CN111546161A - 定位治具及抛光设备 - Google Patents

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张迅
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Abstract

本发明涉及一种定位治具及抛光设备，一种定位治具包括：基座，包括凸台，凸台设有第一抽气通道，第一抽气通道能够与抽真空装置相连通，并在抽真空装置工作时，第一抽气通道产生负压以将工件吸附固定于凸台；以及限位座，设有通槽，限位座盖设于基座上，凸台嵌设于通槽内，且凸台的高度小于通槽的深度，当工件吸附固定于凸台时，工件限位于通槽内。一种抛光设备，包括：上述的定位治具；第一底板，设有第三抽气孔；第二底板，设有气腔，第一抽气通道与第三抽气孔、气腔三者互相连通，抽真空装置连接于气腔开口处；抛光轮，与第二底板传动连接并用于驱使定位治具转动。上述定位治具及抛光设备，工件不容易发生位移，保证抛光打磨精度。

Description

定位治具及抛光设备
技术领域
本发明涉及抛光设备技术领域，特别是涉及一种定位治具及抛光设备。
背景技术
在生产手表盖时，需要对玻璃表盖进行抛光，以提高透视度、强度及美观效果。现有技术中的定位治具定位效果较差，在抛光处理过程中，抛光轮带动定位治具转动时，工件易挪动，而影响加工精度及工件平整度，产品良率低。
发明内容
基于此，有必要提供一种定位效果较佳的定位治具及抛光设备。
一种定位治具，包括：
基座，包括凸台，所述凸台设有第一抽气通道，所述第一抽气通道能够与抽真空装置相连通，并在所述抽真空装置工作时，所述第一抽气通道产生负压以将工件吸附固定于所述凸台；以及
限位座，设有通槽，所述限位座盖设于所述基座上，所述凸台嵌设于所述通槽内，且所述凸台的高度小于所述通槽的深度，当所述工件吸附固定于所述凸台时，所述工件限位于所述通槽内。
上述定位治具，工件通过抽真空方式固定于凸台，能够在竖直方向上有效固定工件，且减少工件损伤；同时将凸台嵌设于通槽，凸台的高度小于通槽深度，以使得工件能够固定于凸台并限位于通槽内，防止工件在水平方向挪动，工件在水平方向及竖直方向均可较好地定位。
在其中一个实施例中，所述第一抽气通道包括第一抽气孔，所述第一抽气孔开设于所述凸台的中部，所述抽真空装置通过管道连接于所述第一抽气孔处。
在其中一个实施例中，所述第一抽气通道还包括多个第一抽气槽，多个所述第一抽气槽开设于所述凸台承载所述工件的一面，所述第一抽气槽与所述第一抽气孔连通。
在其中一个实施例中，多个所述第一抽气槽呈网格状排布或环形阵列排布。
在其中一个实施例中，还包括缓冲件，所述缓冲件盖设于所述凸台上，且所述缓冲件的底面与所述凸台承载所述工件的一面相贴合。
在其中一个实施例中，所述缓冲件设有第二抽气孔及多个第二抽气槽，第二抽气槽与第二抽气孔连通，多个所述第二抽气槽与多个所述第一抽气槽一一对应设置，所述第二抽气孔与所述第一抽气孔对应设置。
在其中一个实施例中，所述缓冲件表面间隔设有多个凸起，所述凸起的顶面为平面结构，且多个所述凸起顶面齐平。
在其中一个实施例中，还包括如下中的至少一项：
所述基座的材质为塑料；
所述缓冲件的材质为聚酰胺纤维；
所述限位座的材质为模具钢。
一种抛光设备，包括：
上述的定位治具；
第一底板，设有第三抽气孔；
第二底板，设有气腔，所述第一抽气通道与所述第三抽气孔、所述气腔三者互相连通，所述抽真空装置连接于所述气腔开口处；
抛光轮，与所述第二底板传动连接并用于驱使所述定位治具转动。
上述抛光设备，工件不容易发生位移，从而保证抛光打磨精度，提高工件的平整度和光滑度。
在其中一个实施例中，所述定位治具还包括吸附垫，所述吸附垫连接于所述基座底部，且所述吸附垫抵接于所述基座及所述第一底板之间，所述吸附垫设有与所述第一抽气通道对应的第四抽气孔。
附图说明
图1为一实施例中定位治具的组合轴测图；
图2为图1所示定位治具的爆炸图；
图3为图2所示定位治具中吸附垫的局部结构示意图；
图4为图1的俯视图；
图5为图4的A-A面剖视图；
图6为一实施例中抛光设备的结构示意图(图示箭头为气流方向)。
附图标记：100、基座；110、凸台；120、主体；111、第一抽气通道；112、第一抽气孔；113、第一抽气槽；200、限位座；210、通槽；300、缓冲件；310、第二抽气孔；320、第二抽气槽；330、凸起；400、吸附垫；410、第四抽气孔；50、第一底板；510、第三抽气孔；60、第二底板；610、气腔。
具体实施方式
为了便于理解本发明，下面将参照相关附图对本发明进行更全面的描述。附图中给出了本发明的较佳实施方式。但是，本发明可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。相反地，提供这些实施方式的目的是使对本发明的公开内容理解的更加透彻全面。
