TWI727012B - 附有光學補償層之偏光板及使用其之有機el面板 - Google Patents

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Abstract

本發明提供一種維持正面方向之優異之抗反射特性且斜方向之抗反射特性亦優異，並且斜方向之色相呈中性的附有光學補償層之偏光板。本發明之附有光學補償層之偏光板係用於有機EL面板。該附有光學補償層之偏光板依序具備：偏光元件、第1光學補償層、及第2光學補償層。第1光學補償層表現出nx＞nz＞ny之折射率特性，且Re(550)為230 nm～310 nm。第2光學補償層表現出nx＞nz＞ny之折射率特性，且滿足Re(450)＜Re(550)之關係。

Description

附有光學補償層之偏光板及使用其之有機EL面板
本發明係關於一種附有光學補償層之偏光板及使用其之有機EL面板。
近年來，隨著薄型顯示器之普及，提出有搭載有機EL面板之顯示器(有機EL顯示裝置)。有機EL面板具有反射性較高之金屬層，因此容易產生外光反射或背景之映入等問題。因此，已知藉由將圓偏光板設置於視認側而防止該等問題。作為通常之圓偏光板，已知有將相位差膜(就代表性而言，λ/4板)以其遲相軸與偏光元件之吸收軸成約45°之角度的方式積層而成者。除此以外，為了進一步改善抗反射特性，而嘗試積層具有各種光學特性之相位差膜(光學補償層)。然而，先前之圓偏光板均有斜方向之反射率較大(即，斜方向之抗反射特性不充分)之問題。進而，先前之圓偏光板均亦具有斜方向之色相存在非所需之色差的問題。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本專利第3325560號公報
[發明所欲解決之問題] 本發明係為了解決上述先前之課題而完成者，其主要之目的在於提供一種維持正面方向之優異之抗反射特性且斜方向之抗反射特性亦優異，並且斜方向之色相呈中性的附有光學補償層之偏光板。 [解決問題之技術手段] 本發明之附有光學補償層之偏光板係用於有機EL面板。該附有光學補償層之偏光板依序具備：偏光元件、第1光學補償層、及第2光學補償層。該第1光學補償層表現出nx＞nz＞ny之折射率特性，且Re(550)為230 nm～310 nm；該第2光學補償層表現出nx＞nz＞ny之折射率特性，且滿足Re(450)＜Re(550)之關係。此處，Re(450)及Re(550)分別表示23℃下之由波長450 nm及550 nm之光所測得的面內相位差。 於一實施形態中，上述第1光學補償層之Nz係數為0.1～0.4，上述偏光元件之吸收軸方向與該第1光學補償層之遲相軸方向實質上正交，且該偏光元件之吸收軸與上述第2光學補償層之遲相軸所成的角度為35°～55°。於另一實施形態中，上述第1光學補償層之Nz係數為0.6～0.9，上述偏光元件之吸收軸方向與該第1光學補償層之遲相軸方向實質上平行，且該偏光元件之吸收軸與上述第2光學補償層之遲相軸所成的角度為35°～55°。 於一實施形態中，上述第2光學補償層之Re(550)為100 nm～180 nm，及Nz係數為0.3～0.7。 根據本發明之另一態樣，提供一種有機EL面板。該有機EL面板具備上述之附有光學補償層之偏光板。 [發明之效果] 根據本發明，附有光學補償層之偏光板係自偏光元件側依序配置第1光學補償層，其表現出nx＞nz＞ny之折射率特性，且具有特定之面內相位差；與第2光學補償層，其表現出nx＞nz＞ny之折射率特性，且表現出逆頻散之波長依存性，藉此可獲得維持正面方向之優異之抗反射特性且斜方向之抗反射特性亦優異，並且斜方向之色相呈中性的附有光學補償層之偏光板。
以下，對本發明之較佳實施形態進行說明，但本發明並不限定於該等實施形態。 (用語及符號之定義) 本說明書中之用語及符號之定義係如下所述。 (1)折射率(nx、ny、nz) 「nx」係面內之折射率成為最大之方向(即，遲相軸方向)之折射率，「ny」係於面內與遲相軸正交之方向(即，進相軸方向)之折射率，「nz」係厚度方向之折射率。 (2)面內相位差(Re) 「Re(λ)」係23℃下之由波長λ nm之光所測得之面內相位差。Re(λ)係將層(膜)之厚度設為d(nm)時，藉由式：Re＝(nx－ny)×d而求出。例如「Re(550)」係23℃下之由波長550 nm之光所測得之面內相位差。 (3)厚度方向之相位差(Rth) 「Rth(λ)」係23℃下之由波長λ nm之光所測得之厚度方向的相位差。Rth(λ)係將層(膜)之厚度設為d(nm)時，藉由式：Rth＝(nx－nz)×d而求出。例如「Rth(550)」係23℃下之由波長550 nm之光所測得之厚度方向的相位差。 (4)Nz係數 Nz係數係藉由Nz＝Rth/Re而求出。 (5)實質上正交或平行 「實質上正交」及「大致正交」之表達包括2個方向所成之角度為90°±10°的情形，較佳為90°±7°，進而較佳為90°±5°。「實質上平行」及「大致平行」之表達包括2個方向所成之角度為0°±10°的情形，較佳為0°±7°，進而較佳為0°±5°。進而，於本說明書中僅稱為「正交」或「平行」時，可包括實質上正交或實質上平行之狀態。 A.