CN109388292A - 显示装置 - Google Patents

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Abstract

提供了显示装置，所述显示装置包括显示面板和输入感测单元，所述输入感测单元包括基体，所述基体包括透光区域和不透光区域。光吸收图案设置为与不透光区域对应并构造为吸收入射光。感测电极与光吸收图案叠置。光吸收图案具有用于暴露多个透光区域中的透光区域的开孔。开孔的边界与透光区域的外边界彼此间隔开。输入感测单元具有改善的视角/亮度比和改善的反射颜色的特性。

Description

显示装置
本申请要求于2017年8月8日提交的第10-2017-0100369号韩国专利申请的优先权，该韩国专利申请的全部内容通过引用包含于此。
技术领域
示例性实施例涉及一种输入感测单元和具有该输入感测单元的显示装置。
背景技术
近来，显示装置正配备有连带信息输入功能的图像显示功能。通常，信息输入功能可以被实施为用于接收用户的触摸输入的输入感测单元。
输入感测单元可以附着到实施图像显示功能的显示面板的一个表面，或者可以与显示面板形成为一体。用户可以在观看显示面板上显示的图像的同时通过按压或触摸输入感测单元来输入信息。
发明内容
示例性实施例涉及一种具有改善的反射颜色的特性和改善的视角/亮度比的输入感测单元以及一种具有该输入感测单元的显示装置。
示例性实施例提供了一种显示装置，所述显示装置包括：显示面板，包含多个发光区域和多个不发光区域；以及输入感测单元设置在显示面板上。显示面板还可以包括：基体层；发光元件，设置在基体层上；像素限定层，限定发光元件的位置；以及密封层，覆盖发光元件和像素限定层。多个发光区域中的发光区域可被限定为与发光元件的被像素限定层暴露的区域对应。多个不发光区域可被限定为与像素限定层的区域对应。密封层可以包括一层或更多层。输入感测单元可以包括：光吸收图案，设置为与多个不发光区域对应并构造为吸收入射光；以及感测电极，与光吸收图案叠置。光吸收图案具有用于暴露发光区域的开孔。光吸收图案可被设置为使得开孔的边界与发光区域的外边界可以彼此间隔开。
在示例性实施例中，开孔的边界与发光区域的外边界之间的距离d可以通过下面的等式来确定，
其中，k为自然数，ti可以是密封层的第i层的厚度，ni可以是密封层的第i层的折射率，D可以是相对于显示装置的平面的法线方向的倾斜角。
在示例性实施例中，倾斜角D可以是当为每个视角测量显示装置的亮度比时的视角，距离d可以根据等式来确定以确保显示装置的视角相对于预定的视角的亮度比。
在示例性实施例中，开孔的宽度或面积可以大于发光区域的宽度或面积。
在示例性实施例中，开孔的边界可以不侵入发光区域的外边界。
在示例性实施例中，光吸收图案可以与不发光区域叠置。
在示例性实施例中，输入感测单元还可以包括具有光路改变部的绝缘层，光路改变部被构造为改变入射在与开孔对应的绝缘层上的光的路径。
在示例性实施例中，光路改变部可以朝向发光元件突出。
在示例性实施例中，光路改变部可以背向发光元件突出。
在示例性实施例中，绝缘层可以包括覆盖感测电极的第一绝缘层和设置在第一绝缘层上的第二绝缘层，光路改变部可以设置在第一绝缘层与第二绝缘层之间。
在示例性实施例中，第二绝缘层可以具有比第一绝缘层的折射率大的折射率。
在示例性实施例中，光路改变部可以与发光区域叠置。
在示例性实施例中，光路改变部的直径或面积可以小于或等于开孔的宽度或面积。
在示例性实施例中，感测电极可以具有不与发光区域叠置的网格图案。
在示例性实施例中，网格图案可以设置为与光吸收图案叠置。
在示例性实施例中，网格图案可以包括形成至少一个网格孔的金属线，金属线的宽度可以小于光吸收图案的宽度。
在示例性实施例中，网格孔可以比开孔大。
在示例性实施例中，感测电极可以包括第一网格图案和第二网格图案，第二网格图案可以位于第一网格图案上并与第一网格图案分开，并且可以通过至少一个接触部电连接到第一网格图案。
在示例性实施例中，光吸收图案可以设置在第一网格图案与第二网格图案之间，至少一个接触部可以通过光吸收图案中的连接接触孔将第一网格图案和第二网格图案电连接。
