CN109633941A - 一种lcd前制程生产工艺 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种LCD前制程生产工艺，它包括以下步骤：S1、预处理：玻璃原料检验后依次进行清洗、第一次涂胶、第一次曝光、第一次显影、坚膜、蚀刻得到ITO玻璃基板；S2、制作空盒支撑空间：将经过S1得到的ITO玻璃基板依次进行第二次涂胶、第二次曝光、第二次显影；S3、后期处理：将经过S2得到的ITO玻璃基板依次进行PI固化、摩擦、框点丝印、贴合，得到LCD前制程中最终的ITO玻璃基板。该LCD前制程生产工艺在制作LCD空盒时能够替代空间粉且能有效地保证液晶显示屏产品质量。
Description
技术领域
本发明涉及LCD生产技术领域，具体讲的是一种一种LCD前制程生产工艺。
背景技术
随着科技的发展，液晶显示屏的应用越来越广泛，液晶行业内的竞争也愈发地激烈，因此对液晶显示屏产品的质量要求也越来越高。其中液晶显示屏(LCD)显示面板一般由两个对盒成形的基板以及夹持在两个基板之间的液晶分子组成，两块基板之间的空间即为LCD空盒，现有的LCD空盒在制作时需要再空盒内喷入间隙粉(空间粉)，用以支承上下玻璃之间的间隙，给液晶注入支撑空间，现有的常规的LCD前制程生产工艺一般包括以下步骤，清洗→涂胶→曝光→显影→坚膜→酸刻→PI→摩擦→框点丝印→喷粉→贴合，其中喷粉步骤指的就是在LCD空盒中喷入空间粉，传统的空间粉一般只适用在硬度较大的玻璃上，而不能有效地应用在柔性的ITO膜上，传统的空间粉的排布具有偶然性，会出现粉聚、粉团现象，导致液晶显示屏显示不良，这样极其影响液晶显示屏的产品质量。
发明内容
本发明要解决的技术问题是，克服以上现有技术的缺陷，提供一种在制作LCD空盒时能够替代空间粉且能有效地保证液晶显示屏产品质量的一种LCD前制程生产工艺。
本发明的技术解决方案是，提供一种一种LCD前制程生产工艺：它包括以下步骤：
S1、预处理：玻璃原料检验后依次进行清洗、第一次涂胶、第一次曝光、第一次显影、坚膜、蚀刻得到ITO玻璃基板；
S2、制作空盒支撑空间：将经过S1得到的ITO玻璃基板依次进行第二次涂胶、第二次曝光、第二次显影；
S3、后期处理：将经过S2得到的ITO玻璃基板依次进行PI丝印、摩擦、框点丝印、贴合，得到LCD前制程中最终的ITO玻璃基板。
作为优选，所述S2中第二次涂胶指的是在ITO玻璃基板上刮涂一层OC光刻胶，所述OC光刻胶的厚度与所需LCD空盒的厚度相等。
作为优选，所述S2中的第二次曝光指的是选取一铬版，在所述铬版上开设若干圆孔，其中所述圆孔在沿所述铬版长度方向呈等间距分布，所述圆孔在沿所述铬版宽度方向呈等间距分布；将所述ITO玻璃基板、铬版均放置在曝光机下，其中所述铬版位于ITO玻璃基板的正上方。
作为优选，所述S3中的第二次显影指的是将经过第二次曝光后的ITO玻璃基板放入NaOH溶液中，所述ITO玻璃基板上的OC光刻胶的未感光部分发生溶解，所述ITO玻璃基板上的OC光刻胶的感光部分未发生溶解从而余留下来，呈现出若干横截面面积与所述铬版上圆孔面积相等的圆柱体。
作为优选，所述S1中的清洗指的是在玻璃原料上采用毛刷用DI水进行清洗，随后采用气刀进行喷干。
作为优选，所述S1中的蚀刻所采用的是呈强酸性的蚀刻液。