附有光學補償層之偏光板之整體構成 圖1係本發明之一實施形態之附有光學補償層之偏光板的概略剖面圖。本實施形態之附有光學補償層之偏光板100依序具備：偏光元件10、第1光學補償層30、及第2光學補償層40。就實用性而言，可如圖示例般於偏光元件10之與第1光學補償層30相反側設置保護層20。又，附有光學補償層之偏光板亦可於偏光元件10與第1光學補償層30之間具備另一保護層(亦稱為內側保護層)。於圖示例中，內側保護層被省略。於該情形時，第1光學補償層30亦可作為內側保護層發揮功能。若為此種構成，則可實現附有光學補償層之偏光板之進一步薄型化。進而，亦可視需要，於第2光學補償層40之與第1光學補償層30相反側(即，第2光學補償層40之外側)依序設置導電層及基材(均未圖示)。基材係密接積層於導電層。於本說明書中所謂「密接積層」，係指兩層不介隔接著層(例如，接著劑層、黏著劑層)而直接且緊貼地積層。關於導電層及基材，就代表性而言，可以基材與導電層之積層體之形式導入至附有光學補償層之偏光板100。藉由進而設置導電層及基材，附有光學補償層之偏光板100可較佳地用於內部觸控面板型輸入顯示裝置。 第1光學補償層30其折射率特性表現出nx＞nz＞ny之關係，具有遲相軸。第1光學補償層30之面內相位差Re(550)為230 nm～310 nm。於一實施形態中，第1光學補償層之Nz係數較佳為0.1～0.4。於該情形時，第1光學補償層30之遲相軸與偏光元件10之吸收軸實質上正交。於另一實施形態中，第1光學補償層之Nz係數較佳為0.6～0.9。於該情形時，第1光學補償層30之遲相軸與偏光元件10之吸收軸實質上平行。第2光學補償層40其折射率特性表現出nx＞nz＞ny之關係，具有遲相軸。第2光學補償層40之遲相軸與偏光元件10之吸收軸所成的角度較佳為35°～55°，更佳為38°～52°，進而較佳為42°～48°，尤佳為約45°。若上述角度為此種範圍，則可實現優異之抗反射功能。第2光學補償層40滿足Re(450)＜Re(550)之關係，其面內相位差Re(550)較佳為100 nm～180 nm。如上所述，藉由自偏光元件側依序配置第1光學補償層，其表現出nx＞nz＞ny之折射率特性，且具有所定之面內相位差；與第2光學補償層，且表現出nx＞nz＞ny之折射率特性，且表現出逆頻散之波長依存性，而維持基於優異之圓偏光功能之正面方向的優異抗反射特性，並且防止自斜方向觀察之情形時由偏光元件之吸收軸之表觀上的軸偏移引起之漏光等，藉此可實現斜方向上優異之抗反射特性，進而可實現斜方向上中性(即，並無非所需之色差)之色相。 以下，對構成附有光學補償層之偏光板之各層及光學膜詳細地進行說明。 A-1.偏光元件 作為偏光元件10，可採用任意適當之偏光元件。例如形成偏光元件之樹脂膜可為單層之樹脂膜，亦可為二層以上之積層體。 作為由單層之樹脂膜構成之偏光元件的具體例，可列舉：對聚乙烯醇(PVA)系膜、部分縮甲醛化PVA系膜、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物系部分皂化膜等親水性高分子膜實施過利用碘或二色性染料等二色性物質之染色處理及延伸處理者；PVA之脫水處理物或聚氯乙烯之脫氯化氫處理物等多烯系配向膜等。就光學特性優異之方面而言，較佳為使用利用碘將PVA系膜進行染色並進行單軸延伸而獲得之偏光元件。 上述利用碘之染色例如藉由將PVA系膜浸漬於碘水溶液中而進行。上述單軸延伸之延伸倍率較佳為3～7倍。延伸可於染色處理後進行，亦可一面染色一面進行。又，亦可於延伸後進行染色。視需要，對PVA系膜實施膨潤處理、交聯處理、洗淨處理、乾燥處理等。例如藉由於染色前將PVA系膜浸漬於水中進行水洗，不僅可將PVA系膜表面之污漬或抗黏連劑洗淨，亦可使PVA系膜膨潤而防止染色不均等。 作為使用積層體而獲得之偏光元件之具體例，可列舉：使用樹脂基材與積層於該樹脂基材上之PVA系樹脂層(PVA系樹脂膜)的積層體、或者樹脂基材與塗佈於該樹脂基材上所形成之PVA系樹脂層的積層體而獲得之偏光元件。使用樹脂基材與塗佈於該樹脂基材上所形成之PVA系樹脂層的積層體而獲得之偏光元件例如可藉由如下方式製作：將PVA系樹脂溶液塗佈於樹脂基材，進行乾燥而於樹脂基材上形成PVA系樹脂層，而獲得樹脂基材與PVA系樹脂層之積層體；將該積層體進行延伸及染色而將PVA系樹脂層製成偏光元件。於本實施形態中，關於延伸，就代表性而言，包括將積層體浸漬於硼酸水溶液中而進行延伸之情況。進而，延伸可進而包括如下情況，即視需要，於在硼酸水溶液中進行延伸之前將積層體於高溫(例如，95℃以上)下進行空中延伸。所獲得之樹脂基材/偏光元件之積層體可直接使用(即，可將樹脂基材作為偏光元件之保護層)，亦可自樹脂基材/偏光元件之積層體將樹脂基材剝離，於該剝離面上視目的積層任意適當之保護層而使用。此種偏光元件之製造方法之詳細內容例如記載於日本專利特開2012-73580號公報中。該公報其整體之記載係作為參考被引用至本說明書中。 偏光元件之厚度較佳為25 μm以下，更佳為1 μm～12 μm，進而較佳為3 μm～12 μm，尤佳為3 μm～8 μm。若偏光元件之厚度為此種範圍，則可良好地抑制加熱時之捲曲，且獲得良好之加熱時之外觀耐久性。 