JPH11231123A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

カラーフィルタの製造方法

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JPH11231123A
JPH11231123A JP3562998A JP3562998A JPH11231123A JP H11231123 A JPH11231123 A JP H11231123A JP 3562998 A JP3562998 A JP 3562998A JP 3562998 A JP3562998 A JP 3562998A JP H11231123 A JPH11231123 A JP H11231123A
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JP
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color filter
glass substrate
transparent glass
protective film
forming
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JP3562998A
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Hideo Yamanaka
英雄 山中
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ステンレスゴミやガラスゴミの発生を防止
し、これによりカラーフィルタの歩留を向上し得るカラ
ーフィルタの製造方法の提供が望まれている。 【解決手段】 感光性樹脂に染料又は顔料を分散したフ
ォトレジスト液5を、細線3を巻装してなる棒状のマイ
クロロッドバー4の細線間凹部3aで保持することで移
送し、このフォトレジスト液5を透明ガラス基板7上に
塗布してカラーフィルタパターンを形成し、このカラー
フィルタパターンからカラーフィルタを製造する方法で
ある。透明ガラス基板7のカラーフィルタ形成面に樹脂
製の透明保護膜9を形成しておくか、又はマイクロロッ
ドバー4に巻装する細線3の表面に樹脂製の保護膜8を
形成しておき、その状態でフォトレジスト液5を細線間
凹部3aで保持移送すると共に、細線3を透明ガラス基
板7表面に近接させることによって移送したカラーフィ
ルタ形成用フォトレジスト液を透明ガラス基板上に塗布
する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、カラーフィルタ形
成用フォトレジスト液を透明ガラス基板上に塗布して所
定色のカラーフィルタパターンを形成し、この所定色の
カラーフィルタパターンからカラーフィルタを製造する
方法に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶画像表示装置は、薄型、軽量である
ことなどから腕時計、電卓、さらには携帯型パーソナル
コンピュータの表示装置などとして広く用いられてい
る。また、近年では、カラー画像を表示する表示装置と
しても用いられるようになってきている。カラー画像を
表示する液晶表示装置としては、TFT、STN等種々
のタイプがあるが、例えば放電プラズマを利用して液晶
を駆動するプラズマアドレス型液晶表示装置(PAL
C;Plasma Addressed Liquid Crystal の略)を例にし
て説明する。
【0003】プラズマアドレス型液晶表示装置は、図3
に示すように平坦で光学的に十分に透明な第1の基板3
1と、この第1の基板31と同様に平坦で透明な第2の
基板32との間に液晶層33を配設するとともに、液晶
層33と第2の基板32との間の空間をプラズマ放電領
域34としたものである。
【0004】第1の基板31と液晶層33との間には、
帯状の透明電極からなる電極層35が形成されている。
また、第1の基板31の電極層35側にはカラーフィル
タ36が形成されている。液晶層33はツイストネマチ
ック液晶等からなるもので、ガラス等からなる薄い絶縁
シート37と、電極層35との間に挟持されて形成され
たものである。そして、これら第1の基板31、液晶層
33、電極層35、カラーフィルム36および絶縁シー
ト37により、液晶パネルが構成されている。なお、ス
トライプ状透明電極35上と絶縁シート37上にはポリ
イミド液晶配向膜が設けられている。
【0005】第2の基板32には、放電電極群38が帯
状電極として形成されている。第2の基板32と誘電体
膜37との間の空間は、前述したように放電プラズマを
