JP6285558B2 - 予備パターン化像を有するディスプレイパネル - Google Patents

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Description

本発明は、予備パターン化像を有するディスプレイを対象とする。そのようなパネルは、種々の応用、例えば固定像パターンを有する信号ディスプレイ、または偽造に対して保護するためのまたは単に装飾目的のための透かし特徴等を有する。
本発明は、電気泳動流体で充填されたマイクロセルを含むディスプレイパネルを対象とし、各マイクロセルは底部を有し、その底部の1つの表面は電気泳動流体に接触し、ディスプレイパネルは第1エリアおよび第2エリアを有し、第1エリア中のマイクロセルは実質的に同じ底部厚みを有し、第2エリア中のマイクロセルは付加的底部厚みを有する。
ある実施形態では、第2エリア中のマイクロセルは、第1エリア中のマイクロセルの底部厚みより0.001マイクロメートル〜第1エリア中のマイクロセルの深さの9/10大きい底部厚みを有する。
ある実施形態では、第2エリア中のマイクロセルは、第1エリア中のマイクロセルの底部厚みより0.001マイクロメートル〜第1エリア中のマイクロセルの深さの1/2大きい底部厚みを有する。
ある実施態様では、第2エリア中のマイクロセルの底部厚みは同一ではない。
ある実施態様では、第1エリアおよび第2エリアはいずれにおいてもマイクロセル中に充填された電気泳動流体が、溶媒または溶剤混合物中に分散した帯電粒子の1つの型を含む。別の実施態様では、第1エリアと第2エリアのマイクロセル中に充填された電気泳動流体は、溶媒または溶剤混合物中に分散した2つの種類の帯電粒子を含む。さらなる実施態様では、第1エリアおよび第2エリア中のマイクロセル中に充填された電気泳動流体は、溶媒または溶剤混合物において分散した2を超える種類の帯電粒子を含む。
ある実施態様では、表示パネルは2つの電極層の間に挟まれる。ある実施態様では、2つの電極層は非パターン化導電層である。別の実施態様では、電極層のうちの1つは共通電極層である。また、別の電極層は、薄膜トランジスターマトリックス駆動系またはセグメント化バックプレーン駆動系である。
ある実施形態では、ディスプレイパネルは、バーコード、反偽造ラベル、方向信号または棚ラベルに用いられる。別の実施態様では、ディスプレイパネルは、透かし応用に用いられる。
本発明の別の局面は、本発明のディスプレイパネルの製造のための方法を対象とし、これは、以下を含む:
a)表面が切り取られたエリアを有するニップローラーを与えて、パターンがディスプレイパネルのための意図されたパターンの正または負の像であるパターンを形成する工程;
b)エンボス加工性組成物をニップローラーの表面上にある基材層に被覆する工程;および
c)雄型をエンボス加工性組成物に適用する工程。
ある実施態様では、切り取られたエリアは異なった深さを有する。
ある実施態様では、基材層が電極層に取り付けられる。
本発明の更なる局面は、本発明のディスプレイパネルの製造方法を対象とし、その方法は、以下を含む:
a)マイクロセルを与える工程;
b)予備決定エリアにおけるマイクロセルを溶媒中の化学組成物で充填する工程;
c)溶媒を除去する工程;および
d)任意に、溶媒除去後に化学組成物を硬化する工程。
ある実施態様では、溶媒はメチルエチルケトン、アセトンあるいはイソプロピルアルコールである。ある実施態様では、化学組成物の異なった濃度でマイクロセルを充填する。ある実施態様では、濃度が0.01〜90重量%の範囲である。ある実施態様では、濃度が0.01%〜50重量%の範囲である。
ある実施態様では、化学組成物は、マイクロセルを形成する組成物と同一ではない。別の実施形態では、化学組成物は、マイクロセルを形成する組成物と同一である。
