TWI652173B - 製造顯示單元的系統 - Google Patents

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TWI652173B
TWI652173B TW106123743A TW106123743A TWI652173B TW I652173 B TWI652173 B TW I652173B TW 106123743 A TW106123743 A TW 106123743A TW 106123743 A TW106123743 A TW 106123743A TW I652173 B TWI652173 B TW I652173B
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崔恒碩
張應鎭
李石宰
朴慶爀
鄭奉洙
柳在漢
南弼洙
李範碩
林裕鎭
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Abstract

提供一種製造顯示單元的系統，所述系統包括：載送單 元，載送光學膜，所述光學膜包括偏光膜及所述偏光膜接合至的釋放膜，所述偏光膜包括黏合層，所述釋放膜藉由所述黏合層剝除；切割單元，將光學膜切割預定深度，其中不切割釋放膜，且在所述光學膜上形成偏光膜片材件；剝除單元，將偏光膜片材件自釋放膜剝除；以及貼合單元，將自釋放膜剝除的偏光膜片材件貼合至面板，其中所述貼合單元包括：一對貼合輥，將所述偏光膜片材件按壓並貼合至所述面板的一個表面上；以及磁力產生單元，利用磁力抑制所述一對貼合輥之間位於上側的上部貼合輥下垂。

Description

製造顯示單元的系統 [相關申請案的交叉參考]
本申請案主張於2016年8月25日在韓國智慧財產局提出申請的韓國專利申請案第10-2016-0108476號的優先權及權利，所述韓國專利申請案的全部內容併入本案供參考。
本發明是有關於一種製造顯示單元的系統，且更具體而言是有關於一種提高將光學膜貼合至面板的精確度以有效地抑制所製造顯示單元的缺陷的製造顯示單元的系統。
包括液晶顯示器(liquid crystal display，LCD)、有機發光二極體(organic light emitting diode，OLED)、電漿顯示面板(plasma display panel，PDP)及電泳顯示器(electrophoretic display，EPD)的顯示單元是藉由若干個製程來製造。具體而言，製造製程包括將光學膜貼合至面板的製程。所述光學膜貼合至面板的一個表面與另一表面，且當貼合至所述面板的一個表面的所述光學膜中所包括的偏光膜的吸收軸(absorption axis)垂直於貼合至所述面板的另一表面的所述光學膜中所包括的偏光膜的吸收 軸時，所述面板正常運作。因此，需要一種在一個製程中將光學膜貼合至面板的兩個表面以使吸收軸相互垂直的製造顯示單元的系統。
在一個製程中將光學膜貼合至面板的兩個表面的製造顯示單元的系統可如以下所述般運作。
向製造顯示單元的系統供應包括偏光膜的光學膜。當供應輥(supply roll)供應具有與面板的短側對應的寬度的光學膜時，所供應光學膜被載送至貼合位置，在所述貼合位置處所述光學膜藉由載送單元而貼合至所述面板的一個表面。可在將光學膜載送至貼合位置之前將所述光學膜切割成具有與面板的大小對應的大小。藉由包括貼合輥(attachment roll)的貼合單元將經切割的光學膜貼合至面板的一個表面上。接著，藉由供應輥來供應具有與面板的長側對應的寬度的光學膜，且藉由與如上所述的方法相同的方法將光學膜貼合至面板的另一表面。
然而，將光學膜貼合至面板的兩個表面上的製造顯示單元的系統具有以下問題。
圖1是說明其中具有預定長度或長度大於所述預定長度的貼合輥在預定時間之後在向下方向上下垂的情況的圖。
當用於製造超大型顯示單元的面板的大小增大時(例如，當螢幕的大小為98吋(在下文中，稱作大面積面板(large-area panel))時)，用於將具有與大面積面板的長側對應的寬度的光學膜貼合至所述大面積面板的一個表面上的貼合輥的長度增大。如 圖1中所示，根據貼合輥的長度的增大，貼合輥會在向下方向上下垂。因此，當光學膜貼合至大面積面板時，在光學膜與大面積面板的貼合表面之間會產生缺陷因數(defect factor)，由此使顯示單元的品質劣化。
為解決所述問題，提出如下一種製程：將具有與大面積面板的長側對應的寬度的光學膜切割成具有與大面積面板的大小一致的片材形式的紙片；連接所述多個經切割的光學膜的短側；將光學膜纏繞成輥型；以及將光學膜供應至所述製造顯示單元的系統。然而，需要單獨的裝備來執行對光學膜進行重新連接及纏繞的製程，且製造顯示單元的產率劣化。
因此，需要一種抑制其中貼合輥因重量而下垂的現象以提高將光學膜貼合至面板的精確度的技術。
本發明已作出努力以提供一種製造顯示單元的系統，所述系統抑制貼合輥因重量而下垂，由此提高將光學膜貼合至面板的品質及顯示單元的產率。
本發明的示例性實施例提供一種製造顯示單元的系統，所述系統用於將光學膜貼合至面板，所述系統包括：載送單元，載送包括偏光膜的所述光學膜；切割單元，將所述光學膜切割成具有與所述面板的大小對應的大小；以及貼合單元，將所述光學膜貼合至所述面板，其中所述貼合單元包括：貼合輥，將所述光學膜按壓並貼合至所述面板的一個表面上；以及下垂抑制單元， 抑制所述貼合輥下垂。
所述下垂抑制單元可包括磁力產生單元，所述磁力產生單元利用磁力來抑制所述貼合輥下垂。
所述磁力產生單元可包括強度為20MGOe(百萬高斯-奧斯特，megagauss-oersted)至50MGOe的永久磁鐵。
所述磁力產生單元可包括電磁鐵，所述電磁鐵的磁力是藉由所施加電流的大小來調節。
所述磁力產生單元可包括多個單位磁力產生單元，所述多個單位磁力產生單元在所述貼合輥的縱向方向上相互間隔地設置。
所述下垂抑制單元可包括支撐部件，所述支撐部件接觸所述貼合輥的外周邊表面的一部份且支撐所述貼合輥。
所述下垂抑制單元可包括距離調節單元，所述距離調節單元調節所述磁力產生單元與所述貼合輥之間的距離。
所述貼合輥的直徑可為20毫米至80毫米。
所述貼合輥的長度可為1,800毫米至3,700毫米。
所述磁力產生單元可接觸所述貼合輥的外周邊表面的一部份且可被形成為能夠支撐所述貼合輥的輥形狀。
所述貼合輥可在面對所述磁力產生單元的位置處包含鐵磁性物質。
根據本發明的所述示例性實施例，所述下垂抑制單元抑制所述貼合輥因重量而下垂，由此提高將光學膜F貼合至面板P 的精確度及品質且有效地抑制所製造顯示單元的缺陷。
