CN110018609A - 掩模单元及曝光装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供掩模单元及曝光装置。使膜掩模能够容易地紧贴于透明板，并消除被转印的图案的形状精度的下降的问题。支承于透明板(2)的膜掩模(1)的周边部被掩模框架(3)的真空吸附孔(34)真空吸附。形成于透明板(2)的与膜掩模(1)对置的面的排气槽(21)到达该面的右侧的边缘，在倒角部(22)的中途终止。曝光装置所具备的清洁辊(91)从膜掩模(1)的左侧的边缘至右侧的边缘一边与膜掩模(1)接触而滚动一边移动，进行异物(c)的去除与气泡(g)的挤出。形成了气泡(g)的气体经由排气槽(21)、吸引口(37)被排出。

Description

掩模单元及曝光装置

技术领域

该申请发明涉及在各种产品的制造中用于图案的转印的曝光装置，还涉及搭载于曝光装置的掩模单元。

背景技术

向对象物照射规定的图案的光而进行曝光的曝光装置正作为光刻的核心技术被用于各种用途。在曝光装置中，也已知有直接描绘图案的类型的装置，但通常通过掩模照射光，将掩模的图案转印到对象物。

搭载于曝光装置的掩模成为在透明的玻璃板上用遮光材料描绘有图案的结构。通常，使遮光材料的膜覆盖在玻璃板上，通过光刻来图案化。

对于这样的玻璃制的掩模，最近也变得较多使用所谓的膜掩模(film mask)。通过遮光材料形成图案的是用PET(聚对苯二甲酸乙二酯)膜那样的材料形成的透明的薄膜，成为用玻璃板支承该膜(膜掩模)的结构。

在膜掩模的情况下，能够共用玻璃板，只要根据品种仅制作各种膜掩模并保管即可。因此，成为低成本，且保管、操作也容易。保管所需的空间也变小。据此，采用膜掩模的曝光装置变多。

专利文献1：日本特开昭61－41151号公报

专利文献2：日本特开平11－30851号公报

发明内容

膜掩模虽然有上述那样的优点，但是必须以充分地紧贴于玻璃板的状态搭载于曝光装置，这一点成为课题。即使欲将薄且柔软的膜掩模抵靠于玻璃板而使其紧贴，也容易在其间残留气泡。若气泡残留，则在该部分膜掩模的图案变形，因此被转印的图案也变形，容易成为产品缺陷的原因。

因此，在将膜掩模按压于玻璃板后，需要操作者用刮刀摩擦而将气泡向外侧挤出的麻烦的作业，成为生产性提高的障碍。另外，在用刮刀摩擦时在膜掩模产生变形(伸长)，在变形了的状态下，膜掩模容易被紧贴、固定于玻璃板。问题在于，由于该变形随机地发生，因此控制困难。所以，容易导致被转印的图案的形状精度的下降。

