CN111462613B - 窗以及包括窗的显示设备 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及窗和显示设备。窗包括基础层和第一涂覆层。第一涂覆层设置在基础层的第一表面上。第一涂覆层是单个层。第一涂覆层包括含氟的硅氧烷基化合物和二氧化硅。

Description

窗以及包括窗的显示设备
相关申请的交叉引用
本申请要求于2019年1月2日提交的第10-2019-0000284号韩国专利申请的优先权和权益，上述韩国专利申请如同在本文中完整阐述一样出于所有目的通过引用并入本文中。
技术领域
示例性实施方式总体上涉及窗、制造窗的方法以及包括窗的显示设备。
背景技术
诸如移动电话、导航系统、数码相机、电子书、便携式游戏机、各种终端等的各种移动电子设备可以使用包括液晶显示器(LCD)、有机发光二极管显示器等的显示设备。在这样的移动电子设备中使用的典型显示设备可以具有透明的覆盖窗(在下文中，窗)，该覆盖窗设置在显示面板的前部处，并且用户可以通过该覆盖窗看到图像。由于窗可以形成在设备的最外部位置处，因此窗应耐外部环境，以保护显示设备的(例如，内部的)显示面板。此外，作为使用开关或键盘作为输入设备的常规方法的替代，正在实现采用具有集成有显示屏的触摸面板的结构。这样，与利用常规输入机制的移动设备相比，窗的表面可能更频繁地与手指等接触。
在该部分中公开的以上信息仅用于理解发明构思的背景，且因此，可以包含不构成现有技术的信息。
发明内容
一些示例性实施方式能够提供一种具有简单制造工艺和薄厚度的窗。
一些示例性实施方式能够提供以薄厚度和简单制造工艺来制造窗的方法。
一些示例性实施方式能够提供一种显示设备，显示设备包括具有简单制造工艺和薄厚度的窗。
另外的方面将在下面的详细描述中阐述，并且部分地将根据公开内容中变得明显，或者可以通过发明构思的实践而获知。
根据一些示例性实施方式，窗包括基础层和第一涂覆层。第一涂覆层设置在基础层的第一表面上。第一涂覆层是单个层。第一涂覆层包括含氟的硅氧烷基化合物和二氧化硅。
根据一些示例性实施方式，显示设备包括显示面板和窗。窗包括基础层和第一涂覆层。第一涂覆层设置在基础层上。第一涂覆层是单个层。第一涂覆层包括多孔二氧化硅和气相二氧化硅。
根据一些示例性实施方式，制造窗的方法包括：制备窗的基础层；以及通过湿式涂覆工艺在基础层的第一表面上形成第一涂覆层。第一涂覆层由单个层形成。第一涂覆层包括多孔二氧化硅、气相二氧化硅和硅氧烷基化合物中的至少两项。硅氧烷基化合物包括氟。
根据各种示例性实施方式，简化了制造窗的过程，并因此，不仅可以减少制造时间，而且也可以减少制造成本。另外，可由窗(例如，窗的表面)提供防反射、防眩光和防指纹功能。
应理解，前面的概括性描述和下面的详细描述是示例性和说明性的，并且旨在为要求保护的主题提供进一步解释。
附图说明
附图示出了本发明构思的示例性实施方式并与说明书一起用于解释本发明构思的原理，附图被包括以提供对本发明构思的进一步理解，并且附图被并入本说明书中且构成本说明书的一部分。
图1是根据一些示例性实施方式的显示设备的示意性剖视图。
图2是根据一些示例性实施方式的多孔二氧化硅的示意性剖视图。
图3是根据一些示例性实施方式的显示设备的示意性剖视图。
图4、图5和图6是根据各个示例性实施方式的窗的剖视图。
图7是示出比较例和根据一些示例性实施方式的反射率的曲线图。
图8是示出比较例和根据一些示例性实施方式的颜色坐标的图像。
图9是根据一些示例性实施方式的气相二氧化硅的图像。
图10是根据一些示例性实施方式的多孔二氧化硅的图像。
具体实施方式
