CN111087253B - 一种在低吸水率陶瓷表面的装饰工艺 - Google Patents

一种在低吸水率陶瓷表面的装饰工艺 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种在低吸水率陶瓷表面的装饰工艺,包括以下具体步骤:a、素烧坯体;b、配制底釉;c、配制面釉;d、喷射;e、烘干;f、烧制成品。通过上述方式,本发明提供的在低吸水率陶瓷表面的装饰工艺,制备得到制成金色五彩光泽釉砖,是对传统釉面装饰效果的一次提升,使釉面砖的装饰效果更丰富,得珠光宝气,富丽堂皇,具有独特的装饰性和艺术性,且生产效率高,具有较强的普适性,可以在行业内推广。

Description

一种在低吸水率陶瓷表面的装饰工艺
技术领域
本发明涉及装饰工艺的领域,尤其涉及一种在低吸水率陶瓷表面的装饰工艺。
背景技术
近十几年来,我国的建筑陶瓷工业得到迅猛发展,随着人们生活水平的不断提高,具有个性化的高端陶瓷砖产品的需求也会越来越多。在现在陶瓷砖产品的基础上,对产品进行个性化设计和注入人文色彩,赋予产品厚重质感,同时达到提升产品的装饰效果。
但是,传统的陶瓷釉面工艺中,要达到五彩光泽的釉面效果,使用的原料成本高,且需要经过二次加工或者是慢烧,烧成时间很长,超过10小时,生产效率低,不适合推广使用。
发明内容
本发明主要解决的技术问题是提供一种在低吸水率陶瓷表面的装饰工艺,制备得到制成金色五彩光泽釉砖,是对传统釉面装饰效果的一次提升,使釉面砖的装饰效果更丰富,得珠光宝气,富丽堂皇,具有独特的装饰性和艺术性,且生产效率高,具有较强的普适性,可以在行业内推广。
为解决上述技术问题,本发明采用的一个技术方案是:提供了一种在低吸水率陶瓷表面的装饰工艺,包括以下具体步骤:
a、素烧坯体:将坯体放入燃气辊道窑内烧制50-80min,烧制温度为850-950℃;
b、配制底釉:将长石、土类、石英和硅酸锆,按比例混合后进行球磨,球磨细度控制在比重为1.70kg/m3,筛余为1%以下;
c、配制面釉:将熔块、土类、石英、氧化钛、锌、碳酸钡结晶剂,外加着色剂和闪光剂,按比例混合后进行球磨,球磨细度控制在比重为1.75kg/m3,筛余为0.5-0.7%;
d、喷射:将底釉调制1.60 kg/m3的比重,采用高压喷枪喷在20*20cm素烧砖上,重量为12-18g,待自然干;底釉干燥后将面釉调制1.65kg/m3的比重,采用高压喷枪喷干燥后的底釉上,重量为10-15g,待自然干,形成釉面砖;
e、烘干:将釉面砖放入温度控制在80-120℃的烘干设备里烘干,时间在30-45min;
f、烧制成品:将烘干的釉面砖放入燃气辊道窑进行烧制,烧制温度为1170-1230℃,烧制时间60-120min,制成金色五彩光泽釉砖。
在本发明一个较佳实施例中,所述的步骤a中坯体采用低吸水率陶瓷坯体。
在本发明一个较佳实施例中,所述的低吸水率陶瓷坯体的吸水率在1%以下。
在本发明一个较佳实施例中,所述的步骤b中底釉的原料配比为:长石40-50%、土类10-25%、石英10-20%、硅酸锆10-15%。
在本发明一个较佳实施例中,所述的步骤c中面釉的原料配比为:熔块60-70%、土类5-10%、石英5-10% 氧化钛5-10%、锌3-5%、碳酸钡结晶剂3-5%、着色剂3-5%、闪光剂1-3%。
在本发明一个较佳实施例中,所述的熔块包括氧化铅60-70%和石英20-40%。
在本发明一个较佳实施例中,所述的熔块的粒径为1-5mm。
