CN109870855A - 一种阵列基板、液晶显示面板及液晶显示装置 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种阵列基板、液晶显示面板及液晶显示装置，涉及液晶显示技术领域，可改善主隔垫物掉入第一平坦层的过孔内导致的液晶盒厚不均一的问题。阵列基板包括：依次设置在第一衬底上的薄膜晶体管、第一平坦层、像素电极以及填充部；所述第一平坦层具有过孔；所述像素电极穿过所述第一平坦层上的过孔与所述薄膜晶体管的漏极电连接；所述像素电极在所述过孔处凹陷，构成凹陷部，所述填充部至少设置在所述凹陷部内。

Description

一种阵列基板、液晶显示面板及液晶显示装置

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，尤其涉及一种阵列基板、液晶显示面板及液晶显示装置。

背景技术

液晶显示装置(Liquid Crystal Display，简称LCD)由于具有功耗小、微型化、轻薄等优点，因而得到越来越广泛的应用。例如已应用在手机、平板显示器、车载、电视以及公共显示等各个领域。

发明内容

本发明的实施例提供一种阵列基板、液晶显示面板及液晶显示装置，可改善主隔垫物掉入第一平坦层的过孔内导致的液晶盒厚不均一的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

第一方面，提供一种阵列基板，包括：依次设置在第一衬底上的薄膜晶体管、第一平坦层、像素电极以及填充部；所述第一平坦层具有过孔；所述像素电极穿过所述第一平坦层上的过孔与所述薄膜晶体管的漏极电连接；所述像素电极在所述过孔处凹陷，构成凹陷部，所述填充部至少设置在所述凹陷部内。

在一些实施例中，所述填充部远离所述第一衬底的表面与所述第一平坦层远离所述第一衬底的表面在同一平面内；或者，所述填充部远离所述第一衬底的表面到所述第一衬底的距离大于所述第一平坦层远离所述第一衬底的表面到所述第一衬底的距离。

在一些实施例中，所述阵列基板还包括设置在所述像素电极远离所述第一衬底一侧的主隔垫物。

在一些实施例中，所述填充部的材料和所述主隔垫物的材料相同。

在一些实施例中，所述主隔垫物在所述凹陷部上的正投影位于所述凹陷部的边界以内，且所述主隔垫物和所述填充部一体成型。

在一些实施例中，所述阵列基板还包括辅隔垫物，所述辅隔垫物设置在所述像素电极远离所述第一衬底的一侧。

在一些实施例中，所述主隔垫物和所述辅隔垫物同层同材料。

在一些实施例中，所述阵列基板还包括设置在所述填充部与所述像素电极之间的公共电极、以及设置在所述公共电极和所述像素电极之间的第一绝缘层。

第二方面，提供一种液晶显示面板，包括阵列基板、对盒基板以及设置在所述阵列基板和所述对盒基板之间的液晶层；所述阵列基板为上述的阵列基板。

第三方面，提供一种液晶显示装置，包括上述的液晶显示面板。

本发明实施例提供一种阵列基板、液晶显示面板及液晶显示装置，阵列基板包括依次设置在第一衬底上的薄膜晶体管、第一平坦层、像素电极以及填充部，第一平坦层具有过孔，像素电极穿过第一平坦层上的过孔与薄膜晶体管的漏极电连接，像素电极在过孔处凹陷，构成凹陷部，填充部至少设置在凹陷部内。在对盒基板包括主隔垫物，或者阵列基板包括主隔垫物的情况下，阵列基板和对盒基板对盒时，即使主隔垫物正对第一平坦层上的过孔，由于凹陷部内设置有填充部，因而可以改善主隔垫物掉进凹陷部内(或第一平坦层上的过孔内)，导致的液晶显示面板的显示区的液晶盒厚偏低的问题，这样一来，改善了液晶显示面的显示区和周边区的液晶盒厚不均一的问题，进而改善了液晶盒厚不均一导致的亮度均一性差、周边Mura、Cell Gap Strength不足等不良。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或相关技术中的技术方案，下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种液晶显示装置的结构示意图；