在以下描述中，出于说明的目的，阐述了诸多具体细节以提供对各种示例性实施方式的透彻理解。如本文中所使用的，术语“实施方式”和“实施例”可互换使用，并且是采用本文中所公开的发明构思中的一个或多个的非限制性示例。然而，显而易见的是，各种示例性实施方式可以在没有这些具体细节的情况下或以一个或多个等同布置实践。在其他实例中，公知的结构和设备以框图形式示出，以避免不必要地模糊各种示例性实施方式。此外，各种示例性实施方式可以不同，但不必是排他的。例如，在不脱离本发明构思的情况下，示例性实施方式的特定形状、配置和特性可以在另一示例性实施方式中使用或实现。
除非另有说明，否则所示的示例性实施方式应被理解为提供一些示例性实施方式的不同细节的示例性特征。因此，除非另外说明，否则在不脱离本发明构思的情况下，各个示例的特征、组件、模块、层、膜、面板、区域、方面等(在下文中，单独地或统称为“元件”或“多个元件”)可以以其他方式组合、分离、互换和/或重新布置。
附图中的交叉影线和/或阴影的使用通常设置为表明相邻元件之间的边界。这样，除非另有说明，否则交叉影线或阴影的存在与否都不能表示或表明对特定材料、材料性质、尺寸、比例、所示元件之间的共性和/或元件的任何其他特性、属性、性质等的任何偏好或要求。此外，在附图中，出于清楚和/或描述性目的，元件的大小和相对大小可以被夸大。这样，各个元件的尺寸和相对尺寸不必受限于附图中所示的尺寸和相对尺寸。当示例性实施方式可以不同地实现时，可以与所描述的顺序不同地执行具体的工艺顺序。例如，两个连续描述的工艺可以基本同时执行或者以与所描述的顺序相反的顺序执行。另外，相同的参考标号指代相同的元件。
当诸如层的元件被称为在另一元件“上”、“连接到”或“联接到”另一元件时，其可以直接在另一元件上、直接连接到或直接联接到另一元件，或者可以存在介于中间的元件。然而，当元件被称为“直接”在另一元件“上”、“直接连接到”或“直接联接到”另一元件时，不存在介于中间的元件。用于描述元件之间关系的其他术语和/或短语应以类似的方式进行解释，例如，“在……之间”与“直接在……之间”、“相邻”与“直接相邻”、“在……上”与“直接在……上”等。此外，术语“连接”可以指物理连接、电气连接和/或流体连接。另外，X-轴、Y-轴和/或Z-轴不限于直角坐标系的三个轴，且可以以更宽泛的含义来解释。例如，X-轴、Y-轴和Z-轴可彼此垂直，或者可表示彼此不垂直的不同方向。出于本公开的目的，“X、Y和Z中的至少一个”和“选自由X、Y和Z组成的组中的至少一个”可解释为仅X、仅Y、仅Z，或X、Y和Z中的两个或更多个的任意组合，诸如例如XYZ、XYY、YZ和ZZ。如本文中所使用的，术语“和/或”包括相关列出项目中的一个或多个的任何和所有组合。
虽然在本文中可使用术语“第一”、“第二”等来描述各种元件，但是这些元件不应被这些术语限制。这些术语用于将一个元件与另一元件区分开。因此，在不脱离本公开的教导的情况下，以下讨论的第一元件可以被称作第二元件。
出于描述性目的，可以在本文中使用空间相对术语，诸如“下面”、“下方”、“之下”、“下部”、“上方”、“上部”、“之上”、“较高”、“侧”(例如，在“侧壁”中)等，并从而描述如附图中所示的一个元件与另一(些)元件的关系。除了附图中描绘的定向之外，空间相对术语旨在包含装置在使用、操作和/或制造中的不同定向。例如，如果附图中的装置被翻转，则被描述为在其他元件或特征“下方”或“下面”的元件将随之被定向在其他元件或特征“上方”。因此，示例性术语“下方”可以包含上方和下方两种定向。此外，装置可具有以其他方式定向(例如，旋转90度或处于其他定向)，且因此本文中使用的空间相对描述语应相应地进行解释。此外，出于本公开的目的，短语“在平面上”是指从顶部观察物体部分，而短语“在截面上(或中)”是指观察从侧面竖直地切割物体部分的截面。
