CN109573528B - 辊清洁装置 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种辊清洁装置(100),其包括:支撑框架(1);清洁部件(2),其以能够相对于所述框架(1)移动的方式由所述框架(1)支撑,并且所述清洁部件(2)被构造成与辊(20)接触以清洁所述辊(20)的外表面;一个或多个锁定部件(10),其被构造成当所述辊(20)移动时将所述框架(1)固定在相对于所述辊(20)的预定位置;所述锁定部件(10)被构造成相对于所述框架(1)竖直移动。此外,本发明涉及一种辊清洁方法。

Description

辊清洁装置
技术领域
本发明涉及辊清洁装置,特别地涉及用于辊式输送机平面的辊清洁装置。此外,本发明涉及辊清洁方法。
背景技术
辊式输送机平面,也称为辊式输送机,在许多技术领域中是广泛应用的,借助于该辊式输送机平面使各种性质的物体沿着给定的方向前进。其中大量使用辊式输送机的典型领域是例如用于玻璃片材(该片材直接载置于辊)的热处理的炉的领域。
实际上,在玻璃片材的生产循环中,特别是例如在炉中的热处理期间,在辊式输送机平面上运输该片材。
辊式输送机平面包括沿着输送方向并排的多个平行辊。驱动至少一些辊以确保载置于辊的片材的滑动。
在所有使用领域中特别感觉到的问题是对形成输送平面的辊进行清洁的困难。实际上,由一个或多个操作者手动地进行辊的清洁,操作者将沿着整个输送机平面移动以到达所有辊。除了冗长和费力之外,操作还涉及给定量的风险,因为在清洁期间辊将被致动旋转以允许精确地清洁各个辊的整个表面。
所说明的缺点显著地突出,因为需要对用于玻璃片材(片材直接载置于辊)的热处理的炉中载置的辊式输送机平面进行清洁。在该情况下,实际上,炉将被关闭并冷却到接近室温以允许操作员访问。
从背景技术中已知两种不同的辊清洁装置。在意大利专利申请号102010901805407中记载了一种装置。
在欧洲专利号EP 2 400 246 B1中已知另一种装置。值得注意的是,后一专利记载了一种用于处理包括锁定元件31的辊的装置,当这些辊绕着各自的旋转轴线旋转时,该锁定元件31允许将设备保持在相对于辊3的固定位置。
该系统中的锁定部件31与辊清洁装置1的支撑框架4一体地设置。因此,竖直移动锁定部件31的位置也相应地移动了支撑框架4的竖直位置。实际上,设置滑轨39以允许辊清洁装置1沿着相对于辊的旋转轴线的垂直方向(与载置于辊的玻璃片材的滑动方向一致)移动,该滑轨被构造成被推动抵靠辊以便确保归功于锁定部件31的升高的辊清洁系统的滑动。
实际上,通过使推动滑轨39抵靠辊3,使锁定部件31与框架4一起向上移动,使得锁定部件31完全脱离辊3,并且归功于辊3的滚动,辊清洁装置1可以通过辊3的滚动而滑动运输。
然而,该装置具有需要增加支撑框架4的移动的显著缺点。这是由于支撑框架4和锁定部件31一体地设置。因此,为了确保锁定部件31的升高及其从辊3的脱离,还需要将支撑框架4升高至少等于锁定部件31的联接高度的高度。
实际上,如该专利的图6所示,锁定部件31包括插入两个连续的辊3之间的自由滚动轮37’,以允许锁定装置1相对于辊3的定位。为了使锁定部件31从辊3脱离,因此轮37’需要从辊3完全脱离并因此升高到使其下端部相对于辊3的上端部位于更高处。因此,在图6所示的特定情况下,该移动高度大于轮37'的半径。该移动高度越大,该轮37'的直径越小。
因此,每次装置1沿着Z轴从一个位置移动到另一个位置时,整个支撑框架4也将沿着Y轴移动预定的长度。这导致例如以下缺点:诸如清洁部件的连接到支撑框架4的所有元件的位置将很大程度地向上移动。这还影响了装置的总体积,并因此限制了装置的有关生产线(辊式输送机在该生产线中运转)的管道高度的使用,例如有关用于玻璃热处理的炉的高度。此外,所述的很大程度的竖直移动导致装置的重心升高以及随后在沿着辊式输送机前进期间装置本身的不稳定性。