图2a为本发明实施例提供的一种侧入式背光模组的结构示意图；

图2b为本发明实施例提供的一种直下式背光模组的结构示意图；

图3为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的区域划分示意图；

图4a为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图一；

图4b为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图二；

图4c为本发明实施例提供的一种阵列基板的俯视结构示意图；

图4d为图4c中AA向的剖面示意图；

图5为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图三；

图6为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图四；

图7为相关技术提供的一种液晶显示面板的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图五；

图9为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图六；

图10为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图七；

图11为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图八；

图12为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图九；

图13为本发明实施例提供的一种液晶显示面板的结构示意图十。

附图标记：

1-框架；2-盖板玻璃；3-液晶显示面板；4-背光模组；5-电路板；10-阵列基板；20-对盒基板；30-液晶层；40-封框胶；31-显示区；32-周边区；33-红色亚像素区；34-绿色亚像素区；35-蓝色亚像素区；41-光源；42-导光板；43-光学膜片；44-反射片；50-上偏光片；60-下偏光片；100-第一衬底；101-像素电极；102-薄膜晶体管；1020-源极；1021-漏极；1022-有源层；1023-栅极；1024-栅绝缘层；1025-层间界定层；111-栅线；112-数据线；103-第一平坦层；104-填充部；105-主隔垫物；106-辅隔垫物；107-公共电极；108-第一绝缘层；109-遮光层；110-缓冲层；200-第二衬底；201-彩色滤光层；202-黑矩阵图案；203-第二平坦层。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种液晶显示装置，如图1所示，液晶显示装置的主要结构包括框架1、盖板玻璃2、液晶显示面板3、背光模组4以及电路板5等其它电子配件。

其中，框架1的纵截面呈U型，液晶显示面板3、背光模组4、电路板5以及其它电子配件设置于框架1内，背光模组4设置于液晶显示面板3的下方，电路板5设置于背光模组4的下方，盖板玻璃2设置于液晶显示面板3远离背光模组4的一侧。

如图2a和图2b所示，背光模组4包括光源41、导光板42以及设置在导光板42出光侧的光学膜片43。在本发明实施例中，光学膜片43可以包括扩散片和/或增光膜等。增光膜可以包括棱镜膜(Brightness Enhancement Film，简称BEF)、反射型偏光增亮膜(DualBrightness Enhancement Film，简称DBEF)等，两者可以结合使用。其中，导光板42的形状可以为楔形或平板形，附图2a以导光板42的形状为楔形为例进行示意。如图2a所示，光源41可以设置在导光板42的侧面，在此情况下，该背光模组4为侧入式背光模组。如图2b所示，光源41也可以设置于导光板42的远离出光侧的一侧，在此情况下，该背光模组4为直下式背光模组。光源41例如可以是发光二极管(Light-Emitting Diode，简称LED)。

在背光模组4为直下式背光模组的情况下，可采用阵列式排布的微小蓝光LED制作成灯板，灯板出光方向对着液晶显示面板3。

在此基础上，如图2a和图2b所示，背光模组4还可以包括反射片44，反射片44设置于导光板42的远离出光侧的一侧。

示例的，如图2b所示，提供一种直下式背光模组，LED作为光源41制作成灯板，在导光板42的上方设置有光学膜片43，光源41的下方设置有反射片44。

如图3所示，液晶显示面板3划分出显示区(也称AA区)31和周边区32，图3以周边区32包围显示区31为例进行示意。显示区31设置有多个像素(图中的虚线框示意出一个像素)，每个像素包括至少三个亚像素区。图3以该三个亚像素分别为红色亚像素区33、绿色亚像素区34和蓝色亚像素区35为例。示例的，如图3所示，沿水平方向，红色亚像素区33、绿色亚像素区34和蓝色亚像素区35周期性排布；沿竖直方向，红色亚像素区33、绿色亚像素区34、蓝色亚像素区35分别呈列设置。