本文中使用的术语是用于描述特定实施方式的目的，并且不旨在进行限制。如本文中所使用的，单数形式“一”、“一个”和“该”旨在还包括复数形式，除非上下文另有明确说明。此外，当在本说明书中使用时，术语“包含(comprises)”、“包含(comprising)”、“包括(includes)”和/或“包括(including)”指定所阐述的特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或其组合的存在，但不排除一个或多个其他特征、整体、步骤、操作、元件、组件和/或其组合的存在或添加。还应注意，如本文中所使用的，术语“基本”、“约”和其他类似的术语用作近似术语而不用作程度术语，并因此用于为将由本领域普通技术人员认识到的所测量、计算和/或提供的值中的固有偏差留有余量。
本文中参考作为理想化示例性实施方式和/或中间结构的示意图的剖视图、等轴测图、立体图、平面图和/或分解图描述各种示例性实施方式。如此，应预期例如由于制造技术和/或公差而导致的与图示形状的偏差。因此，本文中所公开的示例性实施方式不应该解释为受限于具体示出的区域形状，而是应包括例如由制造而导致的形状的偏差。为此，附图中示出的区域本质上可以是示意性的，并且这些区域的形状可以不反映设备的区域的实际形状，并因此，不旨在进行限制。
除非另有定义，否则本文中使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本公开所属领域中的本领域普通技术人员所通常理解的含义相同的含义。术语，诸如在常用字典中定义的那些术语，应被解释为具有与其在相关领域的上下文中的含义一致的含义，并且除非在本文中明确地如此定义，否则不应以理想化或过于形式化的含义进行解释。
如本领域中惯用的那样，针对功能性块、单元和/或模块，描述且在附图中示出了一些示例性实施方式。本领域技术人员将理解，这些块、单元和/或模块通过可利用基于半导体的制造技术或其他制造技术形成的、诸如逻辑电路、离散组件、微处理器、硬布线电路、存储器元件、布线连接器等的电子电路(或光学电路)物理地实现。在块、单元和/或模块通过微处理器或其他相似硬件实现的情况下，可利用软件(例如，微代码)对它们进行编程并控制它们以执行本文中所讨论的各种功能，并且可选择性地通过固件和/或软件来驱动它们。还可设想到，每个块、单元和/或模块可通过专用硬件来实现，或者可实现为用于执行一些功能的专用硬件与用于执行其他功能的处理器(例如，一个或多个编程式微处理器和相关电路)的组合。另外，在不脱离发明构思的情况下，一些示例性实施方式中的每个块、单元和/或模块可在物理上分离成两个或更多个交互且离散的块、单元和/或模块。此外，在不脱离发明构思的情况下，一些示例性实施方式的块、单元和/或模块可在物理上组合成更复杂的块、单元和/或模块。
在下文中，将参考附图详细解释各种示例性实施方式。
现在，参考图1和图2描述根据一些示例性实施方式的显示设备。图1是根据一些示例性实施方式的显示设备的示意性剖视图。图2是根据一些示例性实施方式的多孔二氧化硅的示意性剖视图。
如图1中所示，根据一些示例性实施方式的显示设备包括显示面板100和设置在显示面板100上的窗300。粘合显示面板100和窗300的粘合层220设置在显示面板100与窗300之间。
显示面板100可以是柔性的、可拉伸的、可折叠的、可弯曲的、可卷曲的和/或以其他方式可变形的。在下文中，术语柔性的、可拉伸的、可折叠的、可弯曲的、可卷曲的和/或以其他方式可变形的将被单独地和/或统称为柔性的。显示面板100可以具有柔性使得显示面板100可以弯曲，但是显示面板100不限于此。例如，显示面板100可以是平坦的，或者包括但不限于至少一个平坦部分和至少一个柔性部分。
