CN111279263A - 黑色阻隔壁图案膜及其制造方法 - Google Patents

黑色阻隔壁图案膜及其制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN111279263A
CN111279263A CN201980005327.9A CN201980005327A CN111279263A CN 111279263 A CN111279263 A CN 111279263A CN 201980005327 A CN201980005327 A CN 201980005327A CN 111279263 A CN111279263 A CN 111279263A
Authority
CN
China
Prior art keywords
black
partition wall
wall pattern
curable resin
black partition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
CN201980005327.9A
Other languages
English (en)
Inventor
孙镛久
裴南锡
李承宪
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
LG Chem Ltd
LG Corp
Original Assignee
LG Chem Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by LG Chem Ltd filed Critical LG Chem Ltd
Publication of CN111279263A publication Critical patent/CN111279263A/zh
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
    • EFIXED CONSTRUCTIONS
    • E06DOORS, WINDOWS, SHUTTERS, OR ROLLER BLINDS IN GENERAL; LADDERS
    • E06BFIXED OR MOVABLE CLOSURES FOR OPENINGS IN BUILDINGS, VEHICLES, FENCES OR LIKE ENCLOSURES IN GENERAL, e.g. DOORS, WINDOWS, BLINDS, GATES
    • E06B9/00Screening or protective devices for wall or similar openings, with or without operating or securing mechanisms; Closures of similar construction
    • E06B9/24Screens or other constructions affording protection against light, especially against sunshine; Similar screens for privacy or appearance; Slat blinds
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/165Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on translational movement of particles in a fluid under the influence of an applied field
    • G02F1/166Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on translational movement of particles in a fluid under the influence of an applied field characterised by the electro-optical or magneto-optical effect
    • G02F1/167Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on translational movement of particles in a fluid under the influence of an applied field characterised by the electro-optical or magneto-optical effect by electrophoresis
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/165Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on translational movement of particles in a fluid under the influence of an applied field
    • G02F1/1675Constructional details
    • G02F1/1679Gaskets; Spacers; Sealing of cells; Filling or closing of cells
    • G02F1/1681Gaskets; Spacers; Sealing of cells; Filling or closing of cells having two or more microcells partitioned by walls, e.g. of microcup type
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0005Production of optical devices or components in so far as characterised by the lithographic processes or materials used therefor
    • G03F7/0007Filters, e.g. additive colour filters; Components for display devices
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/027Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
    • G03F7/028Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with photosensitivity-increasing substances, e.g. photoinitiators
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/105Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/168Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2004Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the use of a particular light source, e.g. fluorescent lamps or deep UV light
    • EFIXED CONSTRUCTIONS
    • E06DOORS, WINDOWS, SHUTTERS, OR ROLLER BLINDS IN GENERAL; LADDERS
    • E06BFIXED OR MOVABLE CLOSURES FOR OPENINGS IN BUILDINGS, VEHICLES, FENCES OR LIKE ENCLOSURES IN GENERAL, e.g. DOORS, WINDOWS, BLINDS, GATES
    • E06B9/00Screening or protective devices for wall or similar openings, with or without operating or securing mechanisms; Closures of similar construction
    • E06B9/24Screens or other constructions affording protection against light, especially against sunshine; Similar screens for privacy or appearance; Slat blinds
    • E06B2009/2464Screens or other constructions affording protection against light, especially against sunshine; Similar screens for privacy or appearance; Slat blinds featuring transparency control by applying voltage, e.g. LCD, electrochromic panels

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Civil Engineering (AREA)
  • Electrochromic Elements, Electrophoresis, Or Variable Reflection Or Absorption Elements (AREA)

Abstract

根据本申请的一个示例性实施方案的黑色分隔壁图案膜包括:透明基底;设置在所述透明基底上的电极层;设置在所述电极层上的黑色分隔壁图案;以及设置在所述电极层上的未设置黑色分隔壁图案的区域中的黑色可UV固化树脂层。

