CN109643034A - 用于制造显示单元的系统 - Google Patents

Abstract

本发明的一个实施方案提供了一种用于制造显示单元的系统，该系统包括：被配置成转印光学膜的转印单元，光学膜包括偏振膜和离型膜，偏振膜包括粘合剂层，离型膜借助于粘合剂层被粘附，使得偏振膜可以从离型膜剥离；切割单元，其被配置成通过将光学膜切割至预定深度但不切割离型膜而在光学膜上形成偏振膜的片材件；剥离单元，其被配置成将偏振膜的片材件从离型膜剥离；以及附接单元，其被配置成将从离型膜剥离的偏振膜的片材件附接至面板，其中附接单元包括：一对附接辊，其被配置成通过压制偏振膜的片材件将偏振膜的片材件附接至面板的一个表面；和磁力产生单元，其被配置成使用磁力来抑制位于一对附接辊的上侧的上附接辊的下垂。

Description

用于制造显示单元的系统

技术领域

本发明涉及用于制造显示单元的系统，更具体地，涉及用于制造显示单元的系统，其提高了将光学膜附接至面板的精度以有效地抑制所制造的显示单元的缺陷。

背景技术

包括液晶显示器(LCD)、有机发光二极管(OLED)、等离子体显示面板(PDP)和电泳显示器(EPD)的显示单元通过若干过程制造。特别地，制造过程包括将光学膜附接至面板的过程。光学膜附接至面板的一个表面和另一表面，并且当在附接至面板的一个表面的光学膜中包括的偏振膜的吸收轴垂直于在附接至面板的另一表面的光学膜中包括的偏振膜的吸收轴时，面板正常工作。因此，需要用于制造显示单元的系统，其在一个过程中将光学膜附接至面板的两个表面使得吸收轴彼此垂直。

在一个过程中将光学膜附接至面板的两个表面的用于制造显示单元的系统可以如下所述工作。

将包括偏振膜的光学膜提供给用于制造显示单元的系统。当通过供应辊提供具有与面板的短边对应的宽度的光学膜时，所提供的光学膜被运送至附接位置，在附接位置处，光学膜通过运送单元附接至面板的一个表面。在将光学膜运送至附接位置之前，可以将光学膜切割成具有与面板的尺寸对应的尺寸。被切割的光学膜通过包括附接辊的附接单元附接到面板的一个表面上。然后，通过供应辊提供具有与面板的长边对应的宽度的光学膜，并且通过与上述相同的方法将该光学膜附接至面板的另一表面。

然而，将光学膜附接至面板的两个表面上的用于制造显示单元的系统具有下面的问题。

图1是示出在预定时间之后具有预定长度或更长的附接辊在向下方向下垂的情况的图。

当用于制造超大尺寸显示单元的面板的尺寸增加时(例如，当屏幕的尺寸为98英寸，在下文中，称为大面积面板时)，用于将具有与大面积面板的长边对应的宽度的光学膜附接到大面积面板的一个表面上的附接辊的长度增加。如图1所示，根据附接辊的长度的增加，附接辊沿向下方向下垂。因此，当光学膜附接至大面积面板时，在光学膜与大面积面板的附接表面之间产生缺陷因素，从而降低了显示单元的品质。

为了解决该问题，提出了如下过程：根据大面积面板的尺寸将具有与大面积面板的长边对应的宽度的光学膜切割成具有片材形式的纸片，连接复数个所切割的光学膜的短边，将光学膜卷绕成卷型，并将光学膜提供至用于制造显示单元的系统。然而，需要用于执行重新连接和卷绕光学膜的过程的单独设备，并且在制造显示单元时生产力降低。

因此，需要一种抑制附接辊由于重量而下垂的现象以提高将光学膜附接至面板的精度的技术。

发明内容

技术问题

本发明已致力于提供一种用于制造显示单元的系统，该系统抑制附接辊由于重量而下垂，从而提高将光学膜附接至面板的品质和显示单元的生产力。

技术方案

本发明的示例性实施方案提供了一种用于制造显示单元的系统，其将光学膜附接至面板，该系统包括：运送单元，其运送包括偏振膜的光学膜；切割单元，其切割光学膜以使其具有与面板的尺寸对应的尺寸；以及附接单元，其将光学膜附接至面板，其中附接单元包括：附接辊，其将光学膜压制并附接到面板的一个表面上，和下垂抑制单元，其抑制附接辊下垂。

下垂抑制单元可以包括磁力产生单元，该磁力产生单元通过使用磁力来抑制附接辊下垂。

磁力产生单元可以包括强度为20MGOe至50MGOe的永磁体。

磁力产生单元可以包括其磁力通过施加电流的大小来调整的电磁体。

磁力产生单元可以包括沿附接辊的纵向方向彼此间隔开设置的复数个单位磁力产生单元。

下垂抑制单元可以包括支承部，该支承部与附接辊的外周表面的一部分接触并支承附接辊。

下垂抑制单元可以包括距离调整单元，其调整磁力产生单元与附接辊之间的距离。

附接辊的直径可以是20mm至80mm。

附接辊的长度可以是1800mm至3700mm。

磁力产生单元可以与附接辊的外周表面的一部分接触，并且可以形成为能够支承附接辊的辊的形式。

附接辊可以在面向磁力产生单元的位置处包括铁磁性物质。

技术效果

根据本发明的示例性实施方案，下垂抑制单元抑制附接辊由于重量而下垂，从而改善将光学膜F附接至面板P的精度和品质，并有效地抑制所制造的显示单元的缺陷。

根据本发明的另一示例性实施方案，通过抽吸附接辊来抑制附接辊由于重量而下垂，从而改善将光学膜附接至面板的精度和品质。此外，在抽吸附接辊并抑制附接辊下垂的过程期间，附接辊周围的异物、灰尘等被抽吸和去除，从而改善所制造的显示单元的品质。