根據本發明的另一示例性實施例，藉由抽吸貼合輥來抑制所述貼合輥因重量而下垂，由此提高將光學膜貼合至面板的精確度及品質。此外，在抽吸光學膜及抑制貼合輥下垂的製程期間抽吸及移除所述貼合輥周圍的異物、灰塵等，由此提高所製造顯示單元的品質。
100‧‧‧載送單元
200‧‧‧切割單元
300‧‧‧剝除單元
400‧‧‧貼合單元
410‧‧‧上部貼合輥
420‧‧‧下部貼合輥
430‧‧‧磁力產生單元
431、432、433、434、435、436、437、438‧‧‧單位磁力產生單元
440、450‧‧‧支撐部件
460‧‧‧偵測單元
470‧‧‧抽吸部件
480‧‧‧距離調節單元
500‧‧‧纏繞單元
1000‧‧‧系統
F‧‧‧光學膜
F1‧‧‧光學膜片材件
F2‧‧‧釋放膜
P‧‧‧面板
圖1是說明其中具有預定長度或長度大於所述預定長度的貼合輥在預定時間之後在向下方向上下垂的情況的圖。
圖2是示意性地說明根據本發明示例性實施例的將光學膜貼合至面板的一個表面上的製造顯示單元的系統的實例的圖。
圖3是示意性地說明根據本發明示例性實施例的包括磁力產生單元的貼合單元的圖。
圖4是示意性地說明根據本發明示例性實施例的包括所述多個單位磁力產生單元的貼合單元的圖。
圖5是說明根據本發明示例性實施例的藉由距離調節單元對磁力產生單元與貼合輥之間的距離進行的調節的圖。
圖6a、圖6b、圖6c及圖6d是示意性地說明根據本發明示例性實施例的包括磁力產生單元及支撐部件的貼合單元的圖。
圖7是說明根據本發明示例性實施例的被形成為輥形狀的磁力產生單元的圖。
圖8是示意性地說明根據本發明另一示例性實施例的包括抽吸部件(suction part)的貼合單元的圖。
在下文中，將參照附圖來詳細闡述本發明的示例性實施例，以使熟習此項技術者可輕易地實施本發明。然而，本發明可被實作成各種不同形式，且不限於本文所述示例性實施例。將在圖式中省略與說明無關的部件以清楚地闡述本發明，且將在說明書通篇中以相似的參考編號來表示相似的元件。
將簡要闡述本說明書中所使用的用語，且將詳細闡述本發明。
作為在本發明中所使用的用語，當前廣泛使用的一般用語是在慮及在本發明中的功能的同時來選擇，但所述用語可根據熟習此項技術者的意圖或者先例、新技術的出現等來改變。此外，在特定情形中，存在由申請者隨機選擇的用語，且在此種情形中，將在本發明的對應說明中詳細闡述所述用語的含義。因此，本發明中所使用的用語應基於所述用語的含義及本發明通篇的內容來定義，而非基於所述用語的簡單名稱來定義。
在通篇說明書中，除非明確相反地闡述，否則應理解詞語「包括(comprise)」及例如「包括(comprises或comprising)」等變型應被理解為暗示包括所陳述元件但不排除任意其他元件。
在下文中，將參照附圖來詳細闡述本發明。
根據本發明的示例性實施例，提供製造顯示單元的系統 1000，系統1000用於將光學膜F貼合至面板P，系統1000包括：載送單元100，載送包括偏光膜的光學膜F；切割單元200，將光學膜F切割成具有與面板P的大小對應的大小；以及貼合單元400，將光學膜F貼合至面板P，且貼合單元400包括貼合輥，所述貼合輥將光學膜F按壓並貼合至面板P的一個表面上；以及下垂抑制單元，抑制貼合輥下垂。
根據本發明的示例性實施例，下垂抑制單元抑制貼合輥因重量而下垂，由此提高將光學膜F貼合至面板P的精確度及品質且有效地抑制所製造顯示單元的缺陷。
當製造顯示單元時，可藉由各種方法來將光學膜貼合至面板上。
可使用光學膜來製造顯示單元，所述光學膜包括偏光膜及所述偏光膜所接合至的釋放膜，所述偏光膜包括黏合層，所述釋放膜欲藉由所述黏合層來剝除。可如下所述執行將光學膜貼合至面板的製程。舉例而言，可藉由以下方式來製造顯示單元：藉由以不切割釋放膜的預定深度切割(所謂的半切割(half-cutting))包括與黏合層一起形成的偏光膜的光學膜而在所述光學膜上形成光學膜片材件(optical film sheet piece)；自釋放膜剝除光學膜片材件；以及藉由所剝除光學膜片材件的黏合層而將所述光學膜片材件貼合至面板。此外，可藉由以下方式來製造顯示單元：藉由將整個光學膜切割(所謂的半切割)成具有與面板的大小對應的大小來形成呈片材形狀的光學膜片材件；自光學膜片材件剝除釋 放膜；以及將所剝除光學膜片材件貼合至面板。此外，可藉由以下方式來製造顯示單元：自光學膜剝除釋放膜；藉由黏合層將光學膜貼合至面板上；以及接著將貼合至面板上的光學膜切割成具有與面板的大小對應的大小。
可使用包括黏合層及偏光膜但不包括釋放膜的光學膜來製造顯示單元。舉例而言，可藉由以下方式來製造顯示單元：將黏合劑或紫外可固化黏合劑(ultraviolet curable adhesive)塗覆至光學膜的一個表面上；藉由黏合劑將光學膜貼合至面板上；以及將貼合至面板上的光學膜切割成具有與面板的大小對應的大小。此外，可藉由以下方式來製造顯示單元：藉由將光學膜切割成具有與面板的大小對應的大小來形成片材件；將黏合劑塗覆至片材件的一個表面上；以及藉由黏合劑將光學膜貼合至面板上。
根據本發明的示例性實施例，可藉由如上所述的各種方式來製造顯示單元，且當顯示單元是藉由前述方法等來製造時，可有效地抑制將光學膜貼合至面板上的貼合輥因重量而下垂。
此外，在下文中，為方便說明，將主要詳細闡述藉由將光學膜片材件貼合至面板上來製造顯示單元的系統，所述光學膜片材件是藉由半切割包括與黏合層一起形成的偏光膜的光學膜來形成。
圖2是示意性地說明根據本發明示例性實施例的將光學膜貼合至面板的一個表面上的製造顯示單元的系統的實例的圖。
根據本發明示例性實施例的製造顯示單元的系統1000可 使用包括黏合層、偏光膜及釋放膜F2的光學膜F。光學膜F可包括偏光膜，且除所述偏光膜以外，亦可更包括例如相差膜(phase difference film)、視角補償膜(viewing angle compensation film)及亮度提高膜(brightness improving film)等具有光學特性的膜。亦即，可使用其中將具有光學特性的膜貼合至偏光膜的一個表面或兩個表面上的光學膜F。