Description

黑色阻隔壁图案膜及其制造方法
技术领域
本申请要求于2018年3月27日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2018-0034975号的优先权和权益,其全部内容通过引用并入本文。
本申请涉及黑色分隔壁图案膜及其制造方法。
背景技术
电泳可变透射率膜易于透射和阻挡从外部进入的光,并因此可以用作建筑用智能窗、车辆用天窗和透明显示器用光阻挡膜。
图1是示出相关技术中的在光阻挡模式或光透射模式下工作的电泳可变透射率膜的工作原理的图。
通常,如图1所示,为了从光阻挡模式切换到光透射模式,向金属电极图案施加正电压,并且使带负电的纳米粒子集中在具有相对小的电极宽度的金属电极图案上,使得光阻挡模式可以被转换成光透射模式。
然而,存在这样的问题:可见度由于电泳可变透射率膜中用于保持金属电极图案与透明基底之间的距离的球状间隔物而增加。
发明内容
技术问题
本申请致力于提供黑色分隔壁图案膜及其制造方法。
技术方案
本申请的一个示例性实施方案提供了黑色分隔壁图案膜,
其包括:
透明基底;
设置在透明基底上的电极层;
设置在电极层上的黑色分隔壁图案;以及
设置在电极层上的未设置黑色分隔壁图案的区域中的黑色可UV固化树脂层。
此外,本申请的另一个示例性实施方案提供了制造黑色分隔壁图案膜的方法,
该方法包括:
在透明基底上形成电极层;
向电极层上施加黑色可UV固化树脂组合物;
用压印模具压制所施加的黑色可UV固化树脂组合物,以及然后使黑色可UV固化树脂组合物固化;以及
移除压印模具。
此外,本申请的又一个示例性实施方案提供了包括黑色分隔壁图案膜的可变透射率膜。
有益效果
根据本申请的示例性实施方案,由于包括黑色分隔壁图案,因此当将示例性实施方案应用于电泳智能窗时,可以防止在光阻挡模式下透射率增加。
此外,根据本申请的示例性实施方案,由于可以通过使用压印工艺来制造黑色分隔壁图案膜,因此可以简化制造黑色分隔壁图案膜的工艺并且形成具有期望的线宽度的黑色分隔壁图案。
附图说明
图1是示意性地示出相关技术中的可变透射率膜的图。
图2是示意性地示出根据本申请的一个示例性实施方案的黑色分隔壁图案膜的图。
图3是示意性地示出根据本申请的示例性实施方案的制造黑色分隔壁图案膜的方法的图。
图4是示意性地示出根据本申请的示例性实施方案的制造压印模具的方法的图。
图5是示出根据本申请的示例性实施方案的黑色分隔壁图案膜的在光透射模式下的显微图像的图。
图6是示出根据本申请的示例性实施方案的黑色分隔壁图案膜的SEM图像的图。
[附图标记说明]
10:第一透明基底
20:第二透明基底
30:第一电极层
40:第二电极图案
50:带负(-)电的炭黑纳米颗粒
60:球状间隔物
70:透明基底
80:电极层
90:黑色分隔壁图案
100:黑色可UV固化树脂层
110:黑色可UV固化树脂组合物
120:压印模具
130:透明基底
140:干膜抗蚀剂
150:离型层
具体实施方式
在下文中,将详细描述本申请。
在本申请中,术语“透明”意指在可见光区域(400nm至700nm)中透射率为约80%或更高。
通常,为了制造电泳可变透射率膜,必需使用透明电极膜和金属图案电极膜。此外,为了在两个电极膜之间注入电泳物质例如带负(-)电的炭黑颗粒分散溶液,需要保持单元间隙。为此,需要设置球状间隔物、柱状间隔物图案或分隔壁图案。相关技术中的可变透射率膜示意性地示出在图1中。
在将使用光敏树脂组合物的光刻工艺应用于制造分隔壁图案的情况下,在大面积上实现具有均一线宽度的分隔壁图案方面存在限制。这归因于光掩模与光敏树脂组合物层的曝光间隙的均匀性以及光敏树脂组合物层的施加均匀性。