発生するプラズマ放電領域34となっており、該放電領
域34は、スクリーン印刷法によって形成された隔壁3
9によって仕切られ、それぞれ独立したプラズマ放電空
間P1 、P2 、…Pn となっている。各プラズマ放電空
間P1 、P2 、…Pnには、例えば、ヘリウム、ネオ
ン、アルゴン、キセノンなどの不活性ガスが封入されて
いる。
【0006】カラーフィルタ36は、赤(R)、緑
(G)、青(B)の有色層が画素に対応してストライプ
状に配列され、かつ、これら各有色層と該有色層を仕切
るブラックマスク(図示略)とは、プラズマ放電領域3
4の長さ方向と直交するように配設され形成されてい
る。ここで、このブラックマスクは、遮光と画素間の漏
れ光によるコントラストおよび色純度の低下を防止する
ものとなっている。
【0007】このように構成されたプラズマアドレス型
液晶表示装置は、液晶層33を第1の基板31上に形成
された電極層35の透明電極に印加されるアナログ電圧
のサンプリングキャパシタとして機能させ、放電領域3
4で発生する放電プラズマをサンプリングスイッチとし
て機能させるよう構成されている。そして、カラーフィ
ルタ36の各有色層で色選別されたカラー画像を、表示
するようになっているのである。
【0008】ところで、カラーフィルタ36の形成法と
しては、フォトリソグラフィー法、印刷法、電着法、転
写法等いくつかの方法があるが、カラー画像を表示する
ための液晶ディスプレイではカラーフィルタ36に高い
加工精度が要求されることから、従来ではフォトリソグ
ラフィー法が主に採用されている。しかして、近年、特
に25”、42”のプラズマアドレス型液晶表示装置に
おいては、前記フォトリソグラフィー法では顔料分散レ
ジストを均一な厚さでしかも必要量だけ塗布するのが困
難であることなどから、該フォトリソグラフィー法に代
えてマイクロロッドバー方式が採用されるようになって
きている。
【0009】このマイクロロッドバー方式は、コアにス
テンレス製の細線を精密に巻き付けた「マイクロロッド
バー」を、その一部がフォトレジスト液を溜めた液槽に
浸されるようにして回転させ、これによりステンレス製
細線間の凹部に保持した液をマイクロロッドバー上に搬
送されるガラス基板の下面に塗布するものであり、ロス
なく必要量のみを塗布できるものとなっている。そし
て、このように必要量のみ塗布できることから、省液に
よるコストダウンや時間短縮による高生産性を図ること
ができ、しかも膜厚の均一性やそのコントロールの容易
さをも達成することができ、したがって大型パネル用カ
ラーフィルタの製造に好適な方法となっているのであ
る。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】ところで、前記のマイ
クロロッドバー方式によるカラーフィルタの製造方法で
は、フォトレジスト液を塗布する際ステンレス製の細線
をガラス基板に押しつけた状態で回転させるため、ステ
ンレス製細線にキズが入ってこれが削られることにより
ステンレスゴミが発生してしまい、またガラスゴミも発
生してしまう。
【0011】しかして、このようにしてゴミが発生して
しまうと、これらのゴミは各色のストライプ状カラーフ
ィルタパターン内に取り込まれてしまい、高反射突起不
良を招いてしまう。このような傾向は、最初の黒色カラ
ーフィルタパターン製造時にステンレス製細線がガラス
基板に直接タッチすることから、特にこの黒色カラーフ
ィルタパターン内にゴミが多くなり、高反射突起不良が
起こり易くなっているのである。なお、黒色カラーフィ
ルタパターン形成後については、各色の形成毎にその前
の色がバッファとなり、ステンレスゴミやガラスゴミの
発生が少なくなる。
【0012】また、このゴミのうち特にステンレスから
なる金属ゴミが黒色カラーフィルタパターンに混入して
しまうと、透明電極からなる電極層35のショート不良
を招いてしまう。さらに、前記突起は液晶ギャップ不良
と画質低下、プラズマ基板の薄板ガラス割れを引き起こ
すことがあり、したがってこのような突起をテープ研磨
によって除去する必要があるが、このようなテープ研磨
を行うことで工数増加し、コストアップを招いてしまっ
ている。
【0013】本発明は前記事情に鑑みてなされたもの
で、その目的とするところは、ステンレスゴミやガラス
ゴミの発生を防止し、これによりカラーフィルタの歩留
を向上してコストダウンを図り得るカラーフィルタの製
造方法を提供することにある。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明における請求項1
記載のカラーフィルタの製造方法では、感光性樹脂に所
定色の染料または顔料を分散してなるカラーフィルタ形
成用フォトレジスト液を、細線を巻装してなる棒状のマ