在示例性实施例中，输入感测单元还可以包括绝缘层，所述绝缘层具有包括多个子绝缘层的多层结构。多个子绝缘层中的至少一个子绝缘层可以设置在第一网格图案与第二网格图案之间。至少一个接触部可以通过穿过设置在第一网格图案与第二网格图案之间的至少一个子绝缘层的连接接触孔将第一网格图案和第二网格图案电连接。
在示例性实施例中，第一网格图案可以位于光吸收图案上。
在示例性实施例中，光吸收图案可以位于第二网格图案上。
在示例性实施例中，感测电极可以包括在第一方向上延伸的第一感测电极和在与第一方向交叉的第二方向上延伸的第二感测电极。第一感测电极可以包括沿第一方向布置的多个第一感测部和将多个第一感测部彼此连接的多个第一连接部。第二感测电极可以包括沿第二方向上布置的多个第二感测部和将多个第二感测部彼此连接的多个第二连接部。多个第一感测部和多个第二感测部可以设置在同一层上或者设置在不同层上。多个第一连接部可以与第一感测部设置在同一层上，或者多个第二连接部可以与第一感测部设置在同一层上。
在示例性实施例中，显示装置还可以包括防反射单元，所述防反射单元被构造为防止入射在显示装置上的外部光在显示装置中被反射并被发射到外部。
在示例性实施例中，防反射单元可以设置在输入感测单元上，光吸收图案可被构造为吸收在显示装置中反射的外部光之中的、入射在光吸收图案上的光。
示例性实施例将提供一种显示装置，所述显示装置包括：显示面板：包含多个发光区域和多个不发光区域；以及输入感测单元，设置在显示面板上。显示面板还可以包括：基体层：发光元件，设置在基体层上；像素限定层，限定发光元件的位置；以及密封层，覆盖发光元件和像素限定层。在示例性实施例中，多个发光区域中的发光区域可被限定为与发光元件的被像素限定层暴露的区域对应，多个不发光区域中的每个可被限定为与像素限定层的的区域对应。输入感测单元可以包括：光吸收图案，被设置为与多个不发光区域对应并构造为吸收入射光；以及感测电极，与光吸收图案叠置。光吸收图案具有用于暴露发光区域的开孔。开孔的边界与发光区域的外边界彼此间隔开，根据显示装置的视角的亮度比等于或大于预定的值。
在示例性实施例中，开孔的边界与发光区域的外边界之间的距离可被设定为使得显示装置在45°的视角处的亮度比为50％或更大。
在示例性实施例中，开孔的边界与发光区域的外边界之间的距离d可以通过下面的式2来确定，
其中，k可以是自然数，ti可以是密封层的第i层的厚度，ni可以是密封层的第i层的折射率，D可以是相对于显示装置的平面的法线方向的倾斜角。
在示例性实施例中，倾斜角D可以是当为每个视角测量显示装置的亮度比时的视角，距离d可以根据式2来确定以确保显示装置的视角相对于预定的视角的亮度比。
示例性实施例提供了一种输入感测单元，所述输入感测单元包括：基体，所述基体包括多个透光区域和在多个透光区域中的相邻的透光区域之间的不透光区域；光吸收图案，设置为与不透光区域对应并构造为吸收入射光；感测电极，与光吸收图案叠置。光吸收图案可以具有用于暴露多个透光区域中的透光区域的开孔。开孔的边界可以与透光区域的外边界彼此分开。当在显示装置上设置输入感测单元时，根据显示装置的视角的亮度比可以具有预定的值或更大的值。
在示例性实施例中，开孔的边界与透光区域的外边界之间的距离可被设定为使得显示装置在45°的视角处的亮度比为50％或更大。
在示例性实施例中，当显示装置可以包括具有发光元件和覆盖发光元件的密封层的显示面板时，开孔的边界与透光区域的外边界之间的距离d可以通过下面的式3来确定，
其中，k可以是自然数，ti可以是密封层的第i层的厚度，ni可以是密封层的第i层的折射率，D可以是相对于显示装置的平面的法线方向的倾斜角。
在示例性实施例中，开孔的宽度或面积可以大于透光区域的宽度或面积。
在示例性实施例中，开孔的边界可以不侵入透光区域的外边界。
在示例性实施例中，光吸收图案可以与不透光区域叠置。
在示例性实施例中，输入感测单元还可以包括具有光路改变部的绝缘层，光路改变部被构造为改变入射在与开孔对应的绝缘层上的光的路径。