此外,在将透明分隔壁图案应用于制造分隔壁图案的情况下,可能存在这样的问题:当将示例性实施方案应用于智能窗时,在光阻挡模式下透射率增加。该问题可能是由透明分隔壁图案处的漏光引起的。
此外,在使用光刻工艺制造黑色分隔壁图案的情况下,由于黑色光敏树脂组合物的高光密度,曝光能量没有转移到下侧,因此,分隔壁图案可能无法实现。此外,在为了解决该问题而过度地发射曝光能量的情况下,可能存在分隔壁图案的线宽度大大增加的问题。
因此,本申请提供了能够解决上述问题的黑色分隔壁图案膜及其制造方法。
根据本申请的一个示例性实施方案的黑色分隔壁图案膜包括:透明基底;设置在透明基底上的电极层;设置在电极层上的黑色分隔壁图案;以及设置在电极层上的未设置黑色分隔壁图案的区域中的黑色可UV固化树脂层。
在本申请中,透明基底可以是但不限于在透明度、表面平滑度、易处理性和防水性上优异的玻璃基材或透明塑料基材,并且透明基材没有限制,只要透明基材通常用于电子元件即可。具体地,透明基材可以由玻璃、聚氨酯树脂、聚酰亚胺树脂、聚酯树脂、基于(甲基)丙烯酸酯的聚合物树脂或基于聚烯烃的树脂(例如聚乙烯或聚丙烯)制成。
在本申请中,电极层可以包含透明导电氧化物。更具体地,电极层可以包含但不仅限于铟氧化物、锌氧化物、铟锡氧化物、铟锌氧化物和铟锌锡氧化物中的一者或更多者。
为了确保在激活光阻挡模式时带电粒子的再分散特性,电极层的表面电阻可以为200Ω/sq或更小。
在本申请中,黑色分隔壁图案的线高度可以为5μm或更大,黑色分隔壁图案的线宽度可以为30μm或更小。此外,黑色分隔壁图案的线高度可以为5μm至50μm,黑色分隔壁图案的线宽度可以为5μm至30μm。如果黑色分隔壁图案的线高度小于5μm,则透明电极与金属电极图案基底之间的距离减小,使得为了确保在光阻挡模式下透射率为1%或更小,分散液体中带负(-)电的纳米粒子的含量过度增加,并因此,存在当可变透射率元件工作时带负(-)电的纳米粒子的分散特性劣化的问题。此外,如果黑色分隔壁图案的线高度大于50μm,则透明电极与金属电极图案基底之间的距离增加,并因此,工作速度可能降低。可以基于黑色分隔壁图案的线高度来确定电极之间的单元间隙。更具体地,如果单元间隙小,则为了确保光阻挡特性,光阻挡分散液体的浓度可能增加,并且带电粒子的浓度过度增加可能使分散稳定性劣化。此外,如果单元间隙大,则透明电极与金属图案之间形成的电场的强度可能降低,并且电泳特性(即,粒子的移动速度)可能随着带电粒子与金属图案之间的距离增加而降低。
黑色分隔壁图案的透射率可以为5%或更小。此外,黑色分隔壁图案的透射率可以为0%至5%。如果黑色分隔壁图案的透射率大于5%,则可能存在在光阻挡模式下黑色分隔壁图案可见的问题。在当前正在开发的电泳可变透射率膜的情况下,光阻挡模式(光阻挡分散液体分散的状态)下的透射率在1%至5%的水平上。如果黑色分隔壁图案的透射率高于该水平,则在分隔壁部分处可能会看到漏光。
黑色分隔壁图案的线间距可以为100μm至1,000μm。如果黑色分隔壁图案的线间距小于100μm,则可变透射率的范围可能由于分隔壁图案的区域的面积增加而减小。如果黑色分隔壁图案的线间距大于1,000μm,则可能难以保持电泳元件的均匀单元间隙。在其中存在黑色分隔壁图案的区域中不存在可变透射率,并因此,在线宽度保持相同时,如果黑色分隔壁图案的线间距太小,则可变透射率区域的面积减小。相反,如果所述线间距太大,则在将透明电极基底和金属图案基底层合的过程期间,基底(膜)变形,并因此,可能产生气泡,并且单元间隙的均匀性可能劣化。
在本申请中,在玻璃基底的整个表面上形成厚度等于黑色分隔壁图案的线高度的黑色可UV固化树脂层,然后可以通过使用分光光度计(SolidSpec-3700,Shimadzu Corp.)来测量透射率。