イクロロッドバーの前記細線間凹部で保持することによ
って移送し、この移送したカラーフィルタ形成用フォト
レジスト液を透明ガラス基板上に塗布して所定色のカラ
ーフィルタパターンを形成し、この所定色のカラーフィ
ルタパターンからカラーフィルタを製造するに際して、
前記透明ガラス基板のカラーフィルタ形成面に樹脂製の
透明保護膜を形成しておき、その状態でカラーフィルタ
形成用フォトレジスト液を細線間凹部で保持移送すると
ともに、該細線を透明保護膜表面に近接させることによ
って移送したカラーフィルタ形成用フォトレジスト液を
透明保護膜上に塗布することを前記課題の解決手段とし
た。
【0015】このカラーフィルタの製造方法によれば、
透明ガラス基板のカラーフィルタ形成面に樹脂製の透明
保護膜を形成しておくので、カラーフィルタ形成用フォ
トレジスト液を透明保護膜上に塗布する際に前記細線を
透明保護膜表面に近接させ該細線を透明ガラス基板上の
透明保護膜に押しつけた状態で回転させても、透明保護
膜によるクッション効果によって細線はもちろん透明ガ
ラス基板も機械的に強くこすられることがなく、したが
って細線や透明ガラス基板のゴミ発生が防止される。
【0016】本発明のカラーフィルタの製造方法では、
感光性樹脂に所定色の染料または顔料を分散してなるカ
ラーフィルタ形成用フォトレジスト液を、細線を巻装し
てなる棒状のマイクロロッドバーの前記細線間凹部で保
持することによって移送し、この移送したカラーフィル
タ形成用フォトレジスト液を透明ガラス基板上に塗布し
て所定色のカラーフィルタパターンを形成し、この所定
色のカラーフィルタパターンからカラーフィルタを製造
するに際して、前記マイクロロッドバーに巻装する細線
の表面に樹脂製の保護膜を形成しておき、その状態でカ
ラーフィルタ形成用フォトレジスト液を細線間凹部で保
持移送するとともに、該細線を透明ガラス基板表面に近
接させることによって移送したカラーフィルタ形成用フ
ォトレジスト液を透明ガラス基板上に塗布することを前
記課題の解決手段とした。
【0017】このカラーフィルタの製造方法によれば、
マイクロロッドに巻装する細線の表面に樹脂製の保護膜
を形成しておくので、カラーフィルタ形成用フォトレジ
スト液を透明ガラス基板上に塗布する際に前記細線を透
明ガラス基板表面に近接させその保護膜を透明ガラス基
板に押しつけた状態で回転させても、保護膜によるクッ
ション効果によって透明ガラス基板はもちろん細線も機
械的に強くこすられることがなく、したがって透明ガラ
ス基板や細線のゴミ発生が防止される。
【0018】
【発明の実施の形態】以下、本発明のカラーフィルタの
製造方法をその一実施形態例に基づいて詳しく説明す
る。まず、本実施形態例において採用するマイクロロッ
ドバー方式について説明すると、この方式では、図1
(a)、(b)に示すようなマイクロロッドバーレジス
ト塗布装置(以下、塗布装置と略称する)1を用いる。
【0019】この塗布装置1は、図1(a)に示すよう
に、例えば直径12mm程度の棒状のマイクロロッド2
に直径100〜135μm程度のステンレス製細線3を
緻密に巻き付け、巻装してなるマイクロロッドバー4を
備えて構成されたもので、図1(b)に示すように該マ
イクロロッドバー4の一部を、染料または顔料を分散し
てなるカラーフィルタ形成用のフォトレジスト液5を溜
めたレジスト液槽6に浸して回転させ、ステンレス製細
線3間に形成される凹部3aに前記フォトレジスト液5
を保持し、これをマイクロロッドバー4上に搬送される
透明ガラス基板7のフィルタ形成面7aに塗布するもの
である。
【0020】なお、マイクロロッド2の直径やステンレ
ス製細線3の直径については、形成するカラーフィルタ
の膜厚等によって適宜に選択される。すなわち、カラー
フィルタの膜厚を大きくしたい場合にはステンレス製細
線の直径も大きくし、一方、カラーフィルタの膜厚を小
さくしたい場合にはステンレス製細線の直径も小さくす
る。
【0021】ここで、本発明においては、特に前記ステ
ンレス製細線3の表面に樹脂製の保護膜8が形成されて
いる。この保護膜8は、エポキシ系、アクリル系、シリ
コーン系、オレフィン系等の樹脂からなるもので、弾
性、耐久性、耐薬品性、表面コーティング性等の点で要
求される性能を満たしている樹脂が選択され、これによ
って形成されたものとなっている。
【0022】例えばエポキシ系コーティング剤を選択し
た場合には、ステンレス性細線3にコーティングした
後、70〜80℃で30分間程度加熱し、さらに120
〜130℃で1時間程度加熱し硬化させ、保護膜8とす
る。また、シリコーン系コーティング剤を選択した場合
には、ステンレス性細線3にコーティングした後、15