偏光元件較佳為於波長380 nm～780 nm之任意波長下表現出吸收二色性。偏光元件之單體透過率較佳為42.0%～46.0%，更佳為44.5%～46.0%。偏光元件之偏光度較佳為97.0%以上，更佳為99.0%以上，進而較佳為99.9%以上。 A-2.第1光學補償層 第1光學補償層30如上所述，其折射率特性表現出nx＞nz＞ny之關係。第1光學補償層之面內相位差Re(550)為230 nm～310 nm，較佳為240 nm～300 nm，更佳為260 nm～280 nm。若第1光學補償層之面內相位差為此種範圍，則可藉由使第1光學補償層之遲相軸方向與偏光元件之吸收軸方向如上述般根據Nz係數而成為實質上正交或平行，而防止由偏光元件之吸收軸之表觀上之軸偏移引起的斜方向之抗反射功能降低。 第1光學補償層之Nz係數於一實施形態中較佳為0.1～0.4，更佳為0.2～0.3，進而較佳為0.23～0.27。Nz係數於另一實施形態中較佳為0.6～0.9，更佳為0.7～0.8，進而較佳為0.73～0.77。若Nz係數為此種範圍，則可藉由將第1光學補償層之遲相軸與偏光元件之吸收軸的角度調整至特定角度，而達成更優異之斜方向之抗反射特性。 第1光學補償層可表現出相位差值會根據測定光之波長變大之逆頻散波長特性，亦可表現出相位差值會根據測定光之波長變小之正的波長分散特性，亦可表現出相位差值基本上不會因測定光之波長而產生變化之平坦的波長分散特性。 關於第1光學補償層，就代表性而言，係由可實現上述特性之任意適當之樹脂所形成的相位差膜。作為形成該相位差膜之樹脂，例如可列舉：聚芳酯、聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯、聚芳醚酮、聚醯胺醯亞胺、聚酯醯亞胺、聚乙烯醇、聚富馬酸酯、聚醚碸、聚碸、降𦯉烯樹脂、聚碳酸酯樹脂、纖維素樹脂及聚胺基甲酸酯。該等樹脂可單獨使用，亦可組合使用。較佳為聚芳酯或聚碳酸酯樹脂，更佳為聚碳酸酯樹脂或下述式(I)所表示之聚芳酯。 [化1]
Figure 02_image001
式(I)中，A及B分別表示取代基，為鹵素原子、碳原子數1～6之烷基、經取代或未經取代之芳基，A及B可相同亦可不同。a及b表示所對應之A及B之取代數，分別為1～4之整數。D為共價鍵、CH2 基、C(CH3 )2 基、C(CZ3 )2 基(此處，Z為鹵素原子)、CO基、O原子、S原子、SO2 基、Si(CH2 CH3 )2 基、N(CH3 )基。R1為碳原子數1～10之直鏈或支鏈之烷基、經取代或未經取代之芳基。R2為碳原子數2～10之直鏈或支鏈之烷基、經取代或未經取代之芳基。R3、R4、R5及R6分別獨立，為氫原子、碳原子數1～4之直鏈或支鏈之烷基，R3、R4、R5及R6可相同亦可不同。p1為0～3之整數，p2為1～3之整數，n為2以上之整數。 第1光學補償層例如可藉由將使上述樹脂溶解或分散於任意適當之溶劑中而成的塗佈液塗佈於收縮性膜而形成塗膜，使該塗膜進行收縮而形成。就代表性而言，塗膜之收縮係將收縮性膜與塗膜之積層體進行加熱而使收縮性膜收縮，藉由此種收縮性膜之收縮而使塗膜收縮。塗膜之收縮率較佳為0.50～0.99，更佳為0.60～0.98，進而較佳為0.70～0.95。加熱溫度較佳為130℃～170℃，更佳為150℃～160℃。於一實施形態中，亦可於使塗膜收縮時，向與該收縮方向正交之方向延伸積層體。於該情形時，積層體之延伸倍率較佳為1.01倍～3.0倍，更佳為1.05倍～2.0倍，進而較佳為1.10倍～1.50倍。作為構成收縮性膜之材料之具體例，可列舉：聚烯烴、聚酯、丙烯酸系樹脂、聚醯胺、聚碳酸酯、降𦯉烯樹脂、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、纖維素樹脂、聚醚碸、聚碸、聚醯亞胺、聚丙烯酸、乙酸酯樹脂、聚芳酯、聚乙烯醇、液晶聚合物。該等可單獨地使用，亦可組合使用。收縮性膜較佳為由該等材料形成之延伸膜。 第1光學補償層之厚度較佳為10 μm～150 μm，更佳為10 μm～50 μm，進而較佳為10 μm～40 μm。若為此種厚度，則可獲得上述所需之面內相位差及Nz係數。 A-3.第2光學補償層 第2光學補償層40如上所述，其折射率特性表現出nx＞nz＞ny之關係。第2光學補償層之面內相位差Re(550)較佳為100 nm～180 nm，更佳為110 nm～170 nm，進而較佳為120 nm～160 nm，尤佳為130 nm～150 nm。若第2光學補償層之面內相位差為此種範圍，則可藉由以使第2光學補償層之遲相軸方向與偏光元件之吸收軸方向如上述般形成35°～55°(尤其是約45°)之角度的方式進行設定，而實現優異之抗反射特性。 第2光學補償層如上述般表現出逆頻散波長特性。具體而言，其面內相位差滿足Re(450)＜Re(550)之關係。進而，第2光學補償層之面內相位差較佳為滿足Re(550)＜Re(650)之關係。藉由有機EL面板用圓偏光板採用如上述般折射率特性表現出nx＞nz＞ny之關係，且表現出逆頻散波長特性之第2光學補償層，可實現斜方向上中性之色相。Re(450)/Re(550)較佳為0.8以上且未達1，更佳為0.8以上且0.95以下。