本发明的有益效果是:本发明的在低吸水率陶瓷表面的装饰工艺,制备得到制成金色五彩光泽釉砖,是对传统釉面装饰效果的一次提升,使釉面砖的装饰效果更丰富,得珠光宝气,富丽堂皇,具有独特的装饰性和艺术性,且生产效率高,具有较强的普适性,可以在行业内推广。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其它的附图,其中:
图1 是本发明在低吸水率陶瓷表面的装饰工艺的一较佳实施例的流程图。
具体实施方式
下面将对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例,都属于本发明保护的范围。
如图1所示,本发明实施例包括:
一种在低吸水率陶瓷表面的装饰工艺,包括以下具体步骤:
a、素烧坯体:将坯体放入燃气辊道窑内烧制50-80min,烧制温度为850-950℃;
b、配制底釉:将长石、土类、石英和硅酸锆,按比例混合后进行球磨,球磨细度控制在比重为1.70kg/m3,筛余为1%以下;
c、配制面釉:将熔块、土类、石英、氧化钛、锌、碳酸钡结晶剂,外加着色剂和闪光剂,按比例混合后进行球磨,球磨细度控制在比重为1.75kg/m3,筛余为0.5-0.7%;
d、喷射:将底釉调制1.60 kg/m3的比重,采用高压喷枪喷在20*20cm素烧砖上,重量为12-18g,待自然干;底釉干燥后将面釉调制1.65kg/m3的比重,采用高压喷枪喷干燥后的底釉上,重量为10-15g,待自然干,形成釉面砖;
e、烘干:将釉面砖放入温度控制在80-120℃的烘干设备里烘干,时间在30-45min;
f、烧制成品:将烘干的釉面砖放入燃气辊道窑进行烧制,烧制温度为1170-1230℃,烧制时间60-120min,制成金色五彩光泽釉砖。
上述中,所述的步骤a中坯体采用低吸水率陶瓷坯体。其中,所述的低吸水率陶瓷坯体的吸水率在1%以下。
进一步的,底釉的原料配比为:长石40-50%、土类10-25%、石英10-20%、硅酸锆10-15%;面釉的原料配比为:熔块60-70%、土类5-10%、石英5-10% 氧化钛5-10%、锌3-5%、碳酸钡结晶剂3-5%、着色剂3-5%、闪光剂1-3%。
本实施例中,高压喷枪的喷枪口径在2mm左右,使其喷射的釉料细腻,喷射效果好。
其中,所述的熔块包括氧化铅60-70%和石英20-40%;所述的熔块的粒径为1-5mm。
熔块制备方法:将氧化铅60-70%和石英20-40%通过混合机混和,熔块池窑熔制成高温液体,熔制温度1500℃,熔制好的高温液体流入水中水淬成直径为1-5mm的随形颗粒,然后烘干即成熔块,烘干温度120-180℃,40-70min。
实施例1:
将坯体放入燃气辊道窑内烧制75min,烧制温度为910℃;然后制备底釉,将长石48%、土类15%、石英12%和硅酸锆12%,按比例混合后进行球磨,球磨细度控制在比重为1.70kg/m3,筛余为1%以下;制备面釉,将熔块68%、土类6%、石英8%、氧化钛8%、锌3%、碳酸钡结晶剂3.5%,外加着色剂3.5%和闪光剂1%,按比例混合后进行球磨,球磨细度控制在比重为1.75kg/m3,筛余为0.6%;将底釉调制1.60 kg/m3的比重,采用高压喷枪喷在20*20cm素烧砖上,重量为12g,待自然干;底釉干燥后将面釉调制1.65kg/m3的比重,采用高压喷枪喷干燥后的底釉上,重量为15g,待自然干,形成釉面砖;将釉面砖放入温度控制在120℃的烘干设备里烘干,时间在30min;将烘干的釉面砖放入燃气辊道窑进行烧制,烧制温度为1200℃,烧制时间115min,制成金色五彩光泽釉砖。