显示面板100可以是有机发光显示(OLED)面板。尽管未示出，但是显示面板100可以至少包括衬底、设置在衬底上的多个薄膜晶体管以及多个电极。
尽管已经将显示面板100描述为OLED面板，但是示例性实施方式不限于此。根据一些示例性实施方式，显示面板100可以是液晶显示面板(LCD)、量子点有机发光显示面板(QD-OLED)、无机发光显示面板、量子点液晶显示面板(QD-LCD)、量子纳米发射显示面板(QNED)、微发光显示面板、电泳显示面板、电润湿显示面板等中的至少一种。
粘合层220位于显示面板100与窗300之间。粘合层220组合(或以其他方式联接)显示面板100和窗300。粘合层220可以是透明聚合物树脂层，并且例如可以包括光学透明粘合剂(OCA)、光学透明树脂(OCR)、压敏粘合剂(PSA)和超可视树脂(SVR)中的至少一种，但是示例性实施方式不限于此。
光阻挡层210可以设置在粘合层220与窗300之间。光阻挡层210可以包括能够阻挡和/或吸收光的材料。根据一些示例性实施方式，光阻挡层210可以设置成与显示设备的边框区域对应。根据一些示例性实施方式，可以省略光阻挡层210。
窗300设置在显示面板100上，并且可以通过粘合层220附接到显示面板100。窗300可以保护显示面板100免受外部影响，例如，保护显示面板100不受灰尘、碎屑、湿气、冲击等的影响。
根据一些示例性实施方式的窗300包括基础层310和第一涂覆层330。
基础层310可以具有板形状。根据一些示例性实施方式，基础层310可以是玻璃衬底或塑料衬底。为了便于描述和说明，基础层310的配置由单个层组成，但是基础层310可以由多个层形成。
基础层310可以包括例如包括硅酸盐的玻璃材料。玻璃材料还可以包含(或包括)另外的材料以提供耐久性、表面光滑度和透明性。例如，基础层310可以包括铝硅酸盐、硼硅酸盐、硼铝硅酸盐等中的至少一种。基础层310还可以包括碱金属、碱土金属及其氧化物中的至少一种。然而，可以预期的是，示例性实施方式不限于上述用于基础层310的材料。
基础层310可以包括面对第一涂覆层330的第一表面311和面对显示面板100的第二表面312。另外，基础层310包括与第一表面311和第二表面312垂直的竖直表面315。
第一涂覆层330设置在窗300的外表面上。第一涂覆层330可以与基础层310的第一表面311重叠。第一涂覆层330可以与基础层310的第一表面311直接接触，但是示例性实施方式不限于此。第一涂覆层330可以设置第一表面311上，用户的触摸在第一表面311上直接执行。第一涂覆层330可以具有防眩光、防反射和至少用于防止(或减少)指纹出现在窗300上的防指纹特性或功能中的至少一种。
第一涂覆层330可以是单个层。第一涂覆层330可以通过一个层来提供防眩光、防反射和/或防指纹特性的效果。
第一涂覆层330可以包括含氟的硅氧烷基化合物、多孔二氧化硅和气相二氧化硅中的至少两种。第一涂覆层330可以包括含氟的硅氧烷基化合物和多孔二氧化硅、含氟的硅氧烷基化合物和气相二氧化硅、多孔二氧化硅和气相二氧化硅和\或含氟的硅氧烷基化合物、多孔二氧化硅和气相二氧化硅。
第一涂覆层330可以包括第一溶液(或化合物)的固化体。第一溶液可以包括含氟的硅氧烷基化合物、多孔二氧化硅和气相二氧化硅中的至少两种。第一溶液可以包括含氟的硅氧烷基化合物和多孔二氧化硅、含氟的硅氧烷基化合物和气相二氧化硅、多孔二氧化硅和气相二氧化硅或含氟的硅氧烷基化合物、多孔二氧化硅和气相二氧化硅。