偏光膜可包括厚度為例如5微米(μm)至80微米的偏光片(polarizer)及貼合至所述偏光片的一個表面或兩個表面上且厚度為約1微米至500微米的偏光片保護膜(polarizer protecting film)。可使用適宜的透明膜作為可貼合至偏光片的一個表面或兩個表面上的偏光片保護膜。作為偏光片保護膜，可使用具有極佳的透明性(transparency)、機械強度(mechanical strength)、熱穩定性(thermal stability)、防潮性質(moisture barrier property)及等向性(isotropy)的熱塑性樹脂(thermoplastic resin)。作為熱塑性樹脂，可使用例如纖維素樹脂(cellulose resin)如三乙醯纖維素(triacetyl cellulose)、聚酯樹脂(polyester resin)、聚醚碸樹脂(polyether sulfone resin)、聚碸樹脂(polysulfone resin)、聚碳酸酯樹脂(polycarbonate resin)、聚醯胺樹脂(polyamide resin)、聚醯亞胺樹脂(polyimide resin)、聚烯烴樹脂(polyolefin resin)、甲基丙烯酸樹脂(metacrylate resin)、環狀聚烯烴樹脂(cyclic polyolefin resin)(降冰片烯系樹脂(norbornene-based resin))、聚芳酯樹脂(polyarylate resin)、聚苯乙烯樹脂(polystyrene resin)、 聚乙烯醇樹脂(polyvinyl alcohol resin)及其混合物等。此外，偏光片保護膜中可包括一或多種黏合劑。作為所述黏合劑，可使用例如紫外線吸收劑(ultraviolet ray absorber)、抗氧化劑(oxidation inhibitor)、塑化劑(plasticizer)、釋放劑(releasing agent)、抗著色劑(coloring inhibitor)、阻燃劑(flame retardant)、電氣化抑制劑(electrification suppressant)、色素(pigment)及著色劑(coloring agent)。
光學膜F可包括表面保護膜，且所述表面保護膜可用於達成在所述光學膜的分佈製程、將所述光學膜貼合至面板的製程等中抑制所述光學膜的表面被污染或損壞的目的。表面保護膜可藉由黏合劑而接合至光學膜，且可接合至所述光學膜以使得自所述光學膜輕易地剝除所述表面保護膜。此外，作為表面保護膜，可使用例如聚乙烯膜(polyethylene film)、聚丙烯膜(polypropylene film)及聚對苯二甲酸乙二脂膜(polyethylene terephthalate film)，但表面保護膜的材料並不限於前述實例。
黏合層形成於光學膜的一個表面上以將光學膜F貼合至面板P的一個表面。黏合層可由例如丙烯酸系黏合劑(acryl-based adhesive)、矽系黏合劑(silicon-based adhesive)或胺基甲酸酯系黏合劑(urethane-based adhesive)形成，且厚度可為10微米至50微米。此外，黏合層貼合有釋放膜F2，釋放膜F2在將光學膜F貼合至面板上之前轉移光學膜F的製程中抑制所述黏合層被異物污染，且保護所述黏合層。作為釋放膜F2，可使用例如以下材料： 聚烯烴系膜，例如聚乙烯(polyethylene)、聚丙烯(polypropylene)、聚-1-丁烯(poly-1-butene)、聚-4-甲基-1-戊烯(poly-4-methyl-1-pentene)、乙烯-丙烯共聚物(ethylene-propylene copolymer)、乙烯-1-丁烯共聚物(ethylene-1-butene copolymer)、乙烯-醋酸乙烯酯共聚物(ethylene-vinyl acetate copolymer)、乙烯-丙烯酸乙酯共聚物(ethylene-ethyl acrylate copolymer)、及乙烯-乙烯醇共聚物(ethylene-vinyl alcohol copolymer)；聚酯系膜，例如聚對苯二甲酸乙二脂(polyethylene terephthalate)、聚萘二甲酸乙二脂(polyethylene naphthalate)及聚對苯二甲酸丁二脂(polybutylene terephthalate)；或者聚醯胺系膜，例如聚丙烯酸酯(polyacrylate)、聚苯乙烯(polystyrene)、耐綸6(nylon 6)、部分芳基化聚醯胺(partial aromatic polyamide)。
在根據本發明示例性實施例的製造顯示單元的系統1000中使用的光學膜F可具有於面板P的長側或短側對應的寬度。舉例而言，可藉由以下方式來製造顯示單元：將光學膜片材件F1接合至面板P的一個表面，光學膜片材件F1是藉由將具有與面板P的長側對應的寬度的輥型光學膜F切割成具有預定長度的片材件來形成；以及將光學膜片材件F1接合至面板P的另一表面，光學膜片材件F1是藉由將具有與面板P的短側對應的寬度的輥型光學膜F切割成具有預定長度的片材件來形成。
具體而言，可在面板P的下側將具有與面板P的長側對應的寬度的光學膜片材件F1貼合至面板P的一個表面上，可將面 板P倒轉，且接著可在面板P的下側將具有與面板P的短側對應的寬度的光學膜片材件F1貼合至面板P的另一表面上。此外，可在面板P的上側將具有與面板P的長側對應的寬度的光學膜片材件F1貼合至面板P的一個表面上，且可在不倒轉面板P的條件下在面板P的下側將具有與面板P的短側對應的寬度的光學膜片材件F1貼合至面板P的另一表面上。此外，可在面板P的下側將具有與面板P的長側對應的寬度的光學膜片材件F1貼合至面板P的一個表面上，且可在不倒轉面板P的條件下在面板P的上側將具有與面板P的短側對應的寬度的光學膜片材件F1貼合至面板P的另一表面上。
根據本發明示例性實施例的載送單元100將光學膜F載送至本發明的製造顯示單元的系統的下游側，光學膜F包括包含黏合層的偏光膜及接合至所述黏合層以被剝除的釋放膜F2。舉例而言，載送單元100可載送貼合至面板P的一個表面上且具有與面板P的長側的長度對應的寬度的光學膜F，或者載送貼合至面板P的另一表面上且具有與面板P的短側的長度對應的寬度的光學膜F。
載送單元100可包括能夠載送光學膜F的各種傳遞工具。舉例而言，載送單元100可使用傳送帶或輥來載送光學膜F。
根據本發明示例性實施例的製造顯示單元的系統1000可包括切割單元200，切割單元200以預定間隔來切割(所謂的半切割)偏光膜及黏合層而不切割光學膜F上的釋放膜F2，並形成光 學膜片材件F1。切割單元200可將光學膜F半切割成具有與面板P的大小對應的大小且依序地在光學膜F上形成光學膜片材件F1。舉例而言，切割單元200可藉由以與面板P的短側的長度對應的間隔切割光學膜F來依序地在貼合至面板P的一個表面上且具有與面板P的長側的長度對應的寬度的光學膜F上形成光學膜片材件F1，並且切割單元200可藉由以與面板P的長側的長度對應的間隔切割光學膜F來依序地在貼合至面板P的另一表面上且具有與面板P的短側的長度對應的寬度的光學膜F上形成光學膜片材件F1。