因此,本发明的目的是提供一种辊清洁装置,特别地用于辊式输送机平面的辊清洁装置,其允许以简单且精确的方式清洁辊而无需支撑框架的增加的竖直移动。本发明的目的还在于提供一种辊清洁装置,其相对于背景技术特别简单且不太麻烦。
本发明的其它特征和优点将从附图的说明中变得更加明显。
发明内容
本发明基于锁定部件被构造成相对于框架竖直移动的制造辊清洁装置的构思。这允许例如从框架的移动释放锁定部件的移动。
当在本发明中提及X轴时,是指平行于辊的旋转轴线的轴。当提及Z轴时,是指垂直于辊的旋转轴线并且平行于包含辊的轴线的平面的轴。替代地,当提及Y轴时,是指垂直于辊的旋转轴线并且垂直于包含辊的轴线的平面的轴。当提及竖直方向时,是指平行于Y轴的方向,而当提及输送方向时,是指平行于Z轴的方向。
根据本发明的特定实施方式,提供了一种辊清洁装置,其包括:支撑框架;清洁部件,其以能够相对于所述框架移动的方式由所述框架支撑,并且所述清洁部件被构造成与辊接触以清洁所述辊的外表面;一个或多个锁定部件,其被构造成当所述辊移动时将所述框架固定在相对于所述辊的预定位置;所述锁定部件被构造成相对于所述框架竖直移动。该解决方案是特别有利的,因为其允许显著地减小支撑框架所经受的竖直移动的程度,在本发明的该特定实施方式中,支撑框架优选地也可以仅移动到足以与辊接触以及然后使支撑框架处于与辊不接触的状态。实际上,锁定部件可以相对于框架移动的事实意味着两个元件的移动可以分开,并且因此使锁定部件脱离所需的移动程度独立于框架的移动程度。
根据本发明的特定实施方式,提供了一种辊清洁装置,其中所述锁定部件被构造成从与所述辊接触的位置移动到非接触位置,并且被构造成从非接触位置移动到与所述辊接触的位置。该解决方案是有利的,因为其允许具有能够以牢固的方式锁定支撑框架的锁定部件,这归功于锁定部件和辊之间的接触。此外,将该特征与框架和锁定部件之间的竖直移动相结合的事实允许牢固地锁定,同时允许借助于框架的最小移动来实现该锁定。此外,该解决方案是特别有利的,因为其允许极大地简化装置,由于不再需要具有允许锁定部件升高的诸如滑轨的附加元件。实际上,归功于框架和锁定部件的单独存在,能够锁定和释放配置于辊的装置,因此不需要诸如在现有技术中通常使用的滑轨的第三附加元件。
根据本发明的特定实施方式,提供了一种辊清洁装置,其中所述锁定部件和所述框架借助于一个或多个致动器在竖直方向上往复移动。
根据本发明的特定实施方式,提供了一种辊清洁装置,其中当所述锁定部件与所述辊接触时,所述框架相对于所述辊定位在非接触位置,并且当所述框架与所述辊接触时,所述锁定部件相对于所述辊定位在非接触位置。该解决方案是特别有利的,因为在装置沿着Z轴的滑动操作期间,允许锁定部件不影响该滑动。同时,归功于当锁定部件定位在相对于辊的接触位置时框架与辊不接触的事实,能够防止辊清洁装置以某些方式经受沿着输送方向的移动。
根据本发明的特定实施方式,提供了一种辊清洁装置,其中所述锁定部件包括空转的旋转元件,所述空转的旋转元件被构造成插入两个相邻的辊之间的空间。该解决方案是特别有利的,因为其允许具有非常简单的元件,诸如尽管辊移动但仍能够保持静止的轮,因此其允许确保将框架固定于预定位置,尽管框架位于移动的辊上方。
根据本发明的特定实施方式,提供了一种辊清洁装置,其中所述框架具有平坦底面,使得当所述平坦底面与所述辊接触时,所述辊清洁装置可以因为所述辊自身的滚动而沿着所述辊的输送方向移动。该解决方案是特别有利的,因为其允许极大地简化装置,由于不再需要具有允许锁定部件的升高以及沿着Z轴滑动的附加元件(一对滑轨)。实际上,归功于框架的底面是平坦的事实,框架本身会引起装置沿着Z轴的滑动。
根据本发明的特定实施方式,提供了一种辊清洁装置,其中所述清洁部件包括弧形清洁元件,所述弧形清洁元件包括位于所述清洁部件的弧形下端部分的研磨材料和/或静电布,并且所述弧形清洁元件被构造成与所述辊直接接触以便清洁和/或抛光所述辊的外表面。该解决方案是特别有利的,因为归功于弧形表面,其允许具有与辊直接接触的表面。因此,清洁辊的外表面所需的时间会少得多,因为归功于具有能够同时与辊的延伸面接触的清洁元件的事实,可以同时地清洁一部分辊。