在本申请中,黑色可UV固化树脂层的厚度可以为1μm或更小,以及黑色可UV固化树脂层的透射率可以为80%或更大。此外,黑色可UV固化树脂层的厚度可以大于0μm且为1μm或更小,以及黑色可UV固化树脂层的透射率可以为80%或更大且小于100%。如果黑色可UV固化树脂层的厚度大于1μm,则透明电极与金属电极图案之间的电场的形成受到阻碍,并因此,存在电泳元件的工作特性可能劣化的问题。此外,如果黑色可UV固化树脂层的透射率小于80%,则在光透射模式下透射率降低,并因此,存在电泳元件的可变透射率范围减小的问题。
在本申请中,黑色分隔壁图案和黑色可UV固化树脂层各自可以由黑色可UV固化树脂组合物制成,并且黑色可UV固化树脂组合物可以包含但不仅限于丙烯酸类单体、丙烯酸类低聚物、光引发剂、黑色颜料和黑色染料中的一者或更多者。
在本申请中,黑色分隔壁图案和黑色可UV固化树脂层可以通过将黑色可UV固化树脂组合物施加到电极层上然后进行压印过程来同时形成。即,黑色分隔壁图案和黑色可UV固化树脂层可以包含相同的材料。
根据本申请的示例性实施方案的黑色分隔壁图案膜示意性地示出在图2中。如图2所示,根据本申请的示例性实施方案的黑色分隔壁图案膜包括:透明基底70;设置在透明基底70上的电极层80;设置在电极层80上的黑色分隔壁图案90;以及设置在电极层80上的未设置黑色分隔壁图案90的区域中的黑色可UV固化树脂层100。
此外,根据本申请的示例性实施方案的制造黑色分隔壁图案膜的方法包括:在透明基底上形成电极层;向电极层上施加黑色可UV固化树脂组合物;用压印模具压制所施加的黑色可UV固化树脂组合物以及然后使黑色可UV固化树脂组合物固化;以及移除压印模具。
根据本申请的示例性实施方案的制造黑色分隔壁图案膜的方法示意性地示出在图3中。如图3所示,根据本申请的示例性实施方案的制造黑色分隔壁图案膜的方法包括:在透明基底70上形成电极层80;向电极层80上施加黑色可UV固化树脂组合物110;用压印模具120压制所施加的黑色可UV固化树脂组合物110以及然后使黑色可UV固化树脂组合物110固化;以及移除压印模具120。
在本申请中,在透明基底上形成电极层可以使用本技术领域中已知的方法。更具体地,在透明基底上形成电极层可以使用但不仅限于沉积法等。
根据本申请的示例性实施方案的制造压印模具的方法示意性地示出在图4中。更具体地,压印模具可以通过包括但不仅限于以下的制造方法来制造:在透明基底130上形成干膜抗蚀剂140;通过使干膜抗蚀剂140曝光和显影来形成图案;以及在透明基底和图案上形成离型层150。
离型层可以实现为具有基于氟的离型材料和基于有机硅的离型材料的混合物的层。离型层的厚度可以为但不仅限于100nm或更小。形成离型层的方法的实例包括湿涂覆法、气相沉积法等,并且气相沉积法有利于在具有台阶部分的表面上实现均匀的离型层。
此外,本申请的示例性实施方案提供了包括黑色分隔壁图案膜的可变透射率膜。
根据本申请的示例性实施方案的可变透射率膜可以通过使用本技术领域中已知的材料和方法来形成,不同之处在于可变透射率膜包括黑色分隔壁图案膜。
例如,可变透射率膜可以具有第二透明基底,该第二透明基底具有设置在黑色分隔壁图案膜上的第二电极图案。在黑色分隔壁图案膜的电极层与第二电极图案之间包含带负(-)电的纳米粒子。
带负(-)电的纳米粒子可以是但不仅限于炭黑纳米颗粒。
可变透射率膜可以通过使用但不仅限于以下方法来制造:制备上述可变透射率膜,然后在黑色分隔壁图案膜的电极层与第二电极图案之间注入其中分散有带负(-)电的纳米粒子的溶液。