需要说明的是，当元件被称为“固定于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本发明的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本发明的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本发明。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
请参考图1及图2，一实施例的定位治具包括基座100及限位座200，基座100包括凸台110，凸台110设有第一抽气通道111，第一抽气通道111能够与抽真空装置(图未示)相连通，抽真空装置工作时，第一抽气通道111内产生负压以将工件吸附固定于凸台110，限位座200盖设于基座100上，限位座200设有通槽210，凸台110嵌设于通槽210内，且凸台110的高度小于通槽210深度，当工件吸附固定于凸台110时，工件限位于通槽210内。
工件通过抽真空方式固定于凸台110，能够在竖直方向上有效固定工件，且减少工件损伤；同时将凸台110嵌设于通槽210，凸台110的高度小于通槽210深度，以使得工件能够固定于凸台110并限位于通槽210内，防止工件在水平方向挪动，工件在水平方向及竖直方向均可较好地定位。
需要说明的是，工件为玻璃基板或其他薄片状产品，工件轻薄易碎，需将工件定位于凸台110后再抛光打磨。在此，对工件类型不作限定。
请参考图2，基座100包括凸台110及主体120，凸台110连接于主体120上方。
在具体实施方式中，为了保持较好的密封性，凸台110及主体120为一体成型结构。
请参考图2，凸台110设有第一抽气通道111，抽真空装置通过管道连接于基座100，并使第一抽气通道111产生负压以将工件固定于凸台110。
具体地，第一抽气通道111包括第一抽气孔112，第一抽气孔112由凸台110的顶面贯穿至凸台110的底面，管道连接于第一抽气孔112处，抽真空装置抽真空以使第一抽气孔112形成负压，从而吸附工件。
进一步地，请参考图2，为了使气流更均匀地分布，第一抽气通道111还包括多个第一抽气槽113，多个第一抽气槽113开设于凸台110的端面并与第一抽气孔112连通，抽真空装置抽真空以使第一抽气孔112及多个第一抽气槽113内均形成负压，真空吸力能够均匀分布，从而加强对工件的吸附效果，使工件稳固于凸台110上。
在一些实施例中，多个第一抽气槽113呈网格状分布，以使气流快速均匀分布。在其他实施例中，多个第一抽气槽113还可以环形方式阵列分布或其他排列方式。
在一些实施例中，第一抽气孔112的数量为一且设于凸台110中部。在其他实施例，第一抽气孔112的数量还可以至少为二且间隔设置，以加强对工件的吸附效果。
请参考图2，上述定位治具还包括缓冲件300，缓冲件300盖设于凸台110上，且缓冲件300的底面与凸台110的端面能够贴合。
具体地，在一些实施例中，缓冲件300为聚酰胺纤维(即尼龙布)，凸台110的材质为塑料，缓冲件300通过胶水粘附于凸台110，缓冲件300韧度高且材质较软，能够有效防护工件被刮损。
在其他实施例中，缓冲件300还可以为硅胶，缓冲件300与凸台110还可以为可拆卸连接，以便于缓冲件300重复利用。
进一步地，为了使缓冲件300与凸台110的端面更好地贴合，缓冲件300设有第二抽气孔310及多个第二抽气槽320，当缓冲件300盖设于凸台110时，多个第二抽气槽320与多个第一抽气槽113一一对应设置，第二抽气孔310与第一抽气孔112对应设置。
在一些实施例中，多个第一抽气槽113呈网格状排布，多个第二抽气槽320也呈网格状排布，以使气流快速均匀分布。在其他实施例中，多个第二抽气槽320还可以环形方式阵列分布或其他排列方式。
在具体实施方式中，请参考图5，缓冲件300及凸台110的结构参照工件的外形呈仿形设计，例如图5所示实施例中，当工件为手表玻璃表盖时，凸台110及缓冲件300的端面边缘均呈弧形，以使凸台110更好地与工件匹配，且抛光处理转动凸台110时能够更好地固定工件。
更进一步地，请参考图3，缓冲件300表面设有多个凸起330，凸起330的顶面为平面结构，各平面结构与工件相抵接，能起到支撑的作用，同时增大缓冲件300与工件间的摩擦力，即抛光处理转动凸台110时，工件也不容易发生位移，从而保证抛光打磨精度，提高工件的平整度和光滑度。
在具体实施方式中，多个凸起330并排间隔排布，且多个凸起330的顶面齐平，以保证工件放置时平稳。
请参考图2、图4及图5，限位座200盖设于主体120上，限位座200设有通槽210，凸台110嵌设于通槽210内，且凸台110的高度小于通槽210深度，当工件吸附固定于凸台110时，工件限位于通槽210内。
可以理解的是，工件放置于凸台110，通过抽真空方式能够使工件在竖直方向上定位于凸台110。但抛光处理时抛光轮会带动凸台110转动，而使工件在水平方向可能会发生偏移或挪动，需要进一步对工件在水平方向限位。凸台110嵌设于通槽210内，由于凸台110的高度小于通槽210深度，凸台110与通槽210的内壁在轴向上不完全重合，以使通槽210的内壁在轴向上预留位置并用于对工件限位。