根据本发明的特定实施方式,提供了一种辊清洁装置,其中所述清洁部件包括具有刮板的元件,所述刮板位于所述清洁部件的下端部分并且被构造成与所述辊直接接触以便去除位于所述辊的外表面的异物。该解决方案是特别有利的,因为其允许非常快速地去除异物,否则该物体在仅使用研磨材料的情况下会需要漫长的磨光步骤。此外,该具有刮板的清洁元件优选地包括具有研磨材料的支撑件和具有刮板的支撑件,其中具有刮板的支撑件包括位于其下端部分中的刮板。甚至更优选地,具有研磨材料的支撑件和具有刮板的支撑件与辊直接接触,并且定位成相对于穿过圆筒中心的竖直轴线对称地相反。
根据本发明的特定实施方式,提供了一种辊清洁装置,其中所述清洁部件包括至少两个弹簧,所述弹簧被构造成允许调节所述清洁元件相对于所述辊的角度。该解决方案是特别有利的,因为其允许吸收可能存在的异物,否则异物会有损清洁元件上增加的回弹,并且因此允许调节清洁元件的角度而没有影响辊本身的风险。
根据本发明的特定实施方式,提供了一种辊清洁装置,其中所述清洁部件包括调节器,所述调节器被构造成调节所述清洁部件与所述辊的接触力。该解决方案是特别有利的,因为其允许防止与辊的外表面接触的清洁部件的过大的力。此外,还有利的是,其允许根据例如所使用的研磨材料的类型调节将施加于辊的力。
根据本发明的特定实施方式,提供了一种用于处理辊的装置,其适于使输送装置的辊受到维护操作以从辊的外表面消除杂质和结壳,该装置包括锁定部件,锁定部件适于当辊被致动以绕着各自的旋转轴线旋转时,将装置保持在载置于输送装置的固定位置中,其中锁定部件包括适于插入一对相邻的辊之间的空转的旋转元件;该装置还包括:设置有横梁的框架;设置有能够沿着横梁移动的滑架以及与支撑头可拆卸地联接的清洁元件的清洁部件;适合于相对于框架推动锁定部件的致动部件。
根据本发明的特定实施方式,提供了一种通过辊清洁装置清洁辊的方法,其中所述辊清洁装置通过使锁定部件相对于所述辊清洁装置的框架下降而停止于相对于所述辊的预定位置处。该解决方案是特别有利的,因为其允许极大地减少支撑框架经受的竖直移动量,在本发明的该特定实施方式中,支撑框架优选地也可以仅移动到足以与辊接触以及然后使支撑框架处于与辊不接触的状态。实际上,锁定部件可以相对于框架移动的事实意味着两个元件的移动可以分开,并且因此使锁定部件脱离所需的移动程度独立于框架的移动程度。
附图说明
参照附图说明本发明,其中相同的附图标记和/或记号表示系统的相同部件和/或相似部件和/或对应部件。在附图中:
图1的(a)、图1的(b)和图1的(c)示意性地示出了根据本发明的一个实施方式的辊清洁装置的立体图、侧视图和主视图;
图2的(a)和图2的(b)分别示意性地示出了根据本发明的特定实施方式的清洁元件的主视图和侧视图;
图3示意性地示出了根据本发明的特定实施方式的锁定部件;
图4的(a)、图4的(b)、图4的(c)分别示出了根据本发明的一个实施方式的弧形清洁元件的主视图、侧视图和俯视图;
图5的(a)、图5的(b)、图5的(c)分别示出了根据本发明的一个实施方式的具有刮板的清洁元件的主视图、侧视图和俯视图;
图6的(a)、图6的(b)和图6的(c)示意性地示出了根据本发明的特定实施方式的使用图1中绘示的装置的辊清洁方法的第一状态的立体图、侧视图和主视图;
图7的(a)、图7的(b)和图7的(c)示意性地示出了根据本发明的特定实施方式的使用图1中绘示的装置的辊清洁方法的在图6的(a)、图6的(b)和图6的(c)所绘示的状态之后的状态的立体图、侧视图和主视图;
图8的(a)、图8的(b)和图8的(c)示意性地示出了根据本发明的特定实施方式的使用图1中绘示的装置的辊清洁方法的在图7的(a)、图7的(b)和图7的(c)所绘示的状态之后的状态的立体图、侧视图和主视图;
图9的(a)、图9的(b)和图9的(c)示意性地示出了根据本发明的特定实施方式的使用图1中绘示的装置的辊清洁方法的在图8的(a)、图8的(b)和图8的(c)所绘示的状态之后的状态的立体图、侧视图和主视图;
