ジメチルポリシロキサン（グラノール４５０、共栄社化学）を１部、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）を０．１部加えて表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層形成用塗布液を浸漬塗布法で電荷輸送層の上に塗布して１５５℃で３５分間乾燥し、膜厚約６μｍの表面保護層を形成して得た感光体を、感光体１とした。

［感光体２］
感光体１の表面保護層の形成において、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液におけるルブロンＬ−２（ダイキン工業製）を１０部から５部に、フッ化アルキル基含有共重合体を０.５部から０．２５部、シクロペンタノンを２０部に変更し、十分に攪拌混合して、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。それ以降は感光体１と同様にして得られた感光体を、感光体２とした。

［感光体３］
感光体１の表面保護層の形成において、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液におけるルブロンＬ−２（ダイキン工業製）を１０部から１５部に、、フッ化アルキル基含有共重合体０.５部から０.７５部に、シクロペンタノンを４０部から８０部に変更し、十分に攪拌混合して、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。それ以降は感光体１と同様にして得られた感光体を、感光体３とした。

［感光体４］
感光体１の表面保護層の形成において、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液におけるルブロンＬ−２（ダイキン工業製）を１０部から２０部に、フッ化アルキル基含有共重合体０.５部から１．０部に、シクロペンタノンを４０部から８８部に変更し、十分に攪拌混合して、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。それ以降は感光体１と同様にして得られた感光体を、感光体４とした。

［感光体５］
感光体１の表面保護層の形成において、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液におけるルブロンＬ−２（ダイキン工業製）を１０部から３０部に、フッ化アルキル基含有共重合体を０.５部から１．５部に、シクロペンタノンを４０部から１２０部に変更し、十分に攪拌混合して、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。それ以降は感光体１と同様にして得られた感光体を、感光体５とした。

［感光体６］
感光体１の表面保護層の形成において、化学式Ｉ−８で表される化合物を７５部、化学式Ｉ−２６で表される化合物を２０部に変更した以外は感光体１と同様にして得られた感光体を、感光体６とした。

［感光体７］
感光体１の表面保護層の形成において、化学式Ｉ−８で表される化合物を５５部、化学式Ｉ−２６で表される化合物を４０部に変更した以外は感光体１と同様にして得られた感光体を、感光体７とした。

［感光体８］
感光体１の表面保護層の形成において、ベンゾグアナミン樹脂をメチル化メラミン樹脂（Ｂ−２：ニカラックＭＷ−３０ＨＭ、三和ケミカル社製）に変更した以外は感光体１と同様にして得られた感光体を、感光体８とした。

［感光体９］
感光体１の表面保護層の形成において、化学式Ｉ−８で表される化合物を６８部、ベンゾグアナミン樹脂を１部に変更した以外は感光体１と同様にして得られた感光体を、感光体９とした。

［感光体１０］
感光体８の表面保護層の形成において、化学式Ｉ−８で表される化合物を化学式Ｉ−１６で表される化合物に変更した以外は感光体８と同様にして得られた感光体を、感光体１０とした。

［感光体１１］
感光体８の表面保護層の形成において、化学式Ｉ−２６で表される化合物を下記式で表される化合物２に変更した以外は感光体８と同様にして得られた感光体を、感光体１１とした。

［感光体１２］
感光体１０の表面保護層の形成において、化学式Ｉ−１６で表される化合物を６７部、メチル化メラミン樹脂を２部に変更した以外は感光体１０と同様にして得られた感光体を、感光体１２とした。

［感光体１３］
感光体１２の表面保護層の形成において、メチル化メラミン樹脂をベンゾグアナミン樹脂に変更した以外は感光体１２と同様にして得られた感光体を、感光体１３とした。

［感光体１４］
感光体８の表面保護層の形成において、化学式Ｉ−８で表される化合物を５４部、ベンゾグアナミン樹脂をメチル化メラミン樹脂１５部に変更した以外は感光体８と同様にして得られた感光体を、感光体１４とした。