附图说明

图1是示出在预定时间之后具有预定长度或更长的附接辊在向下方向下垂的情况的图。

图2是示意性地示出根据本发明一个示例性实施方案的将光学膜附接至面板的一个表面上的用于制造显示单元的系统的示例的图。

图3是示意性地示出根据本发明示例性实施方案的包括磁力产生单元的附接单元的图。

图4是示意性地示出根据本发明示例性实施方案的包括复数个单位磁力产生单元的附接单元的图。

图5是示出根据本发明示例性实施方案的距离调整单元对磁力产生单元与附接辊之间的距离进行调整的图。

图6a至图6d是示意性地示出根据本发明示例性实施方案的包括磁力产生单元和支承部的附接单元的图。

图7是示出根据本发明示例性实施方案的以辊的形式形成的磁力产生单元的图。

图8是示意性地示出根据本发明的另一示例性实施方案的包括抽吸部的附接单元的图。

具体实施方式

在下文中，将参照附图详细描述本发明的示例性实施方案，使得本领域技术人员可以容易地实施本发明。然而，本发明可以以各种不同的形式实现，并且不限于这里描述的示例性实施方案。在附图中将省略与描述无关的部分以清楚地描述本发明，并且在整个说明书中相似的要素将由相似的附图标记表示。

将简要描述本说明书中使用的术语，并且将详细描述本发明。

作为在本发明中使用的术语，在考虑本发明中的功能的同时选择当前广泛使用的一般术语，但是术语可以根据本领域技术人员或先例的意图、新技术的出现等而改变。此外，在特定情况下，存在由申请人随机选择的术语，并且在这种情况下，将在本发明的相应描述中详细描述该术语的含义。因此，本发明中使用的术语应基于术语的含义和整个本发明的内容来定义，而不是基于术语的简单名称来定义。

在整个说明书中，除非明确地相反描述，否则词语“包括”和诸如“包含”或“含有”的变体将被理解为暗示包括所述元件但不排除任何其他元件。

在下文中，将参考附图详细描述本发明。

根据本发明的一个示例性实施方案，提供了一种将光学膜F附接至面板P的用于制造显示单元的系统1000，该系统1000包括：运送单元100，其运送包括偏振膜的光学膜F；切割单元200，其切割光学膜F以使其具有与面板P的尺寸对应的尺寸；以及附接单元400，其将光学膜F附接至面板P，并且附接单元400包括将光学膜F压制并附接到面板P的一个表面上的附接辊；以及下垂抑制单元，其抑制附接辊下垂。

根据本发明的示例性实施方案，下垂抑制单元抑制附接辊由于重量而下垂，从而改善将光学膜F附接到面板P的精度和品质，并有效地抑制所制造的显示单元的缺陷。

当制造显示单元时，可以通过各种方法将光学膜附接到面板上。

显示单元可以通过使用包括偏振膜和离型膜的光学膜来制造，偏振膜包括粘合剂层，离型膜通过粘合剂层接合至偏振膜以被剥离。将光学膜附接至面板的过程可以如下所述进行。例如，可以通过以下方式来制造显示单元：通过切割(所谓的半切割)包括形成有粘合剂层的偏振膜的光学膜达离型膜未被切割的预定深度而在光学膜上形成光学膜片材件；将光学膜片材件从离型膜剥离；以及通过剥离的光学膜片材件的粘合剂层将光学膜片材件附接至面板。此外，可以通过以下方式来制造显示单元：通过切割(所谓的全切割)整个光学膜至具有与面板的尺寸对应的尺寸而形成片材形式的光学膜片材件；将离型膜从光学膜片材件剥离；以及将剥离的光学膜片材件附接至面板。此外，可以通过以下方式来制造显示单元：将离型膜从光学膜剥离；通过粘合剂层将光学膜附接到面板上；然后切割附接到面板上的光学膜以使其具有与面板的尺寸对应的尺寸。

可以通过使用包括粘合剂层和偏振膜而没有离型膜的光学膜来制造显示单元。例如，可以通过以下方式来制造显示单元：将粘合剂或可紫外线固化粘合剂施加到光学膜的一个表面上；通过粘合剂将光学膜附接到面板上；以及切割附接到面板上的光学膜以使其具有与面板的尺寸对应的尺寸。此外，可以通过以下方式来制造显示单元：通过切割光学膜以使其具有与面板的尺寸对应的尺寸而形成片材件；将粘合剂施加到片材件的一个表面上；以及通过粘合剂将光学膜附接到面板上。

根据本发明的示例性实施方案，显示单元可以通过如上所述的各种方法制造，并且当通过前述方法等制造显示单元时，可以有效地抑制将光学膜附接到面板上的附接辊因重量下垂。

此外，在下文中，为了便于描述，将主要详细地描述用于制造显示单元的系统，其将通过对包括形成有粘合剂层的偏振膜的光学膜进行半切割而形成的光学膜片材件附接到面板上。

图2是示意性地示出根据本发明示例性实施方案的将光学膜附接到面板的一个表面上的用于制造显示单元的系统的示例的图。

根据本发明示例性实施方案的用于制造显示单元的系统1000可以使用包括粘合剂层、偏振膜和离型膜F2的光学膜F。光学膜F可以包括偏振膜，并且除了偏振膜之外，还可以包括具有光学特性的诸如相位差膜、视角补偿膜和亮度改善膜的膜。即，可以使用其中具有光学特性的膜被附接到偏振膜的一个表面或两个表面上的光学膜F。

偏振膜可以包括具有例如5μm至80μm的厚度的偏振器，以及附接到偏振器的一个表面或两个表面上并且具有约1μm至500μm的厚度的偏振器保护膜。可以使用合适的透明膜作为可以附接到偏振器的一个表面或两个表面上的偏振器保护膜。作为偏振器保护膜，可以使用具有优异的透明度、机械强度、热稳定性、防潮性和各向同性的热塑性树脂。作为热塑性树脂，例如，可以使用诸如三乙酰纤维素的纤维素树脂、聚酯树脂、聚醚砜树脂、聚砜树脂、聚碳酸酯树脂、聚酰胺树脂、聚酰亚胺树脂、聚烯烃树脂、甲基丙烯酸酯树脂、环状聚烯烃树脂(降冰片烯基树脂)、聚芳酯树脂、聚苯乙烯树脂、聚乙烯醇树脂及其混合物。此外，偏振器保护膜中可以包含一种或更多种粘合剂。作为粘合剂，例如，可以使用紫外线吸收剂、氧化抑制剂、增塑剂、释放剂、着色抑制剂、阻燃剂、起电抑制剂、颜料和着色剂。