图10的(a)、图10的(b)、图10的(c)示意性地示出了根据本发明的特定实施方式的使用图1中绘示的装置的辊清洁方法的在图9的(a)、图9的(b)和图9的(c)所绘示的状态之后的状态的立体图、侧视图和主视图;
图11的(a)、图11的(b)、图11的(c)示意性地示出了在根据本发明的特定实施方式的辊上的纵向锁定部件的立体图、侧视图和主视图。
具体实施方式
如附图所示,以下通过参照特定实施方式来说明本发明。然而,本发明不限于在以下详细描述中说明并在附图中绘示的特定实施方式,而是所说明的实施方式仅例示了本发明的各种方面,本发明的范围由权利要求限定。对于本领域技术人员来说,本发明的进一步修改和变型是显而易见的。
参照图1的(a)、图1的(b)和图1的(c),简要地介绍根据本发明的辊清洁装置100。
如图所示,辊清洁装置100位于辊式输送机上,辊式输送机包括沿输送方向Z一个接一个地载置的一系列辊20,其中辊20具有彼此平行的轴线以便定义输送方向Z。
该装置100包括支撑框架1,该支撑框架1被构造成支撑并确保清洁部件2和两个锁定部件10(在本说明书中稍后更详细地说明其操作)的滑动,两个锁定部件10优选位于辊20的沿着X轴的两相反的端部处并且被构造成固定框架1相对于辊20的位置。
如图所示,清洁部件2包括滑架21,滑架21被构造成沿着框架1的两个引导件滑动以便使清洁部件2沿着X轴平移。
在图中所绘示的示例中,通过诸如传动带的移动部件30确保滑架21沿着X轴的滑动,该移动部件30将沿着X轴的平移运动传递到滑架21。由此,可以使清洁部件2在两个锁定部件10之间自由地滑动,如所述地,两个锁定部件10优选位于辊20的两相反的端部处,以便大体上沿着辊20的整个长度清洁辊20。
显然,尽管在图1的(a)、图1的(b)和图1的(c)绘示的特定实施方式中绘示了可以供清洁部件2的滑架21滑动的两个滑动引导件,但是该引导件的数量并非限制性的。实际上,在例如能够同时地清洁大量辊的外表面的清洁部件(并因此具有滑架21的沿着Z轴的更大的延伸)的情况下,可以使用多于例如两个滑动引导件。
参照图2的(a)和图2的(b)更详细地说明清洁部件2。图2示出了在垂直于X轴的平面上获得的清洁部件2的主视图,而图2的(b)示出了清洁部件2的侧视图(从图2的(a)中的左侧)。
在附图中绘示的特定示例中绘出了清洁部件2,其具有两种不同类型的四个清洁元件3和4。
用附图标记3表示的清洁元件绘示了具有弧形下端部的弧形清洁元件3,该弧形下端部可移除地安装有能够允许辊的清洁和抛光的研磨材料层31或者可选地静电布,并且参照图4的(a)至图4的(c)更详细地说明该具有弧形下端部的弧形清洁元件3。
用附图标记4表示的清洁元件代替地绘示了具有能够消除诸如粘附到辊20的小玻璃碎片的异物的刮板的清洁元件4,并且参照图5的(a)至图5的(c)更详细地说明了具有刮板的清洁元件4。
如上所述,该清洁部件2具有滑架21,滑架21被构造成使清洁部件沿着X轴移动以在清洁部件沿着辊20的纵向延长移动的同时清洁辊20。此外,清洁部件2可以包括诸如致动器的马达部件,该马达部件被构造成确保清洁元件3和4沿着Y轴平移,以便将清洁元件3和4从与辊20接触的位置移动到非接触位置,并且反之亦然。
此外,如图2的(b)中的侧视图所示,清洁部件2包括压力调节器5,该压力调节器5被构造成调节作用于清洁元件3和4的力,并因此调节清洁元件3和4作用于辊20的压力。因此,该压力调节器5能够以独立的方式调节各个清洁元件3和4作用于辊20的压力。然而,在仅安装一个压力调节器5的情况下,可以向各个清洁元件3和4提供相同的压力。
如上所述,通过马达部件确保清洁部件2沿着X轴和Y轴的移动,该马达部件能够使滑架21沿着X轴平移并且能够使清洁元件3和4沿着Y方向移动并因此能够与辊20接触。
因此,清洁部件2可以独立于支撑它们的支撑框架1的移动而沿着X轴和Y轴自由地移动。
参照图3,详细地说明锁定部件10的操作以及因此清洁部件2如何与滑架21一起沿着Z轴移动的操作。