図1は、予備パターン化像を含むディスプレイパネルを示す。 図2は、マイクロセルについての断面図である。 図3は、1つのエリアにおけるマイクロセルが別のエリアにおけるマイクロセルより厚い底部を有する本発明の表示パネルを示す。 図4Aおよび4Bは、マイクロセルを製造するためのエンボス加工法を説明する。 図5は、本発明のディスプレイパネルの製造方法を示す。 図6は、本発明のディスプレイパネルの別の製造方法を示す。 図7は、2つの電極層の間に挟まれた本発明の表示パネルを示す。 図8は、本発明のディスプレイパネルがどのように異なるレベルの色強度を達成し得るかを示す。
本発明の第1の局面は、予備パターン化像を含むディスプレイパネルを対象とする。図1は、予備パターン化像「8」(11)が現れるマイクロセル(10a)を含んでなるディスプレイパネル(10)の平面図である。したがって、ディスプレイパネルは、パターン化エリア(11)およびバックグラウンドエリア(すなわち、パターン化エリアの外側のエリア)を有する。
図2は、マイクロセル(20)の断面図である。各マイクロセルは、底部(21)を持っており、ディスプレイ流体(22)でマイクロセルを充填する。底部の内部表面または上部表面(21a)はディスプレイ流体との直接接触である。
ある実施形態では、用語「マイクロセル」は米国特許第6,930,818号に記載のカップ様マイクロ容器であり得る。これはMICROCUP(登録商標)を包含する。
図3は、本発明のディスプレイパネル中のマイクロセルについての断面図である。パネルは、第1エリアおよび第2エリアを有する。本出願では、用語「第1エリア」は、マイクロセル(30b)が実質的に同一の底部厚みを有するエリアをいう。また、用語「第2エリア」は、マイクロセル(30a)が第1エリアにおけるマイクロセル中の底部より厚い底部を有するエリアをいう。用語「実質的に同一の」は、製作公差、例えば±5%以内である厚みにおける変化をいう。
第2エリアにおけるマイクロセル(30a)は付加的厚み「t」を有し、これは0.001マイクロメートル〜第1エリアにおけるマイクロセルの深さの9/10の範囲、好ましくは0.001マイクロメートル〜第1エリア中のマイクロセルの深さの1/2であり得る(ここで、マイクロセルの深さは実質的に一定である)。言いかえれば、第2エリアにおけるマイクロセルの底部厚みは、第1エリア中のマイクロセルの底部厚みより0.001マイクロメートル〜第1エリアのマイクロセルの深さの9/10の範囲、好ましくは0.001マイクロメートル〜第1エリア中のマイクロセルの深さの1/2の範囲大きい。
第2エリアは、第1エリアがバックグラウンドエリアであればパターン化エリアであり得るが、あるいはその逆もあり得る。
第2エリアにおける個々のマイクロセルにおける付加的底部厚みは同一である必要がない。それらのうちの幾つかは他のものより厚くてもよい。
本発明のディスプレイパネルは、種々の方法により調製し得る。
図4Aおよび4Bは、米国特許番号第6,831,770号および同第6,930,818号に記載の通りエンボス加工方法を説明する。示される通り、まず、基材層(41)上をエンボス加工性組成物(40)で被覆する。基材層はニップローラー(42)上にある。雄型(43)をエンボス加工性組成物上に押してマイクロセル(44)を形成する。マイクロセルを形成するためのエンボス加工性組成物は、雄型を外す間、または雄型を外した後に硬化し得る。この方法では、マイクロセルは実質的に均一な底部厚みを有する。
任意に、基材層(41)に取り付けられた電極層が存在し得る。電極層が存在する場合、エンボス加工性組成物は電極層側で被覆する。この状況では、電極層は、最終生産物中の表示パネルを挟む2つの層のうちの1つである。
電極層が方法に存在しない場合、得られるディスプレイパネルへ取り付けられた基材層をエンボス加工処理後に取り除き、電極または別の基材層で置き換える。
予備パターン化像を有するディスプレイパネルを製造するために、図4Aおよび4Bに示される方法は、ニップローラー(52)上にエリア(55)を切り取り(図5参照)、ディスプレイパネルのための意図したパターンの「正の」像または「負の」像であり得るパターンを形成することにより修正される。