该申请发明是为了解决上述那样的膜掩模中的课题而作出的，目的是使膜掩模能够容易地紧贴于透明板，并消除被转印的图案的形状精度的下降的问题。

为了解决上述课题，本申请的技术方案一所述的发明为一种搭载于曝光装置的掩模单元，具有如下构成，

膜掩模；

透明板，支承膜掩模；以及

掩模框架，在周边部保持透明板，

掩模框架具有能够将膜掩模真空吸附的真空吸附孔，

在透明板的与膜掩模对置的面设有凹部或凸部，该凹部或凸部形成到达该面的一边的边缘的排气空间。

另外，为了解决上述课题，技术方案二所述的发明具有如下构成，在所述技术方案一的构成中，所述掩模框架在与所述透明板的端面对置的内侧面具有能够进行真空吸引的吸引口。

另外，为了解决上述课题，技术方案三所述的发明具有如下构成，其特征在于，在所述技术方案一的构成中，

所述透明板具有倒角部，该倒角部是将与所述膜掩模对置的表面和端面连接的倾斜的面，

所述部位为所述排气空间到达倒角部的中途的形状。

另外，为了解决上述课题，技术方案四所述的发明为一种曝光装置，具有如下构成，该曝光装置具备：

输送系统，向曝光作业位置输送基板；

技术方案一～三的任一项所述的掩模单元，配置于曝光作业位置；以及

曝光单元，穿过掩模单元的所述膜掩模照射光而将基板曝光，

设有去除所述膜掩模的表面的异物的清洁头、以及头移动机构，

头移动机构是使清洁头一边与所述膜掩模接触一边移动的机构，并且使清洁头从所述透明板的与所述一边相反的一侧的一边的边缘朝向所述一边的边缘移动。

另外，为了解决上述课题，技术方案五所述的发明具有如下构成，在所述技术方案四的构成中，所述清洁头是在表面形成粘接层、且一边与所述膜掩模接触一边旋转的清洁辊。

另外，为了解决上述课题，技术方案六所述的发明具有如下构成，在所述技术方案四的构成中，所述头移动机构是在所述清洁头接近所述一边的边缘时使移动的速度减速的机构。

如以下说明那样，根据本申请的技术方案一所述的发明，由于透明板的与膜掩模对置的面的一边的边缘中的吸附力被缓和，形成有气泡的气体通过排气空间被排出，因此没有气泡的残留，成为膜掩模与透明板充分地紧贴的状态。因此，不存在转印的图案的形状精度下降的问题。

另外，根据技术方案二所述发明，由于通过排气空间出来的气体从吸引口被迅速地排出，因此防止气泡残留的效果进一步提高。

另外，根据技术方案三所述的发明，除了上述效果以外，由于排气空间到达倒角部的中途，因此可防止在倒角部膜掩模被较强地吸附而阻碍气体的排出。因此，防止气泡残留的效果进一步提高。

另外，根据技术方案四所述的发明，除了上述效果以外，由于通过头移动机构使清洁头移动来去除气泡，因此可同时进行气泡的去除与清洁。除此之外，能够使膜掩模的伸长具有再现性，可以避免产生图案的转印精度下降的问题。

另外，根据技术方案五所述的发明，除了上述效果以外，由于清洁头是在膜掩模上滚动的清洁辊，因此难以对膜掩模施加过量的力，在防止膜掩模的变形上优选。

另外，根据技术方案六所述的发明，除了上述效果以外，由于清洁头接近一边的边缘时进行减速，因此没有气体逆流的隐患，不会使生产性下降，能够进一步提高防止气泡残留的效果。

附图说明

图1是实施方式的掩模单元的正面剖面概略图。

图2是图1的掩模单元的分解立体概略图。

图3是从下侧观察掩模框架及玻璃板的平面概略图。

图4是关于排气槽的作用示出的正面剖面概略图。

图5是关于排气槽未到达倒角部的情况下的问题示出的正面剖面概略图。

图6是表示形成排气空间的其他形状的概略图。

图7是表示形成排气空间的其他形状的概略图。

图8是实施方式的曝光装置的正面概略图。

图9是关于曝光装置所具备的掩模维护程序示出的正面概略图。

附图标记说明

1 膜掩模

2 透明板

21 排气槽

3 掩模框架

30 周围空间

31 内侧面

32 板支承面

33 膜支承面

34 真空吸附孔

35 连通路

36 管连接部

37 吸引口

4 输送系统

5 曝光单元

6 真空排气系统

61 排气管

7 掩模移动机构

8 主控制器

83 掩模维护程序

91 清洁辊

92 辊移动机构

具体实施方式

接下来，对用于实施本申请发明的方式(实施方式)进行说明。

图1是实施方式的掩模单元的正面剖面概略图，图2是图1的掩模单元的分解立体概略图。

图1及图2所示的掩模单元是搭载于曝光装置的掩模单元。该掩模单元具备膜掩模1、透明板2、以及掩模框架3。

膜掩模1是聚酯膜那样的材质的透明的薄膜，且厚度例如为100μm～200μm左右。由于是搭载于曝光装置掩模，因此在膜掩模1上描绘有转印的图案(未图示)。此外，在该例中，膜掩模1为方形。

透明板2是为了使膜掩模1成为在曝光中没有松弛的稳定的形状而支承膜掩模1的部件。在该实施方式中，透明板2为玻璃制(玻璃板)。透明板2虽然特别需要相对于曝光波长的光足够透明，但能够使用以蓝板、白板的名称在市场上销售的玻璃板。厚度从确保机械强度的观点出发，优选的是设为5mm～10mm左右。此外，透明板2为比膜掩模1稍小尺寸的方形。另外，作为透明板2，也可以使用丙烯酸树脂那样的玻璃以外的材质。