光学膜F可以包括表面保护膜，并且表面保护膜可以用于在光学膜的分配过程、将光学膜附接至面板的过程等中抑制光学膜的表面被污染或损坏的目的。表面保护膜可以通过粘合剂接合至光学膜，并且可以接合至光学膜使得表面保护膜容易从光学膜剥离。此外，作为表面保护膜，例如，可以使用聚乙烯膜、聚丙烯膜和聚对苯二甲酸乙二醇酯膜，但是表面保护膜的材料不限于上述示例。

粘合剂层形成在光学膜的一个表面上，以将光学膜F附接至面板P的一个表面。粘合剂层可以由例如丙烯酸基粘合剂、硅基粘合剂或者氨基甲酸酯基粘合剂形成，并且可以具有10μm至50μm的厚度。此外，离型膜F2被附接至粘合剂层，离型膜F2在将光学膜F附接到面板上之前在转印光学膜F的过程中抑制粘合剂层被异物污染并且保护粘合剂层。作为离型膜F2，例如，可以使用诸如聚乙烯、聚丙烯、聚-1-丁烯、聚-4-甲基-1-戊烯、乙烯-丙烯共聚物、乙烯-1-丁烯共聚物、乙烯-乙酸乙烯酯共聚物、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物和乙烯-乙烯醇共聚物的聚烯烃基膜，诸如聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯和聚对苯二甲酸丁二醇酯的聚酯基膜，或诸如聚丙烯酸酯、聚苯乙烯、尼龙6、部分芳族聚酰胺的聚酰胺基膜。

在根据本发明示例性实施方案的用于制造显示单元的系统1000中使用的光学膜F可以具有与面板P的长边或短边对应的宽度。例如，可以通过以下方式来制造显示单元：将通过把具有与面板P的长边对应的宽度的卷式光学膜F切割成具有预定长度的片材件而形成的光学膜片材件F1接合至面板P的一个表面；以及将通过把具有与面板P的短边对应的宽度的卷式光学膜F切割成具有预定长度的片材件而形成的光学膜片材件F1接合至面板P的另一表面。

具体地，可以将具有与面板P的长边对应的宽度的光学膜片材件F1附接到面板P的在面板P下侧的一个表面上，可以将面板P反转，然后可以将具有与面板P的短边对应的宽度的光学膜片材件F1附接到面板P的在面板P下侧的另一表面上。此外，可以将具有与面板P的长边的宽度对应的光学膜片材件F1附接到面板P的在面板P上侧的一个表面上，并且可以将具有与面板P的短边对应的宽度的光学膜片材件F1附接到面板P的在面板P下侧的另一表面上，而不反转面板P。此外，可以将具有与面板P的长边对应的宽度的光学膜片材件F1附接到面板P的在面板P下侧的一个表面上，并且可以将具有与面板P的短边对应的宽度的光学膜片材件F1附接到面板P的在面板P上侧的另一表面上，而不反转面板P。

根据本发明示例性实施方案的运送单元100将光学膜F运送至本发明的用于制造显示单元的系统的下游侧，光学膜F包括偏振膜和离型膜F2，偏振膜包括粘合剂层，离型膜F2接合至粘合剂层以被剥离。例如，运送单元100可以运送附接到面板P的一个表面上并且具有与面板P的长边的长度对应的宽度的光学膜F，或者运送附接在面板P的另一表面上并且具有与面板P的短边的长度对应的宽度的光学膜F。

运送单元100可以包括能够运送光学膜F的各种转印装置。例如，运送单元100可以通过使用传送带或辊来运送光学膜F。

根据本发明示例性实施方案的用于制造显示单元的系统1000可以包括切割单元200，切割单元200在不切割光学膜F上的离型膜F2的情况下以预定间隔切割(所谓的半切割)偏振膜和粘合剂层并且形成光学膜片材件F1。切割单元200可以将光学膜F半切割成具有与面板P的尺寸对应的尺寸，并且在光学膜F上依次形成光学膜片材件F1。例如，切割单元200可以通过以与面板P的短边的长度对应的间隔切割附接到面板P的一个表面上并具有与面板P的长边的长度对应的宽度的光学膜F而在光学膜F上依次形成光学膜片材件F1，并且可以通过以与面板P的长边的长度对应的间隔切割附接到面板P的另一表面上并且具有与面板P的短边的长度对应的宽度的光学膜F而在光学膜F上依次形成光学膜片材件F1。

切割单元200可以包括能够切割光学膜F的各种切割装置。例如，激光装置和切割机可以用作切割单元200。

被运送的光学膜F在被切割单元200切割之前可以经过检查过程。在检查过程中，可以通过使用光源将光发射至光学膜F，可以对所发射的光中的从光学膜F发射的透射光或反射光的图像进行拍摄，并且可以对图像进行处理以检查光学膜F上的缺陷。例如，可以使用通过二值化处理经由明暗确定来检测缺陷的方法作为图像处理方法。可以通过使用通过检查过程计算的缺陷的位置信息来确定光学膜F的切割位置。

通过使用在检查过程中计算的光学膜F的缺陷的位置信息，切割单元200可以半切割光学膜F，使得缺陷不包括在附接至面板P的光学膜片材件F1中。包括缺陷的光学膜不被附接至面板P并且被排除在外，因此可以提高显示单元的产率。

剥离单元300将由运送单元100运送的光学膜F中的离型膜F2朝着内侧折叠，并将光学膜片材件F1和粘合剂层从离型膜F2剥离。例如，刀刃部分可以形成在剥离单元300的前端，并且刀刃部分的曲率半径可以是0.3mm至5.0mm。所运送的光学膜F中的离型膜F2的运送方向在剥离单元300的前端改变，使得离型膜F2可以从光学膜片材件F1剥离。剥离的离型膜F2由卷绕单元500卷绕。

根据本发明的示例性实施方案，附接单元400包括将光学膜压制并附接到面板P的一个表面上的附接辊，并且附接辊可以由上附接辊410和下附接辊420形成。在处理过程中，光学膜F被压制至面板P的一个表面，其中面板P和光学膜F在一对附接辊410和420之间通过，从而光学膜F可以附接到面板P的一个表面上。