エンボス加工法では、切り取られたエリアにおけるエンボス加工性組成物上に及ぼされた雄型からの圧力は、他のエリアの雄型からのエンボス加工性組成物上に及ぼされた圧力より低い。その結果、切り取られたエリアに対応する得られるディスプレイパネルにおけるマイクロセルの底部はより厚い。ニップローラー上の切り取られたエリアの深さの変更により、追加の厚みの程度を調節し得る。ニップローラー上のより深く切り取られたエリアは、対応するエリアにおいてマイクロセルのより厚い底部を生じさせる。
用語「正の像」は、上述のニップローラー上の切り取られたパターンがディスプレイパネルのための意図したパターンと同じであることをいう。この場合、形成されたディスプレイパネルは、マイクロセルがより厚い底部を有するパターン化エリアを有する。
用語「負の像」は、上述の切り取られたパターンがディスプレイパネルのための意図したパターン除くエリアに対応することをいう。この場合、形成された表示パネルは、マイクロセルがより厚い底部を有するバックグラウンドエリアを有する。
ニップローラーの表面を切り取る。しかしながら、これは図4および5において直線として例示のためだけに描かれる。
マイクロセルの追加厚みは同一である必要がないが、それは記載の方法によって達成することができる。言いかえれば、ニップローラー上の切り取られたエリアの深さにおける変化は、マイクロセルの底部厚みにおける変化をもたらす。
マイクロセルを形成するための適当なエンボス加工性組成物は先に開示される。米国特許第6,831,770号および同第6,930,818号は、マイクロセルの形成に適当である組成物が熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、あるいはその前駆体を含み得ることを記載する。熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂の前駆体の例としては、多官能性アクリレートまたはメタクリレート、多官能性ビニルエーテル、多官能性エポキシド、およびそのオリゴマーまたはポリマーが挙げられる。柔軟性を付与する架橋性オリゴマー、例えばウレタンアクリレートまたはポリエステルアクリレートもまた添加してエンボス加工化マイクロセルの屈曲性抵抗を改善し得る。
米国特許第7,880,958号は、極性オリゴマーあるいはポリマー材料を含み得るマイクロセルのための更なるエンボス加工性組成物を記載する。そのような極性オリゴマーまたはポリマー材料は、少なくとも1つの基、例えばニトロ基(−NO)、ヒドロキシル基(−OH)、カルボキシル基(−COO)、アルコキシ基(−OR、式中Rはアルキル基である)、ハロ基(例えばフッ素、クロロ、ブロモあるいはヨード)、シアノ基(−CN)、スルホネート基(−SO)等の少なくとも1つを有するオリゴマーまたはポリマーからなる群から選択され得る。極性ポリマー材料のガラス転移温度は、好ましくは約100℃未満、より好ましくは約60℃未満である。極性オリゴマーあるいはポリマー材料の具体例としては、これらに限定されないが、ポリヒドロキシル官能化ポリエステルアクリレート(例えばBDE 1025、Bomar Specialties Co, Winsted, CT等)、またはアルコキシル化アクリレート、例えばエトキシル化ノニルフェノールアクリレート(例えばSR504、Sartomer Company)、エトキシル化トリメチロールプロパントリアクリレート(例えばSR9035、Sartomer Company)またはエトキシル化ペンタエリトリロールテトラアクリレート(例えばSR494、Sartomer Company)が挙げられる。
米国特許出願第13/686,778号は、マイクロセルを形成するためのエンボス加工性組成物の別の型を開示する。組成物は(a)少なくとも1つの二官能性UV硬化性成分、(b)少なくとも1つの光開始剤および(c)少なくとも1つの離型剤を含む。適当な二官能性成分は約200を超える分子量を有し得る。二官能性アクリレートが好ましく、ウレタンまたはエトキシル化骨格を有する二官能性アクリレートが特に好ましい。