作为优选，所述S1中框点丝印中边框的印刷胶为环氧树脂胶。
采用以上技术方案，本发明与现有技术相比具有以下优点：通过在蚀刻步骤后设置将经过S1得到的ITO玻璃基板依次进行第二次涂胶、第二次曝光、第二次显影；且第二次涂胶为在ITO玻璃基板上刮涂一层OC光刻胶，第二次曝光为选取一铬版，在所述铬版上开设若干圆孔，其中所述圆孔在沿所述铬版长度方向呈等间距分布，所述圆孔在沿所述铬版宽度方向呈等间距分布；将所述ITO玻璃基板、铬版均放置在曝光机下，其中所述铬版位于ITO玻璃基板的正上方；第二次显影为将经过第二次曝光后的ITO玻璃基板放入NaOH溶液中，所述ITO玻璃基板上的未感光部分发生溶解，所述ITO玻璃基板上的感光部分未发生溶解从而余留下来，呈现出若干横截面面积与所述铬版上圆孔面积相等的圆柱体；可以有效地替换掉常规LCD前制程工序中喷粉步骤，而最终呈现出的圆柱体可以达到比空间粉效果更优的效果，不会出现粉聚、粉团现象，而是均匀地分布在ITO玻璃基板上，可以为给液晶注入支撑空间，保证液晶分子的均匀分布，从而保证液晶显示屏产品的质量。
附图说明
图1是本发明一种LCD前制程生产工艺中第二次曝光的结构示意图。
图2是本发明一种LCD前制程生产工艺中第二次显影的结构示意图。
如图所示：
1、铬版，2、圆孔，3、ITO玻璃基板，4、OC光刻胶，5、感光部分，6、未感光部分，7、圆柱体。
具体实施方式
本发明一种一种LCD前制程生产工艺，它包括以下步骤：
S1、预处理：玻璃原料检验后依次进行清洗、第一次涂胶、第一次曝光、第一次显影、坚膜、蚀刻得到ITO玻璃基板3；
S2、制作空盒支撑空间：将经过S1得到的ITO玻璃基板3依次进行第二次涂胶、第二次曝光、第二次显影；
S3、后期处理：将经过S2得到的ITO玻璃基板3依次进行PI丝印、摩擦、框点丝印、贴合，得到LCD前制程中最终的ITO玻璃基板3。
通过在蚀刻步骤设置将经过S1得到的ITO玻璃基板3依次进行第二次涂胶、第二次曝光、第二次显影；可以取代常规LCD前制程工序中喷粉步骤，从而避免了空间粉易出现粉团、粉聚现象的缺陷，使得能为液晶分子注入提供良好的支撑空间，保证液晶显示屏产品的质量。
所述S2中第二次涂胶指的是在ITO玻璃基板3上刮涂一层OC光刻胶4，所述OC光刻胶3的厚度与所需LCD空盒的厚度相等。通过在ITO玻璃基板3上刮涂一层OC光刻胶4，且OC光刻胶4的厚度与所需LCD空盒的厚度相等，可以使得上下两块基板之间通过OC光刻胶4完美地贴合，不会切易地松动或脱落。
所述S2中的第二次曝光指的是选取一铬版1，在所述铬版1上开设若干圆孔2，其中所述圆孔2在沿所述铬版1长度方向呈等间距分布，所述圆孔2在沿所述铬版1宽度方向呈等间距分布；将所述ITO玻璃基板3、铬版1均放置在曝光机下，其中所述铬版1位于ITO玻璃基板3的正上方。通过设置在铬版1上开设若干圆孔2，可以使得通过曝光机提供光源，从而透过圆孔2，对ITO玻璃基板3上的部分区域进行照射，使得ITO玻璃基板3上发生化学反应从而发生理化性质的变化。