在示例性实施例中，光路改变部可以朝向发光元件突出。
在示例性实施例中，光路改变部可以背向发光元件突出。
在示例性实施例中，绝缘层可以包括覆盖感测电极的第一绝缘层和设置在第一绝缘层上的第二绝缘层，光路改变部可以设置在第一绝缘层与第二绝缘层之间。
在示例性实施例中，第二绝缘层可以具有比第一绝缘层的折射率大的折射率。
在示例性实施例中，光路改变部可以与透光区域叠置。
在示例性实施例中，光路改变部的直径或面积可以小于或等于开孔的宽度或面积。
在示例性实施例中，感测电极可以具有不与透光区域叠置的网格图案。
在示例性实施例中，网格图案可以设置为与光吸收图案叠置。
在示例性实施例中，网格图案可以包括形成至少一个网格孔的金属线，金属线的宽度可以小于光吸收图案的宽度。
在示例性实施例中，网格孔可以比开孔大。
在示例性实施例中，感测电极可以包括第一网格图案和第二网格图案，第二网格图案可以位于第一网格图案上并与第一网格图案分隔开，并且可以通过至少一个接触部电连接到第一网格图案。
在示例性实施例中，光吸收图案可以设置在第一网格图案与第二网格图案之间，接触部可以通过光吸收图案中的连接接触孔将第一网格图案和第二网格图案电连接。
在示例性实施例中，输入感测单元还可以包括绝缘层，所述绝缘层具有包括多个子绝缘层的多层结构。多个子绝缘层中的至少一个子绝缘层可以设置在第一网格图案与第二网格图案之间。接触部可以通过穿过设置在第一网格图案与第二网格图案之间的至少一个子绝缘层的连接接触孔将第一网格图案和第二网格图案电连接。
在示例性实施例中，第一网格图案可以位于光吸收图案上。
在示例性实施例中，光吸收图案可以位于第二网格图案上。
在示例性实施例中，感测电极可以包括在第一方向上延伸的第一感测电极和在与第一方向交叉的第二方向上延伸的第二感测电极。第一感测电极可以包括沿第一方向布置的多个第一感测部和将多个第一感测部彼此连接的多个第一连接部。第二感测电极可以包括沿第二方向上布置的多个第二感测部和将多个第二感测部彼此连接的多个第二连接部。多个第一感测部和多个第二感测部可以设置在同一层上或者设置在不同层上。多个第一连接部可以与第一感测部设置在同一层上，或者多个第二连接部可以与第一感测部设置在同一层上。
在示例性实施例中，输入感测单元还可以包括防反射单元，所述防反射单元被构造为防止入射在显示装置上的外部光在显示装置中被反射并被发射到外部。
在示例性实施例中，防反射单元可以设置在输入感测单元上，光吸收图案可被构造为吸收在显示装置中被反射的外部光之中的、入射在光吸收图案上的光。
附图说明
现在，将在下文中参照附图更充分地描述示例实施例；然而，这些示例实施例可以以不同的形式来实施，并且不应被解释为局限于在此阐述的示例性实施例。相反地，提供这些实施例使得本公开将是彻底的和完整的，并且这些实施例将把示例实施例的范围充分地传达给本领域技术人员。
在附图中，为了示出的清楚，尺寸可被夸大。将理解的是，当元件被称为“在”两个元件“之间”时，该元件可以是这两个元件之间的唯一的元件，或者还可存在一个或更多个中间元件。同样的附图标记始终表示同样的元件。
图1是示出显示装置的示例性实施例的透视图；
图2是示出显示装置的示例性实施例的剖视图；
图3是示出显示面板的示例性实施例的剖视图；
图4是示出显示面板的示例性实施例的平面图；
图5是显示面板的示例性实施例的放大剖视图；
图6A、图6B、图6C和图6D是薄膜封装层的示例性实施例的剖视图；
图7是示出显示装置的示例性实施例的剖视图；
图8是示出输入感测单元的示例性实施例的平面图；
图9是图8中示出的输入感测单元的区域FF的放大视图；
图10是沿着图9的线VIII-VIII’截取的显示装置的剖视图；
图11A是示出在传统的显示装置中通过排除镜面分量(SCE)测量的各倾斜角和方位角的分布a*b*的色坐标图；
图11B是示出在显示装置的示例性实施例中通过SCE测量的各倾斜角和方位角的分布a*b*的色坐标图；
图11C是示出由三层形成的薄膜封装层的剖视图；
图12是示出传统显示装置和根据实施例的显示装置的根据视角的亮度比的曲线图；