［感光体１５］
感光体１の表面保護層の形成において、化学式Ｉ−８で表される化合物を８５部、化学式Ｉ−２６で表される化合物を１０部に変更した以外は感光体１と同様にして得られた感光体を、感光体１５とした。

［感光体１６］
感光体１の表面保護層の形成において、化学式Ｉ−８で表される化合物を９０部、化学式Ｉ−２６で表される化合物を５部に変更した以外は感光体１と同様にして得られた感光体を、感光体１６とした。

［感光体１７］
感光体１の表面保護層の形成において、化学式Ｉ−８で表される化合物を５０部、化学式Ｉ−２６で表される化合物を４５部に変更した以外は感光体１と同様にして得られた感光体を、感光体１７とした。

［感光体１８］
感光体１の表面保護層の形成において、化学式Ｉ−８で表される化合物を４４部、ベンゾグアナミン樹脂を２５部に変更した以外は感光体１と同様にして得られた感光体を、感光体１８とした。

［感光体１９］
感光体１の電荷輸送層の形成において、化合物１の代わりに下記式で示される化合物３及び化合物４を２質量部ずつ使用した以外は感光体１と同様にして得られた感光体を、感光体１９とした。

［感光体２０］
感光体１９の表面保護層の形成において、化学式Ｉ−８で表される化合物を５５部、化学式Ｉ−２６で表される化合物を４０部に変更した以外は感光体１９と同様にして得られた感光体を、感光体２０とした。
［感光体２１］
電荷輸送層の形成までは感光体１と同様にして作製した。
４フッ化エチレン樹脂粒子としてルブロンＬ−２（ダイキン工業製）１０部、及び前記構造式２で表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体（重量平均分子量５０，０００、ｌ：ｍ＝１：１、ｓ＝１、ｎ＝６０）０．５部とシクロペンタノン４０部に十分に攪拌混合して、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。

次に、下記に示す構成材料を、イソプロピルアルコール５質量部、テトラヒドロフラン３質量部、蒸留水０．３質量部に溶解させ、イオン交換樹脂（アンバーリスト１５Ｅ）０．５質量部を加え、室温で攪拌することにより２４時間加水分解を行った。

−構成材料−
・下記構造の化合物５ ： ２質量部
・メチルトリメトキシシラン ： ２質量部
・テトラメトキシシラン ： ０．５質量部
コロイダルシリカ ： ０．３質量部

加水分解したものからイオン交換樹脂を濾過分離した液に対し、アルミニウムトリスアセチルアセトナート（Ａｌ（ａｑａｑ）_３）を０．１質量部、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）０．４質量部を加え、十分に溶解混合した後に、前記４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を加えて、攪拌混合した後、微細な流路をもつ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（吉田機械興業製 ＹＳＮＭ−１５００ＡＲ）を用いて、７００ｋｇｆ／ｃｍ^２まで昇圧しての分散処理を２０回繰返した後、ジメチルポリシロキサン（グラノール４５０、共栄社化学）を１部、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）を０．１部加えて保護層形成用塗布液を調製した。この塗布液を前記電荷輸送層の上にリング型浸漬塗布法により塗布し、室温で３０分風乾した後、１７０℃で１時間加熱処理して硬化し、膜厚７μｍの表面保護層を形成した。
得られた感光体を、感光体２１とした。

［感光体２２］
感光体１の表面保護層の形成において、化学式Ｉ−８で表される化合物を９４部、化学式Ｉ−２６で表される化合物を０部に変更した以外は感光体１と同様にして得られた感光体を、感光体２２とした。

［感光体２３］
電荷輸送層の形成までは感光体１と同様にして作製した。
次に、前述の化学式Ｉ−８で表される化合物を６５部、化学式Ｉ−２６で表される化合物を３０部、ベンゾグアナミン樹脂（ニカラックＢＬ−６０、三和ケミカル社製）を４部、それぞれシクロペンタノン２４０部に加えて、十分に溶解混合した後に、ジメチルポリシロキサン（グラノール４５０、共栄社化学）を１部、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）を０．１部加え保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層形成用塗布液を浸漬塗布法で電荷輸送層の上に塗布し１５５℃で３５分乾燥し、膜厚約６μｍの表面保護層を形成した感光体を、感光体２３とした。