由于如上所述的该装置包括两个类似的锁定部件,所以为了不再次重复相同的说明,仅说明其中一个锁定部件的操作,另一个锁定元件10优选具有与这里说明的锁定部件相同的特征。
如图所示,锁定部件10包括在该示例中由轮11代表的空转滚动元件。在本示例中有五个轮11;五个轮11可旋转地紧固于结构12,结构12包括面向支撑框架1的外部区域的正面13a和面向支撑框架1的内部区域的背面13b。两个面13a、13b沿着Z轴定位并且通过使用沿着两个面13a和13b的延长以给定间隔定位的沿着X轴的横梁14,将两个面13a、13b保持在大于或等于轮11(沿着X轴)的深度的预定距离处。
轮11的旋转轴线Ax1被约束到两个面13a和13b,而轮11借助于轴承自由地空转。
结构12连接到位于结构12的沿着Z轴的左右端处的移动部件15。因此,该移动部件15在一侧连接到支撑轮11的结构12,并且在另一侧连接到支撑框架1。
因此,由于移动部件15的移动,能够移动轮11相对于支撑框架1的定位。该移动部件15可以例如由致动器代表。
如图所示,支撑框架1具有下端部1a,下端部1a具有平坦面。因此,当辊清洁装置100的下端部由支撑框架1的平坦下端部1a代表时,归功于供装置100载置的辊20的滚动,装置100可以沿着Z方向平移。
可选地,在辊清洁装置100的下端部由轮11代表的情况下,这种可绕其自身轴线Ax1自由旋转的轮允许辊清洁装置100保持在相对于旋转中的辊20的固定位置,这是因为辊的移动被传递到可自由旋转的轮11,所以可以保持在固定位置。
因此,移动部件15被构造成使轮11占据辊清洁装置100的下部的步骤和下端部代替地被支撑框架1的平坦面1a占据的步骤交替。
如上所述,辊清洁装置100优选地包括位于沿着辊20的X轴的两相反端部处的两个锁定部件10,以便有效地锁定辊清洁装置100相对于辊20的位置。以使得移动部件15优选地同时以相同的移动作用的方式控制两个锁定部件。
轮11的数量取决于同时被清洁的辊20的数量,并因此取决于清洁部件2的清洁元件3和4的数量。在该情况下,由于存在四个清洁元件,所以优选地存在五个轮。实际上,轮的数量优选等于辊的数量加1。
参照图4的(a)至图4的(c)说明弧形清洁元件3,该弧形清洁元件3具有位于其下端部的、能够清洁和抛光辊20的研磨材料或静电布。
图4的(a)示出了弧形清洁元件3的在与辊20的外表面接触的状态下在垂直于辊20的轴线的平面上的主视图。
因此,当使弧形清洁元件3与辊20的外表面接触时,辊20的部分表面与研磨材料31或与静电布直接接触。
因此,借助于压力调节器5,能够调节研磨材料或静电布31清洁和抛光辊20的外表面的力。可以例如根据所使用的材料的类型调节该压力,例如,根据所使用的研磨材料31的细度的水平调节该压力。
当弧形清洁元件3与辊20接触时,辊20被构造成绕其自身轴线旋转,使得辊20的整个外表面可以被弧形清洁元件3清洁和抛光。
为了允许在辊20的清洁和抛光过程中产生的灰尘能够被有效地从辊20的外表面移除,在清洁元件3中制造有孔32以抽吸灰尘。
实际上,如图1所示,从辊20移除的灰尘借助于抽吸风扇被抽吸,并通过可伸长的管被输送到位于锁定部件10处的管34的出口。
参照图5的(a)至图5的(c),说明具有刮板的清洁元件4,其刮板被构造成消除诸如粘附于辊20的玻璃碎片的异物。
具有刮板的清洁元件4具有下端部,该下端部安装有具有研磨材料的支撑件40和具有刮板的支撑件41。这两个支撑件40和41定位成使得它们的一个端部可以载置于辊20的外表面。
因此,如图所示,两个支撑件40和41相对于穿过辊20的中心的竖直轴线以对称地相反的方式定位。在图5的(a)所示的示例中,使辊优选地沿逆时针方向旋转,使得从具有刮板的支撑件41的刮板41a分离在辊20的外表面上的可能的异物。
此外,具有研磨材料的支撑件40的存在允许清洁和抛光辊20的外表面,但同时还确保具有刮板的清洁元件4的稳定性,从而允许刮板41a与辊20的外表面保持接触。