图13A、图13B和图13C是示出显示装置的另一示例性实施例的剖视图；
图14是示出显示装置的另一示例性实施例的剖视图；
图15是示出显示装置的另一示例性实施例的剖视图；
图16A、图16B和图16C是示出包括具有不同尺寸的光路改变部的显示装置的剖视图；
图17A和图17B是示出显示装置的另一示例性实施例的剖视图；以及
图18A、图18B和图18C是示出显示装置的另一示例性实施例的剖视图。
具体实施方式
发明构思可以被可变地修改并且可以具有各种实施例，其具体的示例将在附图中示出并且进行详细描述。然而，将理解的是，发明构思不限于特定的公开的形式，而是包括全部修改、等同物和替代物而不脱离发明构思的范围和精神。
在描述附图时，同样的附图标记表示同样的元件。在附图中，为了发明构思的清晰，夸大了结构的尺寸。尽管可使用诸如“第一”和“第二”等的术语来描述各种组件，但这样的组件不必理解为局限于上面的术语。上面的术语仅用来将一个组件和另一个组件区分开。例如，在不脱离本发明构思的范围的情况下，第一组件可以被称为第二组件，同样地，第二组件可以被称为第一组件。如在这里所使用的，除非上下文另有清楚地表明，否则单数形式“一个(种/者)”、“该/所述”也意图包括复数形式。
在本申请中，将理解的是，诸如“包括”或“具有”等的术语意在指示存在说明书中公开的特征、数量、操作、动作、组件、部件或它们的组合，且不意图排除这样的可能性，即可以存在或者可以添加一个或更多个其它特征、数量、操作、动作、组件、部件或它们的组合。此外，将理解的是，当诸如层、膜、区域或基底等的元件被称为“在”另一元件“上”时，它可以直接在所述另一元件上，或者也可以存在中间元件。相反，将理解的是，当诸如层、膜、区域或基底的元件被称为“在”另一元件“之下”时，它可以直接在所述另一元件下，或者也可以存在中间元件。
此外，可以在这里使用诸如“下”或“底”以及“上”或“顶”的相对术语，以描述如在图中所示出的一个元件与另一元件的关系。将理解的是，相对术语意在包含装置的除了在图中描绘的方位之外的不同方位。在示例性实施例中，当翻转图中的一幅中的装置时，描述为在其它元件的“下”侧上的元件将随后被定位为在所述其它元件的“上”侧上。因此，根据图的具体方位，示例性术语“下”可以包括“下”和“上”两种方位。相似地，当翻转图中的一幅中的装置时，描述为“在”其它元件“下方”或“之下”的元件将随后被定位为“在”所述其它元件“上方”。示例性术语“在……下方”或“在……之下”可以因此包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。
如在这里使用的“大约”或“近似”包括所陈述的值，并意味着：考虑到正在被谈及的测量以及与具体量的测量有关的误差(即，测量系统的局限性)，在由本领域的普通技术人员确定的具体值的可接受的偏差范围之内。例如，“大约”可以意指在一个或更多个标准偏差内，或者在所陈述的值的±30％、±20％、±10％、±5％之内。
除非另有定义，否则这里使用的全部术语(包括技术术语和科学术语)具有与本申请所属领域的普通技术人员所理解的含义相同的含义。还将理解的是，术语(诸如在通用字典中定义的术语)应被解释为具有与它们在相关领域和发明构思中的上下文中的意思一致的意思，并且将不以理想或过于形式化的含义来解释，除非在这里明确地这样定义。
在这里参照作为理想化实施例的示意图的剖视图来描述示例性实施例。如此，将预计例如由制造技术和/或公差导致的示出的形状的变化。因此，在这里描述的实施例不应被解释为局限于在此示出的区域的具体形状，而将包括例如由制造引起的形状的偏差。在示例性实施例中，示出或描述为平坦的区域通常可以具有粗糙的和/或非线性的特征。此外，示出的锐角可以被倒圆。因此，在图中示出的区域实际上是示意性的，其形状不意图示出区域的精确形状，也不意图限制权利要求的范围。
在下文中，将参照附图描述示例性实施例。
图1是示出根据示例性实施例的显示装置DD的透视图。参照图1，根据示例性实施例的显示装置DD可以在显示表面DD-IS上显示图像IM。显示表面DD-IS可以平行于由第一方向轴DR1和第二方向轴DR2限定的平面。显示表面DD-IS的法线方向(即，显示装置DD的厚度方向)可以由第三方向轴DR3来表示。