切割單元200可包括能夠切割光學膜F的各種切割工具。舉例而言，可使用雷射裝置及切割器來作為切割單元200。
所載送的光學膜F可在被切割單元200切割之前經歷檢查製程(examination process)。在所述檢查製程中，可使用光源向光學膜F發射光，可對所發射的光中自光學膜F發射的透射光(transmissive light)或反射光(reflective light)的影像進行拍照，且可處理所述影像以檢查光學膜F上的瑕疵。舉例而言，可使用藉由利用二值化處理(binarization processing)進行的明暗判斷(light and shade determination)來偵測瑕疵的方法作為所述影像處理方法。光學膜F的切割位置可使用藉由檢查製程而計算出的瑕疵的位置資訊來確定。
使用在檢查製程中所計算出的光學膜F的瑕疵的位置資訊使得切割單元200可半切割光學膜F而使貼合至面板P的光學 膜片材件F1中不包含所述瑕疵。不將包含瑕疵的光學膜貼合至面板P且排除所述光學膜使得可提高顯示單元的良率(yield)。
剝除單元300將由載送單元100所載送的光學膜F中的釋放膜F2朝內側向後折疊且自釋放膜F2剝除光學膜片材件F1及黏合層。舉例而言，可在剝除單元300的前端處形成刀邊緣部分(knife edge portion)，且所述刀邊緣部分的曲率半徑(curvature radius)可為0.3毫米(mm)至5.0毫米。所載送光學膜F中的釋放膜F2的載送方向在剝除單元300的前端處改變，使得可自光學膜片材件F1剝除釋放膜F2。所剝除的釋放膜F2是藉由纏繞單元500來纏繞。
根據本發明的示例性實施例，貼合單元400包括貼合輥，所述貼合輥將光學膜F按壓並貼合至面板P的一個表面上，且所述貼合輥可由上部貼合輥410及下部貼合輥420形成。在其中面板P及光學膜F經過所述一對貼合輥(上部貼合輥410與下部貼合輥420)之間的製程中光學膜F被按壓至面板P的一個表面，使得光學膜F可貼合至面板P的一個表面上。
製造顯示單元的系統1000可包括第一貼合單元及第二貼合單元，所述第一貼合單元將具有與面板P的長側對應的寬度的光學膜F貼合至面板P的一個表面上，所述第二貼合單元將具有與面板P的短側對應的寬度的光學膜F貼合至面板P的另一表面上。第一貼合單元的所述一對貼合輥可具有與面板P的長側的長度對應的長度，且第二貼合單元的所述一對貼合輥可具有與面板P 的短側的長度對應的長度。舉例而言，為製造長側的長度為1,800毫米或大於1,800毫米的超大型顯示單元，將使用具有與所述顯示單元的大小對應的大小的面板(在下文中稱作大面積面板)。為將光學膜F貼合至長側的長度為1,800毫米或大於1,800毫米的大面積面板P的一個表面上，第一貼合單元的所述一對貼合輥的長度為1,800毫米或大於1,800毫米以對應於大面積面板P的長側。然而，參照圖1，具有預定長度或長度大於預定長度的貼合輥可因重量而在向下方向上下垂。如圖1中所示，當在其中貼合輥在向下方向上下垂且彎曲的狀態中將光學膜F貼合至面板P的一個表面上時，所述貼合輥無法均勻地按壓光學膜F且在所述貼合輥的旋轉期間將產生振動，使得貼合光學膜F的精確度大幅降低且因此產生貼合缺陷。
為解決所述問題，藉由增大貼合輥的直徑或在所述貼合輥的內側中插入填充材料來增強貼合輥的強度以抑制所述貼合輥因重量而下垂。然而，以上所述的增大貼合輥的直徑或在所述貼合輥的內側中插入填充材料的方法將增大所述貼合輥的製造成本，因而所述方法是不高效的。此外，當貼合輥的直徑增大時，貼合光學膜F的精確度將劣化，且在貼合至面板P上的光學膜F中將產生褶皺或者在面板P與光學膜F之間將產生氣泡，使得在所製造顯示單元中產生缺陷。
圖3是示意性地說明根據本發明示例性實施例的包括磁力產生單元的貼合單元的圖。
根據本發明的示例性實施例，貼合單元400可包括下垂抑制部件，由此抑制貼合輥因重量而下垂。下垂抑制部件可包括磁力產生單元430，且磁力產生單元430可藉由利用磁力向貼合輥施加吸引力或排斥力來抑制所述貼合輥因重量而下垂。
舉例而言，磁力產生單元430可設置於所述一對貼合輥之間位於上側的上部貼合輥410的上側，使得磁力產生單元430藉由向上部貼合輥410施加吸引力來吸引上部貼合輥410以抑制所述貼合輥下垂。磁力產生單元430可設置於所述一對貼合輥之間位於下側的下部貼合輥420的下側，使得磁力產生單元430藉由向下部貼合輥420施加排斥力來向上推動下部貼合輥420以抑制所述貼合輥下垂。此外，磁力產生單元430可設置於上部貼合輥410的下部部分的兩側，以藉由向上部貼合輥410施加排斥力來向上推動上部貼合輥410。磁力產生單元430可設置於下部貼合輥420的上部部分的兩側，以藉由向下部貼合輥420施加吸引力來吸引下部貼合輥420。
上部貼合輥410或下部貼合輥420可包括磁鐵，使得在上部貼合輥410或下部貼合輥420與磁力產生單元430之間產生排斥力。舉例而言，可在貼合輥中形成磁鐵，使得在磁力產生單元430的方向上形成與在貼合輥的方向上形成的磁力產生單元430的磁極(N極或S極)相同的磁極。
然而，磁力產生單元430可設置於上部貼合輥410的上側或下部貼合輥420的下側，以使光學膜F及面板P能夠經過上 部貼合輥410與下部貼合輥420之間且防止將光學膜F貼合至面板P的一個表面上的製程被擾亂。
亦即，根據本發明的示例性實施例，設置於上部貼合輥410的上側的磁力產生單元430可藉由向上部貼合輥410施加吸引力來抑制上部貼合輥410下垂，且設置於下部貼合輥420的下側的磁力產生單元430可藉由向下部貼合輥420施加排斥力來有效地抑制下部貼合輥420下垂。抑制貼合輥下垂，由此提高將光學膜F貼合至面板P的精確度及品質。
此外，由設置於上部貼合輥410的上側的磁力產生單元430施加至上部貼合輥410的吸引力的大小可大於或等於施加至上部貼合輥410的重力的大小，但所述吸引力的大小與重力的大小可彼此相同。相似地，由設置於下部貼合輥420的下側的磁力產生單元430施加至下部貼合輥420的排斥力的大小可與施加至下部貼合輥420的重力的大小相同。