实际上,如图5的(b)中的细节B所示,两个支撑件40和41安装于弹簧42,弹簧42允许刮板41a相对于辊20保持适当的角度,从而有效地减小通过切割辊20而损坏辊20本身的可能性。此外,在异物与具有刮板的支撑件41的刮板41a接触的情况下,弹簧42允许减轻冲击。
对于弧形清洁元件3,还为清洁元件4安装了缝43,以允许在辊20的外表面抽吸借助于刮板41a被分离的可能的异物。
如图5的(c)所示,具有刮板的清洁元件4优选地被分成彼此距离为D1的两个元件,以便具有沿着X轴的较短刮板41a,并因此具有增加的柔性。
如上关于图2的(a)所说明的,清洁部件2优选地包括具有刮板的清洁元件4和三个弧形清洁元件3。实际上,在辊清洁装置100一次沿着Z轴移动一个辊的情况下,能够使各个辊20受到利用四种不同材料的清洁序列,从而有效地清洁辊20。
从滑架21的下游侧(相对于输送方向Z)开始,优选地存在具有刮板的清洁元件4、研磨清洁元件3、具有更细的颗粒的另一个研磨清洁元件3以及最后的具有静电布的元件3。
由此,如果使装置100一次沿着Z轴前进一个辊,则依次利用所有四个清洁元件处理各个辊20。具有刮板的第一清洁元件4去除辊20的外表面上的可能的异物,第二和第三研磨清洁元件3清洁并抛光辊的外表面,而具有静电布的第四清洁元件3则有效地去除仍在辊20的外表面上的灰尘。
由于以这种方式,不利用上述的所有清洁元件处理辊式输送机的前三个辊和后三个辊,所以可以通过手持着装置100并手动地翻转清洁元件的位置来对它们进行处理。
可选地,另一种可能是在所有四个清洁元件上同时使用相同的清洁元件,从而使装置100一次前进四个辊。由此,一旦完成了利用给定的清洁元件清洁辊式输送机的所有辊,则更换清洁元件,并且直到清洁所需的所有清洁元件都被使用,才完成了利用清洁元件等清洁整个辊式输送机。
图11的(a)至图11的(c)示出了辊上的连接到辊清洁装置100的纵向锁定装置50,该纵向锁定装置50被构造成锁定辊清洁装置100沿着纵轴(X轴)的移动。
实际上,在清洁操作期间,由于没有使装置100沿着X轴保持静止的限制,所以能够使装置100经受沿着X轴的移动。因此,该装置防止了这种移动。
装置50在锁定部件10处位于辊清洁装置100的一侧。如图11的(a)至图11的(c)所示,装置50包括具有下部弧形轮廓的端部51,以便与辊20的外表面的一部分接触。端部51连接到移动臂52,移动臂52被构造成借助于以下说明的移动使端部51沿着X轴和沿着Y轴移动。
端部51被构造成与辊20的衬套201接触并压靠辊20的衬套201。实际上,当端部51压靠衬套201时,由于端部51通过移动臂52连接到框架1的事实,可以有效地使辊清洁装置100沿着X轴停止,并因此由于在辊20的清洁期间在清洁部件2和辊20之间起作用的力而使框架1相对于衬套201的移动受到有效阻碍。
如上所述,可以借助于移动臂52使端部51沿着X轴和Y轴移动。在初始状态下,臂52优选地处于竖直位置(平行于Y轴)。然后旋转臂52直到其到达平行于X轴的水平位置,即直到端部51与辊20的外表面的一部分接触。然后延伸其中优选地具有致动器的臂52,以便使臂52的下部522部分和上部521部分彼此远离,直到端部51的端部部分511与衬套201接触,如图所示,衬套201具有比辊20大的直径。在清洁过程完成并且辊清洁装置100沿着Z轴移动之后,使装置50返回到开始位置,如以下详细说明的。
此外,尽管会需要类似于这里说明的两个装置50来保持辊清洁装置100沿着X轴的固定位置,其中各所述装置均位于两个锁定部件10中的一个锁定部件10处,但是本发明人发现还能够通过单独安装一个装置50来防止辊清洁装置100沿着X轴的移动。
实际上,已经注意到,在清洁操作期间辊清洁装置100的移动方向通常总是相同的,并且该移动方向与朝向布线所在的并因此更重的长边X轴的移动一致。
因此,在锁定部件10将辊清洁装置100定位在相对于辊20的给定位置之后,优选的是具有类似这里说明的并且用于纵向锁定在辊上的装置50,以使装置50的端部51定位成抵靠辊20的衬套201,直到完成清洁部件2所位于的那些给定的辊的清洁操作。