下面描述的构件或单元中的每个的前表面(或上表面)和后表面(或下表面)可以通过第三方向轴DR3来区分。然而，实施例中示出的第一方向轴DR1、第二方向轴DR2和第三方向轴DR3可以仅是示例，并且第一方向轴DR1、第二方向轴DR2和第三方向轴DR3指示的方向可以对应于相对概念并转换为其它方向。在下文中，利用与第一方向轴DR1、第二方向轴DR2和第三方向轴DR3的附图标记相同的附图标记来分别指示第一方向、第二方向和第三方向。
图1中示出的显示装置DD可以具有平面的显示表面。实施例不限于此，根据实施例的显示装置DD可以具有能够显示图像的各种类型的显示表面，诸如弯曲的显示表面或立体的显示表面。当根据实施例的显示装置DD具有立体的显示表面时，作为示例，立体的显示表面可以包括定位在不同的方向上的多个显示区域。立体的显示表面可以被实施为多边形柱的显示表面。
根据实施例的显示装置DD可以是柔性显示装置。实施例不限于此，它可以是刚性显示装置。
图1示例性地示出了可以应用于移动电话终端的显示装置DD。虽然在图1中未示出，但是当显示装置DD与安装在主板上的电子模块、相机模块和电源模块一起被设置在支架或壳中时，显示装置DD可以构成移动电话终端。根据示例性实施例的显示装置DD可以应用于诸如平板电脑、汽车导航系统、游戏机等的中小型电子装置以及诸如电视机、监视器、电子信号板等的大型电子装置。
如图1中所示，显示装置DD的显示表面DD-IS可以被分为显示图像IM的显示区域DD-DA和与显示区域DD-DA相邻的非显示区域DD-NDA。非显示区域DD-NDA是不显示图像的区域。非显示区域DD-NDA可以设置在显示区域DD-DA的外部。
显示装置DD的显示表面DD-IS可以是四边形。在这种情况下，非显示区域DD-NDA可以围绕作为四边形的显示区域DD-DA的四条边。实施例不限于此，根据实施例的显示装置DD的显示表面DD-IS可以具有可以显示图像IM的各种形状。例如，显示装置DD的显示表面DD-IS可以具有诸如圆形或多边形(诸如三角形、五边形等)的各种形状。显示区域DD-DA的形状和非显示区域DD-NDA的形状可以相对于彼此来设计。
图2是示意性示出根据实施例的显示装置DD的剖视图。图2是显示装置DD的根据由第二方向轴DR2和第三方向轴DR3限定的剖面的剖面图。仅示出图2以说明构成显示装置DD的功能面板和/或功能单元的堆叠关系。
参照图2，根据示例性实施例的显示装置DD可以包括显示面板DP、输入感测单元、防反射单元和窗单元。显示面板DP、输入感测单元、防反射单元和窗单元中的至少一些可以通过连续工艺来形成，或者这些元件中的至少一些可以通过粘合构件OCA彼此结合。粘合构件OCA可以包括传统的粘合剂或压敏粘合剂。图2中示出的粘合构件OCA可以是作为示例的光学透明粘合剂OCA。
在一个实施例中，输入感测单元可以感测通过外部介质(诸如手或笔)对显示装置DD的显示表面DD-IS的触摸或输入。
在一个实施例中，可以用其它元件来替换输入感测单元、防反射单元和窗单元，或者可以省略输入感测单元、防反射单元和窗单元。
在图2中，在输入感测单元、防反射单元和窗单元中的一个与另一元件通过连续工艺形成的情况下，相应的单元可被表示为“层”。当输入感测单元、防反射单元和窗单元中的一个通过粘合构件结合到另一元件时，相应的单元可被表示为“面板”。“面板”可以包括提供基体表面的基体层，诸如，合成树脂膜、复合膜、玻璃基底等。然而，就“层”而言，可以不形成基体层。换言之，表示为“层”的单元可以布置在由另一单元提供的基体表面上。
根据存在或不存在基体层，输入感测单元、防反射单元和窗单元可以分别被称为输入感测面板、防反射面板RPP和窗面板WP，或者输入感测层ISL、防反射层和窗层。
如图2中所示，根据实施例的显示装置DD可以包括显示面板DP、输入感测层ISL、防反射面板RPP和窗面板WP。