如图1和图4a所示，液晶显示面板3包括相对设置的阵列基板10和对盒基板20、以及设置在阵列基板10和对盒基板20之间的液晶层30。如图1所示，阵列基板10和对盒基板20通过封框胶40粘贴在一起，从而将液晶层30限定在封框胶40围成的区域内。

为了实现彩色显示，液晶显示面板3还包括彩色滤光层，在一些实施例中，如图4a所示，对盒基板20包括设置在第二衬底200上的彩色滤光层201，在此情况下，对盒基板20可以称为彩膜基板。彩色滤光层201包括正对红色亚像素区33的红色光阻单元、正对绿色亚像素区34的绿色光阻单元以及正对蓝色亚像素区35的蓝色光阻单元。示例的，沿水平方向，红色光阻单元、绿色光阻单元以及蓝色光阻单元周期性排布，沿竖直方向，红色光阻单元呈列设置、绿色光阻单元呈列设置、蓝色光阻单元呈列设置。

在此基础上，如图4a所示，为了避免从相邻亚像素区出射的光相互串扰，对盒基板20还可以包括黑矩阵图案202(Black Matrix，简称BM)，黑矩阵图案202用于将红色光阻单元、绿色光阻单元以及蓝色光阻单元间隔开。在对盒基板20包括彩色滤光层201和黑矩阵图案202的情况下，对盒基板20还包括设置在彩色滤光层201和黑矩阵图案202远离第二衬底200一侧的第二平坦层(Over Coat，简称OC)203。

如图4a所示，在对盒基板20包括设置在第二衬底200上的彩色滤光层201、黑矩阵图案202和第二平坦层203的情况下，形成对盒基板20的过程例如可以为：先在第二衬底200上形成黑矩阵图案202，再形成彩色滤光层201(彩色滤光层201包括红色光阻单元、绿色光阻单元以及蓝色光阻单元)，之后形成第二平坦层203。在一些实施例中，对盒基板20的制作过程还包括：在第二平坦层203远离第二衬底200的一侧形成第二取向层。第二取向层的制作过程例如可以为在第二平坦层203上涂覆一层第二取向层薄膜，第二取向层薄膜的材料例如可以为聚酰亚胺(Polyimide，简称PI)，之后，对第二取向层薄膜进行光取向(OpticalAlignment，简称OA)形成第二取向层。

在另一些实施例中，阵列基板10包括彩色滤光层201，彩色滤光层包括正对红色亚像素区33的红色光阻单元、正对绿色亚像素区34的绿色光阻单元以及正对蓝色亚像素区35的蓝色光阻单元。在此情况下，阵列基板可以称为COA基板(Color filter on Array，彩色滤光层整合于阵列基板上)。

在阵列基板10包括彩色滤光层201的情况下，可以是阵列基板10包括设置在第一衬底100上的黑矩阵图案202；也可以是对盒基板20包括设置在第二衬底200上的黑矩阵图案202。

本发明实施例提供一种阵列基板10，可以应用于上述的液晶显示面板3中，液晶显示面板3中的其它结构以及设置位置等可以参考上述，此处不再赘述。如图4a、图4b图4c以及图4d所示，阵列基板10在每个亚像素区均设置有像素电极101和薄膜晶体管(Thin FilmTransistor，简称TFT)102。此处的薄膜晶体管102可以是底栅型薄膜晶体管，也可以是顶栅型薄膜晶体管。薄膜晶体管102的结构可以是如图4a和图4d所示，包括依次设置在第一衬底100上的有源层(Active，简称Act)1022、栅绝缘层(Gate Insulator，简称GI)1024、栅极(Gate)1023、层间界定层(Inter-layer Dielectric，简称ILD)1025、源极1020和漏极1021。薄膜晶体管102的结构也可以是如图4b所示，包括依次设置在第一衬底100上的栅极1023、栅绝缘层1024、有源层1022、源极1020和漏极1021。如图4c所示，阵列基板10还包括栅线111和数据线112，薄膜晶体管102的栅极1023与栅线111电连接，数据线112与源极1020电连接。