在本申请中,可变透射率膜可以通过电泳而工作。当根据本申请的示例性实施方案的可变透射率膜处于OFF模式时,透射率降低。在其中向电极层和第二电极图案施加电压的ON模式下,透射率可以随着带负(-)电的纳米粒子由于电泳而集中在作为正(+)电极的金属图案上而增加。
发明实施方式
在下文中,将参考实施例描述在本说明书中公开的示例性实施方案。然而,示例性实施方案的范围不旨在受以下实施例限制。
<实施例>
<实施例1>
1)压印模具的制造
在温度为110℃、速率为1.3mpm(米每分钟)以及压力为0.4MPa的条件下,将厚度为25μm的干膜抗蚀剂(DFR)辊层合在250μm的透明PET膜上。通过使用曝光装置利用波长为365nm的平行光来选择性地施加150mJ/cm2的曝光能量(光处理)。通过在温度为30℃以及喷射压力为0.2MPa的条件下使用Na2CO3为1重量%的显影剂,通过将完全曝光的DFR层合膜喷射显影90秒,来制造具有线宽度为25μm以及深度为25μm的凹陷部分的DFR图案膜。
通过使用气相沉积法在DFR图案膜上形成厚度为100nm并且具有基于氟的离型材料和基于有机硅的离型材料的混合物的离型层来完全制造压印模具。
2)透明可UV固化树脂组合物的制造
用表1所示的组合物制造透明可UV固化树脂组合物。
[表1]
Figure BDA0002463392580000081
3)黑色可UV固化树脂组合物的制造
通过将20重量份的黑磨基料(black mill base)(20重量份的粒径为100nm的炭黑、4重量份的分散剂和76重量份的三羟甲基丙烷三丙烯酸酯)与80重量份的透明可UV固化树脂组合物混合来制造黑色可UV固化树脂组合物。
4)黑色分隔壁图案膜的制造
将黑色可UV固化树脂组合物施加到表面电阻为150Ω/sq的ITO膜上,然后用压印模具以0.5MPa的压力和0.1mpm的速率辊压。通过使用UV固化装置以365nm的波长用1J/cm2的曝光能量通过从层合体的上方照射层合体以及然后从ITO膜分离压印模具来制造具有黑色分隔壁图案的ITO膜。
通过压印过程制造的黑色分隔壁图案的线宽度为25μm以及线高度为25μm。在未设置黑色分隔壁图案的区域中的黑色可UV固化树脂层的厚度为0.5μm。
黑色分隔壁图案的透射率为3%,没有黑色分隔壁图案的黑色可UV固化树脂层的透射率为92%。
在玻璃基底的整个表面上形成厚度等于黑色分隔壁图案或黑色可UV固化树脂层的线高度的黑色可UV固化树脂层,然后通过使用分光光度计(SolidSpec-3700,ShimadzuCorp.)来测量透射率。
图5示出了根据实施例1的黑色分隔壁图案膜的在光透射模式下的显微图像,图6示出了黑色分隔壁图案膜的SEM图像。
<比较例1>
将透明可UV固化树脂施加到表面电阻为150Ω/sq的ITO膜上,然后用压印模具以0.5MPa的压力和0.1mpm的速率辊压。通过使用UV固化装置以365nm的波长用1J/cm2的曝光能量从层合体的上方照射层合体以及然后从ITO膜分离压印模具来制造具有透明分隔壁图案的ITO膜。
通过压印过程制造的透明分隔壁图案的线宽度为25μm以及线高度为25μm。未设置透明分隔壁图案的区域中的透明可UV固化树脂层的厚度为0.5μm。
透明分隔壁图案的透射率为85%,没有透明分隔壁图案的透明可UV固化树脂层的透射率为95%。
因此,根据本申请的示例性实施方案,由于包括黑色分隔壁图案,因此当将示例性实施方案应用于电泳智能窗时,可以防止在光阻挡模式下透射率增加。
此外,根据本申请的示例性实施方案,由于可以通过使用压印工艺来制造黑色分隔壁图案膜,因此可以简化制造黑色分隔壁图案膜的过程并且形成具有期望的线宽度的黑色分隔壁图案。