磁力產生單元430可包括強度為20MGOe至50MGOe的永久磁鐵。舉例而言，可使用釹磁鐵(neodymium magnet)、鐵氧體磁鐵(ferrite magnet)、鋁鎳鈷磁鐵(alnico magnet)及釤鈷(samarium cobalt，SmCo)磁鐵來作為所述永久磁鐵，但永久磁鐵的種類不限於前述實例。
此外，磁力產生單元430中所包括的永久磁鐵的強度可根據磁力產生單元430與貼合輥之間的距離及所述貼合輥的重量或材料來變化。然而，為有效地抑制貼合輥下垂及使所述貼合輥 精確地在所述貼合輥的縱向方向上為水平的，可使用強度為20MGOe至50MGOe的永久磁鐵。
圖4是示意性地說明根據本發明示例性實施例的包括所述多個單位磁力產生單元的貼合單元的圖。
磁力產生單元430可包括在貼合輥的縱向方向上相互間隔地設置的所述多個單位磁力產生單元。參照圖4，所述多個磁力產生單元430可在上部貼合輥410的縱向方向上設置於上部貼合輥410的上側。此外，所述多個磁力產生單元430可在下部貼合輥420的縱向方向上設置於下部貼合輥420的下側。
如圖4中所示，磁力產生單元包括所述多個單位磁力產生單元，使得裝備成本可降低，且貼合輥周圍的空間的可用性可提高，使得可在所述貼合輥周圍安裝能夠抽吸及移除異物等的輔助單元(例如，抽吸部件)。
磁力產生單元430中所包括的永久磁鐵的強度可根據提供磁力產生單元430的位置來變化。舉例而言，設置於上部貼合輥410的中心部分的上側的單位磁力產生單元432及433的永久磁鐵的強度可大於設置於上部貼合輥410的兩個側部部分的上側的單位磁力產生單元431及434的永久磁鐵的強度。上部貼合輥410的中心部分因重量而較上部貼合輥410的兩個側部部分更多地下垂。因此，設置於上部貼合輥410的中心部分的上側的單位磁力產生單元432及433所包括的永久磁鐵的磁力大於設置於兩個側部部分的上側的單位磁力產生單元431及434的永久磁鐵的 磁力，因而向上部貼合輥410的中心部分施加較大的吸引力是較佳的。此外，設置於下部貼合輥420的中心部分的下側的單位磁力產生單元436及437所包括的永久磁鐵的磁力大於設置於兩個側部部分的下側的單位磁力產生單元435及438的永久磁鐵的磁力，因而向下部貼合輥420的中心部分施加較大的排斥力是較佳的。
此外，所述多個單位磁力產生單元相互間隔的距離可為不同的。舉例而言，設置於上部貼合輥410的中心部分的上側的單位磁力產生單元432與433之間的距離可小於設置於上部貼合輥410的中心部分的上側的單位磁力產生單元433與設置於上部貼合輥410的側部部分的上側的單位磁力產生單元434之間的距離。藉由調節所述多個單位磁力產生單元相互間隔的距離，可更有效地抑制貼合輥的下垂現象。然而，所述多個單位磁力產生單元可維持其中所述多個單位磁力產生單元互不干擾的最小距離。
圖5是說明根據本發明示例性實施例的藉由距離調節單元對磁力產生單元與貼合輥之間的距離進行的調節的圖。
根據本發明示例性實施例的下垂抑制單元可包括距離調節單元480，距離調節單元480調節磁力產生單元430與貼合輥之間的距離。距離調節單元480可藉由上下移動磁力產生單元430來調節磁力產生單元430與貼合輥之間的距離，由此抑制所述貼合輥下垂。舉例而言，當上部貼合輥410下垂時，距離調節單元480將設置於上部貼合輥410的上側的磁力產生單元430移位並將 磁力產生單元430定位於其中上部貼合輥410因磁力產生單元430的磁力而朝磁力產生單元430被拉動的點處，使得上部貼合輥410的下垂消失，由此有效地抑制上部貼合輥410因重量而下垂。相似地，當下部貼合輥420(如圖4所示)下垂時，距離調節單元480將設置於下部貼合輥420的下側的磁力產生單元430移位，由此有效地抑制下部貼合輥420下垂。
在貼合輥的縱向方向上彼此間隔地設置的所述多個單位磁力產生單元分別包括距離調節單元480，使得可在向上方向及向下方向上將所述多個單位磁力產生單元獨立地移位。舉例而言，在包括具有相同大小的磁力的永久磁鐵的所述多個單位磁力產生單元中，距離調節單元480可將位於上部貼合輥410的中心部分的上側的單位磁力產生單元432及433移位成相鄰於上部貼合輥410且可將位於上部貼合輥410的兩個側部部分的上側的單位磁力產生單元431及434移位至與上部貼合輥410間隔預定間隔的位置。由於上部貼合輥410的中心部分因重量而較上部貼合輥410的兩個側部部分更多地下垂，因此將位於中心部分的上側的單位磁力產生單元432及433移位成較位於兩個側部部分的上側的單位磁力產生單元431及434更鄰近於上部貼合輥410，由此有效地抑制上部貼合輥410下垂。然而，當單位磁力產生單元中所包括的永久磁鐵的強度相互不同時，可根據單位磁力產生單元中所包括的永久磁鐵的強度來調節所述多個單位磁力產生單元的位置。舉例而言，當設置於上部貼合輥410的中心部分的上側的單位磁 力產生單元432及433中所包括的永久磁鐵的強度大於設置於上部貼合輥410的兩個側部部分的上側的單位磁力產生單元431及434中所包括的永久磁體的強度時，可將設置於中心部分的上側的單位磁力產生單元432及433與上部貼合輥410之間的距離調節成相似於設置於兩個側部部分的上側的單位磁力產生單元431及434與上部貼合輥410之間的距離。
可將根據本發明示例性實施例的距離調節單元480與欲被驅動的偵測單元460連接。可藉由設置於貼合輥的兩個側部部分的偵測單元460量測因重量而造成的貼合輥的下垂。偵測單元460可包括多個感測器，且可使用公眾習知的能夠偵測貼合輥的下垂的感測器作為所述感測器，但可使用由發光單元(light emitting unit)及光接收單元(light receiving unit)形成的光學感測器。
參照圖5，當上部貼合輥410因重量而下垂時，自發光單元入射至偵測單元460的光接收單元的光被因重量而下垂的上部貼合輥410阻擋，使得偵測單元460可對上部貼合輥410是否下垂進行量測及量測上部貼合輥410的下垂程度。由偵測單元460所量測的上部貼合輥410的下垂資訊被傳輸至控制單元(圖中未示出)。控制單元基於自偵測單元460傳輸的上部貼合輥410的下垂資訊及磁力產生單元430的磁力的預定強度來計算其中需要定位磁力產生單元430的點。關於由控制單元所計算的磁力產生單元430的移位點的資訊被傳輸至距離調節單元480。如圖5中所示，距離調節單元480可利用自控制單元傳輸的資訊將磁力產生 單元430移位至其中上部貼合輥410因磁力產生單元430的磁力而在縱向方向上變為水平的點。
因此，根據本發明的示例性實施例，基於貼合輥的下垂程度來精確地計算其中需要定位磁力產生單元430的所述點使得可有效地抑制貼合輥的下垂且在縱向方向上維持貼合輥的水平狀態。