附图4c中未示意出像素电极101、填充部104、栅绝缘层1024和层间界定层1025。

上述栅绝缘层1024和层间界定层1025的材料例如可以为氧化硅(SiOx)、氮化硅(SiNx)或氮氧化硅(SiOxNy)中的一种或多种。

在一些实施例中，层间界定层1025包括层叠设置的第一子层间界定层和第二子层间界定层，第一子层间界定层的材料和第二子层间界定层的材料不相同。示例的，第一子层间界定层的材料为氧化硅，第二子层间界定层的材料为氧化硅。

如图4a、图4b以及图4d所示，阵列基板10还包括第一平坦层(Planarization，简称PLN)103和填充部104。薄膜晶体管102、第一平坦层103、像素电极101以及填充部104依次设置在第一衬底100上。第一平坦层103具有过孔；像素电极101在过孔处凹陷，构成凹陷部，填充部104至少设置在凹陷部内；像素电极101穿过第一平坦层103上的过孔与薄膜晶体管102的漏极1021电连接。

此处，像素电极101的材料例如可以为氧化铟锡(Indium Tin Oxides，简称ITO)或氧化铟锌(Indium Zinc Oxide，简称IZO)等。

在一些实施例中，如图4a、图4b以及图4d所示，填充部104仅设置在凹陷部内。在另一些实施例中，如图5所示，填充部104除了设置在凹陷部内，还设置在凹陷部外。在此情况下，填充部104的材料可以与第一平坦层103的材料相同。

此外，对于填充部104的材料不进行限定，例如可以正性光刻胶或负性光刻胶。

为了确保液晶显示面板3在受到外力按压时，液晶显示面板3能够保持一定的盒厚(Cell Gap)，因而液晶显示面板3还包括设置在阵列基板10的第一衬底100和对盒基板20的第二衬底200之间的主隔垫物(Main Photo Spacer，简称Main PS)105。

对于主隔垫物105的材料不进行限定，例如可以正性光刻胶或负性光刻胶。在此基础上，可以通过涂覆光刻胶层、掩膜曝光以及显影工艺等形成主隔垫物105。

应当理解到，主隔垫物105在黑矩阵图案202上的正投影位于黑矩阵图案202的边界以内。

在一些实施例中，如图6所示，对盒基板20包括主隔垫物105，即主隔垫物105设置在第二衬底200上。在对盒基板20包括第二平坦层203的情况下，主隔垫物105设置在第二平坦层203远离第二衬底200的一侧。在另一些实施例中，如图4a、图4b、图4d以及图5所示，阵列基板10包括主隔垫物105，即主隔垫物105设置在第一衬底100上，主隔垫物105设置在像素电极101远离第一衬底100的一侧。本发明实施例中，在阵列基板10包括主隔垫物105的情况下，阵列基板10和对盒基板20对盒时，不存在对盒基板20上的主隔垫物105掉入第一平坦层103上的过孔内的问题。

阵列基板10包括依次设置在第一衬底100上的薄膜晶体管102、第一平坦层103和像素电极101，由于像素电极101需要与薄膜晶体管102的漏极1021电连接，因而必然要在第一平坦层103的设置过孔，以使像素电极101穿过第一平坦层103上的过孔与薄膜晶体管102的漏极1021电连接。