Re(550)/Re(650)較佳為0.8以上且未達1，更佳為0.8以上且0.95以下。可藉由滿足此種關係而達成更優異之反射色相。 第2光學補償層之Nz係數較佳為0.3～0.7，更佳為0.4～0.6，進而較佳為0.45～0.55，尤佳為約0.5。可達成更優異之反射色相。 第2光學補償層其光彈性係數之絕對值較佳為2×10-12 (m2 /N)以上，更佳為10×10-12 (m2 /N)～100×10-12 (m2 /N)，進而較佳為20×10-12 (m2 /N)～40×10-12 (m2 /N)。若光彈性係數之絕對值為此種範圍，則即便厚度較小亦可確保充分之相位差，並且可維持有機EL面板之可撓性，進而可更加抑制由彎曲時之應力導致之相位差變化(作為結果，有機EL面板之顏色變化)。 第2光學補償層其吸水率較佳為3%以下，更佳為2.5%以下，進而較佳為2%以下。可藉由滿足此種吸水率而抑制顯示特性之經時變化。再者，吸水率可依據JIS K 7209而求出。 第2光學補償層較佳具有對水分及氣體(例如氧氣)之阻隔性。光學補償層之於40℃、90%RH條件下之水蒸氣透過率(透濕度)較佳為未達1.0×10-1 g/m2 /24 hr。就阻隔性之觀點而言，透濕度之下限越低越佳。光學補償層之於60℃、90%RH條件下之氣體阻隔性較佳為1.0×10-7 g/m2 /24 hr～0.5 g/m2 /24 hr，更佳為1.0×10-7 g/m2 /24 hr～0.1 g/m2 /24 hr。若透濕度及氣體阻隔性為此種範圍，則於將附有光學補償層之偏光板貼合於有機EL面板之情形時，可良好地保護該有機EL面板免受空氣中之水分及氧氣影響。再者，透濕度及氣體阻隔性均可依據JIS K 7126-1進行測定。 第2光學補償層其玻璃轉移溫度(Tg)較佳為120℃以上。玻璃轉移溫度之下限更佳為125℃以上，進而較佳為130℃以上，尤佳為135℃以上。另一方面，玻璃轉移溫度之上限較佳為180℃以下，更佳為165℃以下。有耐熱性變差之傾向，而有於膜成形後產生尺寸變化之可能性，又，有使所獲得之有機EL面板之圖像品質降低的情形。若玻璃轉移溫度過高，則有膜成形時之成形穩定性變差之情形，又有損害膜之透明性之情形。再者，玻璃轉移溫度係依據JIS K 7121(1987)而求出。 關於第2光學補償層，就代表性而言，係由可實現上述特性之任意適當之樹脂所形成的相位差膜。作為形成該相位差膜之樹脂，例如可列舉：聚芳酯、聚醯亞胺、聚醯胺、聚酯、聚乙烯醇、聚富馬酸酯、降𦯉烯樹脂、聚碳酸酯樹脂、纖維素樹脂及聚胺基甲酸酯。該等樹脂可單獨地使用，亦可組合使用。較佳為聚碳酸酯樹脂或纖維素樹脂。 第2光學補償層例如可藉由將使上述樹脂溶解或分散於任意適當之溶劑中而成的塗佈液塗佈於收縮性膜而形成塗膜，使該塗膜收縮而形成。就代表性而言，塗膜之收縮係對收縮性膜與塗膜之積層體進行加熱而使收縮性膜收縮，藉由此種收縮性膜之收縮而使塗膜收縮。塗膜之收縮率較佳為0.50～0.99，更佳為0.60～0.98，進而較佳為0.70～0.95。加熱溫度較佳為130℃～170℃，更佳為150℃～160℃。於一實施形態中，亦可於使塗膜收縮時，在與該收縮方向正交之方向上延伸積層體。於該情形時，積層體之延伸倍率較佳為1.01倍～3.0倍，更佳為1.05倍～2.0倍，進而較佳為1.10倍～1.50倍。作為構成收縮性膜之材料之具體例，可列舉：聚烯烴、聚酯、丙烯酸系樹脂、聚醯胺、聚碳酸酯、降𦯉烯樹脂、聚苯乙烯、聚氯乙烯、聚偏二氯乙烯、纖維素樹脂、聚醚碸、聚碸、聚醯亞胺、聚丙烯酸、乙酸酯系樹脂、聚芳酯、聚乙烯醇、液晶聚合物。該等可單獨地使用，亦可組合使用。收縮性膜較佳為由該等材料所形成之延伸膜。或者，光學補償層可藉由使用例如丙烯酸系黏著劑將收縮性膜貼合於由上述樹脂所形成之膜的單面或兩面後，對積層體進行加熱，使該積層體收縮而形成。 第2光學補償層之厚度較佳為10 μm～150 μm。於一實施形態中，厚度更佳為10 μm～50 μm，進而較佳為10 μm～30 μm。於另一實施形態中，厚度更佳為20 μm～70 μm，進而較佳為30 μm～60 μm。若為此種厚度，則可獲得上述所需之面內相位差及Nz係數。 A-4.保護層 保護層20係由可用作偏光元件之保護層的任意適當之膜所形成。作為成為該膜之主成分之材料的具體例，可列舉：三乙醯纖維素(TAC)等纖維素系樹脂、或聚酯系、聚乙烯醇系、聚碳酸酯系、聚醯胺系、聚醯亞胺系、聚醚碸系、聚碸系、聚苯乙烯系、聚降𦯉烯系、聚烯烴系、(甲基)丙烯酸系、乙酸酯系等透明樹脂等。又，亦可列舉：(甲基)丙烯酸系、胺基甲酸酯系、(甲基)丙烯酸胺基甲酸酯系、環氧系、聚矽氧系等熱硬化型樹脂或紫外線硬化型樹脂等。除此以外，例如亦可列舉：矽氧烷系聚合物等玻璃質系聚合物。又，亦可使用日本專利特開2001-343529號公報(WO01/37007)所記載之聚合物膜。作為該膜之材料，例如可使用含有側鏈具有經取代或未經取代之醯亞胺基的熱塑性樹脂、及側鏈具有經取代或未經取代之苯基與腈基的熱塑性樹脂之樹脂組合物，例如可列舉：具有包含異丁烯與N-甲基馬來醯亞胺之交替共聚物、與丙烯腈．苯乙烯共聚物之樹脂組合物。該聚合物膜例如可為上述樹脂組合物之擠出成形物。 對於保護層20，亦可視需要實施硬塗處理、抗反射處理、抗沾黏處理、防眩處理等表面處理。