参照图6至图10,说明借助于上述辊清洁装置100的清洁方法。
图6的(a)至图6的(c)示出了如下状态:归功于定位成与辊20直接接触的锁定部件10而使辊清洁装置100固定在相对于辊20的给定位置。实际上,各个轮11与两个辊20直接接触,使得即使辊20绕其自身轴线旋转,各个轮11也保持在相同位置,从而允许辊清洁装置100的锁定。
在该初始状态下,清洁元件3和4位于与辊20的非接触位置。即使未绘示出,在装置100具有类似于上述一个装置的用于纵向锁定在辊上的装置50的情况下,用于纵向锁定在辊上的装置50在该状态下也使端部51与辊20的衬套201接触(在图6的(a)至图6的(c)中说明)。
在图7的(a)至图7的(c)所示的连续状态中,清洁元件3和4被降低并且定位成与辊20的外表面接触,以便清洁辊20的外表面。此外,归功于清洁部件2的滑架21沿着X轴的平移,可以大体上沿着辊的整个长度清洁辊20的外表面。
实际上,当使滑架21沿着X轴滑动时,使辊绕其轴线旋转,从而辊20的整个外表面可以与清洁元件3和4接触,并且从而可以清洁辊20的整个外表面。
辊20的外表面的清洁在例如滑架21沿着X轴移动到达相对于起始端的相对端然后返回到起始位置之后(已经行进了两次辊20的长度:离开路径和返回路径)可以认为结束。然而,显然为了改进清洁,该过程也可以重复多次:例如,滑架21可以行进三次或更多次的辊的长度。实际上,在辊的外部清洁可以被认为结束之前,滑架21不必返回到起始位置。
在已经清洁了所有辊的外表面之后(如图8的(a)至图8的(c)所示),清洁元件3和4升起并从辊20的外表面分离,并且辊清洁装置100沿着Z轴移动。即使没有绘示出,在装置100具有类似于上述一个装置的用于纵向锁定在辊上的装置50的情况下,用于纵向锁定在辊上的装置50在该状态下也使端部51处于与辊20的衬套201不接触的竖直位置(图8的(a)至图8的(c)中所说明的)。
清洁元件3和4的升高程度还考虑了在锁定部件10的释放过程中,支撑框架1以及因此与其连接的清洁部件2沿着竖直轴线下降给定的尺寸直到框架1的平坦底面1a与辊20接触。
如上所述,为了确保辊清洁装置100沿着Z轴的移动,移动部件15被构造成使锁定部件10相对于支撑框架1移动。
因此,通过升高锁定部件10,使轮11从辊20分离,从而完全脱离,并且支撑框架1的平坦底面1a与辊20接触,归功于辊20的旋转,辊20可以沿着Z轴输送辊清洁装置100。
该解决方案是非常有利的,因为其允许解耦(decouple)锁定部件10的移动范围和框架1的移动范围。实际上,现有技术的其它装置被构造成使得支撑框架和锁定部件一起移动。然而,利用这些装置,框架将被极大地升高,因为要允许锁定部件完全脱离辊。相反,如图8的(a)至图8的(c)所示,在本发明中,归功于解耦两个元件的移动范围的事实,足以使支撑框架1升高或降低相对于背景技术中的支撑框架极大减小的尺寸。
在图9的(a)至图9的(c)中说明的连续步骤中,升高的轮11允许借助于辊20的旋转使辊清洁装置100沿着Z方向平移直到到达预定位置。当到达该位置时,使锁定部件10向下移动以便与辊20接触并在支撑框架1同时升高的情况下将装置100相对于辊20锁定。如上所述,借助于移动部件15进行该升降操作。
显然,优选地,锁定部件10在到达最终位置之前开始下降,因为锁定部件10的下降过程具有明确限定的持续时间并且由于辊20优选地在该过程中保持移动,优选的是计算锁定部件10即将开始下降的时刻以便达到预定的最终定位。
如上所述,装置100的沿着Z轴的移动范围优选等于在图2的(a)中绘示的特定情况中的两个相邻的辊之间的距离。或者,在同时安装四个相同的清洁元件的可选情况中,优选地存在等于两个相邻的辊之间的距离的四倍的沿着Z轴的移动。显然,例如,在清洁部件上安装有两两成对地载置的两种不同类型的四个清洁元件的情况中,类似地可以是等于两个相邻的辊之间的距离的两倍的沿着Z轴的移动。
尽管参照上述实施方式说明了本发明,但是对于本领域的专业人员而言显而易见的是,在不脱离本发明的目的和保护范围的情况下,能够根据以上教导并且在所附权利要求的范围内对本发明进行若干修改、变型和改进。
