CN110515274A - 一种基于多工位循环且台面可独立运作的全自动曝光机 - Google Patents

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    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
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    • G—PHYSICS
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    • G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask

Abstract

本发明公开了一种基于多工位循环且台面可独立运作的全自动曝光机，包括有机架，机架前端左侧装设有呈水平布置的入料机构、前端右侧装设有呈水平布置的出料机构，入料机构与出料机构上端装设有呈水平横向布置的出入料移载吸盘机构，出入料移载吸盘机构后端装设有呈水平布置的曝光室，曝光室下端及入料机构与出料机构之间分别装设有呈水平布置的框架平台工位机构一及框架平台工位机构二；本发明通过框架平台工位机构一与框架平台工位机构二的独立同步配合送料曝光，从而提高了生产效率且其占地空间小，故本发明具有设计新颖、结构紧凑，效率高且占地面积小的优点。

Description

一种基于多工位循环且台面可独立运作的全自动曝光机
技术领域
本发明涉及PCB制造板曝光机技术领域，尤其涉及一种基于多工位循环且台面可独立运作的全自动曝光机。
背景技术
在PCB制造板制造设备领域，已出现许多对PCB制造板曝光的设备，目前行业常见的曝光机都是手动、半自动、全自动(单一框架平台)操作；在生产过程中产能最大也就2-3.5片/分钟；大部分机构都因独立工位框架平台所需时间长而被迫待命，无法将产能最大化，也浪费其它部件待机的耗电成本；都影响了曝光机的有效产出。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足而提供一种基于多工位循环且台面可独立运作的全自动曝光机，该全自动曝光机设计新颖、结构紧凑，效率高且占地面积小。
为达到上述目的，本发明通过以下技术方案来实现。
一种基于多工位循环且台面可独立运作的全自动曝光机，包括有机架，机架前端左侧装设有呈水平布置的入料机构、前端右侧装设有呈水平布置的出料机构，入料机构与出料机构上端装设有呈水平横向布置的出入料移载吸盘机构，出入料移载吸盘机构后端装设有呈水平布置的曝光室，曝光室下端及入料机构与出料机构之间分别装设有呈水平布置的框架平台工位机构一及框架平台工位机构二；
框架平台工位机构一包括有装设于机架上端的移载侧板，移载侧板上端装设有至少两个呈沿着Y轴轴向布置的Y轴滑轨，Y轴滑轨上端装设有呈竖向布置的升降侧板，升降侧板上端装设有至少四个呈沿着Z轴轴向布置的Z轴滑轨，Z轴滑轨上端装设有直角状布置的升降滑座，升降滑座上端装设有呈沿着X轴轴向布置及沿着Y轴轴向布置的对位驱动组件，对位驱动组件上端装设有呈水平布置的框架平台。
其中，所述移载侧板上端装设有三个呈沿着Y轴轴向布置的Y轴滑轨，且装设有呈沿着Y轴轴向布置的Y轴驱动组件。
其中，所述升降侧板上端装设有四个呈沿着Z轴轴向布置的Z轴滑轨，且装设有呈沿着Z轴轴向布置的Z轴驱动组件。
其中，所述升降侧板两侧端装设有呈沿着Z轴轴向布置的且与所述框架平台底部接触的升降缓冲气缸。
其中，所述框架平台上端边沿装设有密封胶条。
其中，所述框架平台工位机构二的结构与所述框架平台工位机构一的结构相同，且分别装设于所述机架中间的两侧。
本发明的有益效果为：本发明所述的一种基于多工位循环且台面可独立运作的全自动曝光机，包括有机架，机架前端左侧装设有呈水平布置的入料机构、前端右侧装设有呈水平布置的出料机构，入料机构与出料机构上端装设有呈水平横向布置的出入料移载吸盘机构，出入料移载吸盘机构后端装设有呈水平布置的曝光室，曝光室下端及入料机构与出料机构之间分别装设有呈水平布置的框架平台工位机构一及框架平台工位机构二；框架平台工位机构一包括有装设于机架上端的移载侧板，移载侧板上端装设有至少三个呈沿着Y轴轴向布置的Y轴滑轨，Y轴滑轨上端装设有呈竖向布置的升降侧板，升降侧板上端装设有至少四个呈沿着Z轴轴向布置的Z轴滑轨，Z轴滑轨上端装设有直角状布置的升降滑座，升降滑座上端装设有呈沿着X轴轴向及Y轴轴向布置的对位驱动组件，对位驱动组件上端装设有呈水平布置的框架平台。本发明当PCB制造板送进入料机构时，设备对PCB制造板进行校准定位，此时出入料移载吸盘机构前来取板并将PCB制造板送至框架平台工位机构一处，框架平台工位机构一将PCB制造板移动送至曝光室内进行检查对位曝光作业，而此时框架平台工位机构二将同步移动于接板待命位置，框架平台工位机构一上的PCB制造板在进行影像转移的同时框架平台工位机构二也将接到出入料移载吸盘机构送来的下一块PCB制造板，若框架平台工位机构一上的PCB制造板影像转移完成移至指定位置，则框架平台工位机构一回到接板待命位置，而在框架平台工位机构一移出或影像转移过程中框架平台工位机构二接到PCB制造板后也能直接移至曝光室等待曝光，出入料移载吸盘机构将进入下一个循环生产，由于框架平台工位机构一与框架平台工位机构二的独立同步配合送料曝光，从而提高了生产效率且其占地空间小，故本发明具有设计新颖、结构紧凑，效率高且占地面积小的优点。
附图说明
下面利用附图来对本发明进行进一步的说明，但是附图中的实施例不构成对本发明的任何限制。
图1为本发明的结构示意图；
图2为本发明框架平台工位机构一的结构示意图；
图3为本发明框架平台工位机构一的另一视角的结构示意图。
在图1-3中包括有：
1——机架 2——入料机构
3——出料机构 4——出入料移载吸盘机构
5——曝光室 6——框架平台工位机构一
61——移载侧板 611——Y轴驱动组件
62——Y轴滑轨 63——升降侧板
631——Z轴驱动组件 632——升降缓冲气缸
64——Z轴滑轨 65——升降滑座
66——对位驱动组件
67——框架平台 671——密封胶条
7——框架平台工位机构二。
具体实施方式
下面结合具体的实施方式来对本发明进行说明。
如图1-3所示，一种基于多工位循环且台面可独立运作的全自动曝光机，包括有机架1，机架1前端左侧装设有呈水平布置的入料机构2、前端右侧装设有呈水平布置的出料机构3，入料机构2与出料机构3上端装设有呈水平横向布置的出入料移载吸盘机构4，出入料移载吸盘机构4后端装设有呈水平布置的曝光室5，曝光室5下端及入料机构2与出料机构3之间分别装设有呈水平布置的框架平台工位机构一6及框架平台工位机构二7；
框架平台工位机构一6包括有装设于机架1上端的移载侧板61，移载侧板61上端装设有至少两个呈沿着Y轴轴向布置的Y轴滑轨62，Y轴滑轨62上端装设有呈竖向布置的升降侧板63，升降侧板63上端装设有至少四个呈沿着Z轴轴向布置的Z轴滑轨64，Z轴滑轨64上端装设有直角状布置的升降滑座65，升降滑座65上端装设有呈沿着X轴轴向布置及沿着Y轴轴向布置的对位驱动组件66，对位驱动组件66上端装设有呈水平布置的框架平台67。
作为本实施例优选的，所述移载侧板61上端装设有三个呈沿着Y轴轴向布置的Y轴滑轨62，且装设有呈沿着Y轴轴向布置的Y轴驱动组件611，本实施例通过三个呈沿着Y轴轴向布置的Y轴滑轨62的结构设计，提高了所述升降侧板63沿着Y轴移动的稳定性。
作为本实施例优选的，所述升降侧板63上端装设有四个呈沿着Z轴轴向布置的Z轴滑轨64，且装设有呈沿着Z轴轴向布置的Z轴驱动组件631，本实施例通过四个呈沿着Z轴轴向布置的Z轴滑轨64的结构设计，提高了所述升降滑座65升降时的稳定性。
进一步的，所述升降侧板63两侧端装设有呈沿着Z轴轴向布置的且与所述框架平台67底部接触的升降缓冲气缸632。
进一步的，所述框架平台67上端边沿装设有密封胶条671。
作为本实施例优选的，所述框架平台工位机构二7的结构与所述框架平台工位机构一6的结构相同，且分别装设于所述机架1中间的两侧。
需更进一步的解释，本发明当PCB制造板送进入料机构2时，设备对PCB制造板进行校准定位，此时出入料移载吸盘机构4前来取板并将PCB制造板送至框架平台工位机构一6处，框架平台工位机构一6将PCB制造板移动送至曝光室5内进行检查对位曝光作业，而此时框架平台工位机构二7将同步移动于接板待命位置，框架平台工位机构一6上的PCB制造板在进行影像转移的同时框架平台工位机构二7也将接到出入料移载吸盘机构4送来的下一块PCB制造板，若框架平台工位机构一6上的PCB制造板影像转移完成移至指定位置，则框架平台工位机构一6回到接板待命位置，而在框架平台工位机构一6移出或影像转移过程中框架平台工位机构二7接到PCB制造板后也能直接移至曝光室5等待曝光，出入料移载吸盘机构4将进入下一个循环生产，由于框架平台工位机构一6与框架平台工位机构二7的独立同步配合送料曝光，从而提高了生产效率且其占地空间小，可使产量倍增提升，故本发明具有设计新颖、结构紧凑，效率高且占地面积小的优点。
以上内容仅为本发明的较佳实施例，对于本领域的普通技术人员，依据本发明的思想，在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处，本说明书内容不应理解为对本发明的限制。

Claims (6)

1.一种基于多工位循环且台面可独立运作的全自动曝光机，其特征在于：包括有机架(1)，机架(1)前端左侧装设有呈水平布置的入料机构(2)、前端右侧装设有呈水平布置的出料机构(3)，入料机构(2)与出料机构(3)上端装设有呈水平横向布置的出入料移载吸盘机构(4)，出入料移载吸盘机构(4)后端装设有呈水平布置的曝光室(5)，曝光室(5)下端及入料机构(2)与出料机构(3)之间分别装设有呈水平布置的框架平台工位机构一(6)及框架平台工位机构二(7)；
框架平台工位机构一(6)包括有装设于机架(1)上端的移载侧板(61)，移载侧板(61)上端装设有至少三个呈沿着Y轴轴向布置的Y轴滑轨(62)，Y轴滑轨(62)上端装设有呈竖向布置的升降侧板(63)，升降侧板(63)上端装设有至少四个呈沿着Z轴轴向布置的Z轴滑轨(64)，Z轴滑轨(64)上端装设有直角状布置的升降滑座(65)，升降滑座(65)上端装设有呈沿着X轴轴向布置及沿着Y轴轴向布置的对位驱动组件(66)，对位驱动组件(66)上端装设有呈水平布置的框架平台(67)。
2.根据权利要求1所述的一种基于多工位循环且台面可独立运作的全自动曝光机，其特征在于：所述移载侧板(61)上端装设有三个呈沿着Y轴轴向布置的Y轴滑轨(62)，且装设有呈沿着Y轴轴向布置的Y轴驱动组件(611)。
3.根据权利要求1所述的一种基于多工位循环且台面可独立运作的全自动曝光机，其特征在于：所述升降侧板(63)上端装设有四个呈沿着Z轴轴向布置的Z轴滑轨(64)，且装设有呈沿着Z轴轴向布置的Z轴驱动组件(631)。
4.根据权利要求1所述的一种基于多工位循环且台面可独立运作的全自动曝光机，其特征在于：所述升降侧板(63)两侧端装设有呈沿着Z轴轴向布置的且与所述框架平台(67)底部接触的升降缓冲气缸(632)。
5.根据权利要求1所述的一种基于多工位循环且台面可独立运作的全自动曝光机，其特征在于：所述框架平台(67)上端边沿装设有密封胶条(671)。
6.根据权利要求1所述的一种基于多工位循环且台面可独立运作的全自动曝光机，其特征在于：所述框架平台工位机构二(7)的结构与所述框架平台工位机构一(6)的结构相同，且分别装设于所述机架(1)中间的两侧。
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