Claims (12)

1.一种黑色分隔壁图案膜,包括:
透明基底;
设置在所述透明基底上的电极层;
设置在所述电极层上的黑色分隔壁图案;以及
设置在所述电极层上的未设置黑色分隔壁图案的区域中的黑色可UV固化树脂层。
2.根据权利要求1所述的黑色分隔壁图案膜,其中所述黑色分隔壁图案的线高度为5μm或更大。
3.根据权利要求1所述的黑色分隔壁图案膜,其中所述黑色分隔壁图案的线宽度为30μm或更小。
4.根据权利要求1所述的黑色分隔壁图案膜,其中所述黑色分隔壁图案的透射率为5%或更小。
5.根据权利要求1所述的黑色分隔壁图案膜,其中所述黑色可UV固化树脂层的厚度为1μm或更小。
6.根据权利要求1所述的黑色分隔壁图案膜,其中所述黑色可UV固化树脂层的透射率为80%或更大。
7.根据权利要求1所述的黑色分隔壁图案膜,其中所述黑色分隔壁图案和所述黑色可UV固化树脂层包含丙烯酸类单体、丙烯酸类低聚物、光引发剂、黑色颜料和黑色染料中的一者或更多者。
8.根据权利要求1所述的黑色分隔壁图案膜,其中所述电极层包含透明导电氧化物。
9.根据权利要求8所述的黑色分隔壁图案膜,其中所述透明导电氧化物包含铟氧化物、锌氧化物、铟锡氧化物、铟锌氧化物和铟锌锡氧化物中的一者或更多者。
10.一种制造根据权利要求1至9中任一项所述的黑色分隔壁图案膜的方法,所述方法包括:
在透明基底上形成电极层;
向所述电极层上施加黑色可UV固化树脂组合物;
用压印模具压制所施加的黑色可UV固化树脂组合物,以及然后使所述黑色可UV固化树脂组合物固化;以及
移除所述压印模具。
11.一种可变透射率膜,包括根据权利要求1至9中任一项所述的黑色分隔壁图案膜。
12.根据权利要求11所述的可变透射率膜,其中所述可变透射率膜通过电泳而工作。
CN201980005327.9A 2018-03-27 2019-03-11 黑色阻隔壁图案膜及其制造方法 Pending CN111279263A (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2018-0034975 2018-03-27
KR1020180034975A KR102179729B1 (ko) 2018-03-27 2018-03-27 블랙 격벽 패턴 필름 및 이의 제조방법
PCT/KR2019/002784 WO2019190079A1 (ko) 2018-03-27 2019-03-11 블랙 격벽 패턴 필름 및 이의 제조방법

Publications (1)

Publication Number Publication Date
CN111279263A true CN111279263A (zh) 2020-06-12

Family

ID=68059313

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201980005327.9A Pending CN111279263A (zh) 2018-03-27 2019-03-11 黑色阻隔壁图案膜及其制造方法

Country Status (6)

Country Link
US (1) US11709410B2 (zh)
EP (1) EP3779597B1 (zh)
JP (1) JP7305245B2 (zh)
KR (1) KR102179729B1 (zh)
CN (1) CN111279263A (zh)
WO (1) WO2019190079A1 (zh)

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014035385A (ja) * 2012-08-08 2014-02-24 Hitachi Chemical Co Ltd 調光素子、調光装置、および、それらの駆動方法
EP3056942A1 (en) * 2015-02-13 2016-08-17 Seiko Epson Corporation Electrophoresis display apparatus, manufacturing method of electrophoresis display apparatus, and electronic device
US20160274412A1 (en) * 2013-05-31 2016-09-22 Boe Technology Group Co., Ltd Double-faced display panel and manufacturing method thereof
KR20170038579A (ko) * 2015-09-30 2017-04-07 엘지디스플레이 주식회사 광 제어장치, 그를 포함한 투명표시장치, 및 그의 제조방법
US20170153525A1 (en) * 2013-11-28 2017-06-01 Lg Hausys, Ltd. Transmittance-variable film and method for producing same
US20170242167A1 (en) * 2016-02-18 2017-08-24 Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Color filter substrate and method for manufacturing the same