图3是从下侧观察透明板2及掩模框架3的平面概略图。在图3中，膜掩模的图示被省略。掩模框架3为铝或不锈钢等金属制，如图2及图3所示那样为方形的框状。如图1所示，掩模框架3在内缘具有阶梯。阶梯的高度与透明板2的厚度几乎相等，以周边部位于该阶梯内的状态将透明板2安装于掩模框架3。以下，将阶梯中的与透明板2的端面对置的面31称为内侧面，将与透明板2的板面对置的面32称为板支承面。

透明板2在周边部通过粘接固定于掩模框架3。即，如图1所示，在透明板2的周边部的上表面与掩模框架3的板支承面32之间设有粘接层20。此外，在透明板2的端面与掩模框架3的内侧面31之间存在间隙30。以下，将该间隙30称为周围空间。

膜掩模1通过真空吸附固定于透明板2及掩模框架3。将掩模框架3的支承膜掩模1的面33称为膜支承面。如图1所示，在膜支承面33形成有真空吸附孔34。真空吸附孔34为槽状，沿掩模框架3的各边延伸而形成为周状。

真空吸附孔34经由设于掩模框架3内的连通路(省略详细图示)35与管连接部36相连。如图1所示，在使用掩模单元时，在管连接部36处连接排气管61，进行真空吸引。由此，膜掩模1被真空吸附于掩模框架3。由于真空吸附孔34为周状的槽，因此膜掩模1的周边部以周状吸附于掩模框架3。

另外，在掩模框架3的内侧面31形成有吸引口37，吸引口37与掩模框架3内的连通路35相连。因此，周围空间30也被真空排气而成为负压。

在该实施方式中，掩模单元以水平的姿势被使用，在透明板2的下侧通过真空吸附保持膜掩模1。以下，为了便于说明，将透明板2的膜掩模1侧的面设为表面，与其相反一侧称为背面。

这样的实施方式的掩模单元具有上述的用于防止气泡的产生的构造。具体而言，如图1及图2所示，在透明板2的表面形成有槽21。该槽21是形成用于释放气体的空间(以下，称为排气空间)以使膜掩模1与透明板2之间不形成气泡的槽。以下，将该槽21称为排气槽。

如图2所示，排气槽21设有多个，各排气槽21到达透明板2的表面的右侧的边的边缘。各排气槽21延伸的方向与透明板2的沿左右延伸的边的方向平行。

各排气槽21的左端为比透明板2的中央远靠右侧的位置。即，各排气槽21以横截透明板2的表面的右端的边缘区域的方式形成。

此外，在透明板2为玻璃板的情况下，这样的排气槽21能够用磨削加工、化学蚀刻来形成。在透明板2为树脂制的情况下，能够以在成型时用所使用的模具的形状来实现。

另外，如图1所示，在透明板2的表面的周缘形成有倒角部22。倒角部22是将透明板2的表面与端面连接的倾斜的面。倒角部22使透明板2的表面的周缘不成为锐利的角来防止膜掩模1的损伤。而且，如图1所示，各排气槽21从表面的边缘到达倒角部22，且倒角部22的中途成为终端。

通过这样的各排气槽22，膜掩模1以没有气泡的状态紧贴于透明板2。以下，参照图4对这一点进行说明。图4是关于排气槽21的作用进行示出的正面剖面概略图。在图4(A)中示出了没有排气槽21的参考例的掩模单元，在(B)中示出了实施方式的掩模单元。

如上述那样，若从排气管61进行真空排气，则膜掩模1在周边部被真空吸附于掩模框架3。此时，为了使膜掩模1紧贴于透明板2，在用刮刀等摩擦而欲将气泡g挤出的情况下，在没有排气槽21的参考例中，由于如图4(A)所示那样在透明板2的表面的边缘处膜掩模1被较强地吸附，因此气泡g难以被挤出。即使欲强行挤出，气泡也还会出现(移动到)其他的地方。在透明板2的表面的边缘的部分膜掩模1被较强地吸附的理由为，由于靠近掩模框架3的真空吸附孔34、吸引口37，特别是通过来自吸引口37的吸引，透明板2的端面与掩模框架3的内侧面31之间的空间成为负压，因此膜掩模1在透明板2的表面的周缘处容易被较强地吸附。

另一方面，在有排气槽21的实施方式的构造中，在透明板2的表面的周缘处的吸附力被缓和后，用刮刀等进行了摩擦时，形成有气泡g的气体通过排气槽21到达周围空间30，并从吸引口37被排气。因此，如图4(B)所示，不会有气泡g的残留，成为膜掩模1充分地紧贴于透明板2的表面的状态。此外，排气槽21的宽度例如为0.5mm～1mm左右，深度可以为0.05mm～0.3mm左右。另外，距周缘的长度为5mm～30mm左右。

