CN110699732A - 基于微弧氧化的锅具着色工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了基于微弧氧化的锅具着色工艺,其包括以下步骤:选用基材;拉伸成型:将基材拉伸成型;微弧氧化:对拉伸成型的锅具进行微弧氧化;着色:将微弧氧化后的锅具放入到含有金属盐的溶液中用直流或交流进行电解,以对锅具表面进行着色。本方案中对锅具进行微弧氧化形成膜层,该膜层不仅具有很好的不粘性能,且微弧氧化膜层的硬度较高,耐磨损;尤为重要的是通过在微弧氧化膜层的孔隙进行渗透填充,以将具有不粘性能的渗透填充物填充于孔隙内,提升了锅具不粘性能的稳定性,并提高了传热效率,且孔隙内的渗透填充物不易被破坏;另外将着色工艺与微弧氧化工艺进行结合,工艺简单,着色更为方便。
Description
技术领域
本发明涉及锅具着色工艺,特别涉及基于微弧氧化的锅具着色工艺。
背景技术
目前,市面上的不粘锅多是在基体上喷涂聚四氟乙烯(PTFE)涂料和/或陶瓷涂料(硅溶胶凝胶),从而在基体上形成一层不粘涂层。这种涂料形成的涂层强度不高,不能使用硬度较高的工具例如铁铲来烹饪,而且使用一段时间后,涂层也容易出现划伤和脱落,影响产品性能。
现有技术中也有通过在锅体底部设置凹凸纹路,以减少食物与锅底的接触来实现不粘的效果。由于这种方式的锅具没有涂层,因此可以使用铁铲。但是,这种使用凹凸纹路吸油性能有限,且凹凸纹里容易残留食物残渣,不易清洗。
另外还有一种通过微弧氧化在锅底内形成孔隙来达到不粘的效果,但是孔隙形成过程中的排布无法人为控制,因此会造成不粘性不均匀,不稳定的问题,而且现有技术中很难对锅具进行着色。
总体来说,目前的不粘锅普通存在不粘层硬度和耐磨性不好,或不符合食品安全需求的缺陷,着色困难,工艺复杂,缺乏硬度和耐磨性好、膜层成分结构简单、安全无毒、不粘性能稳定的锅具。
发明内容
本发明的主要目的在于提供基于微弧氧化的锅具着色工艺,有效解决了背景技术中的问题。
为实现上述目的,本发明采取的技术了案为:
基于微弧氧化的锅具着色工艺,其包括以下步骤:选用基材;拉伸成型:将基材拉伸成型;微弧氧化:对拉伸成型的锅具进行微弧氧化;着色:将微弧氧化后的锅具放入到含有金属盐的溶液中用直流或交流进行电解,以对锅具表面进行着色;其中金属盐溶液的成分如下,金属盐10-40g/L,硫酸20-30g/L,着色稳定剂15-20g/L,对应的硫酸亚盐10-15g/L,采用交流7-18V,温度为20-30℃。
作为优选,在步骤C和步骤D间还包括步骤E-渗透填充:对微弧氧化后的锅具进行渗透填充以使得微弧氧化后产生的孔隙中填满渗透填充物,其中渗透填充物具有不粘性能,其中渗透填充物为聚四氟乙烯或饮食用油。
作为优选,还包括步骤E,对渗透填充后的锅具进行高温过炉,过炉温度为380℃。
作为优选,步骤A中的基材为单层基材,单层基材为铝片、镁片、钛片、锆片、铌片、钽片中的一种。
作为优选,步骤A中的基材为多层复合基材,其包括下层材料和上层材料,下层材料为sus304、sus409、sus430、铁、铜中的一种或多种,上层材料为铝片、镁片、钛片、锆片、铌片、钽片中的一种或多种,上层材料、下层材料里的各层之间通过挤压成型且上层材料与下层材料间挤压成型。
作为优选,下层材料的厚度为0.3-2mm,上层材料的厚度为0.5-8mm。
作为优选,微弧氧化过程中,控制电源的频率为200~800Hz。
作为优选,微弧氧化过程中,控制电源的正负脉冲占空比为10~50%;控制电源的电流密度为3~4A/dm2。
作为优选,控制电源的正向脉冲为300~700V,负向脉冲为80~100V;电源为100A叠加电源。
作为优选,着色过程中金属盐为锡盐、镍盐、锰盐、银盐或硒盐;各自对应的硫酸亚盐依次为硫酸亚锡、硫酸亚镍、硫酸亚锰、硫酸亚银或硫酸亚硒。
与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:本发明对锅具进行微弧氧化形成膜层,该膜层不仅具有很好的不粘性能,且微弧氧化膜层的硬度较高,耐磨损;尤为重要的是通过在微弧氧化膜层的孔隙进行渗透填充,以将具有不粘性能的渗透填充物填充于孔隙内,提升了锅具不粘性能的稳定性,并提高了传热效率,且孔隙内的渗透填充物不易被破坏;另外将着色工艺与微弧氧化工艺进行结合,工艺简单,着色更为方便。
附图说明
图1为本发明中锅具的截面示意图(多层)。
图2为本发明中微弧氧化膜层的表面形貌图。
图3为本发明中微弧氧化膜层的截面形貌图。
图4为微弧氧化过程中的设备布置图。
具体实施方式
为使本发明实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本发明。
实施例1