例如,尽管在本发明中说明了由轮代表空转滚动元件,但显然可以替代地使用诸如具有低摩擦系数的杆的元件,该元件被构造成插入两个连续的辊之间。
此外,即使在本发明中说明了具有四个清洁元件的清洁部件,但根据装置的尺寸,清洁元件的数量也能够小于或大于四个。
最后,没有对本领域专业人员已知的那些领域进行说明,以避免过度地且无用地掩盖所说明的发明。
因此,本发明不限于上述实施方式,而是仅受所附权利要求的保护范围的限制。

Claims (11)

1.一种辊清洁装置(100),其包括:
支撑框架(1);
清洁部件(2),其以能够相对于所述支撑框架(1)移动的方式由所述支撑框架(1)支撑,并且所述清洁部件(2)被构造成与辊(20)接触以清洁所述辊(20)的外表面;
一个或多个锁定部件(10),其被构造成当所述辊(20)移动时将所述支撑框架(1)固定在相对于所述辊(20)的预定位置;
所述辊清洁装置(100)的特征在于,
所述锁定部件(10)被构造成相对于所述支撑框架(1)竖直移动。
2.根据权利要求1所述的辊清洁装置(100),其特征在于,所述锁定部件(10)被构造成从与所述辊(20)接触的位置移动到非接触位置,并且被构造成从非接触位置移动到与所述辊(20)接触的位置。
3.根据权利要求1或2所述的辊清洁装置(100),其特征在于,所述锁定部件(10)和所述支撑框架(1)借助于一个或多个致动器(15)在竖直方向(Y)上往复移动。
4.根据权利要求1或2所述的辊清洁装置(100),其特征在于,当所述锁定部件(10)与所述辊(20)接触时,所述支撑框架(1)相对于所述辊(20)定位在非接触位置,并且当所述支撑框架(1)与所述辊(20)接触时,所述锁定部件(10)相对于所述辊(20)定位在非接触位置。
5.根据权利要求1或2所述的辊清洁装置(100),其特征在于,所述锁定部件(10)包括空转的旋转元件(11),所述空转的旋转元件(11)被构造成插入两个相邻的辊(20)之间的空间。
6.根据权利要求1或2所述的辊清洁装置(100),其特征在于,所述支撑框架(1)具有平坦底面(1a),使得当所述平坦底面(1a)与所述辊(20)接触时,所述辊清洁装置(100)能够通过滚动所述辊(20)而沿着所述辊的输送方向(Z)移动。
7.根据权利要求1或2所述的辊清洁装置(100),其特征在于,所述清洁部件(2)包括弧形清洁元件(3),所述弧形清洁元件(3)包括位于所述清洁部件(2)的下端部分的研磨材料和/或静电布,并且所述弧形清洁元件(3)被构造成能够与所述辊直接接触以便清洁和/或抛光所述辊(20)的外表面。
8.根据权利要求1或2所述的辊清洁装置(100),其特征在于,所述清洁部件(2)包括具有刮板的清洁元件(4),所述刮板位于所述清洁部件(2)的下端部分并且被构造成能够与所述辊(20)直接接触以便去除位于所述辊(20)的外表面的异物。
9.根据权利要求7所述的辊清洁装置(100),其特征在于,所述清洁部件(2)包括具有刮板的清洁元件(4),所述刮板位于所述清洁部件(2)的下端部分并且被构造成能够与所述辊(20)直接接触以便去除位于所述辊(20)的外表面的异物,所述清洁部件(2)包括至少两个弹簧(42),所述弹簧(42)被构造成允许调节所述弧形清洁元件(3)和所述具有刮板的清洁元件(4)相对于所述辊(20)的角度。
10.根据权利要求1或2所述的辊清洁装置(100),其特征在于,所述清洁部件(2)包括调节器(5),所述调节器(5)被构造成调节所述清洁部件(2)与所述辊(20)的接触力。
11.一种通过根据权利要求1至10中任一项所述的辊清洁装置(100)清洁辊的方法,其中,所述辊清洁装置(100)通过使锁定部件(10)相对于所述辊清洁装置(100)的支撑框架(1)下降而停止于相对于所述辊的预定位置处。
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