相对于相关技术中，对盒基板20包括主隔垫物105，对于一些液晶显示面板，尤其是小尺寸高像素密度(Pixels Per Inch，简称PPI)的液晶显示面板，由于阵列基板10中第一平坦层103上用于连接像素电极101和薄膜晶体管102的漏极1021的过孔的尺寸较大，且过孔之间的间距较小，因而在阵列基板10和对盒基板20对盒时，由于对位精度工艺限制的原因，如图7所示，对盒后主隔垫物105很容易掉进第一平坦层103上的过孔内。若主隔垫物105掉进第一平坦层103上的过孔内，则液晶显示面板3的显示区31的液晶盒厚会减小，从而导致液晶显示面板3的显示区31的液晶盒厚达不到设计要求。此外，液晶显示面板3的周边区32通过封装胶40支撑，液晶显示面板3的显示区31的液晶盒厚减小，从而会导致液晶显示面板3的显示区31的液晶盒厚和周边区32的液晶盒厚差异大，液晶盒厚不均一，从而会出现亮度均一性差、周边Mura(斑痕)、Cell Gap Strength(恢复性)不足等不良。在此基础上，由于很难估计出主隔垫物105掉进第一平坦层103的过孔内的尺寸，因此在设计主隔垫物105时，无法通过增加主隔垫物105的高度来弥补主隔垫物105掉进第一平坦层103的过孔内损失的高度。

此外，由于第一平坦层103上过孔的存在，因而在第一平坦层103上的过孔位置处有坡度的地方液晶取向混乱，因而在暗态下会发生漏光不良。

本发明实施例提供一种阵列基板10，阵列基板10包括依次设置在第一衬底100上的薄膜晶体管102、第一平坦层103、像素电极101以及填充部104，第一平坦层103具有过孔，像素电极101穿过第一平坦层103上的过孔与薄膜晶体管102的漏极1021电连接，像素电极101在过孔处凹陷，构成凹陷部，填充部104至少设置在凹陷部内。在对盒基板20包括主隔垫物105，或者阵列基板10包括主隔垫物105的情况下，阵列基板10和对盒基板20对盒时，即使主隔垫物105正对第一平坦层103上的过孔，由于凹陷部内设置有填充部104，因而可以改善主隔垫物105掉进凹陷部内(或第一平坦层103上的过孔内)，导致的液晶显示面板3的显示区31的液晶盒厚偏低的问题，这样一来，改善了液晶显示面板3的显示区31和周边区32的液晶盒厚不均一的问题，进而改善了液晶盒厚不均一导致的亮度均一性差、周边Mura(斑痕)、Cell Gap Strength(恢复性)不足等不良。

在此基础上，由于填充部104至少设置在凹陷部内，因而可以改善设置有过孔的位置处液晶取向混乱的问题，进而改善了暗态下漏光不良的问题。

填充部104至少设置在凹陷部内，考虑到若设置在凹陷部内的填充部104的高度太小，则在对盒基板20包括主隔垫物105的情况下，阵列基板10和对盒基板20对盒时，主隔垫物105若掉入凹陷部内，则液晶显示面板3的显示区31的液晶盒厚还是会偏小，或者在阵列基板10包括主隔垫物105的情况下，若主隔垫物105设置在填充部104上，则液晶显示面板3的显示区31的液晶盒厚还是会偏小，从而会出现液晶显示3的显示区31和周边区32的液晶盒厚不均一的问题。

基于上述，可选的，如图4a和图4b所示，填充部104远离第一衬底100的表面与第一平坦层103远离第一衬底100的表面在同一平面内；或者，填充部104远离第一衬底100的表面到第一衬底100的距离大于第一平坦层103远离第一衬底100的表面到第一衬底100的距离。

此处，填充部104远离第一衬底100的表面与第一平坦层103远离第一衬底100的表面在同一平面内，即指填充部104远离第一衬底100的表面到第一衬底100的距离与第一平坦层103远离第一衬底100的表面到第一衬底100的距离相等。

需要说明的是，如图4a所示，在像素电极101和填充部104之间不设置其它膜层的情况下，在一些实施例中，填充部104远离第一衬底100的表面与第一平坦层103远离第一衬底100的表面在同一平面内。如图11所示，在像素电极101和填充部104之间还设置其它膜层(例如设置公共电极107)的情况下，填充部104远离第一衬底100的表面到第一衬底100的距离大于第一平坦层103远离第一衬底100的表面到第一衬底100的距离。

