CN109778192B - 一种碱性蚀刻液再生添加剂及再生液再生利用方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开一种碱性蚀刻液再生添加剂及再生液再生利用方法,其中,所述碱性蚀刻液再生添加剂含有尿素7‑12份,硫脲3‑6份,碳酸氢铵8‑12份,碳酸氢钠15‑20份;所述碱性蚀刻再生液由回收的碱性蚀刻液添加所述添加剂组合而成。本发明根据碱性蚀刻液中不同组分的损耗不同,有针对性的调整添加剂关键组分比例,维持蚀刻液中添加剂浓度,保证蚀刻液处在最佳的蚀刻状态,并有效实现了蚀刻液的循环利用。
Description
技术领域
本发明涉及电路板碱性蚀刻液回用技术领域,特别涉及一种碱性蚀刻液再生添加剂及再生液再生利用方法。
背景技术
印制电路板(PCB)是电子产品的重要组成部分,随着电子工业的发展,印制电路板的生产发展极为迅速,同时也造成了大量电路板蚀刻液的产生。蚀刻过程中,当蚀刻液中铜离子的浓度达到饱和时蚀刻液失去蚀刻能力,形成蚀刻废液,蚀刻废液除含有大量的铜外,其余成分与蚀刻液相似。蚀刻废液通过处理后,可回用,实现蚀刻液的循环使用。
为了提高蚀刻性能,蚀刻液药液通常添加一些添加剂,主要作用,针对蚀刻产线的高速蚀刻性,护岸,润湿等作用。行业上常用的添加剂均为新鲜子液的添加剂,由于药水不需回用,对添加剂要求不高。在蚀刻液循环再生系统中,蚀刻液完全回用,除了少量药水会被线路板夹带走,没有料出口,而添加剂中各组分在蚀刻、电解过程中的损耗程度和速度是不一样的,造成蚀刻回用液的性能不稳定。
发明内容
为了解决现有技术的缺点,本发明的主要目的是提供一种碱性蚀刻液再生添加剂,提高碱性蚀刻回用液的性能。
为了实现上述目的,本发明采用如下技术方案:
一种碱性蚀刻液再生添加剂,包括以下组分:尿素、硫脲、碳酸氢铵和碳酸氢钠。
进一步的,所述组分的重量份数为:尿素7-12份,硫脲3-6份,碳酸氢铵8-12份,碳酸氢钠15-20份。
一种碱性蚀刻再生液,由回收的碱性蚀刻液添加如权利要求1所述的碱性蚀刻液再生添加剂组合而成。
进一步的,在回收的碱性蚀刻液中加入添加剂后,添加剂各组分保持与新鲜的碱性蚀刻液中各组分浓度相同。
一种碱性蚀刻再生液再生利用的方法,包括以下步骤:
步骤A:回收PCB蚀刻后排出的高含铜碱性蚀刻母液;
步骤B:通过电解提取碱性蚀刻母液中过量的铜;
步骤C:在回收的碱性蚀刻液中添加碱性蚀刻再生剂,补充氨气;
步骤D:将碱性蚀刻再生液返回蚀刻生产线再次使用;
步骤E:重复所述步骤A-D,循环使用碱性蚀刻再生液。
进一步的,新鲜碱性蚀刻液中包括尿素70-120ppm、硫脲30-60ppm、碳酸氢铵80-120ppm和碳酸氢钠150-200ppm。
与现有技术相比,本发明的有益效果在于:
配套蚀刻液回用系统专用的碱性蚀刻液再生添加剂,根据使用中添加剂不同组分的损耗不同,有针对性的调整关键组分比例,维持蚀刻液中添加剂浓度,保证蚀刻液处在最佳的蚀刻状态。
具体实施方式
为了对本发明的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解,现说明本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围不局限于以下所述。
实施例1
按重量份,碱性蚀刻液再生添加剂的成分为:
尿素7份,硫脲3份,碳酸氢铵8份,碳酸氢钠15份。
实施例2
按重量份,碱性蚀刻液再生添加剂的成分为:
尿素12份,硫脲6份,碳酸氢铵12份,碳酸氢钠20份。
实施例3
按重量份,碱性蚀刻液再生添加剂的成分为:
尿素10份,硫脲5份,碳酸氢铵10份,碳酸氢钠17份。
本发明配套使用的新鲜碱性蚀刻液中包括尿素70-120ppm、硫脲30-60ppm、碳酸氢铵80-120ppm和碳酸氢钠150-200ppm。