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0949906A (ja) * 1995-08-04 1997-02-18 Toray Ind Inc ブラックマトリクス基板、それを用いたマイクロレンズアレイシート、およびその製造方法
EP1161774A2 (en) 1999-02-19 2001-12-12 Amtek Research International LLC Electrically conductive, freestanding microporous polymer sheet
JP2005321769A (ja) * 2004-04-07 2005-11-17 Bridgestone Corp 情報表示用パネル
KR20050112940A (ko) 2004-05-28 2005-12-01 삼성전자주식회사 의사 음각부를 갖는 하이브리드 마스크 몰드 및 이를이용한 분리 격벽 및 에치 배리어의 제조방법
KR100790866B1 (ko) 2006-01-06 2008-01-03 삼성전자주식회사 컬러 필터용 블랙 매트릭스 및 그 제조방법
KR100741677B1 (ko) * 2006-03-06 2007-07-23 삼성전기주식회사 임프린팅에 의한 기판의 제조방법
JP4710671B2 (ja) 2006-03-17 2011-06-29 ブラザー工業株式会社 電気泳動表示媒体およびその製造方法
JP5236176B2 (ja) * 2006-11-17 2013-07-17 富士フイルム株式会社 黒色樹脂組成物
KR20080049252A (ko) 2006-11-30 2008-06-04 엘지디스플레이 주식회사 컬러필터기판 및 그 제조방법
JP2010170093A (ja) 2008-11-12 2010-08-05 Sumitomo Chemical Co Ltd 感光性黒色樹脂組成物、ブラックマトリクス基板およびカラーフィルタの製造方法
KR101363783B1 (ko) 2008-11-14 2014-02-17 엘지디스플레이 주식회사 임프린팅용 감광성 수지 조성물 및 기판 상에 유기막을 형성하는 방법
US8503063B2 (en) 2008-12-30 2013-08-06 Sipix Imaging, Inc. Multicolor display architecture using enhanced dark state
KR101590056B1 (ko) * 2008-12-31 2016-01-29 주식회사 동진쎄미켐 전계 구동 표시 장치의 제조 방법
JP2010197649A (ja) * 2009-02-25 2010-09-09 Fuji Xerox Co Ltd 画像表示媒体および画像表示装置
JP2010204540A (ja) * 2009-03-05 2010-09-16 Asahi Kasei E-Materials Corp 電気泳動表示装置
JP5410839B2 (ja) 2009-05-22 2014-02-05 Hoya株式会社 多階調フォトマスクの製造方法、多階調フォトマスク、及びパターン転写方法
JP2011215197A (ja) 2010-03-31 2011-10-27 Hoya Corp フォトマスク及びその製造方法
JP5597039B2 (ja) * 2010-06-23 2014-10-01 キヤノン株式会社 放射線撮像装置、放射線撮像システム及び放射線撮像装置の製造方法
KR101222488B1 (ko) * 2010-06-29 2013-01-16 한국기계연구원 전자회로 인쇄용 윤전인쇄기로 제작되는 유연면광 무기 el디스플레이와 제조방법
KR101338999B1 (ko) 2010-10-01 2013-12-09 엘지디스플레이 주식회사 전기영동 표시소자 및 그 제조방법
TWI470333B (zh) 2010-07-14 2015-01-21 Lg Display Co Ltd 電泳顯示裝置及其製造方法
JP2012078547A (ja) * 2010-10-01 2012-04-19 Bridgestone Corp 情報表示用パネルの製造方法及び情報表示用パネル
KR20130020313A (ko) 2011-08-19 2013-02-27 삼성전기주식회사 터치센서 및 그 제조방법
KR102168213B1 (ko) 2013-07-31 2020-10-21 주식회사 나노브릭 전기영동 디스플레이의 광특성 향상을 위한 구동 방법
KR102318870B1 (ko) * 2015-03-10 2021-10-29 삼성디스플레이 주식회사 액정 표시장치
CN106873209B (zh) 2015-09-30 2021-05-11 乐金显示有限公司 光控制装置、包括其的透明显示装置及其制造方法
KR102438632B1 (ko) * 2015-12-30 2022-08-31 엘지디스플레이 주식회사 표시장치 및 표시장치의 제조방법
KR102040468B1 (ko) 2016-01-26 2019-11-05 주식회사 엘지화학 광학 소자의 제조 방법
KR20180034975A (ko) 2016-09-28 2018-04-05 송연재 기능성 밑창 및 그것이 포함된 신발
CN110709761B (zh) * 2017-05-31 2022-06-28 夏普株式会社 液晶显示面板以及液晶显示装置
JP6789196B2 (ja) * 2017-09-08 2020-11-25 株式会社Joled 有機el表示パネル及び有機el表示パネルの製造方法
GB2571921A (en) * 2018-03-05 2019-09-18 Flexenable Ltd Displays