より具体的には、適当な二官能性成分としては、これらに限定されないが、ジエチレングリコールジアクリレート(例えばSartomerからのSR230)、トリエチレングリコールジアクリレート(例えばSartomerからのSR272)、テトラエチレングリコールジアクリレート(例えばSartomerからのSR268)、ポリエチレングリコールジアクリレート(例えばSartomerからのSR295、SR344あるいはSR610)、ポリエチレングリコールジメタクリレート(例えばSartomerからのSR603、SR644、SR252あるいはSR740)、エトキシル化ビスフェノールAジアクリレート(例えばSartomerからのCD9038、SR349、SR601またはSR602)、エトキシル化ビスフェノールAジメタクリラート(例えばSartomerからのCD540、CD542、SR101、SR150、SR348、SR480あるいはSR541)およびウレタンジアクリレート(例えばSartomerからのCN959、CN961、CN964、CN965、CN980あるいはCN981; CytecからのEbecryl 230、Ebecryl 270、Ebecryl 8402、Ebecryl 8804、Ebecryl 8807あるいはEbecryl 8808)が挙げられる。適当な光開始剤としては、これらに限定されないが、ビス−アシル−ホスフィンオキシド、2−ベンジル−2−(ジメチルアミノ)−1−[4−(4−モルホリニル)フェニル]−1−ブタノン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、2−イソプロピル−9H−チオキサン−9−オン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルフィドおよび1−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン、1−[4−(2−ヒドロキシエトキシ)−フェニル]−2−ヒドロキシ−2−メチル−1−プロパン−1−オン、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンあるいは2−メチル−1[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノプロパン−1−オンが挙げられる。適当な離型剤としては、これらに限定されないが、有機変性シリコーンコポリマー、例えばシリコーンアクリレート(例えばCytecからのEbercryl 1360あるいはEbercyl 350)、シリコーンポリエーテル(例えばMomentiveからのSilwet 7200、Silwet 7210、Silwet 7220、Silwet 7230、Silwet 7500、Silwet 7600あるいはSilwet 7607)等が挙げられる。組成物は必要に応じて下記成分の一以上を含み得る:共開始剤、単官能性UV硬化性成分、多官能性UV硬化性成分あるいは安定剤。
上で参照した特許と特許出願のすべての内容は、それらの全体において参照によってここに組み込まれる。
あるいは、図6に示される通り本発明の表示パネルを調製し得る。この場合、まず図4Aおよび4Bの方法によってマイクロセルを調製し得る。エンボス加工性組成物を硬化し、マイクロセル(60)を形成した後、化学組成物(61)を予備決定したエリアにおけるマイクロセル中へ充填する(これはディスプレイパネル上のパターン化エリアまたはバックグラウンドエリアに相当し得る)。化学組成物は、容易に除去することができる溶媒中に溶解または分散された固形物質を含有する。
予備決定したエリアにおける化学組成物の充填は、インクジェット印刷またはスクリーン印刷のような方法に達成し得る。
固形物質は、硬化性材料、例えばエンボス加工性組成物について上述の任意のもの等であり得る。任意の硬化工程が、固形物質が硬化性材料である場合には溶媒を除去した後にあってよい。その硬化は既知の従来の方法、例えば熱硬化または放射線硬化などにより達成され得る。
固形物質はさらに硬化を必要としない材料、例えばポリウレタン、ポリ(エチレンオキサイド)、ポリスチレン、アクリレートポリマー[例えばポリ(アクリル酸メチル)およびポリ(アクリル酸ブチル)等]あるいはメタクリレートポリマー[ポリ(メチルメタクリレート)およびポリ(エチルメタクリレート)等]であってもよい。