实验室建立蚀铜槽,无损提铜实验设备,实现药水的循环,并根据物料衡算,取出相关损耗药水,进行模拟实验。对添加剂组分进行跟踪分析。
对比例:3L蚀刻母液铜离子含量130g/L,电解得到3L铜离子含量35g/L再生液,添加蚀刻添加剂和氨气重新加铜蚀刻,30℃水浴蚀刻,记录反应时间,重复电解蚀刻5次。
实验例:3L蚀刻母液铜离子含量130g/L,电解得到3L铜离子含量35g/L再生液,添加蚀刻添加剂和氨气重新加铜蚀刻,30℃水浴蚀刻,记录反应时间,电解后按实施例2重量比添加碱性蚀刻液再生添加剂和氨气,取样100mL,重复电解蚀刻5次后,取5个样品,检测四种组分的含量。检测方法:气相色谱,液相色谱。检测结果表明,碱性蚀刻再生液中添加剂的浓度基本保持不变。
表1 蚀刻再生液的蚀刻速率
回用次数 | 原始蚀刻再生液 | 1 | 2 | 3 | 4 | 5 |
对比例 | 35.4% | 30.4% | 28.6% | 27.1% | 26.5% | 25.4% |
实验例 | 35.4% | 36.3% | 34.9% | 36.4% | 37.0% | 35.8% |
不补充添加剂,蚀刻速率分别下降了14.1%,19.2%,23.4%,25.1%,28.2%,会对蚀刻品质产生很大的影响。
使用碱性蚀刻液再生添加剂后,蚀刻速率分别为35.4%,36.3%,34.9%,36.4%,37.0%,35.8%,蚀刻再生液的蚀刻速率明显改善。
以上揭露的仅为本发明的较佳实施例而已,当然不能以此来限定本发明之权利范围,因此依本发明权利要求所作地等同变化,仍属本发明所涵盖的范围。
Claims (5)
1.一种碱性蚀刻液再生添加剂,其特征在于,包括以下组分:尿素、硫脲、碳酸氢铵和碳酸氢钠;所述组分的重量份数为:尿素7-12份,硫脲3-6份,碳酸氢铵8-12份,碳酸氢钠15-20份;将所述碱性蚀刻液再生添加剂加入到回收的碱性蚀刻液中,再生添加剂各组分保持与新鲜的碱性蚀刻液中各组分浓度相同;新鲜的碱性蚀刻液中包括尿素70-120ppm、硫脲30-60ppm、碳酸氢铵80-120ppm和碳酸氢钠150-200ppm;
利用所述碱性蚀刻液再生添加剂再生PCB蚀刻后排出的高含铜碱性蚀刻母液的方法,包括以下步骤:
步骤A:回收PCB蚀刻后排出的高含铜碱性蚀刻母液;
步骤B:通过电解提取碱性蚀刻母液中过量的铜;
步骤C:在回收的碱性蚀刻液中添加碱性蚀刻液再生添加剂,补充氨气;
步骤D:将碱性蚀刻再生液返回蚀刻生产线再次使用;
步骤E:重复所述步骤A-D,循环使用碱性蚀刻再生液。
2.一种碱性蚀刻再生液,其特征在于,所述再生液由回收的碱性蚀刻液添加如权利要求1所述的碱性蚀刻液再生添加剂组合而成。
3.根据权利要求2所述的一种碱性蚀刻再生液,其特征在于,在回收的碱性蚀刻液中加入添加剂后,添加剂各组分保持与新鲜的碱性蚀刻液中各组分浓度相同。
4.根据权利要求2~3任意一项所述的一种碱性蚀刻再生液再生利用的方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤A:回收PCB蚀刻后排出的高含铜碱性蚀刻母液;
步骤B:通过电解提取碱性蚀刻母液中过量的铜;
步骤C:在回收的碱性蚀刻液中添加碱性蚀刻液再生添加剂,补充氨气;
步骤D:将碱性蚀刻再生液返回蚀刻生产线再次使用;
步骤E:重复所述步骤A-D,循环使用碱性蚀刻再生液。
5.根据权利要求4所述的一种碱性蚀刻再生液再生利用的方法,其特征在于,新鲜碱性蚀刻液中包括尿素70-120ppm、硫脲30-60ppm、碳酸氢铵80-120ppm和碳酸氢钠150-200ppm。
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