0℃で4時間程度加熱し硬化させ、保護膜8とする。な
お、いずれの樹脂を選択した場合でも、コーティングに
ついては浸漬塗布法やスプレー塗布法、さらには電着法
などが採用される。
【0023】また、ステンレス製細線3表面への保護膜
8の形成に際しては、マイクロロッド2にステンレス製
細線3が巻装された状態、すなわちマイクロロッドバー
4に組み立てられた状態で、これらマイクロロッド2と
ステンレス製細線3との外側に露出している部分に樹脂
を同時にコーティングし、保護膜8を形成するようにし
てもよい。ただし、この方法では、樹脂のコーティング
作業は容易になるものの、ステンレス製細線3に形成さ
れる保護膜8の厚み制御が難しくなるので、コーティン
グ工程の管理を十分に行う必要がある。
【0024】次に、図1(a)、(b)に示した塗布装
置1を用いてなる、本発明のカラーフィルタの製造方法
の一実施形態例を説明する。まず、カラーフィルタを形
成する前記の透明ガラス基板7を用意し、図2(a)に
示すようにこれのカラーフィルタ形成面に樹脂製の透明
保護膜9を形成する。この透明保護膜9としては、エポ
キシ系またはアクリル系の樹脂からなる透明膜が用いら
れ、特に120〜150℃で2時間程度加熱することに
より硬化する熱硬化型のものや、2000〜3000m
J/cm2 程度の紫外線照射により硬化する紫外線照射
硬化型のものが好適に用いられる。なお、この例におい
ては、透明アクリルコーティング剤を5〜6μm程度の
厚さで全面塗布し、熱硬化処理あるいは紫外線照射硬化
処理を施すことによって透明保護膜9を得ている。
【0025】次に、図1(a)、(b)に示した塗布装
置1を用い、図2(b)に示すように透明ガラス基板7
上の透明保護膜9の上に幅60μm程度、厚さ1〜2μ
m程度の黒色のストライプ状カラーフィルタパターン1
0…を形成する。このカラーフィルタパターン10…の
形成にあたっては、図1(b)に示したように透明ガラ
ス基板7の裏面(透明保護膜9形成面と反対の側の面)
をローラ20によって押さえ、これによりその透明保護
膜9形成面をマイクロロッドバー4に当接させ押しつけ
る。そして、このような状態のもとでローラ20を回転
させることにより透明ガラス基板7を矢印A方向に搬送
する。
【0026】また、これと同時に、マイクロロッドバー
4を回転させ、レジスト液槽6(ここでは黒色のレジス
ト液槽)中のフォトレジスト液5をステンレス製細線
3、3間の凹部3aに保持させ、その状態で該ステンレ
ス製細線3、3を透明ガラス基板7に近接させ、透明ガ
ラス基板7上の透明保護膜9にステンレス製細線3表面
の保護膜8を当接させ押しつけることにより、黒色のフ
ォトレジスト液5を透明保護膜9上に所定パターンに塗
布する。このようにして黒色のフォトレジスト液5を塗
布したら、90〜120℃で30分間程度プリベーク
し、所定のフォトマスクで露光しさらに現像し、続いて
220℃で1時間程度のポストベークを行い、前述した
ように黒色のストライプ状カラーフィルタパターン10
…を形成する。
【0027】次いで、前記塗布装置1を用い、黒色のカ
ラーフィルタパターン10…形成と同様にして、図2
(c)に示すように透明ガラス基板7上の透明保護膜9
の上に厚さ1〜2μm程度青色のストライプ状カラーフ
ィルタパターン11…を形成する。ただし、この青色の
カラーフィルタパターン11…の形成にあたっては、前
記の黒色のカラーフィルタパターン10、10上に重な
るように、その幅を160μm程度とする。
【0028】次いで、前記塗布装置1を用い、黒色のカ
ラーフィルタパターン10…形成と同様にして、図2
(d)に示すように透明ガラス基板7上の透明保護膜9
の上に厚さ1〜2μm程度緑色のストライプ状カラーフ
ィルタパターン12…を形成する。ただし、この緑色の
カラーフィルタパターン12…の形成にあたっては、そ
の一側が前記の黒色のカラーフィルタパターン10上
に、他の側が別の黒色カラーフィルタパターン10上に
位置する青色のカラーフィルタパターン11上にそれぞ
れ重なるように、その幅を160μm程度とする。
【0029】次いで、前記塗布装置1を用い、黒色のカ
ラーフィルタパターン10…形成と同様にして、図2
(e)に示すように透明ガラス基板7上の透明保護膜9
の上に厚さ1〜2μm程度赤色のストライプ状カラーフ
ィルタパターン13…を形成する。ただし、この赤色の
カラーフィルタパターン13…の形成にあたっては、そ
の一側が前記の黒色のカラーフィルタパターン10上に
位置する青色のカラーフィルタパターン11上に、他の
側が黒色のカラーフィルタパターン10上に位置する緑
色のカラーフィルタパターン12上にそれぞれ重なるよ
うに、その幅を160μm程度とする。
【0030】このようにして黒色、青色、緑色、赤色の