在具体实施方式中，由于抛光处理是直接在有水的环境下作业，故材质必须选用耐磨、防腐蚀性较好的材质，限位座200的材质为模具钢，例如S136H、S136、SKD11等多种型号中的一种。
在一些实施例中，凸台110呈矩形，通槽210也呈矩形。在其他实施例中，凸台110可呈圆柱形，通槽210可以呈圆形。在此，对凸台110及通槽210形状不作限定，只要凸台110及通槽210能够互相配合即可。
请参考图6，一实施例的抛光设备包括抛光轮(图未示)、第一底板50、第二底板60及上述定位治具，上述定位治具安装于第一底板50，第一底板50与第二底板60连接，抛光轮与第二底板60传动连接并用于驱使定位治具转动。
具体地，基座100底部与第一底板50连接，第一底板50设有第三抽气孔510，第二底板60设有气腔610，第一抽气通道111与第三抽气孔510、气腔610三者互相连通，抽真空装置连接于气腔610开口处并抽真空以使工件固定于凸台110。
进一步地，请参考图6及图2，上述定位治具还包括吸附垫400，吸附垫400连接于基座100底部且抵接于基座100及第一底板50之间。
可以理解的是，由于基座100及第一底板50的平整度有0.05-0.1mm的公差范围，若基座100的底部无软性材料做中介，则抽真空时容易漏气，不能有效地利用真空吸气，甚至会出现无法吸附产品的状况，通过设置吸附垫400以起到密封防漏气的作用。
在具体实施方式中，吸附垫400为橡胶，吸附垫400与基座100通过螺钉等紧固件连接。为了使抽真空时气流通畅，吸附垫400设有与第一抽气通道111对应的第四抽气孔410。
上述的定位治具，工件通过抽真空方式固定于凸台110，能够在竖直方向上有效固定工件，且减少工件损伤；同时将凸台110嵌设于通槽210，凸台110的高度小于通槽210深度，当工件吸附固定于凸台110时，工件能限位于通槽210内，防止工件在水平方向挪动，工件在水平方向及竖直方向均可较好地定位。
上述的抛光设备，抛光处理转动凸台110时，工件不容易发生位移，从而保证抛光打磨精度，提高工件的平整度和光滑度。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。
以上所述实施例仅表达了本发明的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对发明专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本发明的保护范围。因此，本发明专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种定位治具，其特征在于，包括：
基座，包括凸台，所述凸台设有第一抽气通道，所述第一抽气通道能够与抽真空装置相连通，并在所述抽真空装置工作时，所述第一抽气通道产生负压以将工件吸附固定于所述凸台；以及
限位座，设有通槽，所述限位座盖设于所述基座上，所述凸台嵌设于所述通槽内，且所述凸台的高度小于所述通槽的深度，当所述工件吸附固定于所述凸台时，所述工件限位于所述通槽内。
2.根据权利要求1所述的定位治具，其特征在于，所述第一抽气通道包括第一抽气孔，所述第一抽气孔开设于所述凸台的中部，所述抽真空装置通过管道连接于所述第一抽气孔处。
3.根据权利要求2所述的定位治具，其特征在于，所述第一抽气通道还包括多个第一抽气槽，多个所述第一抽气槽开设于所述凸台承载所述工件的一面，所述第一抽气槽与所述第一抽气孔连通。
4.根据权利要求3所述的定位治具，其特征在于，多个所述第一抽气槽呈网格状排布或环形阵列排布。
5.根据权利要求3所述的定位治具，其特征在于，还包括缓冲件，所述缓冲件盖设于所述凸台上，且所述缓冲件的底面与所述凸台承载所述工件的一面相贴合。
6.根据权利要求5所述的定位治具，其特征在于，所述缓冲件设有第二抽气孔及多个第二抽气槽，第二抽气槽与第二抽气孔连通，多个所述第二抽气槽与多个所述第一抽气槽一一对应设置，所述第二抽气孔与所述第一抽气孔对应设置。
7.根据权利要求5所述的定位治具，其特征在于，所述缓冲件表面间隔设有多个凸起，所述凸起的顶面为平面结构，且多个所述凸起顶面齐平。
8.根据权利要求5所述的定位治具，其特征在于，还包括如下中的至少一项：
所述基座的材质为塑料；
所述缓冲件的材质为聚酰胺纤维；
所述限位座的材质为模具钢。
9.一种抛光设备，其特征在于，包括：
如权利要求1-8任一项所述的定位治具；
第一底板，设有第三抽气孔；
第二底板，设有气腔，所述第一抽气通道与所述第三抽气孔、所述气腔三者互相连通，所述抽真空装置连接于所述气腔开口处；
抛光轮，与所述第二底板传动连接并用于驱使所述定位治具转动。
10.根据权利要求9所述的抛光设备，其特征在于，所述定位治具还包括吸附垫，所述吸附垫连接于所述基座底部，且所述吸附垫抵接于所述基座及所述第一底板之间，所述吸附垫设有与所述第一抽气通道对应的第四抽气孔。
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