含氟的硅氧烷基化合物可以包括例如十七氟癸基三甲氧基硅烷、十三氟辛基三乙氧基硅烷或十七氟癸基三异丙氧基硅烷。对于第一溶液中的总含量，可以以从约4重量百分数(wt％)至约7wt％的范围的量包括含氟的硅氧烷基化合物。当含氟的硅氧烷基化合物的含量超出上述含量时，可能难以同时实现窗300的防眩光、防反射和防指纹的效果。另外，可以以约5wt％至约6wt％、例如约4wt％至约5wt％，例如约6wt％至约7wt％，例如约4.5wt％至约6.5wt％的量包括含氟的硅氧烷基化合物。
根据一些示例性实施方式，包含含氟的硅氧烷基化合物的第一涂覆层330可以向窗300提供抗指纹效果。第一涂覆层330的接触角可以通过含氟的硅氧烷基化合物而增大。
在一些示例性实施方式中，多孔二氧化硅可以包括例如二氧化硅。对于第一溶液的总含量，所包括的多孔二氧化硅可以在约4wt％至约7wt％的范围内。如果多孔二氧化硅的含量超出上述含量，则可能难以同时实现窗300的防眩光、防反射和防指纹的效果。另外，所包括的多孔二氧化硅可以在约5wt％至约6wt％、例如约4wt％至约5wt％，例如约6wt％至约7wt％，例如约4.5wt％至约6.5wt％的范围内。
如图2中所示，多孔二氧化硅33可以包括中空部。多孔二氧化硅33具有在其中形成有空的空间的形状。例如，多孔二氧化硅33可以形成为环形配置，但是示例性实施方式不限于此。
多孔二氧化硅33的直径t1可以是从约50nm至约100nm，例如约70nm至约80nm，诸如约50nm至约70nm，例如约75nm至约100nm，例如约60nm至约75nm。包括在多孔二氧化硅33中的中空部的直径t3可以是从约30nm至约60nm，诸如约40nm至约50nm，例如约30nm至约45nm，例如约45nm至约60nm，例如约45nm至约55nm。围绕中空部的壳的厚度t2可以是从约10nm至约30nm，诸如约15nm至约25nm，例如约20nm至约30nm，例如约10nm至约25nm，例如约20nm至约25nm。
根据一些示例性实施方式，包含多孔二氧化硅的第一涂覆层330可以具有防止因外部光(或由外部光形成的)的反射的效果(或功能)。根据示例性实施方式，包括多孔二氧化硅的第一涂覆层330的表面反射率可以大于0且小于约2.5％，以及可以大于0且小于约1.3％。
根据一些示例性实施方式的气相二氧化硅可以包括例如无定形气相二氧化硅。对于第一溶液的总含量，可以以从约0.1wt％至约0.5wt％的量包括气相二氧化硅，例如约0.2wt％至约0.4wt％，诸如约0.1wt％至约0.3wt％，例如约0.3wt％至约0.5wt％，例如约0.25wt％至约0.35wt％。如果气相二氧化硅的含量超出上述含量，则可能难以同时实现窗300的防眩光、防反射和防指纹效果。
气相二氧化硅的直径可以是从约5nm至约10nm，例如约6nm至约9nm，诸如约5nm至约8nm，例如约7nm至约10nm，例如约7nm至约8nm。
根据一些示例性实施方式，包含气相二氧化硅的第一涂覆层330可以具有防止眩光的效果。包括具有气相二氧化硅的第一涂覆层330的窗300的光泽度可以是从约100光泽度单位(GU)至约120GU，例如105GU至约115GU，诸如110GU至约120GU，例如100GU至约115GU，例如108GU至约112GU。
另外，第一溶液可以包含环氧硅烷、酸催化剂和溶剂中的至少一种。
环氧硅烷可以包括例如三甲氧基硅烷。对于第一溶液的总含量，可以以从约3wt％至约5wt％范围的量包括环氧硅烷，例如约3.5wt％至约4.5wt％，诸如约3wt％至约4wt％，例如约4wt％至约5wt％，例如约3.8wt％至约4.2wt％。