本发明实施例，在对盒基板20包括主隔垫物105的情况下，阵列基板10和对盒基板20对盒时，即使主隔垫物105与第一平坦层103上的过孔正对，或者在阵列基板10包括主隔垫物105的情况下，即使主隔垫物105设置在填充部104上，由于凹陷部内设置有填充部104，且填充部104远离第一衬底100的表面与第一平坦层103远离第一衬底100的表面在同一平面内，或者，填充部104远离第一衬底100的表面到第一衬底100的距离大于第一平坦层103远离第一衬底100的表面到第一衬底100的距离，因而可以进一步保证液晶显示面板3的显示区31和周边区32的液晶盒厚差异较小，从而提高了液晶显示面板3的液晶盒厚均一性。

在阵列基板10还包括设置在像素电极101远离第一衬底100一侧的主隔垫物105的情况下，在一些实施例中，填充部104的材料和主隔垫物105的材料相同；在另一些实施例中，填充部104的材料和主隔垫物105的材料不相同。在填充部104的材料和主隔垫物105的材料相同的情况下，可以同时形成填充部104和主隔垫物105，从而简化了阵列基板10的制作工艺。

上述“同时形成填充部104和主隔垫物105”指的是在像素电极101上形成一层感光材料层例如光刻胶，对感光材料层进行掩膜曝光、显影后，同时形成填充部104和主隔垫物105。

如图8所示，在阵列基板10还包括设置在像素电极101远离第一衬底100一侧的主隔垫物105，主隔垫物105的材料和填充部104的材料不相同，且主隔垫物105未正对凹陷部的情况下，可以先形成主隔垫物105，再形成填充部104；也可以先形成填充部104，再形成主隔垫物105。

考虑到在像素电极101上形成主隔垫物105时，主隔垫物105的高度若较小，则主隔垫物105容易脱落。基于此，本发明实施例可选的，如图4a、图4b、图4d以及图5所示，主隔垫物105在凹陷部上的正投影位于凹陷部的边界以内，且主隔垫物105和填充部104一体成型。

此处，主隔垫物105在凹陷部上的正投影位于凹陷部的边界以内，即主隔垫物105正对凹陷部。

本发明实施例，由于主隔垫物105在凹陷部上的正投影位于凹陷部的边界以内，且主隔垫物105和填充部104一体成型，因而可以同时形成主隔垫物105和填充部104，这样一来，从填充部104靠近第一衬底100的表面到主隔垫物105远离第一衬底100的表面的距离大于单独设置主隔垫物105的高度，因此避免了主隔垫物105脱落的风险。

液晶显示面板3除包括主隔垫物105外，还包括辅隔垫物。在液晶显示面板3受到外力按压时，主隔垫物105和辅隔垫物都可以起到缓冲外部压力的作用，使液晶显示面板3保持一定盒厚。主隔垫物105的高度大于辅隔垫物的高度，主隔垫物105和辅隔垫物之间的高度差可以使液晶显示面板3具有一定的形变量。

应当理解到，主隔垫物105和辅隔垫物在黑矩阵图案202上的正投影均位于黑矩阵图案202的边界以内。

在此基础上，可以是如图9所示，对盒基板20包括辅隔垫物106。在对盒基板20包括辅隔垫物106的情况下，辅隔垫物106设置在第二平坦层203远离第二衬底200的一侧。也可以是如图10所示，阵列基板10包括辅隔垫物106。在阵列基板10包括辅隔垫物106的情况下，辅隔垫物106设置在像素电极101远离第一衬底100的一侧。

此外，在阵列基板10包括主隔垫物105和辅隔垫物106的情况下，主隔垫物105的材料和辅隔垫物106的材料可以相同，也可以不相同。在一些实施例中，主隔垫物105和辅隔垫物106同层同材料。

此处，“同层”指的是采用同一成膜工艺形成用于形成特定图形的膜层，然后利用同一掩模板通过一次构图工艺形成的层结构。根据特定图形的不同，一次构图工艺可能包括多次曝光、显影或刻蚀工艺，而形成的层结构中的特定图形可以是连续的也可以是不连续的，这些特定图形还可能处于不同的高度或者具有不同的厚度。