化学組成物中の固形物質は、マイクロセルを形成するためのエンボス加工性組成物と同じものである必要がない。
この方法のための適当な溶媒の例としては、これらに限定されないが、メチルエチルケトン、アセトンまたはイソプロピルアルコールが挙げられる。予備決定エリア中のマイクロセルへ化学組成物(61)を充填した後、化学組成物中の溶媒を蒸発または沸騰により取り除く。
溶媒を取り除くとすぐに、化学組成物中に残存する固形物質は、良好な接着をマイクロセルの底部へ与えるべきであり、マイクロセル中に充填されるディスプレイ液体と内部反応しない。
化学組成中の固形分は、マイクロセル中の付加的厚みを決定する。言いかえれば、化学組成物の濃度は、マイクロセル中の付加的厚みを決定し得る。通常、0.01重量%〜90重量%、好ましくは0.01重量%〜50重量%の範囲の濃度が適当である。
異なった底部厚みをもたらしながら、異なった濃度での化学組成物でマイクロセルを充填してもよい。
上記の方法の1つでは、マイクロセルを形成した後、マイクロセルへディスプレイ流体を充填する。ディスプレイ流体は、溶媒または溶剤混合物中に分散した帯電粒子を含む電気泳動の流体であり得る。
図7に示されるように、電気泳動流体(76)を充填し、2つの電極層(77と78)の間に予備決定像を有するディスプレイパネル(70)を挟む。
従来から、電気泳動流体は、溶媒中にまたは対比色の溶媒混合物中に分散した帯電顔料粒子の1つの型を有し得る。この場合、ディスプレイパネルを挟む2枚の電極プレート間に電圧差を与える場合、帯電顔料粒子は、粒子の極性と反対の極性の板への引力によって移動する。したがって、透明板において示す色は、溶媒の色あるいは顔料粒子状物質の色のいずれかであり得る。板極性の反転は、粒子をもとの反対の板へ移動させ、これにより色を反転させる。あるいは、電気泳動流体は、対比色および移動性反対電荷の2つの型の顔料粒子を有し得るが、2つの型の顔料粒子は透明な溶媒または溶剤混合物中に分散する。この場合、ディスプレイパネルを挟む2枚の電極板間で電圧差を与える場合、2つの型の顔料粒子はディスプレイセルにおいて反対端(上部または底部)へ移動するだろう。したがって、2つの型の顔料粒子の色の1つは、ディスプレイセルの表示側において見られるだろう。別の代替では、ハイライトまたはマルチカラーのディスプレイ装置の形成のために更なる色の顔料粒子が電気泳動流体に加えられる。これらのオプションはすべて本発明の表示パネルに適当である。
異なる底厚のために、1つのエリアのマイクロセル中の荷電粒子は、異なる色強度レベルを顕示しながら、別のエリアでマイクロセルに2つの電極層の間で荷電粒子とは異なって作成された電場にこのように応答するだろう。図8は、この現象の1つの例を示す。マイクロセルA(1エリア中)中の白色粒子は、電極層87と88の間で作成された電場に応答し、電極87の近くにあるいはその電極にて動き、白色が表示側で見られる。マイクロセルB(別のエリア中)では、より厚い底部のために、白色粒子はより弱い電場を感じて、その結果、グレーの色を表示する。
マイクロセルBによって表わされるエリアでは、マイクロセルには異なった底部厚みを有し得るので、異なったレベルの色強度(つまりグレースケール)が可能である。
図8が単にたった1つの種類の荷電粒子での設計を示す間に、示された現象は、帯電粒子の種類の任意の数を有する電気泳動流体に適用可能である。
本発明の一つの実施態様において、両方の電極層は非パターン化導電層、例えばインジウム錫オキサイド、銅あるいはアルミニウム等である。この場合、2つの電極層に電圧電位差を印加する場合、マイクロセルにおけるエリアは、他のエリアにおける底部厚みのレベルとは異なった底部厚みのレベルを有し、他のエリアの強度とは異なった強度を有する色状態で示される。この設計は、固定像を有する信号ディスプレイ、例えばバーコード、反偽造ラベル、方向信号あるいは棚ラベル等に特に適当である。