用于制造显示单元的系统1000可以包括第一附接单元和第二附接单元，第一附接单元将具有与面板P的长边对应的宽度的光学膜F附接到面板P的一个表面上，第二附接单元将具有与面板P的短边对应的宽度的光学膜F附接到面板P的另一表面上。第一附接单元的一对附接辊可以具有与面板P的长边的长度对应的长度，并且第二附接单元的一对附接辊可以具有与面板P的短边的长度对应的长度。例如，为了制造长边长度为1800mm或更大的超大尺寸显示单元，使用具有与显示单元的尺寸对应的尺寸的面板(下文中，大面积面板)。为了将光学膜F附接到长边长度为1800mm或更大的大面板P的一个表面上，第一附接单元的一对附接辊具有1800mm或更大的长度以与大面积面板P的长边对应。然而，参照图1，具有预定长度或更大长度的附接辊可能由于重量而于向下方向下垂。如图1所示，当光学膜F在附接辊于向下方向下垂并弯曲的状态下附接到面板P的一个表面上时，附接辊无法均匀地压制光学膜F并且在附接辊旋转期间产生振动，使得光学膜F的附接精度显著降低，从而产生附接缺陷。

为了解决该问题，通过增加附接辊的直径或将填充材料插入附接辊的内侧来增强附接辊的强度，以抑制附接辊由于重量而下垂。然而，上述增加附接辊的直径或将填充材料插入附接辊的内侧的方法增加了附接辊的制造成本，因此该方法不是有效的。此外，当附接辊的直径增加时，光学膜F的附接精度降低，并且附接到面板P上的光学膜F中产生褶皱，或者在面板P与光学膜F之间产生气泡，从而在所制造的显示单元中产生缺陷。

图3是示意性地示出根据本发明示例性实施方案的包括磁力产生单元的附接单元的图。

根据本发明的示例性实施方案，附接单元400可以包括下垂抑制部，从而抑制附接辊由于重量而下垂。下垂抑制部可以包括磁力产生单元430，并且磁力产生单元430可以通过将因磁力产生的吸引力或排斥力施加到附接辊来抑制附接辊由于重量而下垂。

例如，磁力产生单元430可以设置在位于一对附接辊之间的上侧的上附接辊410的上侧，使得磁力产生单元430通过向上附接辊410施加吸引力来吸引上附接辊410以抑制附接辊下垂。磁力产生单元430可以设置在位于一对附接辊之间的下侧的下附接辊420的下侧，使得磁力产生单元430通过向下附接辊420施加排斥力来向上推动下附接辊420以抑制附接辊下垂。此外，磁力产生单元430可以设置在上附接辊410的下部的两侧，以通过向上附接辊410施加排斥力来向上推动上附接辊410。磁力产生单元430可以设置在下附接辊430的上部的两侧，以通过向下附接辊430施加吸引力来吸引下附接辊430。

上附接辊410或下附接辊420可以包括磁体，使得在上附接辊410或下附接辊420与磁力产生单元430之间产生排斥力。例如，可以在附接辊中形成磁体，使得在磁力产生单元430的方向上形成与在附接辊的方向上形成的磁力产生单元430的极(N极或S极)相同的极。

然而，磁力产生单元430可以设置在上附接辊410的上侧或下附接辊420的下侧，以允许光学膜F和面板P在上附接辊410与下附接辊420之间通过，并且防止破坏将光学膜F附接到面板P的一个表面上的过程。

也就是说，根据本发明的示例性实施方案，设置在上附接辊410的上侧的磁力产生单元430可以通过向上附接辊410施加吸引力来抑制上附接辊410下垂，并且设置在下附接辊420的下侧的磁力产生单元430可以通过向下附接辊420施加排斥力而有效地抑制下附接辊420下垂。附接辊被抑制下垂，从而提高将光学膜F附接至面板P的精度以及品质。

此外，虽然由设置在上附接辊410的上侧的磁力产生单元430施加到上附接辊410的吸引力的大小可以大于或等于施加到上附接辊410的重力的大小，但是吸引力的大小和重力的大小可以彼此相同。类似地，由设置在下附接辊420的下侧的磁力产生单元430施加到下附接辊420的排斥力的大小可以与施加到下附接辊420的重力的大小相同。

磁力产生单元430可以包括强度为20MGOe至50MGOe的永磁体。例如，可以使用钕磁体、铁氧体磁体、铝镍钴磁体和钐钴(SmCo)磁体作为永磁体，但永磁体的种类不限于上述示例。

此外，包括在磁力产生单元430中的永磁体的强度可以根据磁力产生单元430与附接辊之间的距离和附接辊的重量或材料而变化。然而，为了有效地抑制附接辊下垂并使附接辊在附接辊的纵向方向上精确地水平，可以使用强度为20MGOe至50MGOe的永磁体。

图4是示意性地示出根据本发明示例性实施方案的包括复数个单位磁力产生单元的附接单元的图。

磁力产生单元430可以包括沿附接辊的纵向方向彼此间隔开设置的复数个单位磁力产生单元。参照图4，复数个磁力产生单元430可以在上附接辊410的纵向方向上设置在上附接辊410的上侧。此外，复数个磁力产生单元430可以在下附接辊420的纵向方向上设置在下附接辊420的下侧。

如图4所示，磁力产生单元包括复数个单位磁力产生单元，从而可以降低设备成本，并且可以增加附接辊周围空间的可用性，从而可以在附接辊周围安装辅助单元，例如能够抽吸和去除异物等的抽吸部。