在上述实施方式的掩模单元的构造中，排气槽21到达倒角部22这一点具有如下意义：即使在提高真空吸附力而提高了膜掩模1的固定力的情况下，也不会产生气泡的残留。关于这一点，参照图5进行说明。图5是关于排气槽21未到达倒角部22的情况下的问题进行示出的正面剖面概略图。

如上述那样，由于在膜掩模1被真空吸附于掩模框架3时周围空间30也成为负压，因此膜掩模1成为向周围空间30的一侧突出并稍微弯曲的状态。在该情况下，若排气槽21在透明板2的表面的边缘处终止，则膜掩模1被较强地吸附于倒角部22，可能会在此处闭合。在该情况下，形成气泡的气体不再会流到周围空间30，如图5所示那样气泡g容易残留。另一方面，若排气槽21到达倒角部22的中途，则不会出现如图4(B)所示那样在倒角部22膜掩模1被较强地吸附的情况，气泡不会残留。

但是，若不将真空吸引力提高那么多，则即使排气槽21未到达倒角部22的中途也不会变成如图5所示的那样的状态，不存在问题。反之，排气槽21到达倒角部22的中途的构造具有能够提高真空吸引力并进一步提高膜掩模1的固定强度的优点。此外，为了获得该效果，排气槽21当然无需在倒角部22的中途终止，也可以到达倒角部22与端面的边界。

在上述实施方式的掩模单元中，掩模框架3的内侧面31的吸引口37并不一定是必须的。只要周围空间30不是被完全气密密封的空间，形成了气泡的气体就会泄漏。例如，从将透明板2与掩模框架3接合的粘接层20所具有的细微的孔等被排出。另外，在真空吸附膜掩模1的真空吸附孔34并不是无终端的周状、且掩模膜1在气密密封了周围空间30的状态下未被真空吸附的情况下，气体会从未密封的位置漏出。但是，若与这些相比，由于在设置吸引口37而进行吸引的构成中传导变高，因此可迅速地将气体排出。因此，防止气泡残留的效果进一步提高。此外，在粘接层20被间歇地设置且气体的传导较高的情况下，也可以不设置吸引口37。但是，由于粘接强度下降，所以优选的是设置吸引口37，并且将粘接层20(不间歇地)设置为无终端的周状。

接下来，对形成排气空间的其他形状进行说明。图6及图7是表示形成排气空间的其他形状的概略图。其中，图6是关于排气槽21的其他例进行示出的平面概略图，图7是关于形成排气空间的例子进行示出的侧面剖面概略图。

上述实施方式中的排气槽21在透明板2的表面的一边的方向上分散存在有多个，全部以均等间隔设置，但也可以如图6(1)所示，设置由多个以较窄的间隔设置的多个排气槽21构成的组。另外，如图6(2)(3)所示，也可以是被分支的排气槽21，也可以设置多个被分支的排气槽21。

上述实施方式的排气槽21在侧面剖面图中成为如图7(1)所示那样的形状，除此之外，也有通过如图7(2)所示那样的凸部23形成排气空间的情况。在该情况下，凸部23可以是朝向透明板2的表面的边缘的较长的形状(凸条)，也可以是分散存在有突起的形状。此外，凹部或凸部存在即使仅有一个也能够形成排气空间的情况，也可以采用那样的形状。

接下来，对曝光装置的发明的实施方式进行说明。

图8是实施方式的曝光装置的正面概略图。图8所示的曝光装置具备输送作为曝光对象物的基板S的输送系统4、配置于曝光作业位置的掩模单元10、以及通过掩模单元10的膜掩模1向基板S照射光而进行曝光的曝光单元5。

作为一个例子，实施方式的曝光装置为对柔性印刷基板用的基板那样的带状的柔性基板S进行曝光的装置。因此，输送系统4为以卷对卷方式输送基板S的机构。

具体而言，输送系统4具备卷绕着未曝光的基板S的送出侧芯辊41、从送出侧芯辊41将基板S拉出的送出侧夹送辊42、卷绕曝光后的基板S的卷取侧芯辊43、以及将曝光后的基板S拉出并向卷取侧芯辊43卷取的卷取侧夹送辊44。另外，将输送系统4输送基板S的输送方向设为X方向，将与其垂直的水平方向设为Y方向。Y方向为基板S的宽度方向。将与XY平面垂直的方向设为Z方向。