別の実施態様では、電極層のうちの1つは、共通の電極であるが、別の電極層がTFT(薄膜トランジスター)マトリックス駆動システムあるいはセグメント化バックプレーン駆動システムである。この場合、全表示パネルは、あるイメージから別のイメージまでスイッチし得るが、1つのエリアが別のエリアから視覚的に識別可能なままである。本発明の実施態様は、透かしとして特に適当であり、および透かしは、イメージのスイッチングを干渉しない。
更なる実施態様では、マイクロセルの内部表面を処理してその化学官能価、モルフォロジー、微細構造、帯電特性、表面張力あるいは光学濃度を変性し得る。
例えば表面は、電子供与性またはプロトン受容性プローブ分子あるいはその前駆体で処理してよく、これらは、アンモニア、アミン、イミン、ピリジン、ウレア、チオウレア、ウレタン、ピロリドン、イミダゾール、エーテル、チオエーテル、ケトン、アクリレートおよびアクリルアミドを包含するが、限定されない。あるいは、表面は、電子受容性またはプロトン供与性プローブ分子あるいはその前駆体で処理してよく、これらは、酸素、カルボン酸化合物、ヒドロキシ含有化合物、アクリルアミド、シラノールあるいは電子欠損中心を含む有機金属化合物を包含するが、限定されない。
表面処理の別のオプションとしては、帯電顔料粒子と表面の間の相互作用を引き起こすプラズマまたはコロナ処理によるマイクロセル表面の化学官能価の変性が挙げられる。1の具体例は、水素結合の形成または分散粒子の表面上での官能基との酸系反応が可能である官能基を有するプローブ分子を用いたプラズマ処理によって表面を変性することである。水素結合は、プロトン供与体または電子受容体からマイクロセル表面上で、およびプロトン受容体または電子供与体から粒子上で、またはその逆で形成し得る。
さらに、表面をプラズマ処理で変性してセル表面上で立体安定化または保護コロイド層を形成し得る。
上記の表面処理方法の全ては米国特許第6,870,662号に記載され、その内容は、その全体を参照によりここに組み込む。
マイクロセルの表面処理を全てのマイクロセルまたは選択したマイクロセルのみに必要に応じて適用し得る。
本発明はその特定の態様に関して記載したが、当業者は、様々な変更を行なってもよいことを理解するべきである。また、本発明の精神および範囲から逸脱することなく、等価物で置換し得る。更に、特別の状況、材料、組成物、方法、プロセス段階あるいは工程を本発明の目的、精神および範囲に適応させるために多くの改良がなされてよい。添付の特許請求の範囲内になるようにそのような改良をすべて意図する。
本発明の好ましい態様は、以下を包含する。
[1]電気泳動流体で充満されたマイクロセルを含むディスプレイパネルであって、各マイクロセルは底部を有し、該底部の内部表面は、電気泳動流体に接触し、前記ディスプレイパネルは、第1エリアおよび第2エリアを有し、第1エリア中のマイクロセルは実質的に同じ底部厚みを有し、第2エリア中のマイクロセルは第1エリア中のマイクロセルより厚い底部を有する、ディスプレイパネル。
[2]第2エリア中のマイクロセルは、第1エリア中のマイクロセルの底部厚みより0.001マイクロメートル〜第1エリア中のマイクロセルの深さの9/10厚い底部厚みを有する、[1]に記載のパネル。
[3]第2エリア中のマイクロセルは、第1エリア中のマイクロセルの底部厚みより0.001マイクロメートル〜第1エリア中のマイクロセルの深さの1/2厚い底部厚みを有する、[1]に記載のパネル。
[4]第2エリア中のマイクロセルの底部厚みは同一ではない、[1]に記載のパネル。
[5]第1エリアおよび第2エリアはいずれにおいてもマイクロセル中に充填された電気泳動流体が、溶媒または溶媒混合物中に分散した帯電粒子の1つの型を含む、[1]に記載のパネル。
[6]第1エリアおよび第2エリアはいずれにおいてもマイクロセル中に充填された電気泳動流体が、溶媒または溶媒混合物中に分散した帯電粒子の2つの型を含む、[1]に記載のパネル。
[7]第1エリアおよび第2エリアはいずれにおいてもマイクロセル中に充填された電気泳動流体が、溶媒または溶媒混合物中に分散した帯電粒子の2を超える型を含む、[1]に記載のパネル。
[8]2つの電極層間に挟まれる、[1]に記載のパネル。