酸催化剂例如可以包括均苯四甲酸酐。对于第一溶液的总含量，可以以从约0.1wt％至约0.5wt％的量包括酸催化剂，例如约0.2wt％至约0.4wt％，诸如约0.1wt％至约0.3wt％，例如约0.3wt％至约0.5wt％，例如约0.25wt％至约0.35wt％。
第一溶液可以包含残留溶剂，并且该残留溶剂可以是例如丙二醇甲醚。
第一溶液的粘度可以是从约1.0厘泊(cps)至约5.0cps，例如约2.0cps至约4.0cps，诸如约1.0cps至约3.5cps，例如约3cps至约5.0cps，例如约2.5cps至约3.5cps。
第一涂覆层330可以通过使用湿式涂覆方法形成在基础层310上。例如，可以使用滑涂机、棒涂机、旋涂机、喷涂机和/或类似物形成第一涂覆层330。例如，可以使用喷涂机将第一溶液涂覆在基础层310上，并且所涂覆的溶液可以在180℃至200℃下固化30分钟以形成第一涂覆层330。如果第一涂覆层330使用干式涂覆方法形成，则在制造过程中根据设置的基础层310的高度偏差，可能发生沉积距离偏差。这样，干式涂覆方法形成的第一涂覆层330可能不能均匀地形成，并且由于干式涂覆形成的第一涂覆层330，可能发生颜色失真。
然而，根据一些示例性实施方式，当使用湿式涂覆方法形成第一涂覆层330时，第一涂覆层330可以均匀地形成在基础层310上。由于可以减少由窗300引起的颜色失真，因此可以提供优异的(或至少改善的)质量的显示设备。
根据一些示例性实施方式的第一涂覆层330可以包括被包含在一个层中的气相二氧化硅、多孔二氧化硅和含氟的硅氧烷基化合物。根据一些示例性实施方式的第一涂覆层330可以通过单个层而具有多种效果，这可以为窗300提供简单的制造工艺和优异的质量。
接下来，参考图3描述根据一些示例性实施方式的显示设备。图3是根据一些示例性实施方式的显示设备的示意性剖视图。省略与上述配置相同的配置的描述。
根据一些示例性实施方式的显示设备可以包括围绕显示面板100和窗300的壳体400。壳体400不限于所示出的形式，并且可以具有围绕显示面板100和窗300的任何形式。
根据一些示例性实施方式的窗300包括基础层310和第一涂覆层330。
基础层310可以是玻璃衬底或塑料衬底。基础层310可以包括例如包括硅酸盐的玻璃材料。玻璃材料还可以包含另外的材料以提供耐久性、表面光滑度和透明性。例如，基础层310可以包括铝硅酸盐、硼硅酸盐、硼铝硅酸盐等中的至少一种。基础层310还可以包括碱金属、碱土金属及其氧化物中的至少一种，但是示例性实施方式不限于上述材料。
根据一些示例性实施方式，基础层310包括面对第一涂覆层330的第一表面311、面对显示面板100的第二表面312以及与第一表面311和第二表面312垂直的竖直表面315。第一表面311是面对用户(或第一涂覆层330)的表面，并且第二表面312是面对显示面板100并与光阻挡层210和粘合层220重叠的表面。
基础层310可以包括第一倾斜表面313，第一倾斜表面313相对于第一表面311倾斜，例如，以大于0°且小于90°的角度倾斜。第一倾斜表面313连接第一表面311和竖直表面315。基础层310可以包括第二倾斜表面314，第二倾斜表面314相对于第二表面312倾斜，例如，以大于0°且小于90°的角度倾斜。第二倾斜表面314连接第二表面312和竖直表面315。
第一涂覆层330可以与基础层310的第一表面311重叠。另外，第一涂覆层330可以与第一倾斜表面313的部分重叠，但是示例性实施方式不限于此。
第一涂覆层330可以沿着基础层310的一侧(例如，沿着基础层310的第一倾斜表面313)具有倾斜的形状。第一涂覆层330可以由具有预定粘度的溶液形成。在涂覆和固化溶液的过程中，第一涂覆层330的端部可以具有朝向基础层310的一侧的锥形形状。第一涂覆层330的端部的厚度可以朝着基础层310的第一倾斜表面313减小。