包括在磁力产生单元430中的永磁体的强度可以根据设置磁力产生单元430的位置而变化。例如，设置在上附接辊410的中央部分的上侧的单位磁力产生单元432和433的永磁体的强度可以大于设置在上附接辊410的两侧部分的上侧的单位磁力产生单元431和434的永磁体的强度。由于重量，上附接辊410的中央部分比上附接辊410的两侧部分下垂得更多。因此，设置在上附接辊410的中央部分的上侧的单位磁力产生单元432和433包括具有比设置在两个侧部的上侧的单位磁力产生单元431和434的永磁体的磁力更大的磁力的永磁体，使得优选地对上附接辊410的中央部分施加更大的吸引力。此外，设置在下附接辊420的中央部分的下侧的单位磁力产生单元436和437包括具有比设置在两侧部分的下侧的单位磁力产生单元435和438的永磁体的磁力更大的磁力的永磁体，使得优选地对下附接辊420的中央部分施加更大的排斥力。

此外，复数个单位磁力产生单元彼此间隔开的距离可以不同。例如，设置在上附接辊410的中央部分的上侧的单位磁力产生单元432和433之间的距离可以小于设置在上附接辊410的中央部分的上侧的单位磁力产生单元433与设置在上附接辊410的侧部的上侧的单位磁力产生单元434之间的距离。通过调整复数个单位磁力产生单元彼此间隔开的距离，可以更有效地抑制附接辊的下垂现象。然而，复数个单位磁力产生单元可以保持其中复数个单位磁力产生单元不会彼此干扰的最小距离。

图5是示出根据本发明示例性实施方案的通过距离调整单元对磁力产生单元与附接辊之间的距离进行调整的图。

根据本发明示例性实施方案的下垂抑制单元可以包括距离调整单元480，其调整磁力产生单元430与附接辊之间的距离。距离调整单元480可以通过使磁力产生单元430上下移动来调整磁力产生单元430与附接辊之间的距离，从而抑制附接辊下垂。例如，当上附接辊410下垂时，距离调整单元480使设置在上附接辊410的上侧的磁力产生单元430移位，并将磁力产生单元430定位在以下点处，在该点处通过磁力产生单元430的磁力将上附接辊410拉向磁力产生单元430，使得上附接辊410的下垂消失，从而有效地抑制上附接辊410由于重量而下垂。类似地，当下附接辊420下垂时，距离调整单元480使设置在下附接辊420的下侧的磁力产生单元430移位，从而有效地抑制下附接辊420下垂。

沿附接辊的纵向方向彼此间隔开设置的复数个单位磁力产生单元分别包括距离调整单元480，使得复数个单位磁力产生单元可以在上下方向上独立地移位。例如，在包括具有相同大小的磁力的永磁体的复数个单位磁力产生单元中，距离调整单元480可以使位于上附接辊410的中央部分的上侧的单位磁力产生单元432和433移位以与上附接辊410相邻，并且可以使位于上附接辊410的两侧部分的上侧的单位磁力产生单元431和434移位至与上附接辊410间隔开预定间隔的位置。由于上附接辊410的中央部分因重量而比上附接辊410的两侧部分下垂更多，因此位于中央部分的上侧的单位磁力产生单元432和433被移位以与位于两侧部分的上侧的单位磁力产生单元431和434相比与上附接辊410更相邻，从而有效地抑制上附接辊410下垂。然而，当包括在单位磁力产生单元中的永磁体的强度彼此不同时，可以根据包括在单位磁力产生单元中的永磁体的强度来调整复数个单位磁力产生单元的位置。例如，当包括在设置在上附接辊410的中央部分的上侧的单位磁力产生单元432和433中的永磁体的强度大于包括在设置在上附接辊410的两侧部分的上侧的单位磁力产生单元431和434中的永磁体的强度时，可以将设置在中央部分的上侧的单位磁力产生单元432和433与上附接辊410之间的距离调整成与设置在两侧部分的上侧的单位磁力产生单元431和434与上附接辊410之间的距离类似。

根据本发明示例性实施方案的距离调整单元480可以与检测单元460连接以被驱动。可以通过设置在附接辊的两侧部分处的检测单元460来测量由于重量引起的附接辊的下垂。检测单元460可以包括复数个传感器，并且虽然可以使用能够检测附接辊的下垂的公知传感器作为传感器，但是也可以使用由发光单元和光接收单元形成的光学传感器。

参照图5，当上附接辊410由于重量而下垂时，从发光单元入射到检测单元460的光接收单元的光被由于重量而下垂的上附接辊410阻挡，使得检测单元460可以测量上附接辊410是否下垂以及上附接辊410的下垂程度。由检测单元460测量的上附接辊410的下垂信息被发送至控制单元(未示出)。控制单元基于从检测单元460发送的上附接辊410的下垂信息和磁力产生单元430的预定磁力强度来计算磁力产生单元430需要定位的点。由控制单元计算的关于磁力产生单元430的移位点的信息被发送至距离调整单元480。如图5所示，距离调整单元480可以通过使用从控制器发送的信息将磁力产生单元430移位至使上附接辊410通过磁力产生单元430的磁力在纵向上变为水平的点。

因此，根据本发明的示例性实施方案，基于附接辊的下垂程度精确地计算磁力产生单元430需要定位的点，从而可以有效地抑制附接辊的下垂并保持附接辊在纵向方向上的水平状态。

根据本发明示例性实施方案的磁力产生单元430可以包括电磁体，其磁力通过施加电流的大小来调整。可以根据磁力产生单元430与附接辊之间的距离和附接辊410的重量或材料来调整施加到包括在磁力产生单元430中的电磁体的电流的大小。

磁力产生单元430可以设置在附接辊的纵向方向上，并且施加到包括在磁力产生单元430中的电磁体的电流的大小可以根据磁力产生单元430被设置的位置而不同。例如，施加到设置在上附接辊410的中央部分的上侧的单位磁力产生单元432和433的电磁体的电流的大小可以大于施加到设置在上附接辊410的两侧部分的上侧的单位磁力产生单元431和434的电磁体的电流的大小。

包括在磁力产生单元430中的电磁体可以与检测单元460连接以被驱动。例如，检测单元460测量上附接辊410是否下垂和上附接辊410的下垂程度，并且由检测单元460测量的上附接辊410的下垂信息被发送至控制单元(未示出)。控制单元基于从检测单元460发送的上附接辊410的下垂信息来计算需要施加到电磁体的电流的大小。由控制单元计算的信息被发送至控制磁力产生单元430的电磁体的控制装置(未示出)，并且该控制装置可以通过使用所发送的信息将可以使上附接辊410在纵向方向上变为水平的相应电流施加到电磁体。