各カラーフィルタパターン10、11、12、13を形
成したら、図2(f)に示すようにこれらカラーフィル
タパターン10、11、12、13を覆って厚さ5〜6
μm程度のアクリル系の透明保護層14を形成し、さら
にその上にITO膜をスパッタ法で厚さ130〜150
nm程度に形成する。そして、このITO膜を黒色カラ
ーフィルタパターン10に沿ってフォトリソグラフィ、
エッチング処理することにより、ストライプ状の透明電
極15を得る。
【0031】このようなカラーフィルタの製造方法にあ
っては、透明ガラス基板7のカラーフィルタ形成面に樹
脂製の透明保護膜9を形成しておくとともに、マイクロ
ロッドバー4に巻装したステンレス製細線3の表面に樹
脂製の保護膜8を形成しておくので、カラーフィルタ形
成用のフォトレジスト液5を透明ガラス基板7上に塗布
する際に、前記ステンレス製細線3を透明ガラス基板7
表面に近接させ該ステンレス製細線3を透明ガラス基板
7上の透明保護膜9に押しつけた状態で回転させても、
透明保護膜9および保護膜8によるクッション効果によ
ってステンレス製細線3、透明ガラス基板7の双方とも
に機械的に強くこすられることがなくなる。したがっ
て、このようにステンレス製細線3、透明ガラス基板7
の双方が共に機械的に強くこすられることがないように
したので、これらステンレス製細線3や透明ガラス基板
7からゴミが発生することを防止することができる。
【0032】なお、前記例においては、透明ガラス基板
7のカラーフィルタ形成面に樹脂製の透明保護膜9を形
成しておくとともに、マイクロロッドバー4に巻装した
ステンレス製細線3の表面に樹脂製の保護膜8を形成し
ておくようにしたが、これら透明保護膜9、保護膜8に
ついては、いずれか一方のみを形成するようにしてよ
い。また、前記例では黒色のカラーフィルタパターン1
0の上に青、緑、赤の各色のカラーフィルタパターンを
重ね合わせたが、黒色のカラーフィルタパターン10の
みによって十分な光学濃度値(OD値)が得られるので
あれば、青、緑、赤の各色のカラーフィルタパターンを
重ね合わせることなく形成するようにしてもよい。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように本発明における請求
項1記載のカラーフィルタの製造方法は、透明ガラス基
板のカラーフィルタ形成面に樹脂製の透明保護膜を形成
しておき、その状態でマイクロロッドバーの細線を透明
ガラス基板表面に近接させることによって保持移送した
カラーフィルタ形成用フォトレジスト液を透明ガラス基
板上に塗布するようにした方法であるから、カラーフィ
ルタ形成用フォトレジスト液を透明ガラス基板上に塗布
する際、細線を透明ガラス基板表面に近接させ該細線を
透明ガラス基板の透明保護膜に押しつけた状態で回転さ
せても、透明保護膜によるクッション効果によって細線
はもちろん透明ガラス基板も機械的に強くこすられるこ
とがなくなる。したがって、このように細線、透明ガラ
ス基板の双方が共に機械的に強くこすられることがない
ので、これら細線や透明ガラス基板にキズが入ったり削
られたりすることがなく、よってゴミが発生することを
防止してこのゴミ発生による不都合を防止し、カラーフ
ィルタの歩留を向上してコストダウンを図ることができ
る。
【0034】本発明における請求項2記載のカラーフィ
ルタの製造方法は、マイクロロッドバーに巻装する細線
の表面に樹脂製の保護膜を形成しておき、その状態で該
細線を透明ガラス基板表面に近接させることによって保
持移送したカラーフィルタ形成用フォトレジスト液を透
明ガラス基板上に塗布するようにした方法であるから、
カラーフィルタ形成用フォトレジスト液を透明ガラス基
板上に塗布する際、細線を透明ガラス基板表面に近接さ
せ該細線の保護膜を透明ガラス基板に押しつけた状態で
回転させても、保護膜によるクッション効果によって透
明ガラス基板はもちろん細線も機械的に強くこすられる
ことがなくなる。したがって、このように透明ガラス基
板、細線の双方が共に機械的に強くこすられることがな
いので、これら透明ガラス基板や細線にキズが入ったり
削られたりすることがなく、よってゴミが発生すること
を防止してこのゴミ発生による不都合を防止し、カラー
フィルタの歩留を向上してコストダウンを図ることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(a)はマイクロロッドバーの概略構成図、
(b)は(a)のマイクロロッドバーを用いたマイクロ
ロッドバーレジスト塗布装置の概略構成図である。
【図2】(a)〜(f)は、本発明のカラーフィルタの
製造方法の一実施形態例を工程順に説明するための要部
側断面図である。