接下来，将参考图4至图6描述根据一些示例性实施方式的显示设备。图4、图5和图6是根据各个示例性实施方式的窗的剖视图。省略与上述组件相同的组件的描述。
首先，参考图4，第一涂覆层330的端部可以沿着第一倾斜表面313具有倾斜的形状。第一涂覆层330可以由具有预定粘度的溶液形成。在涂覆和固化溶液的过程中，第一涂覆层330的端部可以具有朝向基础层310的一侧的锥形形状。第一涂覆层330的端部的厚度可以朝着基础层310的第一倾斜表面313减小。
另外，第一涂覆层330的端部可以与第一倾斜表面313的端部对准。然而，示例性实施方式不限于此。例如，第一涂覆层330可以完全覆盖第一倾斜表面313，并且第一涂覆层330的端部可以设置在竖直表面315上。
接下来，参考图5，连接基础层310的第一表面311和竖直表面315的第一倾斜表面313可以包括凸出形状的弯曲表面。尽管已经描述了具有凸出形状的弯曲表面的第一倾斜表面313，但是示例性实施方式不限于此。例如，第一倾斜表面313的形状可以包括具有凹入形状的弯曲表面或具有曲率的任何形状。第一涂覆层330可以与凸出形状的第一倾斜表面313部分地重叠。例如，第一涂覆层330的端部可以与凸出形状的第一倾斜表面313重叠。
参考图6，连接基础层310的第一表面311和竖直表面315的第一倾斜表面313可以包括凸出形状的弯曲表面。
第一涂覆层330的端部可以沿着第一倾斜表面313具有倾斜的形状。第一涂覆层330可以由具有预定粘度的溶液形成。在涂覆和固化溶液的过程中，第一涂覆层330的端部可以具有朝向基础层310的一侧的锥形形状。第一涂覆层330的端部的厚度可以朝着基础层310的第一倾斜表面313减小。
第一涂覆层330可以与凸出形状的第一倾斜表面313重叠。根据一些示例性实施方式，第一涂覆层330可以完全覆盖凸出形状的第一倾斜表面313。第一涂覆层330的端部可以与第一倾斜表面313的端部对准，但是示例性实施例不限于此。例如，第一涂覆层330的端部可以设置在竖直表面315上。
接下来，参考图7和8描述示例性实施方式和比较例。图7是示出比较例和根据一些示例性实施方式的反射率的曲线图。图8是示出比较例和根据一些示例性实施方式的颜色坐标的图像。
参考图7，示例性实施方式是包括基础层和由一个层构成的第一涂覆层的窗，以及比较例1至比较例4示出了单独地包括基础层、用于防眩光的表面处理层、防反射涂覆层和防指纹涂覆层的窗。比较例1至比较例4包括相同的表面处理层和涂覆层，但是基础层的厚度或性能不同。
如图7中所示，可以确认示例性实施方式在约400nm至约700nm的整个波长区域中表现出几乎恒定的反射率(约1.3％至约1.7％)。根据示例性实施方式的窗在整个波长区域上表现出均匀的反射率，使得所提供的颜色不失真，并且外部光的反射减少效果可以是优异的。
另一方面，在比较例1至比较例4的情况下，根据波长观察到约5％的反射率差异。在这种情况下，与其他波长相比，一些波长可能被过度反射，并因此，在提供给用户的光的颜色中可能发生失真。
参考图8，可以确认示例性实施方式具有更接近颜色坐标中心的颜色坐标。换言之，确认示例性实施方式的颜色纯度优于比较例的颜色纯度。
例如，参考以下的图8和表1，根据示例性实施方式的颜色坐标(a*，b*)可以是0.45和0.11，并因此，窗的外观代表中性色。另一方面，在比较例2的情况下，颜色坐标可以是-1.55和-1.55，且如图8中所示，外观代表浅蓝色。在比较例3的情况下，通过图8可以确认外观也代表浅蓝色。另一方面，比较例5的颜色坐标可以是-0.07和-2.06，并且可以确认外观代表浅紫色。比较例5包括与上述比较例1至比较例4的表面处理层和涂覆层相同的表面处理层和涂覆层，但是窗的基础层不同。注意，比较例5未在图8中示出，而是在表1中提供。