［感光体２４］
電荷輸送層の形成までは感光体１と同様にして作製した。
次に、４フッ化エチレン樹脂粒子としてルブロンＬ−２（ダイキン工業製）１０部、前記構造式２で表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体（重量平均分子量５０，０００、ｌ：ｍ＝１：１、ｓ＝１、ｎ＝６０）０．５部、及びシクロペンタノン４０部を十分に攪拌混合して、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。次に、前述の化学式Ｉ−８で表される化合物を７０部、化学式Ｉ−２６で表される化合物を３０部、それぞれシクロペンタノン２２０部に加えて、十分に溶解混合した後に、前記４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を加えて、攪拌混合した後、微細な流路をもつ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（吉田機械興業製 ＹＳＮＭ−１５００ＡＲ）を用いて、７００ｋｇｆ／ｃｍ^２まで昇圧しての分散処理を２０回繰返した後、ジメチルポリシロキサン（グラノール４５０、共栄社化学）を１部、ＮＡＣＵＲＥ５２２５（キングインダストリー社製）を０．１部加えて表面保護層形成用塗布液を調製した。この表面保護層形成用塗布液を浸漬塗布法で電荷輸送層の上に塗布し１５５℃で３５分乾燥し、膜厚約６μｍの表面保護層を形成した感光体を、感光体２４とした。

［感光体２５］
感光体９の表面保護層の形成において、化学式Ｉ−８で表される化合物を５９部、化学式Ｉ−２６で表される化合物の代わりに化合物２で表される化合物を４０部、ベンゾグアナミン樹脂を１部に変更した以外は感光体９と同様にして得られた感光体を、感光体２５とした。

［感光体２６］
感光体１の表面保護層の形成において、ルブロンＬ−２（ダイキン工業製）を４０部、フッ化アルキル基含有共重合体２部、シクロペンタノンを１６０部に変更し、十分に攪拌混合して、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液を作製した。それ以降は感光体１と同様にして得られた感光体を、感光体２６とした。

［感光体２７］
感光体１において表面保護層を形成しなかったこと以外は感光体１と同様にして得られた感光体を、感光体２７とした。

［感光体２８］
電荷輸送層の形成までは感光体１と同様にして作製した。
分散剤としてのフッ素原子含有高分子（商品名：ＧＦ−３００、東亞合成（株）製）１．５部を、１，１，２，２，３，３，４−ヘプタフルオロシクロペンタン（商品名：ゼオローラＨ、日本ゼオン（株）製）のフッ素系溶剤１５０部に溶解した後、潤滑剤として４フッ化エチレン樹脂粒子（商品名／ルブロンＬ−２、ダイキン工業（株）製）３０部を加え、高圧分散機（商品名：マイクロフルイダイザーＭ−１１０ＥＨ、米Ｍｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓ社製）で６００ｋｇｆ／ｃｍ^２（５８．８４ＭＰａ）の圧力で３回の処理を施し均一に分散させた。これを１μｍのＰＴＦＥメンブレンフィルターで濾過を行い、潤滑剤分散液を作成した。その後、下記式（６）で示される正孔輸送性化合物７０部を潤滑剤分散液に加え、ＰＴＦＥプレフィルター（商品名：ＰＦ０２０、アドバンテック東洋（株）製）で濾過を行い、表面保護層形成用塗布液を調製した。

この表面層形成用塗布液を循環させながら浸漬塗布にて前記電荷輸送層上に塗布した。塗布後、５０℃で１０分加熱乾燥を行い、加熱乾燥後、窒素雰囲気中において加速電圧１５０ＫＶ、線量２０Ｍｒａｄ（２×１０^５Ｇｙ）の条件で電子線を照射し、樹脂を硬化させることによって膜厚５μｍの表面保護層を形成して得られた感光体を、感光体２８とした。