在送出侧夹送辊42与卷取侧夹送辊44之间设定有曝光作业位置。实施方式的曝光装置为将基板S的两面同时曝光的装置，在曝光作业位置的基板S的两侧(在该例中为上下)配置有掩模单元10与曝光单元5。因此，掩模单元10与曝光单元5分别各设有两个。

上下的掩模单元10及曝光单元5分别为相同的构成，成为隔着曝光作业位置的基板S在上下对称的配置。即，上侧的掩模单元10以使膜掩模1朝向下侧的状态配置，透明板(在图8中未图示)在上侧支承膜掩模1。下侧的掩模单元10以使膜掩模1朝向上侧的状态配置，透明板在下侧支承膜掩模1。

装置具备用于安装各掩模单元10的未图示的平台(以下，掩模台)。各掩模单元10将掩模框架3固定于掩模台从而搭载于装置。

另外，装置在各掩模单元10中具备真空排气系统6，该真空排气系统6用于使膜掩模1成为被吸附于掩模框架3的状态。真空排气系统6的各排气管61如上述那样连接于各掩模框架3的管连接部36。真空排气系统6由后述的主控制器8控制，但也可以通过来自主控制器8的输入部81的输入进行手动控制。此外，虽然省略了说明，但在各膜掩模1设有校准用的标记(以下，掩模标记)。

各曝光单元5具备光源51、将来自光源51的光向膜掩模1照射的光学系统52等。该实施方式的装置为进行接触曝光的装置，各曝光单元5为向各膜掩模1照射平行光的单元。因此，光学系统52包含准直透镜。

为了进行接触曝光，在各掩模单元10设有掩模移动机构7。各掩模移动机构7是使掩模在Z方向上移动，并使掩模紧贴于基板S或在曝光后离开基板S的机构。此外，各掩模移动机构7为了曝光时的校准，也具备使各掩模单元10在XY方向移动而相对于基板S进行校准(定位)的功能。

另外，实施方式的曝光装置具备去除附着在膜掩模1的异物的掩模清洁机构。清洁机构针对上下的膜掩模1的各个而设置。

各清洁机构具备清洁头、以及在抵接于膜掩模1的状态下使清洁头移动从而进行清洁的头移动机构。在该实施方式中，清洁头是在表面具有粘接层的辊(以下，称为清洁辊)91，头移动机构为辊移动机构92。

虽然省略了辊移动机构92的细节的图示，但各清洁辊91保持为能够绕沿Y方向的旋转轴从动旋转，辊移动机构92成为在经由轴承在两端保持旋转轴的臂上将X方向移动源与Z方向(上下方向)移动源连结的构造。可考虑如下机构：例如，在底板上设置线性引导件，将线性电动机设于臂与线性引导件的连结部分以使在被线性引导件引导的状态下在X方向上移动，进而设置气缸那样的移动源使其相对于底板在Z方向上移动。

另外，如图8所示，装置具备对各部进行控制的主控制器8。在主控制器8安装有主序列程序82，该主序列程序82将装置的各部控制为以规定的顺序进行动作。即，在主控制器8的存储部80存储有主序列程序82，可以通过主控制器8的处理器(未图示)来执行。此外，主控制器8具备用于手动动作等的输入部81。

接下来，概略地说明上述曝光装置的动作。

一对掩模单元10在Z方向上位于远离基板S的待机位置。主序列程序82向输送系统4发送控制信号，使基板S进给规定的行程的量。在进给完成后，进行校准。在基板S上设有校准用的标记(基板标记)，用未图示的相机对各膜掩模1的掩模标记与基板标记进行摄影，掩模移动机构7按照摄影数据使掩模单元10在XY方向上移动从而进行校准。

在校准完成后，主序列程序82向掩模移动机构7发送控制信号，使各掩模单元10朝向基板S移动并紧贴于膜掩模1。在该状态下，主序列程序82使各曝光单元5动作，通过各膜掩模1使光照射，进行曝光。

在规定时间的曝光后，主序列程序82向掩模移动机构7发送控制信号，使各掩模单元10向远离基板S的方向移动，并返回到最初的待机位置。然后，向输送系统4发送控制信号，再次进行规定的行程的进给。之后，重复上述动作。