根據本發明示例性實施例的磁力產生單元430可包括電磁鐵，所述電磁鐵的磁力是藉由所施加電流的大小來調節。可根據磁力產生單元430與貼合輥之間的距離及上部貼合輥410的重量或材料來調節施加至磁力產生單元430中所包括的電磁鐵的電流的大小。
可在貼合輥的縱向方向上設置磁力產生單元430，且施加至磁力產生單元430中所包括的電磁鐵的電流的大小可根據提供磁力產生單元430的位置而有所不同。舉例而言，施加至設置於上部貼合輥410的中心部分的上側的單位磁力產生單元432及433的電磁鐵的電流的大小可大於施加至設置於上部貼合輥410的兩個側部部分的上側的單位磁力產生單元431及434的電磁鐵的電流的大小。
可將磁力產生單元430中所包括的電磁鐵與欲被驅動的偵測單元460連接。舉例而言，偵測單元460對上部貼合輥410是否下垂進行量測且量測上部貼合輥410的下垂程度，且由偵測單元460所量測的上部貼合輥410的下垂資訊被傳輸至控制單元 (圖中未示出)。控制單元基於自偵測單元460傳輸的上部貼合輥410的下垂資訊來計算需要施加至電磁鐵的電流的大小。由控制單元所計算的資訊被傳輸至控制磁力產生單元430的電磁鐵的控制工具(圖中未示出)，且所述控制工具可利用所傳輸資訊將對應的電流施加至所述電磁鐵，所述電流使上部貼合輥410可在縱向方向上變為水平的。
因此，根據本發明的示例性實施例，藉由根據因重量造成的貼合輥的下垂的程度來調節電流的大小而將電流施加至電磁鐵，由此輕易地抑制貼合輥下垂。
此外，為精確地使貼合輥在所述貼合輥的縱向方向上為水平的，可藉由距離調節單元480及藉由對施加至磁力產生單元430的電磁鐵的電流量進行調節來調節磁力產生單元430與貼合輥之間的距離。
圖6a、圖6b、圖6c及圖6d是示意性地說明根據本發明示例性實施例的包括磁力產生單元及支撐部件的貼合單元的圖。
根據本發明的示例性實施例，下垂抑制單元可包括支撐部件，所述支撐部件接觸貼合輥的外周邊表面的一部份且支撐所述貼合輥。支撐部件可被形成為能夠支撐貼合輥的輥形狀，且所述多個支撐部件可設置於貼合輥的外周邊表面上。
參照圖6a，設置於上部貼合輥410的上側的磁力產生單元430的磁力將吸引力施加至上部貼合輥410，使得上部貼合輥410可朝磁力產生單元430被拉動且上部貼合輥410因重量而造成 的下垂被抑制。此外，設置於下部貼合輥420的下側的磁力產生單元430的磁力將排斥力施加至下部貼合輥420，使得下部貼合輥420的下垂可被抑制。
為抑制上部貼合輥410下垂且使上部貼合輥410在上部貼合輥410的縱向方向上為水平的，由磁力產生單元430施加至上部貼合輥410的吸引力的大小可與施加至上部貼合輥410的重力的大小相同。然而，設備容差、製造容差等使得可能不易於將由磁力產生單元430施加至上部貼合輥410的吸引力的大小調節成完全相同於施加至上部貼合輥410的重力的大小。因此，施加至上部貼合輥410的吸引力的大小可被調節成稍大於施加至上部貼合輥410的重力的大小。
然而，當施加至上部貼合輥410的吸引力的大小大於施加至上部貼合輥410的重力的大小時，上部貼合輥410可基於水平線而朝磁力產生單元430彎曲。就此而言，根據本發明示例性實施例的支撐部件440支撐上部貼合輥410的上側，由此抑制上部貼合輥410朝磁力產生單元430彎曲。如圖6a中所示，所述多個支撐部件440被設置成接觸上部貼合輥410的上側的外周邊表面的所述一部份，使得所述多個支撐部件440可支撐上部貼合輥410的上側進而防止上部貼合輥410因磁力產生單元430的磁力而朝磁力產生單元430彎曲。參照圖6a，為使支撐部件有效地支撐貼合輥而不被磁力產生單元影響，可將所述支撐部件設置於其中單位磁力產生單元彼此間隔的位置處。
此外，支撐部件440是可旋轉的，使得支撐部件440可在不擾亂在將光學膜F貼合至面板P的製程期間旋轉的上部貼合輥410的條件下支撐上部貼合輥410。支撐部件440可隨著上部貼合輥410的旋轉而旋轉，且支撐部件440自身可藉由提供單獨的驅動單元而各別地旋轉。
參照圖6b，上部貼合輥410的下垂可藉由磁力產生單元430來抑制，且被形成為輥形狀的支撐部件450可設置於下部貼合輥420中，由此抑制下部貼合輥420在向下方向上下垂。所述多個支撐部件450可被設置成接觸下部貼合輥420的下側的外周邊表面，且支撐部件450的旋轉軸固定於預定位置處，由此支撐下部貼合輥420。此外，支撐部件450是可旋轉的，使得支撐部件450可在不擾亂在將光學膜片材件F1貼合至面板P的製程期間旋轉的下部貼合輥420的條件下支撐下部貼合輥420(如圖6c所示)。支撐部件450可隨著下部貼合輥420的旋轉而旋轉，且支撐部件450自身可藉由提供單獨的驅動單元而各別地旋轉。
圖6c是示意性地說明將光學膜貼合於面板的上表面上的貼合單元的下垂抑制單元的圖，且圖6d是示意性地說明將光學膜貼合於面板的下表面上的貼合單元的下垂抑制單元的圖。
作為將光學膜F貼合至面板P的一個表面上的方法，可將光學膜F貼合於面板P的上表面上，且可將光學膜F貼合於面板P的下表面上。參照圖6c，當將光學膜F貼合於面板P的上表面上時，不易於將支撐部件440設置成接觸上部貼合輥410的下 側的外周邊表面以抑制上部貼合輥410下垂。如圖6c中所示，由於上部貼合輥410朝面板P的上表面按壓被傳遞至面板P的所述上表面的光學膜片材件F1並將光學膜片材件F1貼合至面板P，因此當支撐部件440設置於上部貼合輥410的下側時，將光學膜片材件F1貼合至面板P的一個表面上的製程可能被擾亂。因此，當光學膜F貼合於面板P的上表面上時，可將磁力產生單元430設置於上部貼合輥410的上側以抑制上部貼合輥410下垂。
參照圖6d，當光學膜F貼合於面板P的下表面上時，支撐部件440及450設置於上部貼合輥410的下側及下部貼合輥420的下側，由此抑制上部貼合輥410及下部貼合輥420下垂。如圖6d中所示，在其中被傳遞至面板P的下表面的光學膜片材件F1貼合至面板P的下表面上的情形中，儘管支撐部件440及450設置於上部貼合輥410的下側及下部貼合輥420的下側，然而將光學膜片材件F1貼合至面板P的一個表面上的製程可不被干擾。然而，在將光學膜F貼合至面板P的一個表面上的製程期間，抑制上部貼合輥410下垂的支撐部件440可被設置成在不擾亂面板P的供應的位置處接觸上部貼合輥410的上側的外周邊表面。此外，即便當光學膜F貼合於面板P的下表面上時，磁力產生單元430仍設置於上部貼合輥410的上側，由此抑制上部貼合輥410下垂。