本发明实施例，由于主隔垫物105和辅隔垫物106同层同材料，因而可以同时形成主隔垫物105和辅隔垫物106，从而简化了液晶显示面板3的制作工艺。

在此基础上，在阵列基板10包括主隔垫物105和辅隔垫物106的情况下，由于对盒基板20不包括主隔垫物105和辅隔垫物106，因而对盒基板20的平坦度较好。在一些实施例中，对盒基板20的段差可小于0.1μm。

在此基础上，在一些实施例中，如图11所示，阵列基板10还包括设置在第一衬底100上的公共电极107。像素电极101和公共电极107可以设置在同一层，在此情况下，像素电极101和公共电极107均为包括多个条状子电极的梳齿结构。像素电极101和公共电极107也可以设置在不同层，在此情况下，如图11所示，像素电极101和公共电极107之间设置有第一绝缘层108。在像素电极101和公共电极107设置在不同层的情况下，公共电极107可以如图11所示，设置在填充部与像素电极101之间；公共电极107还可以设置在薄膜晶体管102和像素电极101之间。在公共电极107设置在薄膜晶体管102和像素电极101之间的情况下，公共电极107与薄膜晶体管102之间还设置有第二绝缘层。

在阵列基板10包括公共电极107和像素电极101的情况下，公共电极107和像素电极101产生的水平电场驱动液晶层30中的液晶分子转动。

在另一些实施例中，对盒基板20包括公共电极107。在对盒基板20包括公共电极107，阵列基板10包括像素电极101的情况下，公共电极107和像素电极101产生的竖直电场驱动液晶层30中的液晶分子转动。

此处，公共电极107的材料例如可以为氧化铟锡或氧化铟锌等。

本发明实施例，在阵列基板10包括像素电极101和公共电极107的情况下，液晶光效多，可以提高光的透过率。

在一些实施例中，如图12所示，阵列基板10还包括设置在薄膜晶体管102和第一衬底100之间的遮光层(Light Shield Layer，简称LS)109，薄膜晶体管102中的有源层1022在遮光层109上的正投影与遮光层109具有重叠区域。

本发明实施例中，阵列基板10包括遮光层109，遮光层109可以避免光照到有源层1022上产生光生载流子，影响薄膜晶体管102的性能。

在此基础上，如图12所示，阵列基板10还包括设置在薄膜晶体管102和第一衬底100之间的缓冲层(Buffer)110。在阵列基板10还包括遮光层109的情况下，缓冲层110设置在遮光层109和薄膜晶体管102之间。

本发明实施例中，设置缓冲层110不但可以使设置薄膜晶体管102的表面平坦，屏蔽第一衬底100的缺陷，还可以防止杂质离子渗透到第一衬底100中引起器件的各种不良。

以附图12所示的阵列基板10为例，以下详细说明阵列基板10的制作过程：在第一衬底100上依次形成遮光层109、缓冲层110、有源层1022、栅绝缘层1024、栅极1023、层间界定层1025、源极1020和漏极1021。其中，有源层1022、栅绝缘层1024、栅极1023、层间界定层1025、源极1020和漏极1021构成薄膜晶体管102。在源极1020和漏极1021上形成第一平坦层103，在第一平坦层103上形成过孔以露出薄膜晶体管102的漏极1021。在第一平坦层103上形成像素电极101，像素电极101穿过第一平坦层103上的过孔与薄膜晶体管102的漏极1021电连接。在像素电极101上依次形成第一绝缘层108和公共电极107。在公共电极107上且正对第一平坦层103上过孔的位置处，通过一体成型工艺同时形成填充部104和主隔垫物105。在一些实施例中，阵列基板10的制作过程还包括：在主隔垫物105远离第一衬底100的一侧形成第一取向层。第一取向层的制作过程例如可以为在主隔垫物105远离第一衬底100的一侧涂覆一层第一取向层薄膜，第一取向层薄膜的材料例如可以为聚酰亚胺，之后，对第一取向层薄膜进行光取向形成第一取向层。