【図3】プラズマアドレス型液晶表示装置の概略構成図
である。
【符号の説明】 1…塗布装置、2…マイクロロッド、3…ステンレス製
細線、4…マイクロロッドバー、5…カラーフィルタ用
のフォトレジスト液、7…透明ガラス基板、8…保護
膜、9…透明保護膜、10…黒色のカラーフィルタパタ
ーン、11…青色のカラーフィルタパターン、12…緑
色のカラーフィルタパターン、13…赤色のカラーフィ
ルタパターン

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 感光性樹脂に所定色の染料または顔料を
    分散してなるカラーフィルタ形成用フォトレジスト液
    を、細線を巻装してなる棒状のマイクロロッドバーの前
    記細線間凹部で保持することによって移送し、この移送
    したカラーフィルタ形成用フォトレジスト液を透明ガラ
    ス基板上に塗布して所定色のカラーフィルタパターンを
    形成し、この所定色のカラーフィルタパターンからカラ
    ーフィルタを製造するに際して、 前記透明ガラス基板のカラーフィルタ形成面に樹脂製の
    透明保護膜を形成しておき、 その状態でカラーフィルタ形成用フォトレジスト液を細
    線間凹部で保持移送するとともに、該細線を透明保護膜
    表面に近接させることによって移送したカラーフィルタ
    形成用フォトレジスト液を透明保護膜上に塗布すること
    を特徴とするカラーフィルタの製造方法。
  2. 【請求項2】 感光性樹脂に所定色の染料または顔料を
    分散してなるカラーフィルタ形成用フォトレジスト液
    を、細線を巻装してなる棒状のマイクロロッドバーの前
    記細線間凹部で保持することによって移送し、この移送
    したカラーフィルタ形成用フォトレジスト液を透明ガラ
    ス基板上に塗布して所定色のカラーフィルタパターンを
    形成し、この所定色のカラーフィルタパターンからカラ
    ーフィルタを製造するに際して、 前記マイクロロッドバーに巻装する細線の表面に樹脂製
    の保護膜を形成しておき、 その状態でカラーフィルタ形成用フォトレジスト液を細
    線間凹部で保持移送するとともに、該細線を透明ガラス
    基板表面に近接させることによって移送したカラーフィ
    ルタ形成用フォトレジスト液を透明ガラス基板上に塗布
    することを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7089555B2 (en) 2001-06-27 2006-08-08 International Business Machines Corporation Ordered semaphore management subsystem
US7406690B2 (en) 2001-09-26 2008-07-29 International Business Machines Corporation Flow lookahead in an ordered semaphore management subsystem
JP2010190947A (ja) * 2009-02-16 2010-09-02 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ用ガラス基板の再生装置

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7089555B2 (en) 2001-06-27 2006-08-08 International Business Machines Corporation Ordered semaphore management subsystem
US7406690B2 (en) 2001-09-26 2008-07-29 International Business Machines Corporation Flow lookahead in an ordered semaphore management subsystem
US7917908B2 (en) 2001-09-26 2011-03-29 International Business Machines Corporation Flow lookahead in an ordered semaphore management subsystem
JP2010190947A (ja) * 2009-02-16 2010-09-02 Toppan Printing Co Ltd カラーフィルタ用ガラス基板の再生装置

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