表1
另外，确认根据示例性实施方式的光泽度是约104.8GU，根据比较例2的光泽度是约94.5GU，以及根据比较例5的光泽度是约101.2GU。可以确认，即使根据示例性实施方式仅包括一个层，仍可获得足够的光泽度。另外，确认示例性实施方式中的表面反射、接触角和表面硬度与比较例中的表面反射、接触角和表面硬度相似。与分别包括防反射层、防指纹层等的比较例相比，确认仅包括一个层的示例性实施方式也具有足够的防反射效果、表面硬度和防指纹效果(接触角)。
接下来，参考图9和图10描述根据一些示例性实施方式的包括在第一涂覆层330中的材料。图9是根据一些示例性实施方式的气相二氧化硅的图像。图10是根据一些示例性实施方式的多孔二氧化硅的图像。
参考图9，可以确认，根据一些示例性实施方式的气相二氧化硅具有约5nm至约10nm的直径。另外，参考图10，可以确认，根据一些示例性实施方式的多孔二氧化硅具有包括中空部的球形形状。
另一方面，当如比较例中的至少一个中那样单独地执行防眩光处理并且单独地包括防反射层和防指纹层时，制造工艺的制造成本可能显著增加。然而，根据各种示例性实施方式，制造成本可以是比较例中的至少一个的制造成本的约六分之一，使得其在降低制造成本方面可以是优异的。
尽管本文中已经描述了某些示例性实施方式和实现方式，但是根据该描述，其他实施方式和修改将是显而易见的。因此，本发明构思不限于这样的实施方式，而是限于所附权利要求的较宽泛的范围以及如将对本领域普通技术人员而言显而易见的各种明显修改和等同布置。

Claims (9)

1.一种窗，包括：
基础层；以及
第一涂覆层，设置在所述基础层的第一表面上，
其中：
所述第一涂覆层是单个层；以及
所述第一涂覆层包括含氟的硅氧烷基化合物和二氧化硅，所述二氧化硅包括多孔二氧化硅和气相二氧化硅，以及
其中：
所述多孔二氧化硅和所述含氟的硅氧烷基化合物各自以从4wt％至7wt％的范围的量被包括；以及
所述气相二氧化硅以从0.1wt％至0.5wt％的范围的量被包括。
2.根据权利要求1所述的窗，其中：
所述多孔二氧化硅包括中空部；以及
所述中空部的直径是从30nm至60nm。
3.根据权利要求1所述的窗，其中，所述含氟的硅氧烷基化合物包括十七氟癸基三甲氧基硅烷。
4.根据权利要求1所述的窗，其中，所述第一涂覆层的端部沿所述基础层的一个表面倾斜。
5.根据权利要求1所述的窗，其中，所述基础层包括：
第二表面，与所述第一表面重叠；
竖直表面，与所述第一表面和所述第二表面垂直；
第一倾斜表面，连接所述第一表面和所述竖直表面；以及
第二倾斜表面，连接所述第二表面和所述竖直表面。
6.根据权利要求5所述的窗，其中，所述第一涂覆层与所述第一倾斜表面重叠。
7.根据权利要求5所述的窗，其中，所述第一倾斜表面是弯曲表面。
8.一种显示设备，包括：
显示面板；以及
窗，与所述显示面板重叠，
其中，所述窗包括：
基础层；以及
第一涂覆层，设置在所述基础层上，
其中：
所述第一涂覆层是单个层；以及
所述第一涂覆层包括含氟的硅氧烷基化合物、多孔二氧化硅和气相二氧化硅，以及
其中：
所述多孔二氧化硅和所述含氟的硅氧烷基化合物各自以从4wt％至7wt％的范围的量被包括；以及
所述气相二氧化硅以从0.1wt％至0.5wt％的范围的量被包括。
9.根据权利要求8所述的显示设备，其中，所述第一涂覆层的端部沿所述基础层的一个表面倾斜。
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