因此，根据本发明的示例性实施方案，通过根据因重量引起的附接辊的下垂程度调整电流的大小来将电流施加到电磁体，从而容易地抑制附接辊的下垂。

此外，为了精确地使附接辊在附接辊的纵向方向上成为水平，可以通过距离调整单元480来调整磁力产生单元430与附接辊之间的距离以及对施加到磁力产生单元430的电磁体的电流的量进行调整。

图6a至图6d是示意性地示出根据本发明示例性实施方案的包括磁力产生单元和支承部的附接单元的图。

根据本发明的示例性实施方案，下垂抑制单元可以包括支承部，该支承部与附接辊的外周表面的一部分接触并支承附接辊。支承部可以形成为能够支承附接辊的辊的形式，并且复数个支承部可以设置在附接辊的外周表面上。

参照图6a，通过设置在上附接辊410的上侧的磁力产生单元430的磁力将吸引力施加到上附接辊410，使得上附接辊410可以被拉向磁力产生单元430并且被抑制由于重量而引起的下垂。此外，通过设置在下附接辊420的下侧的磁力产生单元430的磁力将排斥力被施加到下附接辊420，从而可以抑制下附接辊420的下垂。

为了抑制上附接辊410下垂并使上附接辊410在上附接辊410的纵向方向上水平，由磁力产生单元430施加到上附接辊410的吸引力的大小可以与施加到上附接辊410的重力的大小相同。然而，因设备公差、制造公差等，调整由磁力产生单元430施加到上附接辊410的吸引力的大小以与施加到上附接辊410的重力的大小完全相同可能不容易。因此，可以将施加到上附接辊410的吸引力的大小调整为略大于施加到上附接辊410的重力的大小。

然而，当施加到上附接辊410的吸引力的大小大于施加到上附接辊410的重力的大小时，上附接辊410可能基于水平线朝向磁力产生单元430弯曲。在这方面，根据本发明示例性实施方案的支承部440支承上附接辊410的上侧，从而抑制上附接辊410朝向磁力产生单元430弯曲。如图6a所示，复数个支承部440设置成与上附接辊410的上侧的外周表面的一部分接触，使得复数个支承部440可以支承上附接辊410的上侧，以防止上附接辊410因磁力产生单元430的磁力而朝向磁力产生单元430弯曲。参照图6a，为了使支承部在不受磁力产生单元影响的情况下有效地支承附接辊，支承部可以设置在单位磁力产生单元彼此间隔开的位置处。

此外，支承部440是可旋转的，使得支承部440可以在不破坏在将光学膜F附接至面板P的过程期间旋转的上附接辊410的情况下支承上附接辊410。支承部440可以随着上附接辊410的旋转而旋转，并且支承部440自身可以通过提供单独的驱动单元而独立地旋转。

参照图6b，可以通过磁力产生单元430抑制上附接辊410下垂，并且可以在下附接辊420中设置以辊的形式形成的支承部450，从而抑制下附接辊420在向下的方向下垂。复数个支承部450可以设置成与下附接辊420的下侧的外周表面接触，并且支承部450的旋转轴固定在预定位置，从而支承下附接辊420。此外，支承部450是可旋转的，使得支承部450可以在不破坏在将光学膜片材件F1附接至面板P的过程期间旋转的下附接辊420的情况下支承下附接辊420。支承部450可以随着下附接辊420的旋转而旋转，并且支承部450自身可以通过提供单独的驱动单元而独立地旋转。

图6c是示意地示出将光学膜附接在面板的上表面上的附接单元的下垂抑制单元的图，并且图6d是示意性地示出将光学膜附接在面板的下表面上的附接单元的下垂抑制单元的图。

作为将光学膜F附接到面板P的一个表面上的方法，可以将光学膜F附接在面板P的上表面上，并且可以将光学膜F附接在面板P的下表面上。参照图6c，当将光学膜F附接在面板P的上表面上时，不容易将支承部440设置成与上附接辊410的下侧的外周表面接触用于抑制上附接辊410下垂。如图6c所示，由于上附接辊410将转印到面板P的上表面的光学膜片材件F1向面板P的上表面压制并且将光学膜片材件F1附接至面板P，因此在支承部440设置在上附接辊410的下侧处的情况下，将光学膜片材件F1附接到面板P的一个表面上的过程可能被破坏。因此，当将光学膜F附接在面板P的上表面上时，磁力产生单元430可以设置在上附接辊410的上侧，以抑制上附接辊410下垂。

参照图6d，当光学膜F附接在面板P的下表面上时，支承部440和450设置在上附接辊410的下侧和下附接辊420的下侧，从而抑制上附接辊410和下附接辊420下垂。如图6d所示，在转印到面板P的下表面的光学膜片材件F1被附接到面板P的下表面的情况下，即使支承部440和450设置在上附接辊410的下侧和下附接辊420的下侧，将光学膜片材件F1附接到面板P的一个表面上的过程亦可以不受干扰。然而，抑制上附接辊410下垂的支承部440可以设置为与上附接辊410的下侧的外周表面在以下位置处接触：在该位置处，在将光学膜F附接到面板P的一个表面上的过程期间面板P的供应不被破坏。此外，即使当光学膜F被附接在面板P的下表面上时，磁力产生单元430亦设置在上附接辊410的上侧，从而抑制上附接辊410下垂。

因此，根据本发明的示例性实施方案，抑制具有预定长度或更大长度的上附接辊410和下附接辊420由于重量而下垂，从而可以提高将光学膜F附接至面板P的精度，并且可以有效地抑制附接缺陷，例如在附接至面板P的光学膜F中产生褶皱或者在面板P与光学膜F之间产生气泡。

图7是示出根据本发明示例性实施方案的以辊的形式形成的磁力产生单元的图。

根据本发明示例性实施方案的磁力产生单元430可以与附接辊的外周表面的一部分接触，并且可以形成为能够支承附接辊的辊的形式。参照图7，辊的形式的磁力产生单元430可以包括永磁体或电磁体，使得磁力产生单元430可以将上附接辊410向上侧拉以抑制上附接辊410下垂，或沿向上方向推动下附接辊420以抑制下附接辊420下垂。