[9]2つの電極層は、非パターン化導電層である、[8]に記載のパネル。
[10]電極層の1つは共通電極層であり、別の電極層は、薄膜トランジスターマトリックス駆動システムまたはセグメント化バックプレーン駆動システムである、[8]に記載のパネル。
[11]バーコード、反偽造ラベル、方向信号または棚ラベルに用いられる、[8]に記載のパネル。
[12]透かし用途に用いられる、[8]に記載のパネル。
[13][1]に記載のディスプレイパネルの製造方法であって、
a)表面が切り取られたエリアを有するニップローラーを与えて、ディスプレイパネルのための意図されたパターンの正または負の像であるパターンを形成する工程;
b)エンボス加工性組成物をニップローラーの表面上にある基材層に被覆する工程;および
c)雄型をエンボス加工性組成物に適用する工程
を含む、方法。
[14]切り取られたエリアは異なった深さを有する、[13]に記載の方法。
[15]前記基材層を電極層へ取り付ける、[13]に記載の方法。
[16][1]に記載のディスプレイパネルの製造方法であって、
a)マイクロセルを与える工程;
b)予備決定エリアにおけるマイクロセルを溶媒中の化学組成物で充填する工程;
c)溶媒を除去する工程;および
d)任意に、溶媒除去後に化学組成物を硬化する工程
を含む、方法。
[17]溶媒は、メチルエチルケトン、アセトンまたはイソプロピルアルコールである、[16]に記載の方法。
[18]マイクロセルを、化学組成物の異なった濃度で充填する、[16]に記載の方法。
[19]濃度は、0.01重量%〜90重量%の範囲である、[18]に記載の方法。
[20]濃度は、0.01重量%〜50重量%の範囲である、[18]に記載の方法。
[21]化学組成物は、マイクロセルを形成する組成物と同一ではない、[16]に記載の方法。
[22]化学組成物は、マイクロセルを形成する組成物と同一である、[16]に記載の方法。

Claims (7)

  1. 電気泳動流体で充満されたマイクロセルを含むディスプレイパネルの製造方法であって、
    ここに、各マイクロセルは底部を有し、該底部の内部表面は、電気泳動流体に接触し、前記ディスプレイパネルは、第1エリアおよび第2エリアを有し、第1エリア中のマイクロセルは実質的に同じ底部厚みを有し、第2エリア中のマイクロセルは第1エリア中のマイクロセルより厚い底部を有し、
    a)表面が切り取られたエリアを有するニップローラーを与えて、ディスプレイパネルのための意図されたパターンの正または負の像であるパターンを形成する工程;
    b)エンボス加工性組成物をニップローラーの表面上にある基材層に被覆する工程;および
    c)雄型をエンボス加工性組成物に適用する工程
    を含む、方法。
  2. 切り取られたエリアは異なった深さを有する、請求項に記載の方法。
  3. 電気泳動流体で充満されたマイクロセルを含むディスプレイパネルの製造方法であって、
    ここに、各マイクロセルは底部を有し、該底部の内部表面は、電気泳動流体に接触し、前記ディスプレイパネルは、第1エリアおよび第2エリアを有し、第1エリア中のマイクロセルは実質的に同じ底部厚みを有し、第2エリア中のマイクロセルは第1エリア中のマイクロセルより厚い底部を有し、
    a)マイクロセルを与える工程;
    b)予備決定エリアにおけるマイクロセルを溶媒中の化学組成物で充填する工程;
    c)溶媒を除去する工程;および
    d)任意に、溶媒除去後に化学組成物を硬化する工程
    を含む、方法。
  4. 溶媒は、メチルエチルケトン、アセトンまたはイソプロピルアルコールである、請求項に記載の方法。
  5. マイクロセルを、化学組成物の異なった濃度で充填する、請求項に記載の方法。
  6. 濃度は、0.01重量%〜90重量%の範囲である、請求項に記載の方法。
  7. 化学組成物は、マイクロセルを形成する組成物と同一であるか、または異なっている、請求項に記載の方法。
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