［画像形成テスト］
＜実施例１−１５、１８−２０、参考例１６−１７、２１−２２及び比較例１−６＞
感光体１乃至２８を用いて画像形成テストを行った。実験機は富士ゼロックス社製 ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ−ＩＩ Ｃ７５００を１５０枚／分で画像形成されるように改造した複写機を用いた。テストは白黒モードを用いて、通常テスト（７５枚／分）と必要に応じて高速テスト（１５０枚／分）を実施した。テストは高温高湿（２８℃、８０％ＲＨ）環境下において画像密度５％でＡ４用紙１０万枚の画像形成を行った後、電気特性評価、解像度評価、及び感光体１０００回転当たりの表面保護層の摩耗量（ｎｍ）を評価した。

１．電気特性評価
まず初期の感光体の電気特性評価として、現像手段を取り外し、表面電位計を設置して、感光体表面電位が−７００Ｖになるように、スコロトロン（非接触型帯電手段）のグリッド電圧を調整した。次に露光部電位が−３５０Ｖになるように露光光量を設定した。この露光光量を用いて１０万枚の画像形成を行った後に、再び露光部電位を測定し、初期との差分をΔＶＬで表した。
○：ΔＶＬ＜１０
△：１０≦ΔＶＬ＜１５
×：１５≦ΔＶＬ

２．解像度（像流れ）評価
初期の感光体電気特性評価と同様にして、スコロトロンのグリッド電圧と露光光量を調整した。次に３ｐｔ文字を印字し、その文字を拡大・観察し、文字に乱れ・つぶれがないか評価を行った。
○：図７（Ａ）のごとく良好である
△：図７（Ｂ）のごとく部分的な乱れやかすれがある（文字の判別は可）
×：図７（Ｃ）のごとく文字がつぶれ、判読不可。

３．摩耗量
摩耗量の測定は上記画像形成テスト時において、表面保護層の初期膜厚をあらかじめ測定しておき、初期膜厚と感光体１０００回転後の膜厚との差分を測定し、表面保護層の摩耗量（ｎｍ）を算出した。なお、膜厚は、フィッシャースコープ社製パーマスコープによって測定した。
○：２．５ｎｍ未満
△：２．５ｎｍ以上、５ｎｍ未満
×：５ｎｍ以上

４．高速テスト
高速テストは前述の電気特性評価を通常速度の倍速（高速モード：６４０ｍｍ／ｓ）で行った。評価方法は通常テストと同様に、高速モードで感光体表面電位が−７００Ｖになるように、スコロトロン（非接触型帯電手段）のグリッド電圧を調整し、次に露光部電位が−３５０Ｖになるように露光光量を設定した。この露光光量を用いて高速モードで１０万枚の画像形成を行った後に、再び露光部電位を測定し、初期との差分をΔＶＬで表した。
○：ΔＶＬ＜１０
△：１０≦ΔＶＬ＜２０
×：２０≦ΔＶＬ

５．総合判定の評価基準
電気特性評価、解像度評価、摩耗量、高速テストの各評価の結果に基づき、以下の基準で総合判定をした。
○：良好（△が２つまで）
△：若干劣るが問題なし（△が３つまで）
×：使用不可（×が１つ以上）

＜実施例２３＞
感光体１を用いて画像形成テストを行った。実験機は、実施例１で用いた複写機のスコロトロンを帯電ロール（接触型帯電手段）に代えたものを用いた。テストは白黒モードを用いて、通常テスト（７５枚／分）と必要に応じて高速テスト（１５０枚／分）を実施した。テストは高温高湿（２８℃、８０％ＲＨ）環境下において画像密度５％でＡ４用紙１０万枚の画像形成を行った後、実施例１と同様に、電気特性評価、解像度評価、及び感光体１０００回転当たりの表面保護層の摩耗量（ｎｍ）を評価した。
結果を表１に示す。