实施例2:
将坯体放入燃气辊道窑内烧制60min,烧制温度为900℃;然后制备底釉,将长石45%、土类20%、石英15%和硅酸锆13%,按比例混合后进行球磨,球磨细度控制在比重为1.70kg/m3,筛余为1%以下;制备面釉,将熔块65%、土类8%、石英15%、氧化钛6%、锌4%、碳酸钡结晶剂4%,外加着色剂4%和闪光剂2%,按比例混合后进行球磨,球磨细度控制在比重为1.75kg/m3,筛余为0.5-0.7%;将底釉调制1.60 kg/m3的比重,采用高压喷枪喷在20*20cm素烧砖上,重量为15g,待自然干;底釉干燥后将面釉调制1.65kg/m3的比重,采用高压喷枪喷干燥后的底釉上,重量为12g,待自然干,形成釉面砖;将釉面砖放入温度控制在80℃的烘干设备里烘干,时间在40min;将烘干的釉面砖放入燃气辊道窑进行烧制,烧制温度为1190℃,烧制时间100min,制成金色五彩光泽釉砖。
综上所述,本发明的在低吸水率陶瓷表面的装饰工艺,制备得到制成金色五彩光泽釉砖,是对传统釉面装饰效果的一次提升,使釉面砖的装饰效果更丰富,得珠光宝气,富丽堂皇,具有独特的装饰性和艺术性,且生产效率高,具有较强的普适性,可以在行业内推广。
以上所述仅为本发明的实施例,并非因此限制本发明的专利范围,凡是利用本发明说明书内容所作的等效结构或等效流程变换,或直接或间接运用在其它相关的技术领域,均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (4)

1.一种在低吸水率陶瓷表面的装饰工艺,其特征在于,包括以下具体步骤:
a、素烧坯体:将坯体放入燃气辊道窑内烧制50-80min,烧制温度为850-950℃;
b、配制底釉:将长石、土类、石英和硅酸锆,按比例混合后进行球磨,底釉的原料配比为:长石40-50%、土类10-25%、石英10-20%、硅酸锆10-15%,球磨细度控制在比重为1.70kg/m3,筛余为1%以下;
c、配制面釉:将熔块、土类、石英、氧化钛、锌、碳酸钡结晶剂,外加着色剂和闪光剂,按比例混合后进行球磨,面釉的原料配比为:熔块60-70%、土类5-10%、石英5-10%氧化钛5-10%、锌3-5%、碳酸钡结晶剂3-5%、着色剂3-5%、闪光剂1-3%,所述的熔块包括氧化铅60-70%和石英20-40%,球磨细度控制在比重为1.75kg/m3,筛余为0.5-0.7%;
d、喷射:将底釉调制1.60kg/m3的比重,采用高压喷枪喷在20*20cm素烧砖上,重量为12-18g,待自然干;底釉干燥后将面釉调制1.65kg/m3的比重,采用高压喷枪喷干燥后的底釉上,重量为10-15g,待自然干,形成釉面砖;
e、烘干:将釉面砖放入温度控制在80-120℃的烘干设备里烘干,时间在30-45min;
f、烧制成品:将烘干的釉面砖放入燃气辊道窑进行烧制,烧制温度为1170-1230℃,烧制时间60-120min,制成金色五彩光泽釉砖。
2.根据权利要求1所述的在低吸水率陶瓷表面的装饰工艺,其特征在于,所述的步骤a中坯体采用低吸水率陶瓷坯体。
3.根据权利要求2所述的在低吸水率陶瓷表面的装饰工艺,其特征在于,所述的低吸水率陶瓷坯体的吸水率在1%以下。
4.根据权利要求1所述的在低吸水率陶瓷表面的装饰工艺,其特征在于,所述的熔块的粒径为1-5mm。
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