進而/或者，對於保護層20，亦可視需要實施改善隔著偏光太陽眼鏡視認之情形時之視認性的處理(就代表性而言，賦予(橢)圓偏光功能；賦予超高相位差)。藉由實施此種處理，即便於隔著偏光太陽眼鏡等偏光透鏡視認顯示畫面之情形時，亦可實現優異之視認性。因此，附有光學補償層之偏光板亦可較佳地應用於可在室外使用之圖像顯示裝置。 關於保護層20之厚度，就代表性而言為5 mm以下，較佳為1 mm以下，更佳為1 μm～500 μm，進而較佳為5 μm～150 μm。再者，於實施有表面處理之情形時，保護層之厚度係包括表面處理層之厚度在內之厚度。 於偏光元件10與第1光學補償層30之間設置有內側保護層之情形時，該內側保護層較佳為光學等向性。於本說明書中所謂「光學等向性」，係指面內相位差Re(550)為0 nm～10 nm，厚度方向之相位差Rth(550)為-10 nm～+10 nm。內側保護層只要為光學等向性，則可由任意適當之材料所構成。關於該材料，例如對於保護層20而言，可自上述材料中適當地選擇。 內側保護層之厚度較佳為5 μm～200 μm，更佳為10 μm～100 μm，進而較佳為15 μm～95 μm。 A-5.導電層或附有基材之導電層 導電層可藉由任意適當之成膜方法(例如，真空蒸鍍法、濺鍍法、CVD法、離子鍍覆法、噴霧法等)，於任意適當之基材上成膜金屬氧化物膜而形成。亦可於成膜後，視需要進行加熱處理(例如，100℃～200℃)。藉由進行加熱處理，非晶質膜可結晶化。作為金屬氧化物，例如可列舉：氧化銦、氧化錫、氧化鋅、銦-錫複合氧化物、錫-銻複合氧化物、鋅-鋁複合氧化物、銦-鋅複合氧化物。亦可於氧化銦中摻雜2價金屬離子或4價金屬離子。較佳為銦系複合氧化物，更佳為銦-錫複合氧化物(ITO)。銦系複合氧化物具有如下特徵：於可見光區域(380 nm～780 nm)中具有較高之透過率(例如，80%以上)，且每單位面積之表面電阻值較低。 於導電層包含金屬氧化物之情形時，該導電層之厚度較佳為50 nm以下，更佳為35 nm以下。導電層之厚度之下限較佳為10 nm。 導電層之表面電阻值較佳為300 Ω/□以下，更佳為150 Ω/□以下，進而較佳為100 Ω/□以下。 導電層可自上述基材轉印至第2光學補償層而以導電層單獨的形式作為附有光學補償層之偏光板的構成層，亦可以與基材之積層體(附有基材之導電層)的形式積層於第2光學補償層。就代表性而言，如上所述，導電層及基材可以附有基材之導電層的形式導入至附有光學補償層之偏光板。 作為構成基材之材料，可列舉任意適當之樹脂。較佳為透明性優異之樹脂。作為具體例，可列舉：環狀烯烴系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、纖維素系樹脂、聚酯系樹脂、丙烯酸系樹脂。 較佳為上述基材為光學等向性，因此導電層可以附有等向性基材之導電層的形式用於附有光學補償層之偏光板。作為構成光學等向性之基材(等向性基材)之材料，例如可列舉：將降𦯉烯系樹脂或烯烴系樹脂等不具有共軛系之樹脂作為主骨架的材料；於丙烯酸系樹脂之主鏈中具有內酯環或戊二醯亞胺環等環狀結構之材料等。若使用此種材料，則可於形成等向性基材時，將伴隨著分子鏈之配向之相位差的表現抑制為較小。 基材之厚度較佳為10 μm～200 μm，更佳為20 μm～60 μm。 A-6.其他 於構成本發明之附有光學補償層之偏光板之各層的積層時，使用任意適當之黏著劑層或接著劑層。關於黏著劑層，就代表性而言，係由丙烯酸系黏著劑所形成。關於接著劑層，就代表性而言，係由聚乙烯醇系接著劑所形成。 雖未圖示，但亦可於附有光學補償層之偏光板100之第2光學補償層40側設置黏著劑層。藉由預先設置黏著劑層，可容易地貼合至其他光學構件(例如，有機EL元件)。再者，較佳為於供於使用前，於該黏著劑層之表面貼合有剝離膜。 B.有機EL面板 本發明之有機EL面板具備：有機EL元件、與設置於該有機EL元件之視認側之上述A項所記載的附有光學補償層之偏光板。附有光學補償層之偏光板係以第2光學補償層成為有機EL元件側的方式(以偏光元件成為視認側之方式)積層。 [實施例] 以下，藉由實施例對本發明具體地進行說明，但本發明並不受該等實施例限定。再者，各特性之測定方法係如下所述。 (1)厚度 使用針盤量規(PEACOCK公司製造，製品名「DG-205」，針盤量規支架(製品名「pds-2」))進行測定。 (2)相位差 自各光學補償層切出50 mm×50 mm之樣品而製成測定樣品，使用Axometrics公司製造之Axoscan進行測定。測定波長為450 nm、550 nm，測定溫度為23℃。 又，使用Atago公司製造之阿貝折射計測定平均折射率，根據所獲得之相位差值算出折射率nx、ny、nz。 (3)斜方向之反射特性 使用實施例及比較例中所獲得之附有光學補償層之偏光板的特性進行模擬。對正面方向(極角0°)及斜方向(極角60°)進行評價。模擬係使用SYMTEC公司製造之「LCD MASTER Ver.6.084」。使用LCD Master之擴張功能而進行反射特性之模擬。更詳細而言，進行正面反射強度、正面反射色相、斜向反射強度及斜向色相之評價。斜向反射強度係對極角60°、方位角45°、135°、225°及315°之4點平均值進行評價。