基于微弧氧化的锅具着色工艺,其包括以下步骤:选用基材;拉伸成型:将基材拉伸成型;微弧氧化:对拉伸成型的锅具进行微弧氧化;着色:将微弧氧化后的锅具放入到含有金属盐的溶液中用直流或交流进行电解,以对锅具表面进行着色;其中金属盐溶液的成分如下,金属盐10-40g/L,硫酸20-30g/L,着色稳定剂15-20g/L,对应的硫酸亚盐10-15g/L,采用交流7-18V,温度为20-30℃。本方案中对锅具进行微弧氧化形成膜层,该膜层不仅具有很好的不粘性能,且微弧氧化膜层的硬度较高,耐磨损;另外通过电解进行着色,其与微弧氧化过程的处理流程较为匹配,大大简化了着色的工序,其中根据所需颜色选择合适的金属盐并调整金属盐用量从而达到不同的着色需求。
作为优选,在步骤C和步骤D间还包括步骤E-渗透填充:对微弧氧化后的锅具进行渗透填充以使得微弧氧化后产生的孔隙中填满渗透填充物,其中渗透填充物具有不粘性能,其中渗透填充物为聚四氟乙烯或饮食用油。通过在微弧氧化膜层的孔隙进行渗透填充,以将具有不粘性能的渗透填充物填充于孔隙内,提升了锅具不粘性能的稳定性,并提高了传热效率,且孔隙内的渗透填充物不易被破坏。
作为优选,还包括步骤E,对渗透填充后的锅具进行高温过炉,过炉温度为380℃。
作为优选,步骤A中的基材为单层基材,单层基材为铝片、镁片、钛片、锆片、铌片、钽片中的一种。
作为优选,步骤A中的基材为多层复合基材,其包括下层材料和上层材料,下层材料为sus304、sus409、sus430、铁、铜中的一种或多种,上层材料为铝片、镁片、钛片、锆片、铌片、钽片中的一种或多种,上层材料、下层材料里的各层之间通过挤压成型且上层材料与下层材料间挤压成型。
作为优选,下层材料的厚度为0.3-2mm,上层材料的厚度为0.5-8mm。
作为优选,微弧氧化过程中,控制电源的频率为200~800Hz。
作为优选,微弧氧化过程中,控制电源的正负脉冲占空比为10~50%;控制电源的电流密度为3~4A/dm2。
作为优选,控制电源的正向脉冲为300~700V,负向脉冲为80~100V;电源为100A叠加电源。
作为优选,着色过程中金属盐为锡盐、镍盐、锰盐、银盐或硒盐;各自对应的硫酸亚盐依次为硫酸亚锡、硫酸亚镍、硫酸亚锰、硫酸亚银或硫酸亚硒。
以上显示和描述了本发明的基本原理和主要特征和本发明的优点。本行业的技术人员应该了解,本发明不受上述实施例的限制,上述实施例和说明书中描述的只是说明本发明的原理,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还会有各种变化和改进,这些变化和改进都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (10)
1.基于微弧氧化的锅具着色工艺,其特征在于,其包括以下步骤:
A,选用基材;
B,拉伸成型:将基材拉伸成型;
C,微弧氧化:对拉伸成型的锅具进行微弧氧化;
D,着色:将微弧氧化后的锅具放入到含有金属盐的溶液中用直流或交流进行电解,以对锅具表面进行着色;其中金属盐溶液的成分如下,金属盐10-40g/L,硫酸20-30g/L,着色稳定剂15-20g/L,对应的硫酸亚盐10-15g/L,采用交流7-18V,温度为20-30℃。
2.根据权利要求1所述的基于微弧氧化的锅具着色工艺,其特征在于:在步骤C和步骤D间还包括步骤E-渗透填充:对微弧氧化后的锅具进行渗透填充以使得微弧氧化后产生的孔隙中填满渗透填充物,其中渗透填充物具有不粘性能,其中渗透填充物为聚四氟乙烯或饮食用油。
3.根据权利要求1所述的基于微弧氧化的锅具着色工艺,其特征在于,还包括步骤E,对渗透填充后的锅具进行高温过炉,过炉温度为380℃。
4.根据权利要求1所述的基于微弧氧化的锅具着色工艺,其特征在于:步骤A中的基材为单层基材,单层基材为铝片、镁片、钛片、锆片、铌片、钽片中的一种。
5.根据权利要求1所述的基于微弧氧化的锅具着色工艺,其特征在于:步骤A中的基材为多层复合基材,其包括下层材料和上层材料,下层材料为sus304、sus409、sus430、铁、铜中的一种或多种,上层材料为铝片、镁片、钛片、锆片、铌片、钽片中的一种或多种,上层材料、下层材料里的各层之间通过挤压成型且上层材料与下层材料间挤压成型。
6.根据权利要求1所述的基于微弧氧化的锅具着色工艺,其特征在于:下层材料的厚度为0.3-2mm,上层材料的厚度为0.5-8mm。
7.根据权利要求1所述的基于微弧氧化的锅具着色工艺,其特征在于:微弧氧化过程中,控制电源的频率为200~800Hz。
8.根据权利要求1所述的基于微弧氧化的锅具着色工艺,其特征在于:微弧氧化过程中,控制电源的正负脉冲占空比为10~50%;控制电源的电流密度为3~4A/dm2。
9.根据权利要求1所述的基于微弧氧化的锅具着色工艺,其特征在于:控制电源的正向脉冲为300~700V,负向脉冲为80~100V;电源为100A叠加电源。
10.根据权利要求1所述的基于微弧氧化的锅具着色工艺,其特征在于:着色过程中金属盐为锡盐、镍盐、锰盐、银盐或硒盐;各自对应的硫酸亚盐依次为硫酸亚锡、硫酸亚镍、硫酸亚锰、硫酸亚银或硫酸亚硒。
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