在重复上述动作后切换至不同品种的产品用的曝光的情况下，进行膜掩模1的更换作业。实施方式的装置具备在进行该更换作业时所使用的特别的构成。以下，对这一点进行说明。

如图8所示，在主控制器8中作为维护用的程序安装有掩模维护程序83。掩模维护程序83主要是在进行膜掩模1的更换时所执行的程序，可以通过来自输入部81的输入来执行。图9是关于曝光装置所具备的掩模维护程序83进行示出的正面概略图。

如上述那样，若品种不同，则需要不同的膜掩模1，并进行膜掩模1的更换。在该实施方式中，膜掩模1的更换为卸下掩模单元10而进行的。

首先，操作者停止吸附着膜掩模1的真空排气系统6的动作，并从掩模台卸下。然后，卸下使用了的膜掩模1，将下一个品种用的膜掩模1安装于掩模框架3。此时，在规定位置将膜掩模1对掩模框架3进行覆盖，并用粘性胶带等进行临时固定。由于在掩模框架3上形成有表示膜掩模1的安装位置的标记，因此以此为记号进行覆盖，并进行临时固定。

然后，将更换了膜掩模1的掩模单元10像原来那样固定于掩模台。在该状态下，操作者操作主控制器8的输入部81，使真空排气系统6动作。由此，膜掩模1被真空吸附于掩模框架3。在该状态下，操作者操作输入部81，执行掩模维护程序83。

掩模维护程序83被编程以进行如下控制：向辊移动机构92发送控制信号，使各清洁辊91一边与各膜掩模1接触一边向各规定的方向以规定的速度移动。一对清洁辊91为上下对称，基于掩模维护程序83的动作也是上下对称的。作为一个例子，上侧的清洁辊91的运动在图9中示出。

如图9(1)所示，辊移动机构92以使上侧的清洁辊91在设定于上侧的膜掩模1的左侧的开始位置处与该膜掩模1抵接的方式使清洁辊91上升。开始位置为在X方向上相当于透明板2的左边缘的位置。辊移动机构92使清洁辊91从开始位置向右边缘移动(图9(2))。辊移动机构92使清洁辊91移动至设定于膜掩模1的右侧的结束位置，一旦到达结束位置，就使其下降规定距离，如图9(3)所示那样返回到左侧的最初的待机位置。结束位置为在X方向上相当于透明板2的右边缘的位置。序列程序为，向辊移动机构92发送控制信号，以使清洁辊91进行这样的运动。

在上述动作中，清洁辊91通过与膜掩模1的摩擦力而从动旋转。然后，通过表面的粘接层去除膜掩模1的表面的异物c。进而，如图9所示，形成有存在于膜掩模1与透明板2之间的气泡g的气体被清洁辊91挤出。此时，如上述那样，气体通过排气槽21被迅速地挤出。

在上述动作中重要的是，在与设有排气槽21一侧与相反一侧的边缘(开始位置)处清洁辊91与膜掩模1抵接，并向设有排气槽21一侧的边缘(结束位置)移动。若使其相反，则由于清洁辊91将气体挤出的地方没有排气槽21，因此气体逆流，气泡g容易残留。

由上述说明可知，实施方式中的掩模维护程序83实现了同时进行膜掩模1的清洁与气泡去除的功能。由于可利用掩模维护程序83进行气泡去除，因此操作者无需在进行膜掩模1的更换时通过人工作业去除气泡。因此，膜掩模1的更换作业整体在短时间内完成。这意味着装置的运转停止时间缩短，带来生产性的提高。

此外，在清洁辊91将形成有气泡的气体挤出时，膜掩模1产生些许的伸长。虽然这也可以说是膜掩模1产生变形，但关于膜掩模1的伸长，若清洁辊91相对于膜掩模1的按压力一定、且清洁辊91的移动速度一定，则膜掩模1的伸长也一定。也就是说，膜掩模1的伸长具有再现性，可以控制。因此，能够采取将伸长纳入考虑之内地形成膜掩模1的图案等的应对，能够使图案的转印精度下降的问题不产生。

另外，根据发明者的研究，清洁辊91的移动速度优选的是，在接近设有排气槽21的一侧的边缘时使其下降。该理由是因为，若清洁辊91向设有排气槽21的一侧的边缘靠近，则有形成有气泡的气体的压力升高的趋势，若在到达排气槽21前压力升高到某种程度，则超越清洁辊91向膜掩模1的抵接位置而发生气体逆流。因此，关于清洁辊91，优选的是进行最初设为高速，之后设为低速的速度控制。该速度控制也通过掩模维护程序83的序列实现。此外，虽然也可以从最初起设为低速，但存在所需时间增长而生产性下降的问题。若示出速度的一个例子，则清洁辊91的速度(线速度)最初为100～150mm/秒左右，在排气槽21的位置处或该位置稍微靠前的位置处减速至1～10mm/秒左右。