复数个辊的形式的磁力产生单元430可以被设置为与上附接辊410的上侧的外周表面接触，并且复数个辊的形式的磁力产生单元430可以被设置为与下附接辊420的下侧的外周表面接触。在辊的形式的磁力产生单元430中，例如，辊的旋转轴被固定在预定位置，从而支承附接辊。因此，可以通过辊的形式的磁力产生单元430的磁力抑制附接辊下垂，并且辊的形式的磁力产生单元430支承附接辊，使得附接辊可以在附接辊的纵向方向上精确地变为水平。

根据本发明示例性实施方案的附接辊的直径可以是20mm至80mm。在相关技术中，为了抑制具有预定长度或更大长度的附接辊由于重量而下垂，将附接辊制造成具有大直径。然而，当附接辊的直径增加时，附接辊的重量随着附接辊的直径的增加而增加，从而再次发生下垂现象，并且将光学膜F附接至面板P的精度降低，从而产生附接缺陷。

然而，根据本发明的示例性实施方案，可以通过磁力产生单元430抑制附接辊下垂，使得可以通过使用直径为20mm至80mm的附接辊将光学膜F附接到面板P的一个表面上。因此，通过有效地抑制附接缺陷例如在附接至面板P的光学膜F中产生褶皱或者在面板P与光学膜之间产生气泡，可以显著地减少所制造的显示单元的缺陷。为了提高将光学膜F附接至面板P的精度和品质，优选地，附接辊的直径可以是35mm至60mm，更优选地，附接辊的直径可以是20mm至35mm。

此外，上附接辊410和下附接辊420的直径可以彼此相同或不同。然而，为了提高将光学膜F附接至面板P的精度和品质，位于面板P的其上附接有光学膜F的一个表面的一侧的附接辊的直径可以小于位于面板P的另一表面的一侧的附接辊的直径。例如，当将光学膜F附接在面板P的上表面上时，位于面板P的上表面一侧的上附接辊410的直径可以小于位于面板P的下表面一侧的下附接辊420的直径。此外，当将光学膜F附接在面板P的下表面上时，位于面板P的下表面一侧的下附接辊420的直径可以小于位于面板P的上表面一侧的上附接辊410的直径。参照图6d，当将光学膜F附接在面板P的下表面上时，位于面板P的下表面一侧的下附接辊420的直径可以是25mm至50mm，并且位于面板P的上表面一侧的上附接辊410的直径可以是50mm至80mm。

附接辊的长度可以是1800mm至3700mm。根据本发明示例性实施方案的用于制造显示单元的系统1000包括第一附接单元和第二附接单元，第一附接单元将具有与面板P的长边对应的宽度的光学膜F附接到面板P的一个表面上，并且第二附接单元将具有与面板P的短边对应的宽度的光学膜F附接到面板P的另一表面上。例如，为了制造其长边长度为1800mm或更大的超大尺寸显示单元，第一附接单元使用长度为1800mm至3700mm的一对附接辊，以将具有与面板P的长边对应的宽度的光学膜F附接到与显示单元的尺寸对应的大面积面板P的一个表面上。

通过根据本发明示例性实施方案的磁力产生单元430以及支承辊440和450，可以在长度为1800mm至3700mm的这对附接辊不下垂的情况下将光学膜F附接在大面积面板P的一个表面上来制造超大尺寸显示单元。然而，可以根据大面积面板P的长边的长度来增加这对附接辊的长度。

附接辊可以在面向磁力产生单元430的位置处包括铁磁性物质。金属材料的附接辊可以通过磁力产生单元430的磁力被拉向磁力产生单元430，但是由非磁性物质形成的附接辊具有的问题在于，无法抑制附接辊朝向磁力产生单元430下垂。因此，通过将由铁磁性物质形成的构件插入到附接辊的内侧，可以抑制由非磁性物质形成的附接辊下垂。例如，可以通过磁力产生单元430的磁力向上拉动或推动铁磁性物质套管，并通过将由铁、钴、镍或其合金形成的铁磁性物质套管插入由碳、陶瓷和碳纳米管形成的附接辊的内侧来抑制附接辊下垂。

铁磁性物质构件可以在面向磁力产生单元430的位置处形成在附接辊的内侧或外侧。如图4所示，复数个单位磁力产生单元可以设置在附接辊的纵向方向上。复数个铁磁性物质构件在面向复数个单位磁力产生单元的位置处形成在附接辊的内侧或外侧，从而有效地抑制附接辊下垂。由诸如铬、铂、锰和铝的顺磁性物质形成的构件形成在附接辊的内侧或外侧，从而抑制附接辊下垂。

此外，通过将由非磁性物质形成的单位附接辊和以辊的形式形成的单位铁磁性物质连接来制造附接辊，从而抑制附接辊下垂。例如，复数个单位附接辊和单位铁磁性物质被连接，并且单位铁磁性物质被组装成在面向单位磁力产生单元的位置处可拆卸，从而有效地抑制由非磁性物质形成的附接辊下垂。

因此，根据本发明的示例性实施方案，通过使用具有硬度和相对较低重量的非磁性材料制造附接辊，可以抑制附接辊由于重量而下垂，并且通过在由非磁性物质形成的附接辊中形成铁磁性物质构件，可以有效地抑制附接辊下垂。

图8是示意性地示出根据本发明的另一示例性实施方案的包括抽吸部的附接单元的图。

根据本发明的另一示例性实施方案，下垂抑制单元可以包括抽吸部470，该抽吸部470抽吸附接辊并抑制附接辊下垂。

根据本发明的另一示例性实施方案，通过抽吸附接辊来抑制附接辊由于重量而下垂，从而提高将光学膜F附接至面板P的精度和品质。此外，在抽吸附接辊并抑制附接辊下垂的过程期间，附接辊周围的异物、灰尘等被抽吸和去除，从而提高所制造的显示单元的品质。

抽吸部470可以设置在上附接辊410的上侧并且抽吸上附接辊410以抑制上附接辊410下垂。此外，抽吸部470可以设置在下附接辊420的上部的两侧，并且抽吸下附接辊420以抑制下附接辊420下垂。