正面反射色相係對距中性點之Δu'v'(中性)進行評價，斜向色相係對極角60°、方位角0°～360°時之色移Δu'v'進行評價。 [實施例1] (i)第1光學補償層之製作 (i-1)聚芳酯之合成 於具備攪拌裝置之反應容器中，使2,2-雙(4-羥基苯基)-4-甲基戊烷27.0 kg及四丁基氯化銨0.8 kg溶解於氫氧化鈉溶液250 L中。向該溶液一次性添加使對苯二甲醯氯13.5 kg與間苯二甲醯氯6.30 kg溶解於300 L的甲苯中而成之溶液並且進行攪拌，於室溫下攪拌90分鐘而製成縮聚溶液。其後，將上述縮聚溶液進行靜置分離而分離出包含聚芳酯之甲苯溶液。繼而，利用醋酸水將上述分離液洗淨，進而利用離子交換水洗淨後，投入至甲醇中而使聚芳酯析出。將所析出之聚芳酯過濾，於減壓下進行乾燥，藉此獲得白色之聚芳酯34.1 kg(產率92%)。上述聚芳酯之上述雙折射率(Δnxz )為0.012。 (i-2)相位差層之製作 使上述中所獲得之聚芳酯10 kg溶解於甲苯73 kg中而製備塗佈液。其後，將該塗佈液直接塗佈於收縮性膜(縱單軸延伸聚丙烯膜，東京油墨(股)製造，商品名「Noblen」)之上，使該塗膜以乾燥溫度60℃乾燥5分鐘，以80℃乾燥5分鐘，而形成收縮性膜/雙折射層之積層體。針對所獲得之積層體，使用同時雙軸延伸機，於延伸溫度155℃下使其向MD方向以收縮倍率0.70進行收縮，並將其向TD方向進行1.15倍延伸，藉此於收縮性膜上形成相位差膜。繼而，將該相位差膜自收縮性膜剝離。相位差膜之厚度為15.0 μm，且Re(550)＝272 nm、Nz＝0.25。將該相位差膜設為第1光學補償層。 (ii)第2光學補償層之製作 使用包含具備攪拌翼及控制為100℃之回流冷卻器之縱型反應器雙器的分批聚合裝置而進行聚合。將9,9-[4-(2-羥基乙氧基)苯基]芴(BHEPF)、異山梨酯(ISB)、二乙二醇(DEG)、碳酸二苯酯(DPC)、及乙酸鎂四水合物以莫耳比率計成為BHEPF/ISB/DEG/DPC/乙酸鎂＝0.348/0.490/0.162/1.005/1.00×10-5 的方式添加。對反應器內充分地進行氮氣置換後(氧氣濃度0.0005～0.001 vol%)，利用加熱介質進行加溫，於內溫成為100℃之時點開始攪拌。於升溫開始40分鐘後使內溫達到220℃，以保持該溫度之方式進行控制，與此同時開始減壓，達到220℃後以90分鐘設為13.3 kPa。將隨著聚合反應所副生產之苯酚蒸氣導入至100℃之回流冷卻器中，使苯酚蒸氣中所包含之若干量之單體成分返回至反應器中，未冷凝之苯酚蒸氣係導入至45℃之冷凝器中而進行回收。 向第1反應器導入氮氣，暫時先複壓至大氣壓後，將第1反應器內經低聚物化之反應液移至第2反應器中。繼而，開始第2反應器內之升溫及減壓，以50分鐘設為內溫240℃、壓力0.2 kPa。其後，進行聚合直至成為特定之攪拌動力。於達到特定動力之時點向反應器導入氮氣，進行複壓，將反應液以線料之形態抽出，利用旋轉式切割器進行顆粒化，而獲得BHEPF/ISB/DEG＝34.8/49.0/16.2[mol%]之共聚合組成之聚碳酸酯樹脂。該聚碳酸酯樹脂之比濃黏度為0.430 dL/g，玻璃轉移溫度為128℃。 使所獲得之聚碳酸酯樹脂(10 kg)溶解於二氯甲烷(73 kg)而製備塗佈液。繼而，於收縮性膜(縱單軸延伸聚丙烯膜，東京油墨(股)製造，商品名「Noblen」)之上直接塗佈該塗佈液，將該塗膜以乾燥溫度30℃乾燥5分鐘，以80℃乾燥5分鐘，而形成收縮性膜/雙折射層之積層體。針對所獲得之積層體，使用同時雙軸延伸機，於延伸溫度155℃下使其向MD方向以收縮倍率0.80進行收縮，並將其向TD方向進行1.3倍延伸，藉此於收縮性膜上形成相位差膜。繼而，將該相位差膜自收縮性膜剝離。相位差膜之厚度為60.0 μm，且Re(550)＝140nm、Nz＝0.5、Re(450)/Re(550)＝0.89。將該相位差膜設為第2光學補償層。 (iii)偏光元件之製作 藉由輥延伸機，將厚度30 μm之聚乙烯醇(PVA)系樹脂膜(Kuraray製造，製品名「PE3000」)之長條捲筒以於長度方向上成為5.9倍之方式向長度方向進行單軸延伸，並且同時實施膨潤、染色、交聯、洗淨處理，最後實施乾燥處理，藉此製作厚度12 μm之偏光元件。 具體而言，膨潤處理係利用20℃之純水進行處理，並且延伸至2.2倍。繼而，染色處理係以所獲得之偏光元件之單體透過率成為45.0%的方式於碘濃度經調整之碘與碘化鉀之重量比為1：7的30℃水溶液中進行處理，並且延伸至1.4倍。進而，交聯處理係採用2階段之交聯處理，第1階段之交聯處理係於40℃之溶解有硼酸與碘化鉀之水溶液中進行處理，並且延伸至1.2倍。第1階段之交聯處理之水溶液的硼酸含量係設為5.0重量%，碘化鉀含量係設為3.0重量%。第2階段之交聯處理係於65℃之溶解有硼酸與碘化鉀之水溶液中進行處理，並且延伸至1.6倍。第2階段之交聯處理之水溶液的硼酸含量係設為4.3重量%，碘化鉀含量係設為5.0重量%。又，洗淨處理係利用20℃之碘化鉀水溶液進行處理。洗淨處理之水溶液之碘化鉀含量係設為2.6重量%。最後，乾燥處理係於70℃下乾燥5分鐘，從而獲得偏光元件。 (iv)偏光板之製作 於上述偏光元件之單側，經由聚乙烯醇系接著劑，並藉由捲對捲貼合在TAC膜之單面具有藉由硬塗處理所形成之硬塗(HC)層的HC-TAC膜(厚度：32 μm，對應保護層)，而獲得具有保護層/偏光元件之構成的長條狀偏光板。 (v)附有光學補償層之偏光板之製作 將上述中所獲得之偏光板、第1光學補償層及第2光學補償層剪裁為特定尺寸，將偏光板之偏光元件面與第1光學補償層經由丙烯酸系黏著劑進行貼合，進而將第1光學補償層與第2光學補償層經由丙烯酸系黏著劑進行貼合。以上述方式，獲得具有保護層/偏光元件/第1光學補償層/第2光學補償層之構成的附有光學補償層之偏光板。再者，第1光學補償層之剪裁係以如下方式進行，即於附有光學補償層之偏光板中偏光元件之吸收軸與第1光學補償層之遲相軸實質上正交。又，第2光學補償層之剪裁係以如下方式進行，即於附有光學補償層之偏光板中偏光元件之吸收軸與第2光學補償層之遲相軸所成的角度成為45°。 (vi)有機EL面板之製作 於所獲得之附有光學補償層之偏光板的第2光學補償層側利用丙烯酸系黏著劑形成黏著劑層。 將三星無線公司製造之智慧型手機(Galaxy-S5)分解，取出有機EL面板。將貼附於該有機EL面板之偏光膜剝離，作為替代貼合上述中所切出之附有光學補償層之偏光板，而獲得有機EL面板。 使用所獲得之附有光學補償層之偏光板的特性而進行上述(3)之反射特性之模擬。將結果示於表1。 [實施例2] 使用以下述方式獲得之聚碳酸酯系樹脂之相位差膜作為第1光學補償層，且以偏光元件之吸收軸與第1光學補償層之遲相軸變得實質上平行的方式進行貼合，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得具有保護層/偏光元件/第1光學補償層/第2光學補償層之構成的附有光學補償層之偏光板。進而，使用該附有光學補償層之偏光板，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。將所獲得之附有光學補償層之偏光板及有機EL面板供於與實施例1同樣之評價。將結果示於表1。 使用碳醯氯作為碳酸酯前軀物，使用(A)2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷及(B)1,1-雙(4-羥基苯基)-3,3,5-三甲基環己烷作為芳香族二酚成分，依據常法而獲得(A)：(B)之重量比為4：6且重量平均分子量(Mw)為60,000之包含下述式(3)及(4)之重複單元的聚碳酸酯系樹脂[數量平均分子量(Mn)＝33,000，Mw/Mn＝1.78]。將上述聚碳酸酯系樹脂70重量份、與重量平均分子量(Mw)1,300之苯乙烯系樹脂[數量平均分子量(Mn)＝716，Mw/Mn＝1.78](三洋化成製造之Hymer SB75)30重量份添加至二氯甲烷300重量份中，於室溫下攪拌混合4小時而獲得透明之溶液。將該溶液塗鑄於玻璃板上，於室溫下放置15分鐘後，自玻璃板進行剝離，於80℃之烘箱中乾燥10分鐘，以120℃乾燥20分鐘，而獲得厚度36 μm且玻璃轉移溫度(Tg)為140℃之高分子膜。所獲得之高分子膜於波長590 nm下之透光率為93%。又，上述高分子膜之面內相位差值：Re(590)為5.0 nm，厚度方向之相位差值：Rth(590)為12.0 nm。平均折射率為1.576。 [化2]
Figure 02_image003
於上述高分子膜(厚度36 μm)之兩側經由丙烯酸系黏著劑層(厚度15 μm)而貼合有雙軸延伸聚丙烯膜[Toray製造，商品名「Trefin」(厚度60 μm)]。其後，利用輥延伸機保持膜之長度方向，於147℃之空氣循環式恆溫烘箱內延伸至1.49倍。所獲得之相位差膜其厚度為40 μm，且Re(550)＝270 nm、Nz＝0.75。 [實施例3] 使用以下述方式獲得之乙酸纖維素樹脂之相位差膜作為第2光學補償層，除此以外，以與實施例1相同之方式，獲得具有保護層/偏光元件/第1光學補償層/第2光學補償層之構成的附有光學補償層之偏光板。進而，使用該附有光學補償層之偏光板，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。將所獲得之附有光學補償層之偏光板及有機EL面板供於與實施例1同樣之評價。將結果示於表1。 於乙酸纖維素樹脂膜(220×120 mm，厚度50 μm)之兩面，使用丙烯酸系黏著劑貼合相同尺寸之收縮性膜(PP之雙軸延伸膜，厚度60 μm)而獲得積層體。其後，使用分批式同時雙軸延伸機，於120℃下使上述積層體收縮至0.7倍，藉此使上述乙酸纖維素樹脂膜收縮，與此同時，將上述積層體向與上述乙酸纖維素樹脂膜之收縮方向正交之方向延伸至2.0倍，藉此形成雙折射層。繼而，將上述雙折射層自上述收縮性膜剝離。上述雙折射層之厚度為50 μm，且Re(550)＝140 nm、Nz＝0.5、Re(450)/Re(550)＝0.93。將該相位差膜設為第2光學補償層。 [比較例1] 不積層第2光學補償層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得具有保護層/偏光元件/第1光學補償層之構成的附有光學補償層之偏光板。