表１に示すように、実施例では、比較例に比べ、トナー像を被転写体媒体に転写した後の電子写真感光体表面に残留するトナーの除去性に優れ、長期に亘って繰り返し良好な画像が得られていることが判る。

１ 下引層、２ 電荷発生層、３ 電荷輸送層、４ 導電性基体、５ 表面保護層、６ 単層型感光層、７，７Ａ，７Ｂ，７Ｃ 電子写真感光体、８ 帯電装置、９ 露光装置、１１ 現像装置、１３ クリーニング装置、１４ 潤滑材、１８ 非接触型帯電器、４０ 転写装置、５０ 中間転写体、１００，１１０，１２０ 画像形成装置、１３１ クリーニングブレード、１３２ 繊維状部材、１３３ 繊維状部材、３００ プロセスカートリッジ

Claims (7)

1. 最表面層がフッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体を含み、下記式（１）を満たす電子写真感光体と、
   前記電子写真感光体を帯電する帯電手段と、
   帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する潜像形成手段と、
   前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を、トナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、
   前記電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を記録媒体に転写する転写手段と、
   前記電子写真感光体の表面に残留する現像剤を除去するクリーニング手段と、
   を備え、
   前記電子写真感光体の最表面層が、
   グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種と、
   アルコキシ基を有する架橋性電荷輸送物質、及びアルコキシ基を有する架橋性電荷輸送物質に由来する構造から選択される少なくとも１種と、
   を更に含み、
   前記フッ素系樹脂粒子及び前記フッ化アルキル基含有共重合体を除いた最表面層の全固形分に対する、前記グアナミン化合物及び前記メラミン化合物の総含有量が０．１質量％以上２０質量％以下であり、
   前記フッ素系樹脂粒子及び前記フッ化アルキル基含有共重合体を除いた最表面層の全固形分に対する、前記アルコキシ基を有する架橋性電荷輸送物質及び前記アルコキシ基を有する架橋性電荷輸送物質に由来する構造の総含有量が１０質量％以上４０質量％以下である画像形成装置。
   １０≦Ａ×Ｂ≦５０ （１）
   Ａ：最表面層に含まれるフッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体の総含有量［質量％］
   Ｂ：電子写真感光体を１０００回転させたときの最表面層の摩耗量［ｎｍ］
2. 前記電子写真感光体の最表面層におけるフッ素系樹脂粒子及びフッ化アルキル基含有共重合体の総含有量が２１質量％以下である請求項１に記載の画像形成装置。
3. 前記電子写真感光体の最表面層が、水酸基を有する架橋性電荷輸送物質、及び水酸基を有する架橋性電荷輸送物質に由来する構造から選択される少なくとも１種を更に含む請求項１又は請求項２に記載の画像形成装置。
4. 前記フッ素系樹脂粒子が、４フッ化エチレンの重合体及び４フッ化エチレンとパーフルオロアルコキシエチレンとの共重合体から選ばれる少なくとも１種を含む請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の画像形成装置。
5. 前記フッ化アルキル基含有共重合体が、下記構造式Ａ及び下記構造式Ｂで表される繰り返し単位を含むフッ化アルキル基含有共重合体であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載の画像形成装置。
   
   （構造式Ａ及び構造式Ｂにおいて、ｌ、ｍ及びｎは１以上の整数を、ｐ、ｑ、ｒ及びｓは０または１以上の整数を、ｔは１以上７以下の整数を、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３及びＲ^４は水素原子又はアルキル基を、Ｘはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−Ｓ−、−Ｏ−、−ＮＨ−又は単結合を、Ｙはアルキレン鎖、ハロゲン置換アルキレン鎖、−（Ｃ_ｚＨ_２ｚ−１（ＯＨ））−又は単結合を表す。ｚは１以上の整数を表す。Ｑは−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。）
6. 前記帯電手段が、前記電子写真感光体に接触せずに該電子写真感光体を帯電する手段である請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載の画像形成装置。
7. 前記電子写真感光体の外周表面の移動速度が５００ｍｍ／ｓ以上である請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載の画像形成装置。