然而，为了防止通过使用上附接辊410和下附接辊420破坏将光学膜F附接到至面板P的一个表面上的过程，抽吸部470可以设置在上附接辊410的上侧，并且可以在下附接辊420中设置支承部450，从而抑制上附接辊410和下附接辊420下垂。

抽吸部470可以包括调整抽吸压力的压力调整装置(未示出)，并且复数个抽吸部470可以设置在上附接辊410的上侧。复数个抽吸部470可以在上附接辊410的纵向方向上设置在上附接辊410的上侧，并且用于上附接辊410的抽吸部470的抽吸压力的大小可以根据设置位置而不同。由于重量，上附接辊410的中央部分比上附接辊410的两侧部分下垂得更多，因此与设置在上附接辊410的两侧部分的上侧的抽吸部470相比，设置在上附接辊410的中央部分的上侧的抽吸部470可以以更大的抽吸压力来抽吸和上推上附接辊410。

包括在抽吸部470中的压力调整装置可以与检测单元460连接并被驱动。检测单元460测量上附接辊410是否下垂和下垂程度，并且由检测单元460测量的上附接辊410的下垂信息被发送至控制单元(未示出)。控制单元基于从检测单元460发送的上附接辊410的下垂信息来计算抽吸部470的抽吸压力的大小。由控制单元计算出的抽吸压力的信息被发送至抽吸部470的压力调整装置，并且通过使用所接收的信息，压力调整装置可以驱动抽吸部470，使得上附接辊410在纵向方向上变为水平。

下垂抑制单元可以包括调整抽吸部470与上附接辊410之间的距离的距离调整单元480。通过距离调整单元480调整抽吸部470的抽吸压力的大小并且还调整抽吸部470与上附接辊410之间的距离，从而允许上附接辊410在上附接辊410的纵向方向上精确地水平。

根据本发明另一示例性实施方案的下垂抑制单元可以包括与附接辊的外周表面的一部分接触并支承附接辊的支承部。

抽吸部470可以被驱动，使得由抽吸部470施加到上附接辊410的抽吸压力的大小与施加到上附接辊410的重力的大小相同。然而，由于设备公差、制造公差等，将由抽吸部470施加到上附接辊410的抽吸压力的大小调整为与施加到上附接辊410的重力的大小完全相同可能不容易。因此，可以将施加到上附接辊410的抽吸压力的大小调整为略大于施加到上附接辊410的重力的大小。

然而，当施加到上附接辊410的抽吸压力的大小大于施加到上附接辊410的重力的大小时，虽然上附接辊410可以基于水平线朝向抽吸部470弯曲，但是以辊的形式形成的支承部440与上附接辊410的外周表面的一部分接触并支承上附接辊410的上侧，从而抑制上附接辊410向抽吸部470弯曲。此外，支承部440是可旋转的，使得支承部440可以在不破坏在将光学膜F附接至面板P的过程中旋转的上附接辊410的情况下支承上附接辊410。支承部440可以随着上附接辊410的旋转而旋转，并且支承部440自身可以通过提供单独的驱动装置来独立地旋转。

此外，支承部450支承下附接辊420的下侧，从而防止下附接辊420下垂。

根据本发明的另一示例性实施方案，可以通过抽吸部470以及支承部440和450抑制附接辊下垂，从而可以通过使用直径为20mm至80mm的附接辊将光学膜F附接到面板P的一个表面上。因此，通过提高将光学膜F附接至面板P的精度，可以有效地抑制所制造的显示单元的缺陷。

通过根据本发明另一示例性实施方案的抽吸部470以及支承部440和450，可以在长度为1800mm至3700mm的一对附接辊不下垂的情况下通过将光学膜片材件F1附接到大面积面板P的一个表面上来制造超大尺寸显示单元。

本发明的描述是用于说明的，并且可以理解，本领域技术人员可以在不改变本发明的技术精神或本质特征的情况下容易地将本发明修改为其他特定形式。因此，应该理解，上述实施方案在任何意义上都是说明性的，而不是限制性的。例如，可以分布和执行以单数形式描述的每个组成要素，并且类似地，以分布形式描述的组成要素可以以组合形式执行。

本发明的范围由上面要描述的权利要求而不是详细描述来表示，并且应该解释为权利要求的含义和范围以及源自其等同方案的所有变化或修改的形式都属于本发明的范围。

Claims (11)

1.一种用于制造显示单元的系统，其将光学膜附接至面板，所述系统包括：

运送单元，其运送包括偏振膜的光学膜；

切割单元，其切割所述光学膜以使所述光学膜具有与所述面板的尺寸对应的尺寸；以及

附接单元，其将所述光学膜附接至所述面板，

其中所述附接单元包括：

附接辊，其将所述光学膜压制并附接到所述面板的一个表面上；以及

下垂抑制单元，其抑制所述附接辊下垂。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述下垂抑制单元包括磁力产生单元，所述磁力产生单元通过使用磁力来抑制所述附接辊下垂。

3.根据权利要求2所述的系统，其中所述磁力产生单元包括强度为20MGOe至50MGOe的永磁体。

4.根据权利要求2所述的系统，其中所述磁力产生单元包括其磁力通过施加电流的大小来调整的电磁体。

5.根据权利要求2所述的系统，其中所述磁力产生单元包括沿所述附接辊的纵向方向彼此间隔开设置的复数个单位磁力产生单元。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述下垂抑制单元包括支承部，所述支承部与所述附接辊的外周表面的一部分接触并支承所述附接辊。

7.根据权利要求2所述的系统，其中所述下垂抑制单元包括距离调整单元，所述距离调整单元调整所述磁力产生单元与所述附接辊之间的距离。

8.根据权利要求1所述的系统，其中所述附接辊的直径为20mm至80mm。

9.根据权利要求1所述的系统，其中所述附接辊的长度为1800mm至3700mm。

10.根据权利要求2所述的系统，其中所述磁力产生单元与所述附接辊的外周表面的一部分接触，并且形成为能够支承所述附接辊的辊的形式。

11.根据权利要求2所述的系统，其中所述附接辊在面向所述磁力产生单元的位置处包括铁磁性物质。