因此，根據本發明的示例性實施例，具有預定長度或長度大於所述預定長度的上部貼合輥410及下部貼合輥420因重量而造成的下垂將被抑制，使得可提高將光學膜F貼合至面板P的 精確度，且可有效地抑制貼合缺陷，例如貼合至面板P的光學膜F中的褶皺的產生或面板P與光學膜F之間的氣泡的產生。
圖7是說明根據本發明示例性實施例的被形成為輥形狀的磁力產生單元的圖。
根據本發明示例性實施例的磁力產生單元430可接觸貼合輥的外周邊表面的一部份且可被形成為能夠支撐所述貼合輥的輥形狀。參照圖7，呈輥形狀的磁力產生單元430可包括永久磁鐵或電磁鐵，使得磁力產生單元430可將上部貼合輥410拉動至上側以抑制上部貼合輥410下垂或在向上方向上推動下部貼合輥420以抑制下部貼合輥420下垂。
呈輥形狀的所述多個磁力產生單元430可被設置成接觸上部貼合輥410的上側的外周邊表面，且呈輥形狀的所述多個磁力產生單元430可被設置成接觸下部貼合輥420的下側的外周邊表面。在呈輥形狀的磁力產生單元430中，例如將輥的旋轉軸固定於預定位置處，由此支撐貼合輥。因此，可藉由呈輥形狀的磁力產生單元430的磁力來抑制貼合輥下垂，且呈輥形狀的磁力產生單元430支撐貼合輥，使得貼合輥可精確地在所述貼合輥的縱向方向上變為水平的。
根據本發明示例性實施例的貼合輥的直徑可為20毫米至80毫米。在先前技術中，為抑制具有預定長度或長度大於所述預定長度的貼合輥因重量而下垂而將所述貼合輥製造成具有大的直徑。然而，當貼合輥的直徑增大時，所述貼合輥的重量將隨著所 述貼合輥的直徑的增大而增大，使得再次出現下垂現象，且將光學膜F貼合至面板P的精確度劣化，由此產生貼合缺陷。
然而，根據本發明的示例性實施例，貼合輥的下垂可藉由磁力產生單元430來抑制，因而可使用直徑為20毫米至80毫米的貼合輥將光學膜F貼合至面板P的一個表面上。因此，可藉由有效地抑制貼合缺陷來顯著地減少所製造顯示單元的缺陷，所述貼合缺陷例如為貼合至面板P的光學膜F中的褶皺的產生或面板P與所述光學膜之間的氣泡的產生。為提高將光學膜F貼合至面板P的精確度及品質，較佳地，貼合輥的直徑可為35毫米至60毫米，且更佳地，貼合輥的直徑可為20毫米至35毫米。
此外，上部貼合輥410的直徑與下部貼合輥420的直徑可彼此相同或彼此不同。然而，為提高將光學膜F貼合至面板P的精確度及品質，位於上面貼合有光學膜F的面板P的一個表面一側的貼合輥的直徑可小於位於面板P的另一表面一側的貼合輥的直徑。舉例而言，當光學膜F貼合於面板P的上表面上時，位於面板P的上表面一側的上部貼合輥410的直徑可小於位於面板P的下表面一側的下部貼合輥420的直徑。此外，當光學膜F貼合於面板P的下表面上時，位於面板P的下表面一側的下部貼合輥420的直徑可小於位於面板P的上表面一側的上部貼合輥410的直徑。參照圖6d，當光學膜F貼合於面板P的下表面上時，位於面板P的下表面一側的下部貼合輥420的直徑可為25毫米至50毫米，且位於面板P的上表面一側的上部貼合輥410的直徑可為50 毫米至80毫米。
貼合輥的長度可為1,800毫米至3,700毫米。根據本發明示例性實施例的製造顯示單元的系統1000包括第一貼合單元及第二貼合單元，所述第一貼合單元將具有與面板P的長側對應的寬度的光學膜F貼合至面板P的一個表面上，且所述第二貼合單元將具有與面板P的短側對應的寬度的光學膜F貼合至面板P的另一表面上。舉例而言，為製造長側的長度為1,800毫米或大於1,800毫米的超大型顯示單元，第一貼合單元將使用長度為1,800毫米至3,700毫米的一對貼合輥，以將具有與面板P的長側對應的寬度的光學膜F貼合至與顯示單元的大小對應的大面積面板P的一個表面上。
藉由根據本發明示例性實施例的磁力產生單元430以及支撐部件440及450，可藉由在長度為1,800毫米至3,700毫米的所述一對貼合輥不下垂的條件下將光學膜F貼合至大面積面板P的一個表面上來製造所述超大型顯示單元。然而，所述一對貼合輥的長度可根據大面積面板P的長側的長度而增大。
貼合輥可在面對磁力產生單元430的位置處包含鐵磁性物質。由金屬材料形成的貼合輥可因磁力產生單元430的磁力而朝磁力產生單元430被拉動，但由非磁性物質形成的貼合輥具有無法抑制貼合輥朝磁力產生單元430下垂的問題。因此，可藉由將由鐵磁性物質形成的構件插入至貼合輥的內側中來抑制由非磁性物質形成的貼合輥下垂。舉例而言，可利用磁力產生單元430 的磁力來拉動或向上推動鐵磁性物質套管(sleeve)且藉由將由鐵、鈷、鎳或其合金形成的鐵磁性物質套管插入至由碳、陶瓷及碳奈米管形成的貼合輥的內側中來抑制所述貼合輥下垂。
鐵磁性物質構件可在面對磁力產生單元430的位置處形成於貼合輥的內側或外部側。如圖4中所示，所述多個單位磁力產生單元可設置於貼合輥的縱向方向上。所述多個鐵磁性物質構件在面對所述多個單位磁力產生單元的位置處形成於貼合輥的內側或外部側，由此有效地抑制貼合輥下垂。由例如鉻、鉑、鎂及鋁等順磁性物質形成的構件形成於貼合輥的內側或外部側，由此抑制所述貼合輥下垂。
此外，貼合輥是藉由將由非磁性物質形成的單位貼合輥與被形成為輥形狀的單位鐵磁性物質連接來製造，由此抑制所述貼合輥下垂。舉例而言，所述多個單位貼合輥與單位鐵磁性物質進行連接且單位鐵磁性物質被裝配成可設置於面對單位磁力產生單元的位置處，由此有效地抑制由非磁性物質形成的貼合輥下垂。
因此，根據本發明的示例性實施例，可藉由使用具有硬度及相對低的重量的非磁性材料製造貼合輥來抑制所述貼合輥因重量而下垂，且可藉由在由非磁性物質形成的貼合輥中形成鐵磁性物質構件來有效地抑制貼合輥下垂。
圖8是示意性地說明根據本發明另一示例性實施例的包括抽吸部件的貼合單元的圖。
根據本發明的另一示例性實施例，下垂抑制單元可包括 抽吸部件470，抽吸部件470抽吸貼合輥且抑制所述貼合輥下垂。
根據本發明的另一示例性實施例，藉由抽吸貼合輥來抑制所述貼合輥因重量而下垂，由此提高將光學膜F貼合至面板P的精確度及品質。此外，在抽吸貼合輥及抑制所述貼合輥下垂期間抽吸及移除所述貼合輥周圍的異物、灰塵等，由此提高所製造顯示單元的品質。
抽吸部件470可設置於上部貼合輥410的上側且抽吸上部貼合輥410以抑制上部貼合輥410下垂。此外，抽吸部件470可設置於下部貼合輥420的上部部分的兩側且抽吸下部貼合輥420以抑制下部貼合輥420下垂。
然而，為防止使用上部貼合輥410及下部貼合輥420將光學膜F貼合至面板P的一個表面上的製程被擾亂，可在上部貼合輥410的上側設置抽吸部件470且可在下部貼合輥420中設置支撐部件450，由此抑制上部貼合輥410及下部貼合輥420下垂。