在阵列基板10和对盒基板20都制作完成后，液晶显示面板的制作过程还包括：在阵列基板10远离第一衬底100的表面或对盒基板20远离第二衬底200的表面形成封框胶(Sealant)，并填充液晶Liquid Crystal，简称LC)，之后将阵列基板10和对盒基板20真空对盒(Vacuum Alignment)形成液晶显示面板母板，最后切割(Cutting)液晶显示面板母板形成液晶显示面板3。

基于上述，如图13所示，液晶显示面板3还包括设置在对盒基板20背离液晶层30一侧的上偏光片50和设置在阵列基板10背离液晶层30一侧的下偏光片60，上偏光片50和下偏光片60的透光轴相互垂直或者平行。

基于图13所示的液晶显示面板3的结构，以上偏光片50和下偏光片60的透光轴相互垂直为例，当该液晶显示面板3应用于液晶显示装置时，该液晶显示装置的显示原理为：背光模组4发出白光，经过下偏光片60形成有特定偏振方向的白色偏振光，射入液晶显示面板3中，被彩色滤光层201过滤形成红绿蓝三色的偏振光。当该偏振光的偏振方向与上偏光片50的偏振方向垂直时，偏振光不能穿过上偏光片；当该偏振光的偏振方向与上偏光片50的偏振方向平行时，偏振光可以穿过上偏光片50，此时出射光的光强最强。由于液晶分子对偏振光有旋光特性，特定的分子排布方向可使该偏振光的偏振方向发生改变，当液晶分子的排布方向受像素电极101和公共电极107之间产生的电场控制发生旋转时，通过液晶分子的偏振光方向也发生改变，从而可以控制偏振光从上偏光片50出射的多少。当像素电极101和公共电极107根据施加在各自电极上的电信号有规律的控制液晶分子旋转时，红绿蓝亚像素的光就会有规律的透过上偏光片50，最终形成彩色图像。上述光路传播顺序为：从背光模组4出射、依次透过下偏光片60、阵列基板10、液晶层30、对盒基板20、上偏光片50。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种阵列基板，其特征在于，包括：依次设置在第一衬底上的薄膜晶体管、第一平坦层、像素电极以及填充部；

所述第一平坦层具有过孔；所述像素电极穿过所述第一平坦层上的过孔与所述薄膜晶体管的漏极电连接；

所述像素电极在所述过孔处凹陷，构成凹陷部，所述填充部至少设置在所述凹陷部内。

2.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述填充部远离所述第一衬底的表面与所述第一平坦层远离所述第一衬底的表面在同一平面内；

或者，所述填充部远离所述第一衬底的表面到所述第一衬底的距离大于所述第一平坦层远离所述第一衬底的表面到所述第一衬底的距离。

3.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括设置在所述像素电极远离所述第一衬底一侧的主隔垫物。

4.根据权利要求3所述的阵列基板，其特征在于，所述填充部的材料和所述主隔垫物的材料相同。

5.根据权利要求4所述的阵列基板，其特征在于，所述主隔垫物在所述凹陷部上的正投影位于所述凹陷部的边界以内，且所述主隔垫物和所述填充部一体成型。

6.根据权利要求3-5任一项所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括辅隔垫物，所述辅隔垫物设置在所述像素电极远离所述第一衬底的一侧。

7.根据权利要求6所述的阵列基板，其特征在于，所述主隔垫物和所述辅隔垫物同层同材料。

8.根据权利要求1所述的阵列基板，其特征在于，所述阵列基板还包括设置在所述填充部与所述像素电极之间的公共电极、以及设置在所述公共电极和所述像素电极之间的第一绝缘层。

9.一种液晶显示面板，包括阵列基板、对盒基板以及设置在所述阵列基板和所述对盒基板之间的液晶层；其特征在于，所述阵列基板为如权利要求1-8任一项所述的阵列基板。

10.一种液晶显示装置，其特征在于，包括如权利要求9所述的液晶显示面板。