所述S3中的第二次显影指的是将经过第二次曝光后的ITO玻璃基板3放入NaOH溶液中，所述ITO玻璃基板3上的OC光刻胶4的未感光部分6发生溶解，所述ITO玻璃基板3上的OC光刻胶4的感光部分5未发生溶解从而余留下来，呈现出若干横截面面积与所述铬版1上圆孔面积相等的圆柱体7。通过设置将经过第二次曝光后的ITO玻璃基板3放入NaOH溶液中，所述ITO玻璃基板3上的OC光刻胶4的未感光部分6发生溶解，所述ITO玻璃基板3上的OC光刻胶4的感光部分5未发生溶解从而余留下来，采用NaOH作为溶解液，可以使得OC光刻胶4发生化学反应，变成所需的用于替代空间粉的若干个均匀分布圆柱体7，避免了空间粉易出现粉团、粉聚现象的缺陷，使得能为液晶分子注入提供良好的支撑空间，保证液晶显示屏产品的质量。
所述S1中的清洗指的是在玻璃原料上采用毛刷用DI水进行清洗，随后采用气刀进行喷干。通过设置清洗步骤为在玻璃原料上采用毛刷用DI水进行清洗，可以有效地对玻璃原料上的杂质或灰尘进行清洗，随后采用气刀进行喷干，可以快速有效地烘干，增加生产效率。
所述S1中的蚀刻所采用的是呈酸性的蚀刻液。其中蚀刻液可以为HNO3、HCL与水的混合溶液。
所述S1中框点丝印中边框的印刷胶为环氧树脂胶。通过设置框点丝印中边框的印刷胶为环氧树脂胶，选取环氧树脂胶可以起到更好地粘性，对边框进行密封固定。
需要说明的是，本发明同样可以应用到PNLCD、PDLCD的前制程生产工艺中。
以上就本发明较佳的实施例进行了说明，但不能理解为是对权利要求的限制。本发明不仅局限于以上实施例，其具体结构允许有变化，凡在本发明独立权利要求的保护范围内所作的各种变化均在本发明的保护范围内。
Claims (7)
1.一种LCD前制程生产工艺，其特征在于：包括以下步骤:
S1、预处理：玻璃原料检验后依次进行清洗、第一次涂胶、第一次曝光、第一次显影、坚膜、蚀刻得到ITO玻璃基板；
S2、制作空盒支撑空间：将经过S1得到的ITO玻璃基板依次进行第二次涂胶、第二次曝光、第二次显影；
S3、后期处理：将经过S2得到的ITO玻璃基板依次进行PI丝印、PI固化、摩擦、框点丝印、贴合，得到LCD前制程中最终的ITO玻璃基板。
2.根据权利要求1所述的一种LCD前制程生产工艺，其特征在于：所述S2中第二次涂胶指的是在ITO玻璃基板上刮涂一层OC光刻胶，所述OC光刻胶的厚度与所需LCD空盒的厚度相等。
3.根据权利要求1所述的一种LCD前制程生产工艺，其特征在于：所述S2中的第二次曝光指的是选取一铬版，在所述铬版上开设若干圆孔，其中所述圆孔在沿所述铬版长度方向呈等间距分布，所述圆孔在沿所述铬版宽度方向呈等间距分布；将所述ITO玻璃基板、铬版均放置在曝光机下，其中所述铬版位于ITO玻璃基板的正上方。
4.根据权利要求1所述的一种LCD前制程生产工艺，其特征在于：所述S3中的第二次显影指的是将经过第二次曝光后的ITO玻璃基板放入NaOH溶液中，所述ITO玻璃基板上的OC光刻胶未感光部分发生溶解，所述ITO玻璃基板上的OC光刻胶的感光部分未发生溶解从而余留下来，呈现出若干横截面面积与所述铬版上圆孔面积相等的圆柱体。
5.根据权利要求1所述的一种LCD前制程生产工艺，其特征在于：所述S1中的清洗指的是在玻璃原料上采用毛刷用DI水进行清洗，随后采用气刀进行喷干。
6.根据权利要求1所述的一种LCD前制程生产工艺，其特征在于：所述S1中的蚀刻所采用的是呈强酸性的蚀刻液。
7.根据权利要求1所述的一种LCD前制程生产工艺，其特征在于：所述S1中框点丝印中边框的印刷胶为环氧树脂胶。
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