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014035385A (ja) * 2012-08-08 2014-02-24 Hitachi Chemical Co Ltd 調光素子、調光装置、および、それらの駆動方法
US20160274412A1 (en) * 2013-05-31 2016-09-22 Boe Technology Group Co., Ltd Double-faced display panel and manufacturing method thereof
US20170153525A1 (en) * 2013-11-28 2017-06-01 Lg Hausys, Ltd. Transmittance-variable film and method for producing same
EP3056942A1 (en) * 2015-02-13 2016-08-17 Seiko Epson Corporation Electrophoresis display apparatus, manufacturing method of electrophoresis display apparatus, and electronic device
KR20170038579A (ko) * 2015-09-30 2017-04-07 엘지디스플레이 주식회사 광 제어장치, 그를 포함한 투명표시장치, 및 그의 제조방법
US20170242167A1 (en) * 2016-02-18 2017-08-24 Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co., Ltd. Color filter substrate and method for manufacturing the same

Also Published As

Publication number Publication date
EP3779597B1 (en) 2024-10-16
WO2019190079A1 (ko) 2019-10-03
US11709410B2 (en) 2023-07-25
KR20190112957A (ko) 2019-10-08
KR102179729B1 (ko) 2020-11-17
JP2021502610A (ja) 2021-01-28
EP3779597A4 (en) 2021-03-10
US20200272016A1 (en) 2020-08-27
EP3779597A1 (en) 2021-02-17
JP7305245B2 (ja) 2023-07-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101358255B1 (ko) 광경화 타입 소수성 몰드 및 그 제조방법
CN102636904B (zh) 彩色滤光片、彩色滤光片的制作方法及液晶面板
JP6285558B2 (ja) 予備パターン化像を有するディスプレイパネル
US20020176963A1 (en) Microcup compositions having improved flexure resistance and release properties
CN104297990A (zh) 彩膜基板及制作方法、显示面板及制作方法、显示装置
CN111279263A (zh) 黑色阻隔壁图案膜及其制造方法
US11680443B2 (en) Variable transmittance film and smart window including same
CN101696339B (zh) 一种电子纸微杯的材料及制备方法
KR101164120B1 (ko) 액정표시소자 및 그 제조 방법
US11966163B2 (en) Photomask for imprinting and manufacturing method therefor
KR100995580B1 (ko) 롤 스탬퍼를 이용한 플라즈마 디스플레이 패널용 다기능 광학필터 제조방법
JP6848159B2 (ja) 隔壁パターンフィルム及びその製造方法
US20120261172A1 (en) Structure and pattern forming method of transparent conductive circuit
KR102396509B1 (ko) 블랙 격벽 패턴 필름 및 이의 제조방법
JP4675060B2 (ja) 電気泳動表示媒体
JP2020201401A (ja) 光学デバイス、光学デバイスの製造方法及び電子機器

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination