CN110235091A - 触摸面板用膜层叠体 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种即便在于高温高湿环境下等可能变形的膜上直接形成有导电层的情况下也防止在导电层产生裂纹的技术。本发明的触摸面板用膜层叠体是具备带导电层的膜基材和层叠于该带导电层的膜基材的一侧的低透湿性基材的触摸面板用膜层叠体,其中,该带导电层的膜基材具有包含树脂膜的膜基材和直接设置于该膜基材的至少一面的导电层,该低透湿性基材在40℃、92%R.H.下的透湿度为1.0g/(m2·天)以下。
Description
技术领域
本发明涉及触摸面板用膜层叠体。
背景技术
近年来,以智能手机为代表的智能设备、或数字标牌、窗口显示器等显示装置在较强的外界光下使用的机会增加。与此相伴,产生了由显示装置自身或显示装置所使用的触摸面板部或玻璃基板、金属布线等反射体所引起的外界光反射或背景的映入等问题。特别是近年来已被实用化的有机电致发光(EL)显示装置由于具有反射性高的金属层,所以容易产生外界光反射或背景的映入等问题。因此,已知通过将具有相位差膜(代表性而言为λ/4板)的圆偏振片作为抗反射膜设置于目视确认侧来防止这些问题。
进而,近年来,像以智能手机为代表的那样,图像显示装置兼作触摸面板型输入装置的触摸面板型输入显示装置急剧增加。特别是在显示单元(例如液晶单元、有机EL单元)与偏振片之间组装入有触摸传感器的所谓内嵌式触摸面板型输入显示装置正在被实用化。在这样的内嵌式触摸面板型输入显示装置中,作为触摸面板电极发挥功能的透明导电层是通过形成于各向同性基材上,作为带各向同性基材的导电层层叠于相位差膜(代表性而言为λ/4板)而导入的。这是由于,虽然从显示装置的薄型化的观点出发,优选将透明导电层直接形成于相位差膜,但在形成透明导电层时的溅射及其后续处理中的高温环境下,相位差膜的光学特性从所期望的特性较大地偏离,因此必须使用溅射用基材。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2005-189645号公报
专利文献2:日本特开2006-171235号公报
发明内容
发明所要解决的课题
针对上述要求,正在开发将透明导电层直接形成于相位差膜的(不介存粘接层而层叠的)技术。然而,根据本发明者等人的研究,可知:若将透明导电层直接形成于相位差膜,则有产生如下的环境耐久性的问题的情况,在高温高湿环境下等,相位差膜会发生变形(例如通过拉伸而控制了取向的相位差膜收缩或膨胀),另一方面,透明导电层无法追随于该变形而产生裂纹(例如图5)。
本发明是为了解决上述问题而进行的,其目的在于提供一种技术,即便在于高温高湿环境下等可能变形的膜上直接形成有导电层的情况下,也防止在导电层产生裂纹。
用于解决课题的手段
根据本发明,提供一种触摸面板用膜层叠体,其具备带导电层的膜基材和层叠于该带导电层的膜基材的一侧的低透湿性基材。在本发明的触摸面板用膜层叠体中,该带导电层的膜基材具有包含树脂膜的膜基材和直接设置于该膜基材的至少一面的导电层,该低透湿性基材在40℃、92%R.H.下的透湿度为1.0g/(m2·天)以下。
在一实施方式中,上述低透湿性基材具备支撑基材和设置于该支撑基材的一侧的无机薄膜。
在一实施方式中,上述无机薄膜含有选自由氧化物、氮化物、氢化物及其复合化合物构成的组中的至少一种无机化合物。
在一实施方式中,上述膜基材在85℃、85%R.H.环境下在至少一个方向上收缩。
在一实施方式中,上述树脂膜的面内相位差Re(550)为100nm~180nm。
在一实施方式中,上述膜基材进一步包含设置于上述树脂膜的至少一面的功能层,在上述膜基材的该功能层上直接设置有上述导电层。
在一实施方式中,上述膜层叠体进一步包含偏振片。
在一实施方式中,从目视确认侧起介由粘接层依次层叠有上述偏振片、上述带导电层的膜基材及上述低透湿性基材。
在一实施方式中,介于上述偏振片与上述带导电层的膜基材之间的粘接层及介于上述带导电层的膜基材与上述低透湿性基材之间的粘接层中的任一者或两者在40℃、92%R.H.下的透湿度为100g/(m2·天)以下。
在一实施方式中,上述偏振片包含起偏器及相位差膜。
发明效果
根据本发明,通过控制在膜基材直接形成有导电层的带导电层的膜基材的周边构件的透湿度,能够防止在导电层产生裂纹。
附图说明
图1是本发明的一实施方式中的触摸面板用膜层叠体的概略截面图。
图2是本发明的另一实施方式中的触摸面板用膜层叠体的概略截面图。
图3是本发明的又一实施方式中的触摸面板用膜层叠体的概略截面图。
图4是本发明的再一实施方式中的触摸面板用膜层叠体的概略截面图。
图5(a)是因膜的膨胀所产生的导电层的裂开型裂纹的显微镜照片,(b)是因膜的收缩所产生的导电层的压曲型裂纹的显微镜照片。
具体实施方式
以下,对本发明的优选实施方式进行说明,但本发明并不限定于这些实施方式。
(用语及符号的定义)
本说明书中的用语及符号的定义如下所述。
(1)折射率(nx、ny、nz)
“nx”是面内的折射率成为最大的方向(即慢轴方向)的折射率,“ny”是在面内与慢轴正交的方向(即快轴方向)的折射率,“nz”为厚度方向的折射率。
(2)面内相位差(Re)
“Re(λ)”是23℃下的由波长为λnm的光测定得到的膜的面内相位差。例如“Re(450)”是23℃下的由波长为450nm的光测定得到的膜的面内相位差。在将膜的厚度设为d(nm)时,Re(λ)通过式:Re=(nx-ny)×d而求出。
(3)厚度方向的相位差(Rth)
“Rth(λ)”是23℃下的由波长为λnm的光测定得到的膜的厚度方向的相位差。例如“Rth(450)”是23℃下的由波长为450nm的光测定得到的膜的厚度方向的相位差。在将膜的厚度设为d(nm)时,Rth(λ)通过式:Rth=(nx-nz)×d而求出。
(4)Nz系数
Nz系数通过Nz=Rth/Re而求出。
(5)角度
本说明书中言及角度时,若无特别明确记载,则该角度包括顺时针及逆时针这两个方向的角度。
A.触摸面板用膜层叠体的整体构成
图1~图4分别为基于本发明的一实施方式的触摸面板用膜层叠体(以下,有时简称为“膜层叠体”)的概略截面图。图1中所示的膜层叠体100a具备:带导电层的膜基材10,其具有膜基材11和直接设置于其一个面的导电层12;以及低透湿性基材20,其介由粘接层30而层叠于带导电层的膜基材10的导电层12侧的面。低透湿性基材20具备支撑基材21和设置于支撑基材21的一侧的无机薄膜22。图2中所示的膜层叠体100b具备:带导电层的膜基材10,其具有膜基材11和直接设置于其一个面的导电层12;以及低透湿性基材20,其介由粘接层30而层叠于带导电层的膜基材10的膜基材11侧的面。图3中所示的膜层叠体100c具备:带导电层的膜基材10,其具有膜基材11和直接设置于其两面的导电层12a、12b;以及低透湿性基材20,其介由粘接层30而层叠于带导电层的膜基材10的导电层12a侧的面。在这些实施方式中,膜基材11通过可为相位差膜的树脂膜13构成。另外,虽未图示,但也可在低透湿性基材20的支撑基材21与无机薄膜22之间根据需要介存锚固涂层。
本发明的膜层叠体可进一步包含作为任意的构成要素的偏振片。例如图4中所示的膜层叠体100d进一步包含偏振片40。偏振片40介由粘接层30b而层叠于带导电层的膜基材10的目视确认侧。即,在膜层叠体100d中,从目视确认侧起依次层叠有偏振片40、粘接层30b、带导电层的膜基材10、粘接层30a及低透湿性基材20。在该实施方式中,膜基材11通过可为相位差膜的树脂膜13和设置于其显示单元(例如液晶单元、有机EL单元)侧的面的功能层14构成,导电层12直接设置于膜基材11的功能层14侧的面。根据这样的构成,膜层叠体100d可优选地应用于在显示单元与起偏器之间组装入有触摸传感器的所谓内嵌式触摸面板型输入显示装置。
与上述图示例不同,功能层可仅设置于膜基材的目视确认侧,另外,也可设置于膜基材的两面。
如上所述,在本发明中,导电层直接设置于膜基材的至少一面。在本说明书中,所谓“直接设置”是指不介存粘接层而层叠。
上述膜层叠体的从带导电层的膜基材至低透湿性基材为止的合计厚度(带导电层的膜基材、低透湿性基材及介于其间的粘接层的合计厚度)优选为25μm~300μm,更优选为50μm~200μm。根据本发明的实施方式,由于导电层直接设置于膜基材表面,所以可实现显著的薄型化。
在一实施方式中,本发明的膜层叠体为长条状。长条状的膜层叠体例如可卷绕成卷状而保管和/或搬运。
上述实施方式可适当组合,可对上述实施方式中的构成要素添加本技术领域熟知的改变,也可将上述实施方式中的构成替换为光学上等效的构成。
以下,对膜层叠体的构成要素进行说明。
B.带导电层的膜基材
B-1.膜基材
膜基材包含任意适当的树脂膜。在一实施方式中,可使用在85℃、85%R.H.环境下实质上不会产生变形的树脂膜(例如下述变形率低于0.01%的树脂膜)。在使用这样的树脂膜的情况下,可防止导电层中的裂纹的产生。在另一实施方式中,可使用在85℃、85%R.H.环境下在至少一个方向上产生变形的树脂膜。在使用这样的树脂膜的情况下,可更适宜地发挥本发明的效果。变形代表性而言为收缩或膨胀。在树脂膜为拉伸膜的情况下,有容易产生向与拉伸方向平行的方向的收缩、向与拉伸方向正交的方向的膨胀的倾向。在85℃、85%R.H.环境下暴露4小时后的树脂膜的向至少一个方向的变形率(收缩率[(原来的尺寸-暴露后的尺寸)/原来的尺寸×100]或膨胀率[(暴露后的尺寸-原来的尺寸)/原来的尺寸×100])一般为0.01%以上,例如可为0.03%~1%,另外例如可为0.05%~0.5%。
树脂膜的玻璃化转变温度(Tg)优选为150℃以上,更优选为155℃以上,进一步优选为158℃以上,进一步更优选为160℃以上,特别优选为163℃以上。另一方面,该玻璃化转变温度优选为180℃以下,更优选为175℃以下,进一步优选为170℃以下。若玻璃化转变温度过低,则有在用于形成导电层的溅射及附随于其的后续处理的高温环境下光学特性产生非预期的变化的情况。若玻璃化转变温度过高,则有成型稳定性变差的情况,另外有损害透明性的情况。需要说明的是,玻璃化转变温度依据JIS K 7121(1987)而求出。
树脂膜的光弹性模量的绝对值优选为20×10-12(m2/N)以下,更优选为1.0×10-12(m2/N)~15×10-12(m2/N),进一步优选为2.0×10-12(m2/N)~12×10-12(m2/N)。若光弹性模量的绝对值为这样的范围,则可抑制溅射前后的色调的变化。
树脂膜可在光学上为各向同性。或者,树脂膜也可具有双折射,在光学上为各向异性。光学上为各向异性的树脂膜可为能够发挥光学补偿功能的相位差膜。通过在包含这样的树脂膜(相位差膜)的膜基材直接形成导电层,由于没有必要另外设置溅射用基材,因此可实现膜层叠体(最终为图像显示装置)的更进一步的薄型化。需要说明的是,在本说明书中,所谓“光学上为各向同性”是指面内相位差Re(550)为0nm~10nm,且厚度方向的相位差Rth(550)为-10nm~+10nm。
在对树脂膜赋予光学补偿功能的情况(即,树脂膜为相位差膜的情况)下,其面内相位差Re(550)例如为100nm~180nm,优选为120nm~160nm,更优选为135nm~155nm。即,树脂膜可作为所谓λ/4板发挥功能。以下,对树脂膜为相位差膜的情况下的树脂膜的光学特性进行说明。
树脂膜优选满足Re(450)<Re(550)<Re(650)的关系。即,树脂膜显示出相位差值与测定光的波长相应地变大的逆分散的波长相关性。树脂膜的Re(450)/Re(550)优选为0.8以上且低于1.0,更优选为0.8~0.95。Re(550)/Re(650)优选为0.8以上且低于1.0,更优选为0.8~0.97。
树脂膜代表性而言折射率特性显示出nx>ny的关系,且具有慢轴。树脂膜的慢轴与起偏器的吸收轴所成的角度例如为35°~55°,优选为38°~52°,更优选为42°~48°,进一步优选为约45°。若该角度为这样的范围,则通过将树脂膜设定为λ/4板,可获得具有非常优异的圆偏光特性(结果是非常优异的抗反射特性)的膜层叠体。
树脂膜只要具有nx>ny的关系,则表示任意适当的折射率椭球体。优选树脂膜的折射率椭球体显示出nx>ny≥nz或nx>nz>ny的关系。需要说明的是,其中,“ny=nz”不仅包括ny与nz完全相等的情况,而且包括实质上相等的情况。因此,在不损害本发明的效果的范围内,有时可成为ny<nz。Nz系数优选为0.2~2.0,更优选为0.2~1.5,进一步优选为0.2~1.0。通过满足这样的关系,在将膜层叠体用于图像显示装置的情况下,可达成非常优异的反射色相。
树脂膜的厚度可设定为任意适当的值。在树脂膜作为λ/4板等相位差膜发挥功能的情况下,其厚度可以获得所期望的面内相位差的方式设定。具体而言,树脂膜的厚度例如为10μm~200μm,其中,作为相位差膜的厚度优选为10μm~80μm,进一步优选为10μm~60μm,最优选为30μm~50μm。
树脂膜包含可满足如上所述的特性的任意适当的树脂。作为该树脂,可列举出聚碳酸酯树脂、聚乙烯醇缩醛树脂、环烯烃系树脂、丙烯酸系树脂、纤维素酯系树脂等。优选为聚碳酸酯树脂。关于聚碳酸酯树脂,使用多种单体来合成共聚物比较容易,能够实现用于调整各种物性平衡的分子设计。另外,耐热性或拉伸性、机械物性等也比较良好。需要说明的是,本发明中,所谓聚碳酸酯树脂统称在结构单元中具有碳酸酯键的树脂,例如包含聚酯碳酸酯树脂。所谓聚酯碳酸酯树脂是指具有碳酸酯键及酯键作为构成该树脂的结构单元的树脂。
聚碳酸酯树脂优选至少含有下述式(1)或(2)所表示的结构单元。
(式(1)及(2)中,R1~R3分别独立地为直接键、可具有取代基的碳数为1~4的亚烷基,R4~R9分别独立地为氢原子、可具有取代基的碳数为1~10的烷基、可具有取代基的碳数为4~10的芳基、可具有取代基的碳数为1~10的酰基、可具有取代基的碳数为1~10的烷氧基、可具有取代基的碳数为1~10的芳氧基、可具有取代基的氨基、可具有取代基的碳数为1~10的乙烯基、可具有取代基的碳数为1~10的乙炔基、具有取代基的硫原子、具有取代基的硅原子、卤素原子、硝基、或氰基;其中,R4~R9可相互相同,也可不同,R4~R9中相邻的至少2个基团可相互键合而形成环)。
上述结构单元即便在树脂中的含量为少量,也可高效地表现出逆波长分散性。另外,含有上述结构单元的树脂的耐热性也良好,通过进行拉伸而获得较高的双折射,因此具有作为上述相位差膜适宜的特性。
关于上述式(1)或(2)所表示的结构单元在树脂中的含量,为了获得作为相位差膜最佳的波长分散特性,在将构成聚碳酸酯树脂的所有结构单元及连结基团的重量的合计量设定为100重量%时,优选含有1重量%~50重量%,更优选为3重量%~40重量%,特别优选为5重量%~30重量%。
作为上述式(1)及(2)所表示的结构单元中优选的结构,具体而言可列举出具有下述[A]组中例示的骨架的结构。
[A]
在上述[A]组中,(A1)及(A2)的二酯结构单元的性能较高,特别优选为(A1)。上述特定的二酯结构单元的热稳定性比上述式(1)所表示的二羟基化合物来源的结构单元良好,关于逆波长分散的表现性或光弹性模量等光学特性也有显示出良好的特性的倾向。需要说明的是,在聚碳酸酯树脂含有二酯的结构单元的情况下,将这样的树脂称为聚酯碳酸酯树脂。
通过使聚碳酸酯树脂同时含有上述式(1)或(2)所表示的结构单元与其他结构单元,可设计出满足上述相位差膜所要求的各种物性的树脂。特别是为了赋予作为重要物性的较高的耐热性,优选含有下述式(3)所表示的结构单元。
(式(3)中,R10~R15分别独立地表示氢原子、碳数为1~12的烷基、芳基、碳数为1~12的烷氧基、或卤素原子)
上述式(3)所表示的结构单元是具有较高的玻璃化转变温度的成分,进而,尽管为芳香族结构,但光弹性模量比较低,满足上述树脂膜所要求的特性。
关于上述式(3)所表示的结构单元在树脂中的含量,在将构成聚碳酸酯树脂的所有结构单元及连结基团的重量的合计量设定为100重量%时,优选含有1重量%~30重量%,更优选为2重量%~20重量%,特别优选为3重量%~15重量%。若为该范围,则可赋予充分的耐热性,并且树脂不会过度变脆,可获得加工性优异的树脂。
上述式(3)所表示的结构单元可通过使含有该结构单元的二羟基化合物聚合而导入至树脂中。作为该二羟基化合物,从物性良好且获取的容易性的观点出发,也特别优选使用6,6'-二羟基-3,3,3',3'-四甲基-1,1'-螺二茚满。
聚碳酸酯树脂优选进一步含有下述式(4)所表示的结构单元。
上述式(4)所表示的结构单元具有如下特性:将树脂拉伸时的双折射的表现性较高,光弹性模量也较低。作为能够导入上述式(4)所表示的结构单元的二羟基化合物,可列举出处于立体异构物的关系的异山梨糖醇(ISB)、异甘露糖醇、异艾杜糖醇,在它们中,从获取及聚合反应性的观点出发,最优选使用ISB。
聚碳酸酯树脂也可根据所要求的物性,除含有上述结构单元以外,也含有其他结构单元。作为含有其他结构单元的单体,例如可列举出脂肪族二羟基化合物、脂环式二羟基化合物、含有缩醛环的二羟基化合物、氧亚烷基二醇类、含有芳香族成分的二羟基化合物、二酯化合物等。从各种物性的平衡良好或获取的容易性的观点出发,可优选使用1,4-环己烷二甲醇(以下有时简记为CHDM)、三环癸烷二甲醇(以下有时简记为TCDDM)、螺二醇(以下有时简记为SPG)等二羟基化合物。
在聚碳酸酯树脂中,也可在不损害本发明的目的的范围内含有通常所使用的热稳定剂、抗氧化剂、催化剂失活剂、紫外线吸收剂、光稳定剂、脱模剂、染颜料、冲击改良剂、抗静电剂、滑剂、润滑剂、增塑剂、相容剂、成核剂、阻燃剂、无机填充剂、发泡剂等。
聚碳酸酯树脂也可以改善机械特性或耐溶剂性等特性为目的,而设定为与芳香族聚碳酸酯、脂肪族聚碳酸酯、芳香族聚酯、脂肪族聚酯、聚酰胺、聚苯乙烯、聚烯烃、丙烯酸、非晶聚烯烃、ABS、AS、聚乳酸、聚琥珀酸丁二酯等合成树脂或橡胶等的1种或2种以上混炼而成的聚合物合金。
上述添加剂或改质剂可通过滚筒、V型掺合机、诺塔混合器、班伯里混合机、混炼辊、挤出机等混合机将上述成分同时或以任意的顺序混合至树脂中而制造。其中,从分散性提高的观点出发,优选通过挤出机、特别是双螺杆挤出机进行混炼。
聚碳酸酯树脂的分子量可以还原粘度表示。还原粘度是使用二氯甲烷作为溶剂,将聚碳酸酯树脂浓度精密地制备为0.6g/dL,在温度20.0℃±0.1℃下使用乌氏粘度管进行测定。还原粘度的下限通常优选为0.25dL/g以上,更优选为0.30dL/g以上,特别优选为0.32dL/g以上。还原粘度的上限通常优选为0.50dL/g以下,更优选为0.45dL/g以下,特别优选为0.40dL/g以下。若还原粘度小于上述下限值,则有产生成型品的机械强度变小的问题的情况。另一方面,若还原粘度大于上述上限值,则有产生成型时的流动性降低、生产率或成型性降低的问题的情况。
聚碳酸酯树脂在测定温度为240℃、剪切速度为91.2秒-1下的熔融粘度优选为3000Pa·秒~7000Pa·秒。熔融粘度的下限更优选为4000Pa·秒以上,特别优选为4500Pa·秒以上。熔融粘度的上限更优选为6500Pa·秒以下,特别优选为6000Pa·秒以下。
对于树脂膜要求较高的耐热性,通常越提高耐热性(玻璃化转变温度)则树脂变得越脆的方向,但通过设定为如上所述的熔融粘度范围,还可保持树脂的加工时最低限度所需要的机械物性并且对树脂进行熔融加工。
聚碳酸酯树脂的钠d线(589nm)下的折射率优选为1.49~1.56。进一步优选折射率为1.50~1.55。
为了对树脂膜赋予作为相位差膜所要求的光学特性,必须在树脂中导入芳香族结构。但是,芳香族结构因提高折射率而导致树脂膜的透射率的降低。另外,一般而言,芳香族结构具有较高的光弹性模量,使光学特性整体降低。对于上述聚碳酸酯树脂,优选选择高效地表现所要求的特性的结构单元,且将树脂中的芳香族结构的含量抑制为最小限度。
上述树脂膜例如可通过将上述聚碳酸酯树脂等树脂进行膜成型而获得。作为形成膜的方法,可采用任意适当的成型加工法。作为具体例子,可列举出压缩成型法、传递成型法、注射成型法、挤出成型法、吹塑成型法、粉末成型法、FRP(Fiber Reinforced Plastics,纤维强化塑料)成型法、流延涂装法(例如流延法)、压延成型法、热压法等。其中,优选为可提高所获得的膜的平滑性、获得良好的光学均匀性的挤出成型法、或流延涂装法。流延涂装法有可能产生由残存溶剂所导致的问题,因此特别优选为挤出成型法,其中使用T型模头的熔融挤出成型法从膜的生产率或其后的拉伸处理的容易性的观点出发优选。成型条件可根据所使用的树脂的组成或种类、作为相位差膜所期望的特性等而适当设定。
通过膜成型所获得的树脂膜根据需要进一步拉伸。
上述拉伸可采用任意适当的拉伸方法、拉伸条件(例如拉伸温度、拉伸倍率、拉伸方向)。具体而言,可将自由端拉伸、固定端拉伸、自由端收缩、固定端收缩等各种拉伸方法单独使用,也可同时或逐步使用。关于拉伸方向,可在长度方向、宽度方向、厚度方向、倾斜方向等各种方向或维度上进行。
通过适当选择上述拉伸方法、拉伸条件,可获得具有上述所期望的光学特性(例如折射率特性、面内相位差、Nz系数)的相位差膜。
在一实施方式中,相位差膜通过将树脂膜进行单轴拉伸或固定端单轴拉伸而制作。作为固定端单轴拉伸的具体例子,可列举出一边使树脂膜在长度方向上前行一边在宽度方向(横向)上拉伸的方法。拉伸倍率优选为1.1倍~3.5倍。
在另一实施方式中,相位差膜可通过将长条状的树脂膜在相对于长度方向为规定角度的方向上连续地倾斜拉伸而制作。通过采用倾斜拉伸,可获得相对于膜的长度方向具有规定角度的取向角(在规定角度的方向上具有慢轴)的长条状的拉伸膜,例如在与起偏器层叠时能够卷对卷,可简化制造工序。进而,通过与导电层可直接形成于树脂膜(相位差膜)的协同效应,制造效率可显著提高。需要说明的是,上述规定角度可为在膜层叠体中起偏器的吸收轴与相位差膜的慢轴所成的角度。该角度如上所述,优选为35°~55°,更优选为38°~52°,进一步优选为42°~48°,特别优选为约45°。
作为用于倾斜拉伸的拉伸机,例如可列举出可在横向和/或纵向上施加左右不同速度的进给力或拉伸力或拉拽力的拉幅式拉伸机。拉幅式拉伸机有横向单轴拉伸机、同时双轴拉伸机等,但只要可将长条状树脂膜连续地倾斜拉伸,则可使用任意适当的拉伸机。
通过在上述拉伸机中适当地分别控制左右的速度,可获得具有上述所期望的面内相位差且在上述所期望的方向上具有慢轴的相位差膜(实质上为长条状的相位差膜)。
作为倾斜拉伸的方法,例如可列举出日本特开昭50-83482号公报、日本特开平2-113920号公报、日本特开平3-182701号公报、日本特开2000-9912号公报、日本特开2002-86554号公报、日本特开2002-22944号公报等中记载的方法。
上述膜的拉伸温度可根据相位差膜所期望的面内相位差值及厚度、所使用的树脂的种类、所使用的膜的厚度、拉伸倍率等而变化。具体而言,拉伸温度优选为Tg-30℃~Tg+30℃,进一步优选为Tg-15℃~Tg+15℃,最优选为Tg-10℃~Tg+10℃。通过在这样的温度下拉伸,可在本发明中获得具有适当的特性的相位差膜。需要说明的是,Tg为膜的构成材料的玻璃化转变温度。
可根据需要在树脂膜的表面设置功能层。功能层可设置于树脂膜的一面,也可设置于两面。另外,功能层可为单层结构,也可为2层以上的多层结构。
作为功能层,可列举出硬涂层、防眩处理层及抗反射层、折射率匹配层、抗粘连层、低聚物防止层等。这些层的形成材料在该领域是公知的,因此省略其详细说明。
功能层例如可使用能形成各层的材料,通过凹版涂布法、棒式涂布法等涂装法、真空蒸镀法、溅射法、离子镀法等直接形成于树脂膜表面。
在一实施方式中,防眩处理层、抗反射层或折射率匹配层形成于树脂膜的设置导电层一侧的面,硬涂层或抗粘连层可形成于任一面或两面。
功能层的厚度(在多层结构的情况下为合计厚度)例如可为10nm~5μm,优选为20nm~4μm。
B-2.导电层
导电层代表性而言为透明导电层。导电层的总光线透射率优选为80%以上,更优选为85%以上,进一步优选为90%以上。
导电层可根据需要布图。通过布图,可形成导通部和绝缘部。结果是,可形成电极。电极可作为感知对触摸面板的接触的触摸传感器电极发挥功能。图案的形状优选为作为触摸面板(例如静电电容方式触摸面板)良好地动作的图案。作为具体例子,可列举出日本特表2011-511357号公报、日本特开2010-164938号公报、日本特开2008-310550号公报、日本特表2003-511799号公报、日本特表2010-541109号公报中记载的图案。
导电层的密度优选为1.0g/cm3~10.5g/cm3,更优选为1.3g/cm3~8.0g/cm3。
导电层的表面电阻值优选为0.1Ω/sq~1000Ω/sq,更优选为0.5Ω/sq~500Ω/sq,进一步优选为1Ω/sq~250Ω/sq。
作为导电层的代表例,可列举出含有金属氧化物的导电层。作为金属氧化物,例如可列举出氧化铟、氧化锡、氧化锌、铟锡复合氧化物、锡锑复合氧化物、锌铝复合氧化物、铟锌复合氧化物。其中优选为铟锡复合氧化物(ITO)。
导电层的厚度优选为0.01μm~0.06μm,更优选为0.01μm~0.045μm。若为这样的范围,则可获得导电性及透光性优异的导电层。
导电层代表性而言可通过溅射而形成于膜基材的表面。
C.低透湿性基材
低透湿性基材在40℃、92%R.H.下的透湿度(水蒸气透过率)为1.0g/(m2·天)以下,优选为0.2g/(m2·天)以下,更优选为0.1g/(m2·天)以下,进一步优选为0.05g/(m2·天)以下。若透湿度为这样的范围,则可适宜地抑制伴随着吸湿的膜基材的变形、例如收缩,结果是,可防止伴随着该变形而在导电层产生裂纹。透湿度理想上优选为完全不使水蒸气透过(即0g/(m2·天))。
从光学特性的方面出发,低透湿性基材的总光线透射率优选为70%以上,更优选为75%以上,进一步优选为80%以上。
作为低透湿性基材,只要具有上述所期望的特性,则可采用任意适当的构成。在一实施方式中,低透湿性基材具备支撑基材和设置于该支撑基材的一侧的无机薄膜。无机薄膜可直接设置于支撑基材上。或者,也可隔着锚固涂层而设置于支撑基材上。
上述支撑基材优选为透明。支撑基材的可见光(例如波长550nm的光)的总光线透射率优选为85%以上,更优选为90%以上,进一步优选为95%以上。
在一实施方式中,支撑基材在光学上为各向同性。若为这样的构成,则在将膜层叠体应用于图像显示装置的情况下可防止对该图像显示装置的显示特性的不良影响。
支撑基材的平均折射率优选为低于1.7,更优选为1.59以下,进一步优选为1.4~1.55。若平均折射率为这样的范围,则具有可抑制背面反射、可达成较高的透光率的优点。
作为构成支撑基材的材料,可使用能够满足上述特性的任意适当的材料。作为具体例子,例如可列举出降冰片烯系树脂或烯烃系树脂等不具有共轭系的树脂、在丙烯酸系主链中具有内酯环或戊二酰亚胺环等环状结构的树脂、聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂。若为这样的材料,则可在形成支撑基材时将伴随着分子链的取向的相位差的表现抑制为较小。
支撑基材的厚度优选为10μm~50μm,更优选为20μm~35μm。
上述无机薄膜可由任意适当的无机化合物形成。无机薄膜优选含有选自由氧化物、氮化物、氢化物及其复合化合物构成的组中的至少一种无机化合物。具体而言,无机化合物不仅可为氧化物、氮化物或氢化物单体的情况,而且可为氧化物、氮化物和/或氢化物的复合化合物。通过使用这样的化合物,透明性可进一步优异。形成无机薄膜的无机化合物可具有任意适当的结构。具体而言,可具有完全的晶体结构,也可具有非晶结构。
作为构成上述无机化合物的元素,可列举出碳(C)、硅(Si)、铝(Al)、镁(Mg)、钙(Ca)、钾(K)、锌(Zn)、锡(Sn)、镍(Ni)、钠(Na)、硼(B)、钛(Ti)、铅(Pb)、锆(Zr)、钇(Y)、烃、以及它们的氧化物、碳化物、氮化物及它们的混合物。它们可单独使用或组合2种以上而使用。在这些中,优选使用碳、硅、铝。作为无机化合物的具体例子,可列举出类金刚石碳(DLC)、硅氮化物(SiNx)、硅氧化物(SiOy)、铝氧化物(AlOz)、铝氮化物等。作为SiNx的x的值,优选为0.3~2。作为SiOy的y的值,优选为1.3~2.5。作为AlOz的z的值,优选为0.7~2.3。特别优选为硅氧化物、铝氧化物。这是由于,可稳定地维持较高的阻气性。
无机薄膜的厚度优选为0.1nm~5000nm,更优选为0.5nm~1000nm,进一步优选为10nm~1000nm,特别优选为30nm~500nm,尤其优选为50nm~200nm。若为这样的范围,则可获得具有充分的阻隔性、不会产生龟裂或剥离且透明性优异的无机薄膜。
无机薄膜可采用任意适当的构成。具体而言,无机薄膜可由单一层形成,也可为多层的层叠体。作为无机薄膜为层叠体的情况的一具体例子,可列举出无机氧化物层/无机氮化物层/无机氧化物层(例如SiOy层/SiNx层/SiOy层)的3层构成。另外,作为无机薄膜为层叠体的情况的另一具体例子,可列举出含有ZnO、Al及SiO2的第1氧化物层/由SiO2构成的第2氧化物层的2层构成。在该构成中,第1氧化物层配置于支撑基材侧。
如上所述,上述第1氧化物层含有ZnO、Al及SiO2。第1氧化物层相对于总重量以优选为2.5重量%~3.5重量%的比率含有Al,以优选为以20.0重量%~62.4重量%的比率含有SiO2。ZnO优选为剩余量。通过在这样的范围内含有ZnO,可形成非晶性、阻隔性、弯曲性及耐热性优异的层。通过在这样的范围内含有Al,第1氧化物层代表性而言通过溅射而形成,结果可增大靶的导电率。通过在这样的范围内含有SiO2,可不产生异常放电且不损害阻隔性而减小第1氧化物层的折射率。
第1氧化物层的厚度优选为10nm~100nm,更优选为10nm~60nm,进一步优选为20nm~40nm。若厚度为这样的范围,则具有可兼顾较高的透光性和优异的阻隔性的优点。
第1氧化物层的平均折射率优选为1.59~1.80。若平均折射率为这样的范围,则具有可达成较高的透光性的优点。
第1氧化物层优选为透明。第1氧化物层的可见光(例如波长为550nm的光)的总光线透射率优选为85%以上,更优选为90%以上,进一步优选为95%以上。
上述第2氧化物层由SiO2构成(也可含有不可避免的杂质)。通过在第1氧化物层的表面形成这样的第2氧化物层,可维持由第1氧化物层所获得的良好的特性,并且显著提高作为低透湿性基材整体的耐化学品性及透明性。进而,第2氧化物层可作为低折射率层发挥功能,因此可对低透湿性基材赋予良好的抗反射特性。
第2氧化物层的厚度优选为10nm~100nm,更优选为50nm~100nm,进一步优选为60nm~100nm。若厚度为这样的范围,则具有可兼顾较高的透光性、优异的阻隔性及优异的耐化学品性的优点。
第2氧化物层的平均折射率优选为1.44~1.50。其结果是,第2氧化物层可作为低折射率层(抗反射层)良好地发挥功能。
第2氧化物层优选为透明。第2氧化物层的可见光(例如波长为550nm的光)的总光线透射率优选为85%以上,更优选为90%以上,进一步优选为95%以上。
作为无机薄膜的形成方法,可采用任意适当的方法。作为具体例子,可列举出蒸镀法、涂敷法。从可获得阻隔性较高的均匀的薄膜的方面而言,优选为蒸镀法。蒸镀法包括真空蒸镀、离子镀、溅射等PVD(Physical Vapor Deposition,物理气相蒸镀法)、CVD(Chemical Vapor Deposition,化学气相蒸镀法)。
以下对上述第1氧化物层及第2氧化物层的形成方法更详细地进行说明。第1氧化物层代表性而言可通过溅射而形成于支撑基材上。第1氧化物层例如可使用含有Al、SiO2及ZnO的溅射靶,在含有氧气的不活泼性气体气氛下通过溅射法而形成。作为溅射方法,可采用磁控溅射法、RF(Radio Frequency,射频)溅射法、RF重叠DC(Direct Current,直流)溅射法、脉冲溅射法、双磁控溅射法等。基板的加热温度例如为-8℃~200℃。氧气相对于氧气与不活泼性气体的气氛气体整体的气体分压例如为0.05以上。
关于构成第1氧化物层的AZO膜及其制造方法的详细情况,例如记载在日本特开2013-189657号公报中。该公报的记载作为参考被援引于本说明书中。
第2氧化物层代表性而言可通过溅射而形成于第1氧化物层上。第2氧化物层例如可通过将Si、SiC、SiN或SiO作为靶,使用含有氧气的不活泼性气体(例如氩、氮、CO、CO2、及它们的混合气体)进行溅射而形成。第1氧化物层及第2氧化物层均含有SiO2,因此第1氧化物层与第2氧化物层的密合性非常优异。由此,为了使第1氧化物层与第2氧化物层的界面表现充分的阻隔功能,第1氧化物层的厚度优选如上所述为10nm以上。作为其理由,可充分减小作为沉积初期膜的所谓培养层的比例,可形成具有目标物性的氧化物层。另外,第1氧化物层与第2氧化物层的总厚度优选为200nm以下,更优选为140nm以下。
作为锚固涂层的形成材料,可采用任意适当的材料。作为该材料,可列举出树脂、烃、金属、金属氧化物及金属氮化物。关于锚固涂层的形成材料及形成方法,例如记载在日本特开2016-105166号公报中。该公报的记载作为参考被援引于本说明书中。
也可在低透湿性基材的表面(无机薄膜侧表面或支撑基材侧表面)形成保护层。保护层代表性而言由树脂形成。形成保护层的树脂可为溶剂性,也可为水性。作为具体例子,可列举出聚酯系树脂、氨基甲酸酯系树脂、丙烯酸系树脂、聚乙烯醇系树脂、乙烯-不饱和羧酸共聚物、乙烯-乙烯醇系树脂、乙烯基改性树脂、硝化纤维素系树脂、硅系树脂、异氰酸酯系树脂、环氧系树脂、含噁唑啉基的树脂、改性苯乙烯系树脂、改性硅系树脂、钛酸烷基酯。它们可单独使用,也可组合使用。为了提高阻隔性、耐磨性、滑动性,也可在保护层中添加无机粒子。作为无机粒子,例如可列举出硅溶胶、氧化铝溶胶、粒子状无机填料及层状无机填料。它们可单独使用,也可组合使用。无机粒子可通过混合而添加,也可通过在无机粒子存在下使上述树脂的单体聚合而添加。
作为保护层的形成方法,可采用任意适当的方法。在使用树脂组合物的情况下,作为形成方法,例如可列举出涂敷及浸渍。作为涂敷方法的具体例子,可列举出逆转辊涂布机、凹版涂布机、杆式涂布机、气刀涂布机、喷雾及毛刷。在涂布或浸渍后,对涂布层或通过浸渍所形成的层进行任意适当的干燥处理而使溶剂蒸发,由此可形成均匀的保护层。作为干燥处理,例如可列举出热风干燥或热辊干燥等加热干燥、红外线干燥。加热温度例如为80℃~200℃左右。为了提高耐水性、耐久性,也可对所形成的保护层进行利用能量射线照射的交联处理。
保护层的厚度优选为0.05μm~10μm,进一步优选为0.1μm~3μm。
在将上述锚固涂层、无机薄膜及任意的保护层设定为1个构成单元层的情况下,可在低透湿性基材设置1层或多层的构成单元层。在构成单元层设置有多层的情况下,构成单元层的层数优选为1层~10层,更优选为1层~5层。在此情况下,各构成单元层可相同,也可不同。
上述低透湿性基材代表性而言介由粘接层而层叠于带导电层的膜基材。此时,可以无机薄膜侧与粘接层相向的方式层叠,也可以支撑基材侧与粘接层相向的方式层叠。
D.偏振片
偏振片代表性而言包含起偏器和设置于其一侧(目视确认侧)的第1保护膜。偏振片可根据需要进一步包含设置于起偏器的另一侧(带导电层的膜基材侧)的第2保护膜。另外,也可为在该第2保护膜的与起偏器相反的一侧进一步包含相位差膜的带相位差膜的偏振片(第1保护膜/起偏器/第2保护膜/相位差膜的构成)。
作为起偏器,可采用任意适当的起偏器。例如起偏器可为(i)将以聚乙烯醇(PVA)系树脂膜为代表的单层的树脂膜利用碘等二色性物质进行染色及拉伸而获得的起偏器。另外,例如起偏器可为(ii)将树脂基材与层叠于该树脂基材的PVA系树脂层(PVA系树脂膜)的层叠体利用二色性物质进行染色及拉伸而获得的起偏器、或(iii)将树脂基材与涂布于该树脂基材的PVA系树脂层的层叠体利用二色性物质进行染色及拉伸而获得的起偏器。(iii)的起偏器的制造方法的详细情况例如记载在日本特开2012-73580号公报中。该公报其整体的记载作为参考被援引于本说明书中。
起偏器的厚度优选为15μm以下,更优选为1μm~12μm,进一步优选为3μm~10μm,特别优选为3μm~8μm。若起偏器的厚度为这样的范围,则可良好地抑制加热时的卷曲,且获得良好的加热时的外观耐久性。进而,若起偏器的厚度为这样的范围,则可有助于膜层叠体(结果是图像显示装置)的薄型化。
起偏器优选在波长为380nm~780nm的任一波长下显示吸收二色性。起偏器的单体透射率优选为43.0%~46.0%,更优选为44.5%~46.0%。起偏器的偏振度优选为97.0%以上,更优选为99.0%以上,进一步优选为99.9%以上。
第1保护膜由可用作起偏器的保护膜的任意适当的膜形成。作为成为该膜的主要成分的材料的具体例子,可列举出三乙酰纤维素(TAC)等纤维素系树脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚酰胺系、聚酰亚胺系、聚醚砜系、聚砜系、聚苯乙烯系、聚降冰片烯系、聚烯烃系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明树脂等。另外,也可列举出(甲基)丙烯酸系、氨基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸氨基甲酸酯系、环氧系、有机硅系等热硬化型树脂或紫外线硬化型树脂等。此外,例如也可列举出硅氧烷系聚合物等玻璃质系聚合物。另外,也可使用日本特开2001-343529号公报(WO01/37007)中记载的聚合物膜。作为该膜的材料,例如可使用含有在侧链具有取代或未取代的酰亚胺基的热塑性树脂、与在侧链具有取代或未取代的苯基以及腈基的热塑性树脂的树脂组合物,例如可列举出具有由异丁烯与N-甲基马来酰亚胺形成的交替共聚物、及丙烯腈-苯乙烯共聚物的树脂组合物。该聚合物膜例如可为上述树脂组合物的挤出成型物。
在起偏器为上述(iii)将树脂基材与涂布于该树脂基材的PVA系树脂层的层叠体利用二色性物质进行染色及拉伸而获得的起偏器的情况下,可不将该树脂基材从起偏器剥离而用作第1保护膜。
如下所述,本发明的膜层叠体代表性而言配置于图像显示装置的目视确认侧,此时,第1保护膜配置于其目视确认侧。因此,也可根据需要对第1保护膜实施硬涂处理、抗反射处理、抗粘处理、防眩处理等表面处理。进而/或者,也可根据需要对第1保护膜实施改善隔着偏光太阳镜进行目视确认的情况的目视确认性的处理(代表性而言为赋予(椭)圆偏光功能、赋予超高相位差)。通过实施这样的处理,即便在隔着偏光太阳镜等偏光透镜目视确认显示画面的情况下,也可实现优异的目视确认性。因此,本发明的膜层叠体也可适宜地应用于可在室外使用的图像显示装置。
第1保护膜的厚度优选为10μm~200μm,更优选为20μm~100μm,进一步优选为25μm~95μm。
第2保护膜可在光学上为各向同性。或者,第2保护膜也可具有双折射,在光学上为各向异性。光学上为各向异性的第2保护膜可为能够发挥光学补偿功能的相位差膜。第2保护膜的材料及厚度等如关于第1保护膜所说明的那样。另外,在第2保护膜为可发挥光学补偿功能的相位差膜的情况下,其光学特性(折射率椭球体、相位差等)及与起偏器的轴关系如关于下述的作为任意的构成要素的相位差膜所说明的那样。需要说明的是,第2保护膜为可发挥光学补偿功能的相位差膜的实施方式包含在偏振片包含相位差膜的实施方式中。
可设置于上述第2保护膜的与起偏器相反的一侧的相位差膜根据目的等以具有所期望的折射率椭球体及相位差的方式制作。
在一实施方式中,上述相位差膜可作为λ/2板发挥功能。在该实施方式中,相位差膜的面内相位差Re(550)为180nm~320nm,更优选为200nm~290nm,进一步优选为230nm~280nm。相位差膜代表性而言具有nx>ny=nz或nx>ny>nz的折射率椭球体,其Nz系数例如为0.9~2,优选为1~1.5,更优选为1~1.3。
上述相位差膜可显示出相位差值与测定光的波长相应地变大的逆波长分散特性,也可显示出相位差值与测定光的波长相应地变小的正波长分散特性,也可显示出相位差值几乎不会因测定光的波长而发生变化的平坦的波长分散特性。优选显示出平坦的波长分散特性。通过采用具有平坦的波长分散特性的λ/2板(相位差膜),可实现优异的抗反射特性及倾斜方向的反射色相。相位差膜的Re(450)/Re(550)优选为0.99~1.07,Re(650)/Re(550)优选为0.98~1.07。
上述相位差膜可通过将任意适当的树脂进行膜成型并根据需要进行拉伸而制作。作为树脂,优选可使用环状烯烃系树脂。作为拉伸方法,可使用上述B-1.项中记载的方法。
在另一实施方式中,上述相位差膜可为具有nz>nx=ny的折射率椭球体的正C板。其中,“nx=ny”不仅包括nx与ny严格上相等的情况,而且也包括nx与ny实质上相等的情况。即,是指Re低于10nm。该膜的厚度方向的相位差Rth例如为-20nm~-200nm,进一步优选为-40nm~-180nm,特别优选为-40nm~-160nm。
作为上述相位差膜的具体例子,可列举出由固定(固化或硬化)成垂直取向的液晶材料形成的膜(垂直取向液晶膜)。若使用这样的膜,则在用于图像显示装置的情况下,能够获得可有助于提高从倾斜方向目视确认的情况的色调、以及提高抗反射特性的膜层叠体。在本说明书中,所谓“垂直取向”是指液晶材料(液晶化合物)的长轴方向相对于起偏器的主表面为90°±30°的取向状态。换而言之,“垂直取向”不仅包括纯粹的垂直取向,而且包括规定的倾斜取向。需要说明的是,倾斜取向的倾斜角例如可以Journal of Applied Physics,Vol.38(1999),P.748中记载的步骤求出。
可形成上述垂直取向的液晶材料(液晶化合物)可为液晶单体,也可为液晶聚合物。作为代表性的液晶化合物,例如可列举出向列型液晶化合物。关于这样的液晶化合物的取向技术的概要例如记载在化学总说44(表面的改质,日本化学会编,156~163页)。
包含固定成上述垂直取向的液晶材料的膜的详细情况例如记载在日本特开2008-216782号公报中。该公报其整体的记载作为参考被援引于本说明书中。
包含固定成上述垂直取向的液晶材料的膜例如可通过在基材上涂装含有液晶材料(液晶化合物)的液晶性组合物,使它们在呈现液晶相的状态下垂直取向,在维持该取向的状态下实施硬化处理而形成。所获得的膜代表性而言从基材剥离,转印至第2保护膜。
上述相位差膜的厚度可根据形成材料、目的等而设定为任意适当的值。具体而言,作为λ/2板发挥功能的相位差膜的厚度优选为10μm~60μm,更优选为30μm~50μm。另外,作为正C板的相位差膜的厚度优选为0.5μm~60μm,进一步优选为0.5μm~50μm,最优选为0.5μm~40μm。
偏振片代表性而言通过介由任意适当的粘合剂层或粘接剂层将各层贴合而获得。
E.粘接层
作为粘接层,可在不损害本发明的效果的范围内使用任意适当的粘接层。其中,优选使用在40℃、92%R.H.下的透湿度为100g/(m2·天)以下的粘接层。通过将粘接层的透湿度控制为上述值以下,可进一步抑制伴随着吸湿的膜基材的变形、例如收缩,结果是可更适宜地防止伴随着该变形而在导电层产生裂纹。其中,“透湿度”是指粘接层在40℃、92%R.H.条件下的水蒸气透过率(透湿度)。另外,所谓“粘接层”是指粘接剂层或粘合剂层。
介于上述偏振片与带导电层的膜基材之间的粘接层、及介于带导电层的膜基材与低透湿性基材之间的粘接层可为相同的粘接层,也可为不同的粘接层。优选使任一粘接层满足上述透湿度,更优选使两个粘接层满足上述透湿度。
粘接层在40℃、92%R.H.下的透湿度更优选为50g/(m2·天)以下,进一步优选为40g/(m2·天)以下,进一步更优选为30g/(m2·天)以下,进一步更优选为20g/(m2·天)以下。透湿度理想上优选为完全不使水蒸气透过(即0g/(m2·天))。
E-1.粘接剂层
作为粘接剂层,可采用由任意适当的粘接剂组合物形成的层。作为这样的粘接剂组合物,例如可列举出天然橡胶粘接剂组合物、α-烯烃系粘接剂组合物、氨基甲酸酯树脂系粘接剂组合物、乙烯-乙酸乙烯酯树脂乳液粘接剂组合物、乙烯-乙酸乙烯酯树脂系热熔粘接剂组合物、环氧树脂系粘接剂组合物、氯乙烯树脂溶剂系粘接剂组合物、氯丁二烯橡胶系粘接剂组合物、氰基丙烯酸酯系粘接剂组合物、有机硅系粘接剂组合物、苯乙烯-丁二烯橡胶溶剂系粘接剂组合物、腈橡胶系粘接剂组合物、硝化纤维素系粘接剂组合物、反应性热熔粘接剂组合物、酚醛树脂系粘接剂组合物、改性有机硅系粘接剂组合物、聚酯系热熔粘接剂组合物、聚酰胺树脂热熔粘接剂组合物、聚酰亚胺系粘接剂组合物、聚氨酯树脂热熔粘接剂组合物、聚烯烃树脂热熔粘接剂组合物、聚乙酸乙烯酯树脂溶剂系粘接剂组合物、聚苯乙烯树脂溶剂系粘接剂组合物、聚乙烯醇系粘接剂组合物、聚乙烯基吡咯烷酮树脂系粘接剂组合物、聚乙烯醇缩丁醛系粘接剂组合物、聚苯并咪唑粘接剂组合物、聚甲基丙烯酸酯树脂溶剂系粘接剂组合物、三聚氰胺树脂系粘接剂组合物、尿素树脂系粘接剂组合物、间苯二酚系粘接剂组合物等。这样的粘接剂组合物可单独使用1种或混合2种以上而使用。
粘接剂层的厚度可根据目的等而选择任意适当的厚度。粘接剂层的厚度例如可为0.01~10μm,优选为0.05~8μm。
E-2.粘合剂层
作为粘合剂层,可采用由任意适当的粘合剂组合物形成的层。作为粘合剂组合物,例如可列举出橡胶系粘合剂组合物、丙烯酸系粘合剂组合物、有机硅系粘合剂组合物、氨基甲酸酯系粘合剂组合物、乙烯基烷基醚系粘合剂组合物、聚乙烯醇系粘合剂组合物、聚乙烯基吡咯烷酮系粘合剂组合物、聚丙烯酰胺系粘合剂组合物、纤维素系粘合剂组合物等,在它们中,从满足上述透湿度的观点出发,优选为橡胶系粘合剂组合物。
橡胶系粘合剂组合物优选含有在室温附近的温度域显示橡胶弹性的橡胶系聚合物作为基础聚合物。作为橡胶系聚合物的具体例子,可列举出苯乙烯系热塑性弹性体、异丁烯系聚合物等。它们可分别单独使用、或组合使用。
作为苯乙烯系热塑性弹性体,可列举出苯乙烯-乙烯-丁烯-苯乙烯嵌段共聚物(SEBS)、苯乙烯-异戊二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SIS)、苯乙烯-丁二烯-苯乙烯嵌段共聚物(SBS)、苯乙烯-乙烯-丙烯-苯乙烯嵌段共聚物(SEPS、SIS的氢化物)、苯乙烯-乙烯-丙烯嵌段共聚物(SEP、苯乙烯-异戊二烯嵌段共聚物的氢化物)、苯乙烯-异丁烯-苯乙烯嵌段共聚物(SIBS)、苯乙烯-丁二烯橡胶(SBR)等苯乙烯系嵌段共聚物等。
作为异丁烯系聚合物,可列举出作为异丁烯的均聚物的聚异丁烯(PIB)、异丁烯与正丁烯的共聚物、异丁烯与异戊二烯的共聚物(例如普通丁基橡胶、氯化丁基橡胶、溴化丁基橡胶、部分交联丁基橡胶等丁基橡胶类)、它们的硫化物或改性物(例如经羟基、羧基、氨基、环氧基等官能团改性而得到的物质)等。其中,从耐候性的观点出发,优选使用聚异丁烯(PIB)。聚异丁烯在主链中不含双键,因此耐光性优异。
作为上述聚异丁烯,例如可使用BASF公司制造的OPPANOL等市售品。
上述聚异丁烯的重均分子量(Mw)优选为10万以上,更优选为30万以上,进一步优选为60万以上,特别优选为70万以上。另外,重均分子量的上限值例如为500万以下,优选为300万以下,更优选为200万以下。通过将上述聚异丁烯的重均分子量设定为10万以上,可制成高温保管时的耐久性更优异的橡胶系粘合剂组合物。
橡胶系粘合剂组合物的总固体成分中的橡胶系聚合物的含量优选为50重量%以上,更优选为60重量%以上,进一步更优选为70重量%以上,进一步更优选为80重量%以上,进一步更优选为85重量%以上,特别优选为90重量%以上。橡胶系聚合物的含量的上限例如为99重量%以下,优选为98重量%以下。通过在上述范围内含有苯乙烯系热塑性弹性体及异丁烯系聚合物所代表的橡胶系聚合物,可获得优异的低透湿性。
橡胶系粘合剂组合物也可进一步包含上述苯乙烯系热塑性弹性体及异丁烯系聚合物以外的聚合物、弹性体等。作为具体例子,可列举出丁基橡胶(IIR)、丁二烯橡胶(BR)、丙烯腈-丁二烯橡胶(NBR)、EPR(二元系乙烯-丙烯橡胶)、EPT(三元系乙烯-丙烯橡胶)、丙烯酸系橡胶、氨基甲酸酯橡胶、聚氨酯系热塑性弹性体、聚酯系热塑性弹性体、聚丙烯与EPT(三元系乙烯-丙烯橡胶)的聚合物掺合物等掺合物系热塑性弹性体等。它们可在不损害本发明的效果的范围内使用,其配合量可相对于苯乙烯系热塑性弹性体和/或异丁烯系聚合物的合计100重量份为0重量份~10重量份。
在使用聚异丁烯作为橡胶系聚合物的情况下,粘合剂组合物优选进一步含有夺氢型光聚合引发剂。所谓夺氢型光聚合引发剂是指通过照射活性能量射线,引发剂自身不裂解,而从聚异丁烯夺去氢,可在聚异丁烯中作出反应点的物质。通过该反应点形成,可引发聚异丁烯的交联反应。
作为光聚合引发剂,除上述夺氢型光聚合引发剂以外,还已知有通过照射活性能量射线而光聚合引发剂自身裂解分解而产生自由基的裂解型光聚合引发剂。然而,若对聚异丁烯使用裂解型光聚合引发剂,则因产生自由基的光聚合引发剂而导致聚异丁烯的主链被切断,无法进行交联。与此相对,通过使用夺氢型光聚合引发剂,可如上所述进行聚异丁烯的交联。
作为夺氢型光聚合引发剂,例如可列举出苯乙酮、二苯甲酮、邻苯甲酰苯甲酸甲基-4-苯基二苯甲酮、4,4'-二氯二苯甲酮、羟基二苯甲酮、4,4'-二甲氧基二苯甲酮、4,4'-二氯二苯甲酮、4,4'-二甲基二苯甲酮、4-苯甲酰基-4'-甲基二苯硫醚、丙烯酸化二苯甲酮、3,3',4,4'-四(过氧化叔丁基羰基)二苯甲酮、3,3'-二甲基-4-甲氧基二苯甲酮等二苯甲酮系化合物;2-异丙基噻吨酮、2,4-二甲基噻吨酮、2,4-二乙基噻吨酮、2,4-二氯噻吨酮等噻吨酮系化合物;4,4'-双(二甲基氨基)二苯甲酮、4,4'-二乙基氨基二苯甲酮等氨基二苯甲酮系化合物;10-丁基-2-氯吖啶酮、2-乙基蒽醌、9,10-菲醌、樟脑醌等;萘乙酮、1-羟基环己基苯基酮等芳香族酮化合物;对苯二甲醛等芳香族醛、甲基蒽醌等醌系芳香族化合物。它们可单独使用1种、或混合2种以上而使用。在它们中,从反应性的方面而言,优选为二苯甲酮系化合物,更优选为二苯甲酮。
夺氢型光聚合引发剂的含量相对于聚异丁烯100重量份,优选为0.001~10重量份,更优选为0.005~10重量份,进一步优选为0.01~10重量份。通过在上述范围内含有夺氢型光聚合引发剂,可使交联反应进行至目标的密度。
橡胶系粘合剂组合物可进一步含有多官能自由基聚合性化合物。多官能自由基聚合性化合物可作为聚异丁烯的交联剂发挥功能。
多官能自由基聚合性化合物是具有至少2个(甲基)丙烯酰基或乙烯基等具有不饱和双键的自由基聚合性官能团的化合物。作为多官能自由基聚合性化合物的具体例子,例如可列举出三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、四乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,9-壬二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,10-癸二醇二(甲基)丙烯酸酯、2-乙基-2-丁基丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、双酚A二(甲基)丙烯酸酯、双酚A环氧乙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、双酚A环氧丙烷加成物二(甲基)丙烯酸酯、双酚A二缩水甘油醚二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯、三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、二噁烷二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、EO改性二甘油四(甲基)丙烯酸酯等(甲基)丙烯酸与多元醇的酯化物、9,9-双[4-(2-(甲基)丙烯酰氧基乙氧基)苯基]芴等。可将它们单独使用1种、或作为2种以上的混合物而使用。在它们中,从对于聚异丁烯的相容性的观点出发,优选为(甲基)丙烯酸与多元醇的酯化物,更优选为具有2个(甲基)丙烯酰基的二官能(甲基)丙烯酸酯、具有3个以上的(甲基)丙烯酰基的三官能(甲基)丙烯酸酯,特别优选为三环癸烷二甲醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯。
多官能自由基聚合性化合物的含量相对于聚异丁烯100重量份,优选为20重量份以下,更优选为15重量份以下,进一步优选为10重量份以下。另外,多官能自由基聚合性化合物的含量的下限值并无特别限定,例如相对于上述聚异丁烯100重量份,优选为0.1重量份以上,更优选为0.5重量份以上,进一步优选为1重量份以上。通过使多官能自由基聚合性化合物的含量在上述范围内,从所获得的橡胶系粘合剂层的耐久性的观点出发优选。
多官能自由基聚合性化合物的分子量例如优选为1000以下左右,更优选为500以下左右。
橡胶系粘合剂组合物可包含选自由含有萜烯骨架的粘合赋予剂、含有松香骨架的粘合赋予剂及它们的氢化物构成的组中的至少一种粘合赋予剂。通过使橡胶系粘合剂组合物含有粘合赋予剂,可形成对各种被粘体具有较高的粘接性、且即便在高温环境下也具有较高的耐久性的橡胶系粘合剂层。
作为含有萜烯骨架的粘合赋予剂,例如可列举出α-蒎烯聚合物、β-蒎烯聚合物、二戊烯聚合物等萜烯聚合物、或将上述萜烯聚合物进行改性(酚改性、苯乙烯改性、芳香族改性、氢化改性、烃改性等)而得到的改性萜烯树脂等。上述改性萜烯树脂的例子中包含萜烯酚醛树脂、苯乙烯改性萜烯树脂、芳香族改性萜烯树脂、氢化萜烯树脂(氢化萜烯树脂)等。这里所谓氢化萜烯树脂的例子中包含萜烯聚合物的氢化物及其他改性萜烯树脂、萜烯酚醛树脂的氢化物。在它们中,从与橡胶系粘合剂组合物的相容性或粘合特性的观点出发,优选为萜烯酚醛树脂的氢化物。
从粘合特性的观点出发,优选粘合赋予剂含有环己醇骨架。与酚骨架相比,环己醇骨架与上述基础聚合物、特别是与聚异丁烯的相容性的平衡可优异。作为含有环己醇骨架的粘合赋予剂,例如优选为萜烯酚醛树脂、松香酚醛树脂等的氢化物,更优选为萜烯酚醛树脂、松香酚醛树脂等的完全氢化物。
粘合赋予剂的添加量相对于聚异丁烯等基础聚合物100重量份,优选为40重量份以下,更优选为30重量份以下,进一步优选为20重量份以下。另外,粘合赋予剂的添加量例如为0.1重量份以上,优选为1重量份以上,更优选为5重量份以上。通过将粘合赋予剂的添加量设定为上述范围,可提高粘合特性。若粘合赋予剂的添加量超出上述范围而大量添加,则有粘合剂组合物的凝聚力降低的倾向。
在橡胶系粘合剂组合物中,可在不损害本发明的效果的范围内,添加稀释剂(例如甲苯、二甲苯、正庚烷、二甲醚等有机溶剂)、软化剂、交联剂(例如聚异氰酸酯、环氧化合物、烷基醚化三聚氰胺化合物等)、填充剂、防老化剂、紫外线吸收剂等任意适当的添加剂。添加剂的种类、组合、添加量等可根据目的而适当设定。
粘合剂层例如可通过在隔膜等任意适当的树脂膜上涂布上述粘合剂组合物,并根据需要进行干燥(加热干燥)、活性能量射线的照射等而制作。涂布方法、干燥条件、活性能量射线照射条件等可根据橡胶系粘合剂组合物的组成等而选择适当的方法或条件。
粘合剂层例如可在形成于隔膜上后贴合于带导电层的膜基材上,也可直接形成于带导电层的膜基材上。粘合剂层可通过隔膜保护其露出面直至使用时为止。
粘合剂层的厚度可根据目的等而设定为适当值。该厚度优选为250μm以下,更优选为100μm以下,进一步优选为55μm以下。另外,从耐久性的观点出发,该厚度优选为1μm以上,更优选为5μm以上。
从兼顾耐久性与粘合力的观点出发,粘合剂层的凝胶分率优选为10%~98%,更优选为25%~98%,进一步优选为45%~90%。
F.图像显示装置
上述膜层叠体可应用于图像显示装置。因此,本发明包含使用上述膜层叠体的图像显示装置。作为图像显示装置的代表例,可列举出液晶显示装置、有机EL显示装置。本发明的实施方式的图像显示装置在其目视确认侧具备上述膜层叠体,膜层叠体以导电层位于起偏器与显示单元之间的方式配置。通过像这样配置膜层叠体,可使图像显示装置成为内嵌式触摸面板型输入显示装置。
实施例
以下,通过实施例具体地说明本发明,但本发明并不受这些实施例限定。需要说明的是,各特性的测定方法如下所述。
(1)厚度
关于导电层,使用透射型电子显微镜(日立制作所制造的“H-7650”)对截面进行观察,并进行测定。此外,基材的厚度使用膜厚计(Peacock公司制造的“数字千分表DG-205”)进行测定。
(2)相位差值
通过自动双折射测定装置(王子计测机器株式会社制造,自动双折射计KOBRA-WPR)测量实施例及比较例中使用的树脂膜(相位差膜)的折射率nx、ny及nz。面内相位差Re的测定波长为450nm及550nm,厚度方向相位差Rth的测定波长为550nm,测定温度为23℃。
(3)光弹性模量
将实施例及比较例中使用的树脂膜以20mm×100mm的尺寸切出而制作试样。通过椭偏仪(日本分光公司制造,M-150),以波长为550nm的光对该试样进行测定,获得光弹性模量。
(4)还原粘度
使树脂试样溶解于二氯甲烷中,精密地制备0.6g/dL的浓度的树脂溶液。使用森友理化工业公司制造的乌氏粘度管,在温度为20.0℃±0.1℃下进行测定,测定溶剂的通过时间t0、及溶液的通过时间t。使用所获得的t0及t的值,通过下式(i)求出相对粘度ηrel,进而使用所获得的相对粘度ηrel,通过下式(ii)求出比粘度ηsp。
ηrel=t/t0 (i)
ηsp=(η-η0)/η0=ηrel-1 (ii)
其后,将所获得的比粘度ηsp除以浓度c[g/dL],求出还原粘度ηsp/c。
(5)玻璃化转变温度
使用SII Nano Technology公司制造的差示扫描量热计DSC6220进行测定。将约10mg的树脂试样放入该公司制造的铝锅中并进行密封,在50mL/分钟的氮气气流下,以升温速度20℃/分钟从30℃升温至220℃。在将温度保持3分钟后,以20℃/分钟的速度冷却至30℃。在30℃下保持3分钟,再次以20℃/分钟的速度升温至220℃。根据第2次升温中获得的DSC(Differential Scanning Calorimeter,差示扫描量热仪)数据,求出将低温侧的基线向高温侧延长的直线与在如玻璃化转变的阶梯状变化部分的曲线的斜率成为最大的点引出的切线的交点的温度即外推玻璃化转变起始温度,将其作为玻璃化转变温度。
(6)熔融粘度
使颗粒状的树脂试样在90℃下真空干燥5小时以上。使用经干燥的颗粒,通过东洋精机制作所株式会社制造的毛细管流变仪进行测定。测定温度设定为240℃,在剪切速度9.12~1824秒-1间测定熔融粘度,使用91.2秒-1下的熔融粘度的值。需要说明的是,孔口使用模嘴直径为φ1mm×10mmL的孔口。
(7)折射率
从下述实施例和比较例中制作的未拉伸膜,切出长度40mm、宽度8mm的长方形试验片,作为测定试样。使用589nm(D线)的干涉滤光器,通过Atago株式会社制造的多波长阿贝折射率计DR-M4/1550测定折射率nD。测定是使用单溴萘作为界面液,在20℃下进行。
(单体的合成例)
[合成例1]双[9-(2-苯氧基羰基乙基)芴-9-基]甲烷(BPFM)的合成
通过日本特开2015-25111号公报中记载的方法进行合成。
[合成例2]6,6'-二羟基-3,3,3',3'-四甲基-1,1'-螺二茚满(SBI)的合成
通过日本特开2014-114281号公报中记载的方法进行合成。
[聚碳酸酯树脂的合成例及特性评价]
以下的实施例及比较例中使用的化合物的简称等如下所述。
·BPFM:双[9-(2-苯氧基羰基乙基)芴-9-基]甲烷
·BCF:9,9-双(4-羟基-3-甲基苯基)芴(Osaka Gas Chemicals Co.,Ltd.制造)
·BHEPF:9,9-双[4-(2-羟基乙氧基)苯基]芴(Osaka Gas Chemicals Co.,Ltd.制造)
·ISB:异山梨糖醇(Rocket-foil公司制造,商品名:POLYSORB)
·SBI:6,6'-二羟基-3,3,3',3'-四甲基-1,1'-螺二茚满
·SPG:螺二醇(Mitsubishi Gas Chemical Company,Inc.制造)
·PEG:聚乙二醇数均分子量:1000(三洋化成株式会社制造)
·DPC:碳酸二苯酯(三菱化学株式会社制造)
[实施例1]
1-1.带导电层的膜基材的制作
将SBI 6.04重量份(0.020mol)、ISB 59.58重量份(0.408mol)、BPFM 34.96重量份(0.055mol)、DPC 79.39重量份(0.371mol)、及作为催化剂的乙酸钙一水合物7.53×10-4重量份(4.27×10-6mol)投入反应容器中,将反应装置内进行减压氮气置换。在氮气气氛下,在150℃下以约10分钟一边搅拌一边使原料溶解。作为反应第1段的工序,用30分钟升温至220℃,在常压下反应60分钟。接着,用90分钟将压力从常压减压至13.3kPa,在13.3kPa下保持30分钟,将所产生的苯酚抽出至反应体系外。接着,作为反应第2段的工序,一边用15分钟将热介质温度升温至245℃,一边用15分钟将压力减压至0.10kPa以下,将所产生的苯酚抽出至反应体系外。在达到规定的搅拌转矩后,在氮气下复压至常压而使反应停止,将所生成的聚酯碳酸酯树脂挤出至水中,对线料进行切割而获得颗粒。所获得的树脂的还原粘度为0.375dL/g,玻璃化转变温度为165℃,熔融粘度为5070Pa·秒,折射率为1.5454,光弹性模量为14×10-12m2/N。
使用Isuzu Kakoki Co.,Ltd.制造的单螺杆挤出机(螺杆直径为25mm,气缸设定温度:255℃),将在100℃下真空干燥5小时以上的树脂颗粒从T型模头(宽度为200mm,设定温度:250℃)挤出。将挤出的膜一边通过冷却辊(设定温度:155℃)进行冷却一边通过卷取机卷成卷状,将未拉伸膜制作100μm厚的膜。将以上述方式获得的聚碳酸酯树脂膜利用安全剃刀切出120mm×150mm的长方形试验片,通过间歇式双轴拉伸装置(Bruckner公司制造),在长度方向上以拉伸温度为161℃、拉伸速度为5mm/秒进行1×1.25倍的单轴拉伸。
使用以如上方式获得的树脂膜(厚度为89μm)作为膜基材。所获得的树脂膜的Re(550)为130nm,Rth(550)为130nm,显示nx>ny=nz的折射率特性。另外,所获得的树脂膜的Re(450)/Re(550)为0.86。树脂膜的慢轴方向相对于长度方向为0°。另外,将所获得的树脂膜暴露在85℃、85%R.H.环境下时的变形量为向慢轴方向的0.35%的收缩及向快轴方向的0.16%的膨胀。
通过溅射在上述树脂膜(相位差膜)表面形成由铟锡复合氧化物形成的透明导电层(厚度为25nm),制作具有树脂膜(相位差膜)/导电层的层叠结构的带导电层的膜基材。具体的步骤如下所述:在导入了Ar及O2(流量比为Ar:O2=99.9:0.1)的真空气氛下(0.40Pa),使用10重量%的氧化锡与90重量%的氧化铟的烧结体作为靶,将膜温度设定为130℃,使用将水平磁场设定为100mT的RF重叠DC磁控溅射法(放电电压为150V,RF频率为13.56MHz,RF电力相对于DC电力的比(RF电力/DC电力)为0.8)。将所获得的透明导电层在150℃热风烘箱中进行加热而进行结晶转化处理。
1-2.偏振片的制作
一边通过辊拉伸机将厚度为30μm的聚乙烯醇(PVA)系树脂膜(Kuraray制造,制品名“PE3000”)的长条辊以在长度方向上成为5.9倍的方式在长度方向上进行单轴拉伸,一边同时实施溶胀、染色、交联、洗涤处理,最后实施干燥处理,由此制作厚度为12μm的起偏器。
具体而言,溶胀处理一边以20℃的纯水进行处理一边拉伸至2.2倍。接着,染色处理是一边在以所获得的起偏器的单体透射率成为45.0%的方式调整了碘浓度的碘与碘化钾的重量比为1:7的30℃的水溶液中进行处理一边拉伸至1.4倍。进而交联处理是采用2个阶段的交联处理,第1阶段的交联处理是一边在40℃的溶解有硼酸和碘化钾的水溶液中进行处理一边拉伸至1.2倍。第1阶段的交联处理的水溶液的硼酸含量为5.0重量%,碘化钾含量设定为3.0重量%。第2阶段的交联处理是一边在65℃的溶解有硼酸和碘化钾的水溶液中进行处理一边拉伸至1.6倍。第2阶段的交联处理的水溶液的硼酸含量为4.3重量%,碘化钾含量设定为5.0重量%。另外,洗涤处理是以20℃的碘化钾水溶液进行处理。洗涤处理的水溶液的碘化钾含量设定为2.6重量%。最后,干燥处理是在70℃下干燥5分钟而获得起偏器。
在上述起偏器的单侧,介由聚乙烯醇系粘接剂贴合TAC膜,获得具有保护膜/起偏器的构成的偏振片。
1-3.低透湿性基材的制作
将市售的COP膜(Nippon Zeon Co.,Ltd.制造,商品名“ZEONOR”,厚度为40μm)作为支撑基材,使用含有Al、SiO2及ZnO的溅射靶,通过DC磁控溅射法在基材上形成第1氧化物层(厚度为30nm)。接着,使用Si靶,在基材/第1氧化物层的层叠体的第1氧化物层上形成第2氧化物层(50nm)。这样操作,制作具有支撑基材/第1氧化物层(AZO)/第2氧化物层(SiO2)的构成的低透湿性基材。所获得的低透湿性基材的透湿度为0.01g/(m2·天)。需要说明的是,透湿度通过以下的测定方法进行测定。
<低透湿性基材的透湿度的测定>
将低透湿性基材以10cmΦ的圆状切出,作为测定试样。针对该测定试样,使用MOCON公司制造的水蒸气透过试验机“PREMATRAN-W3/33”,通过依据JIS K7129B的试验方法,测定40℃、92%R.H.下的透湿度。
1-4.丙烯酸系粘合剂层的制作
在具备温度计、搅拌机、回流冷却管及氮气导入管的可分离式烧瓶中,以固体成分成为20%的方式投入作为单体成分的丙烯酸丁酯(BA)99重量份、丙烯酸4-羟基丁酯(4HBA)1重量份、作为聚合引发剂的偶氮二异丁腈0.2重量份及作为聚合溶剂的乙酸乙酯后,流动氮气,一边搅拌一边进行约1小时氮气置换。其后,将烧瓶加热至60℃,反应7小时而获得重均分子量(Mw)110万的丙烯酸系聚合物。在上述丙烯酸系聚合物溶液(固体成分100重量份)中添加作为异氰酸酯系交联剂的三羟甲基丙烷甲苯二异氰酸酯(商品名:Coronate L,Nippon Polyurethane Industry Co.,Ltd.制造)0.8重量份、硅烷偶联剂(商品名:KBM-403,信越化学株式会社制造)0.1重量份而制备丙烯酸系粘合剂组合物。
将所获得的丙烯酸系粘合剂组合物(溶液)涂布于单面经有机硅进行剥离处理的厚度为38μm的聚酯膜(商品名:Diafoil MRF,三菱树脂株式会社制造)的剥离处理面而形成涂布层,在120℃下干燥3分钟。将上述单面经有机硅进行剥离处理的厚度为38μm的聚酯膜(商品名:Diafoil MRF,三菱树脂株式会社制造)以剥离处理面与涂布层表面接触的方式贴合于该涂布层表面,获得包含隔膜/丙烯酸系粘合剂层(厚度为50μm)/隔膜的粘合片。所获得的丙烯酸系粘合剂层的透湿度为1000g/(m2·天)以上。透湿度的测定方法如下所述。
<粘合剂层的透湿度的测定>
以将所获得的粘合片(粘合剂层的厚度:50μm)的一剥离衬垫剥离而露出的粘合面贴合于三乙酰纤维素膜(TAC膜,厚度:25μm,Konica Minolta,Inc.制造)。其后,剥离另一剥离衬垫,获得测定用样品。接着,使用该测定用样品,在下述条件下,通过透湿度试验方法(杯式法,依据JIS Z0208),测定透湿度(水蒸气透过率)。
测定温度:40℃
相对湿度:92%
测定时间:24小时
测定时,使用恒温恒湿槽。
1-5.膜层叠体的制作
在上述偏振片的起偏器面转印上述丙烯酸系粘合剂层,并介由该丙烯酸系粘合剂层贴合上述带导电层的膜基材。此时,以树脂膜(相位差膜)的慢轴与起偏器的吸收轴成45度角度、且起偏器的吸收轴与长度方向平行的方式配置。另外,以起偏器面与树脂膜面相向的方式贴合。
接着,在所获得的层叠体的导电层面转印上述丙烯酸系粘合剂层,并介由该丙烯酸系粘合剂层贴合上述低透湿性基材。此时,以支撑基材面与导电层面相向的方式贴合。这样操作,获得具有[保护膜/起偏器/丙烯酸系粘合剂层/树脂膜(相位差膜)/导电层/丙烯酸系粘合剂层/低透湿性基材]的构成的膜层叠体。
[比较例1]
直接使用市售的环烯烃系树脂膜(Nippon Zeon Co.,Ltd.制造,商品名“ZEONOR”,厚度为40μm)代替低透湿性基材,除此以外,以与实施例1相同的方式,获得具有[保护膜/起偏器/丙烯酸系粘合剂层/树脂膜(相位差膜)/导电层/丙烯酸系粘合剂层/COP基材]的构成的膜层叠体。与实施例1同样地测定透湿度,结果该环烯烃系树脂膜的透湿度为10g/(m2·天)。
[比较例2]
直接使用市售的聚酰亚胺系树脂膜(IST株式会社制造,商品名“Tormed”,厚度为25μm)代替低透湿性基材,除此以外,以与实施例1相同的方式,获得具有[保护膜/起偏器/丙烯酸系粘合剂层/树脂膜(相位差膜)/导电层/丙烯酸系粘合剂层/聚酰亚胺基材]的构成的膜层叠体。使用MOCON公司制造的“PERMTRAN”,除此以外,与实施例1同样地测定透湿度,结果该聚酰亚胺系树脂膜的透湿度为100g/(m2·天)。
将上述实施例及比较例中所获得的膜层叠体供于耐久性试验。将结果示于表1。
<耐久性试验>
将实施例及比较例中所获得的膜层叠体以规定尺寸的四边形切出,在偏振片侧介由丙烯酸系粘合剂层(实施例1中制作的丙烯酸系粘合剂层)层叠玻璃盖片(松浪硝子工业公司制造,商品名“Microslideglass”,厚度为1.3μm)而作为试验片。将该试验片投入至85℃、85%R.H.的环境下,经过240小时后取出,使用激光显微镜(Keyence公司制造,“VK-X200”)确认导电层的裂纹产生的有无。
[表1]
如由表1表明的那样,可知在实施例的膜层叠体中,未产生裂纹,具有优异的耐久性。另一方面,可知在比较例的膜层叠体中,产生裂纹,在耐久性方面存在问题。
产业上的可利用性
本发明的膜层叠体可适宜地用于触摸面板型输入显示装置。
符号说明
10 带导电层的膜基材
11 膜基材
12 导电层
13 树脂膜
14 功能层
20 低透湿性基材
21 支撑基材
22 无机薄膜
30 粘接层
40 偏振片
100 膜层叠体
Claims (10)
1.一种触摸面板用膜层叠体,其是具备带导电层的膜基材和层叠于该带导电层的膜基材的一侧的低透湿性基材的触摸面板用膜层叠体,其中,
该带导电层的膜基材具有包含树脂膜的膜基材和直接设置于该膜基材的至少一面的导电层,
该低透湿性基材在40℃、92%R.H.下的透湿度为1.0g/(m2·天)以下。
2.根据权利要求1所述的触摸面板用膜层叠体,其中,所述低透湿性基材具备支撑基材和设置于该支撑基材的一侧的无机薄膜。
3.根据权利要求2所述的触摸面板用膜层叠体,其中,所述无机薄膜含有选自由氧化物、氮化物、氢化物及其复合化合物构成的组中的至少一种无机化合物。
4.根据权利要求1~3中任一项所述的触摸面板用膜层叠体,其中,所述膜基材在85℃、85%R.H.环境下在至少一个方向上收缩。
5.根据权利要求1~4中任一项所述的触摸面板用膜层叠体,其中,所述树脂膜的面内相位差Re(550)为100nm~180nm。
6.根据权利要求1~5中任一项所述的触摸面板用膜层叠体,其中,
所述膜基材进一步包含设置于所述树脂膜的至少一面的功能层,
在所述膜基材的该功能层上直接设置有所述导电层。
7.根据权利要求1~6中任一项所述的触摸面板用膜层叠体,其中,其进一步包含偏振片。
8.根据权利要求7所述的触摸面板用膜层叠体,其中,从目视确认侧起介由粘接层依次层叠有所述偏振片、所述带导电层的膜基材及所述低透湿性基材。
9.根据权利要求8所述的触摸面板用膜层叠体,其中,介于所述偏振片与所述带导电层的膜基材之间的粘接层及介于所述带导电层的膜基材与所述低透湿性基材之间的粘接层中的任一者或两者在40℃、92%R.H.下的透湿度为100g/(m2·天)以下。
10.根据权利要求7~9中任一项所述的触摸面板用膜层叠体,其中,
所述偏振片包含起偏器和相位差膜。
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