关于各清洁辊91，由于若重复使用则成为异物较多地附着的状态，因此构成为更换成新的清洁辊、或者使异物转移到另外设置的转移辊。转移辊设置在各清洁辊91的待机位置的附近，设置为比各清洁辊91的粘接力高的粘接力的辊。转移辊构成为驱动旋转的结构，并构成为一边与各清洁辊91接触一边旋转、并使各清洁辊91上的异物转移到自身。

在上述曝光装置的构成中，作为掩模单元10中的排气空间，并不限定于排气槽21，可以采用如图6、图7所示那样的各种的构成。

另外，清洁头为清洁辊91，但也可以使用不是辊状的清洁头(例如刮刀状的清洁头)。但是，若使用在膜掩模1上滚动的清洁辊，则难以对膜掩模1施加过量的力，在防止膜掩模1的变形上优选。此外，关于清洁头，也存在使用不通过粘接力去除异物、而是将异物扫出并去除的清洁头的情况，也存在使用通过静电将异物吸附的清洁头的情况。

此外，在掩模单元10中，透明板2相对于掩模框架3的固定也可以不是粘接而是螺纹固定等其他方法。例如，也可以设置夹持透明板2部件，通过螺纹固定将该部件固定于掩模框架3。但是，在接触方式、近接方式曝光的情况下，优选的是在膜掩模1的前侧(基板S的一侧)没有比膜掩模1更突出的部件，从这一点来看，适合基于粘接层20的固定。

作为曝光装置的实施方式，并不一定限于进行两面曝光，也可以是只将基板S的单面曝光。这种情况为只在基板S的单侧设置掩模单元10，并设置对一个膜掩模1进行清洁与气泡去除的一个清洁辊91。

关于曝光的对象物，也可以不是上述那样的带状的基板S，而是将方形的基板作为对象物，也可以将不柔软的刚性的基板作为曝光对象物。因此，作为基板的输送方式，除了卷对卷方式以外，也可以是单片式的输送。在单片式的装置的情况下，设置成为与膜掩模对置的状态的平台，在平台上载置基板。然后，掩模单元或平台移动，使基板成为紧贴于膜掩模的状态而进行曝光。

而且，关于曝光的方式，除了接触方式之外，也可以是近接方式，也可以是投影曝光方式。

Claims (6)

1.一种掩模单元，搭载于曝光装置，其特征在于，该掩模单元具备：

膜掩模；

透明板，支承所述膜掩模；以及

掩模框架，在周边部保持所述透明板，

所述掩模框架具有能够将所述膜掩模真空吸附的真空吸附孔，

在所述透明板的与所述膜掩模对置的面设有凹部或凸部，该凹部或凸部形成到达该面的一边的边缘的排气空间。

2.如权利要求1所述的掩模单元，其特征在于，

所述掩模框架在与所述透明板的端面对置的内侧面具有能够进行真空吸引的吸引口。

3.如权利要求1所述的掩模单元，其特征在于，

所述透明板具有倒角部，该倒角部是将与所述膜掩模对置的表面和端面连接的倾斜的面，

所述凹部或凸部为所述排气空间到达所述倒角部的中途的形状。

4.一种曝光装置，其特征在于，具备：

输送系统，向曝光作业位置输送基板；

权利要求1～3的任一项所述的掩模单元，配置于所述曝光作业位置；以及

曝光单元，穿过所述掩模单元的所述膜掩模照射光而对所述基板进行曝光，

所述曝光装置设有去除所述膜掩模的表面的异物的清洁头以及头移动机构，

所述头移动机构是使所述清洁头一边与所述膜掩模接触一边移动的机构，并且使所述清洁头从所述透明板的与所述一边相反的一侧的一边的边缘朝向所述一边的边缘移动。

5.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

所述清洁头是在表面形成粘接层、且一边与所述膜掩模接触一边旋转的清洁辊。

6.如权利要求4所述的曝光装置，其特征在于，

所述头移动机构是在所述清洁头接近所述一边的边缘时使移动的速度减速的机构。