進而，使用該附有光學補償層之偏光板，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。將所獲得之附有光學補償層之偏光板及有機EL面板供於與實施例1同樣之評價。將結果示於表1。 [比較例2] 不積層第1光學補償層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得具有保護層/偏光元件/第2光學補償層之構成的附有光學補償層之偏光板。進而，使用該附有光學補償層之偏光板，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。將所獲得之附有光學補償層之偏光板及有機EL面板供於與實施例1同樣之評價。將結果示於表1。 [比較例3] 對市售之環烯烴系膜(JSR公司製造，製品名「ARTON」)實施收縮處理，而獲得表現出nx＞nz＞ny之折射率特性，且Re(450)/Re(550)＝1.00及Re(550)＝140 nm之相位差膜。使用該相位差膜作為第2光學補償層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得具有保護層/偏光元件/第1光學補償層/第2光學補償層之構成的附有光學補償層之偏光板。進而，使用該附有光學補償層之偏光板，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。將所獲得之附有光學補償層之偏光板及有機EL面板供於與實施例1同樣之評價。將結果示於表1。 [比較例4] 將實施例2中所使用之聚碳酸酯膜進行自由端延伸，而獲得Re＝270 nm、Nz＝1.0(nx＞ny＝nz)之相位差膜。使用該相位差膜作為第1光學補償層，除此以外，以與實施例1相同之方式獲得具有保護層/偏光元件/第1光學補償層/第2光學補償層之構成的附有光學補償層之偏光板。進而，使用該附有光學補償層之偏光板，除此以外，以與實施例1相同之方式製作有機EL面板。將所獲得之附有光學補償層之偏光板及有機EL面板供於與實施例1同樣之評價。將結果示於表1。 [表1]
Figure 106107723-A0304-0001
 [評價] 根據表1可明確，本發明之實施例之附有光學補償層之偏光板可維持正面方向之優異之抗反射特性且斜方向之抗反射特性亦優異，且可使斜方向之色相呈中性。 [產生上之可利用性] 本發明之附有光學補償層之偏光板可較佳地用於有機EL面板。
10‧‧‧偏光元件20‧‧‧保護層30‧‧‧第1光學補償層40‧‧‧第2光學補償層100‧‧‧附有光學補償層之偏光板
圖1係本發明之一實施形態之附有光學補償層之偏光板的概略剖面圖。
10‧‧‧偏光元件
20‧‧‧保護層
30‧‧‧第1光學補償層
40‧‧‧第2光學補償層
100‧‧‧附有光學補償層之偏光板

Claims (3)

  1. 一種附有光學補償層之偏光板，其依序具備：偏光元件、第1光學補償層、及第2光學補償層，該第1光學補償層表現出nx>nz>ny之折射率特性，且Re(550)為230nm~310nm，該第2光學補償層表現出nx>nz>ny之折射率特性，且滿足Re(450)<Re(550)之關係，該第1光學補償層係由下述式(I)所表示之聚芳酯樹脂所構成之相位差膜，
    Figure 106107723-A0305-02-0027-1
     (式(I)中，A及B分別表示取代基，為鹵素原子、碳原子數1~6之烷基、或者經取代或未經取代之芳基，A及B可相同亦可不同；a及b表示所對應之A及B之取代數，分別為1~4之整數；D為共價鍵、CH2基、C(CH3)2基、C(CZ3)2基(此處，Z為鹵素原子)、CO基、O原子、S原子、SO2基、Si(CH2CH3)2基、或者N(CH3)基；R1為碳原子數1~10之直鏈或支鏈之烷基、或者經取代或未經取代之芳基；R2為碳原子數2~10之直鏈或支鏈之烷基、或者經取代或未經取代之芳基；R3、R4、R5及R6分別獨立，為氫原子、或者碳原子數1~4之直鏈或支鏈之烷基，R3、R4、R5及R6可相同亦可不同；p1為0~3之整數，p2為1~3之整數，n為2以上之整 數)；該附有光學補償層之偏光板係用於有機EL面板，並且滿足下述(1)及(2)之任一者：(1)上述第1光學補償層之Nz係數為0.1~0.4，上述偏光元件之吸收軸方向與該第1光學補償層之遲相軸方向實質上正交，且該偏光元件之吸收軸與上述第2光學補償層之遲相軸所成的角度為35°~55°；(2)上述第1光學補償層之Nz係數為0.6~0.9，上述偏光元件之吸收軸方向與該第1光學補償層之遲相軸方向實質上平行，且該偏光元件之吸收軸與上述第2光學補償層之遲相軸所成的角度為35°~55°；此處，Re(450)及Re(550)分別表示23℃下之由波長450nm及550nm之光所測得之面內相位差。
  2. 如請求項1之附有光學補償層之偏光板，其中上述第2光學補償層之Re(550)為100nm~180nm，且Nz係數為0.3~0.7。
  3. 一種有機EL面板，其具備如請求項1或2之附有光學補償層之偏光板。
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