抽吸部件470可包括調節抽吸壓力的壓力調節工具(圖中未示出)，且所述多個抽吸部件470可設置於上部貼合輥410的上側。所述多個抽吸部件470可在上部貼合輥410的縱向方向上設置於上部貼合輥410的上側，且上部貼合輥410的抽吸部件470的抽吸壓力的大小可根據所提供位置而有所不同。上部貼合輥410的中心部分因重量而較上部貼合輥410的兩個側部部分更多地下垂，使得設置於上部貼合輥410的中心部分的上側的抽吸部件470可以較設置於上部貼合輥410的兩個側部部分的上側的抽吸部件 470的抽吸壓力大的抽吸壓力來抽吸及向上推動上部貼合輥410。
抽吸部件470中所包括的壓力調節工具可與偵測單元460連接且被驅動。偵測單元460對上部貼合輥410是否下垂進行量測且量測下垂程度，且由偵測單元460所量測的上部貼合輥410的下垂資訊被傳輸至控制單元(圖中未示出)。控制單元基於自偵測單元460傳輸的上部貼合輥410的下垂資訊來計算抽吸部件470的抽吸壓力的大小。關於由控制單元所計算的抽吸壓力的資訊被傳輸至抽吸部件470的壓力調節工具，且壓力調節工具可利用所接收資訊來驅動抽吸部件470以使上部貼合輥410在縱向方向上變為水平的。
下垂抑制單元可包括距離調節單元480，距離調節單元480調節抽吸部件470與上部貼合輥410之間的距離。抽吸部件470的抽吸壓力的大小是藉由距離調節單元480來調節且抽吸部件470與上部貼合輥410之間的距離亦是藉由距離調節單元480來調節，由此使得上部貼合輥410能夠精確地在上部貼合輥410的縱向方向上為水平的。
根據本發明另一示例性實施例的下垂抑制單元可包括支撐部件，所述支撐部件接觸貼合輥的外周邊表面的一部份且支撐所述貼合輥。
抽吸部件470可被驅動成使得由抽吸部件470施加至上部貼合輥410的抽吸壓力的大小相同於施加至上部貼合輥410的重力的大小。然而，設備容差、製造容差等使得可能不易於將由 抽吸部件470施加至上部貼合輥410的抽吸壓力的大小調節成完全相同於施加至上部貼合輥410的重力的大小。因此，施加至上部貼合輥410的抽吸壓力的大小可被調節成稍大於施加至上部貼合輥410的重力的大小。
然而，當施加至上部貼合輥410的抽吸壓力的大小大於施加至上部貼合輥410的重力的大小時，上部貼合輥410可基於水平線而朝抽吸部件470彎曲，但被形成為輥形狀的支撐部件440接觸上部貼合輥410的外周邊表面的所述一部份且支撐上部貼合輥410的上側，由此抑制上部貼合輥410朝抽吸部件470彎曲。此外，支撐部件440是可旋轉的，使得支撐部件440可在不擾亂在將光學膜F貼合至面板P的製程期間旋轉的上部貼合輥410的條件下支撐上部貼合輥410。支撐部件440可隨著上部貼合輥410的旋轉而旋轉，且支撐部件440自身可藉由提供單獨的驅動單元而各別地旋轉。
此外，支撐部件450支撐下部貼合輥420的下側，由此防止下部貼合輥420下垂。
根據本發明的另一示例性實施例，貼合輥的下垂可藉由抽吸部件470以及支撐部件440及450來抑制，使得可使用直徑為20毫米至80毫米的貼合輥將光學膜F貼合至面板P的一個表面上。因此，可藉由提高將光學膜F貼合至面板P的精確度來有效地抑制所製造顯示單元的缺陷。
藉由使用根據本發明另一示例性實施例的抽吸部件470 以及支撐部件440及450，可藉由在長度為1,800毫米至3,700毫米的所述一對貼合輥不下垂條件下將光學膜片材件F1貼合至大面積面板P的一個表面上來製造超大型顯示單元。
本發明的說明是說明性的，且熟習此項技術者可理解，可在不改變本發明的技術精神及本質特性的條件下輕易地將本發明修改成其他特定形式。因此，應知，以上所述實施例旨在對於各種意義而言均為說明性的而非約束性的。舉例而言，可以分佈形式實施以單數形式闡述的每一構成要件，且相似地，可以組合形式實施以分佈形式闡述的構成要件。
本發明的範圍是由以下欲闡述的申請專利範圍來表示而非由詳細說明來表示，且應理解，申請專利範圍的含義及範圍以及自申請專利範圍的等效範圍引申出的所有變化或修改形式皆屬於本發明的範圍。

Claims (9)

  1. 一種製造顯示單元的系統，用於將光學膜貼合至面板，所述系統包括：載送單元，載送包括偏光膜的所述光學膜；切割單元，將所述光學膜切割成具有與所述面板的大小對應的大小；以及貼合單元，將所述光學膜貼合至所述面板，其中所述貼合單元包括：貼合輥，將所述光學膜按壓並貼合至所述面板的一個表面上；以及下垂抑制單元，包括磁力產生單元，其中所述磁力產生單元利用磁力來抑制所述貼合輥下垂，且所述貼合輥在面對所述磁力產生單元的位置處包含鐵磁性物質。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的系統，其中所述磁力產生單元包括強度為20MGOe至50MGOe的永久磁鐵。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的系統，其中所述磁力產生單元包括電磁鐵，所述電磁鐵的磁力是藉由所施加電流的大小來調節。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的系統，其中所述磁力產生單元包括多個單位磁力產生單元，所述多個單位磁力產生單元在所述貼合輥的縱向方向上相互間隔地設置。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的系統，其中所述下垂抑制單元包括支撐部件，所述支撐部件接觸所述貼合輥的外周邊表面的一部份且支撐所述貼合輥。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的系統，其中所述下垂抑制單元包括距離調節單元，所述距離調節單元調節所述磁力產生單元與所述貼合輥之間的距離。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的系統，其中所述貼合輥的直徑為20毫米至80毫米。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的系統，其中所述貼合輥的長度為1,800毫米至3,700毫米。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的系統，其中所述磁力產生單元接觸所述貼合輥的外周邊表面的一部份且被形成為能夠支撐所述貼合輥的輥形狀。
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