输入感测层ISL可以是输入感测单元并且可以直接设置在显示面板DP上。在本说明书中，表述“元件B直接设置在元件A上”可以意为在元件A与元件B之间不设置单独的粘合层/粘合构件。元件B可以在元件A形成之后在由元件A提供的基体表面上通过连续工艺来形成。因此，由于图2中示出的输入感测层ISL直接设置在显示面板DP上，所以输入感测层ISL可以利用显示面板DP的一个表面作为基体表面通过连续工艺来形成，而不需要单独的粘合层/粘合构件。
显示模块DM可以包括显示面板DP和直接设置在显示面板DP上的输入感测层ISL。光学透明粘合剂OCA可以设置在显示模块DM与防反射面板RPP之间以及防反射面板RPP与窗面板WP之间。换言之，光学透明粘合剂OCA可以设置在显示模块DM与防反射面板RPP之间以将防反射面板RPP附着到显示模块DM。另外，光学透明粘合剂OCA可以设置在防反射面板RPP与窗面板WP之间以将防反射面板RPP附着到窗面板WP。
与传统的双侧粘合剂相比，光学透明粘合剂OCA可以透射超过97％的光，以使光学透明粘合剂OCA可以起玻璃的作用并且改善显示表面DD-IS的清晰度。
输入感测层ISL可以获取对显示装置DD的显示表面DD-IS的外部输入(例如，触摸事件)的坐标信息。输入感测层ISL可以设置在显示面板DP中或显示面板DP上。
虽然未单独示出，但是根据实施例的显示模块DM还可以包括设置在显示面板DP的下表面上的保护构件。保护构件和显示面板DP可以用粘合构件结合。
根据实施例的显示面板DP可以是发射显示面板且不受具体地限制。例如，显示面板DP可以是有机发光显示面板或量子点发光显示面板。有机发光显示面板的发光层可以包括有机发光材料。量子点发光显示面板的发光层可以包括量子点、量子棒等。在下文中，将显示面板DP描述为有机发光显示面板。
防反射面板RPP可以减小从窗面板WP上方入射的外部光的反射率。当外部光入射到显示装置DD中时，外部光会在显示装置DD的内部反射，具体地说，被显示面板DP中的薄膜晶体管(TFT)或电极反射，并且会再次被发射到显示装置DD的外部。外部光反射会使室外的可视性减弱并使反射颜色的特性劣化。防反射面板RPP可以防止入射到显示装置DD中的外部光在显示装置DD中被反射并被发射到外部。
有机发光显示面板与LCD显示面板相比会更易受外部光反射的影响。LCD显示面板可以通过液晶层的反射来阻挡外部光。然而，由于有机发光显示面板不具有阻挡外部光的液晶层，所以与LCD显示面板相比，有机发光显示面板在结构上会易受外部光反射的影响。防反射面板RPP可以设置在有机发光显示面板上以降低外部光反射率。然而，有机发光显示面板的单独的防反射面板RPP与LCD显示面板相比会较少地抑制外部光反射，使得有机发光显示面板由于反射颜色的特性的劣化会难以实现真正的黑色。这将在下面描述。
防反射面板RPP可以包括相位延迟器和偏振器。相位延迟器可以具有膜型或液晶涂覆型，并且可以包括λ/2相位延迟器和/或λ/4相位延迟器。偏振器也可以是膜型或液晶涂覆型。膜型偏振器可以包括拉伸型合成树脂膜，液晶涂覆型偏振器可以包括以预定排列来布置的液晶。相位延迟器和偏振器还可以包括保护膜。相位延迟器、偏振器或保护膜可以被定义为防反射面板RPP的基体层。
防反射面板RPP可以包括滤色器。滤色器可以具有预定排列。滤色器的预定排列可以考虑到包括在显示面板DP中的像素的光发射颜色来确定。防反射面板RPP还可以包括与滤色器相邻的黑矩阵。
防反射面板RPP可以包括相消干涉结构。例如，相消干涉结构可以包括设置在不同层上的第一反射层和第二反射层。分别被第一反射层和第二反射层反射的第一反射光和第二反射光可以被抵消。因此，可以降低外部光反射率。
窗面板WP可以包括基体膜WP-BS和光阻挡图案WP-BZ。基体膜WP-BS可以包括玻璃基底和/或合成树脂膜。基体膜WP-BS不限于单层。基体膜WP-BS可以包括用粘合构件结合的两层或更多层膜。
光阻挡图案WP-BZ可以与基体膜WP-BS部分叠置。光阻挡图案WP-BZ可以设置在基体膜WP-BS的后表面上并且限定显示装置DD的边框区域(即，非显示区域DD-NDA(见图1))。
光阻挡图案WP-BZ可以是彩色有机膜。作为示例，光阻挡图案WP-BZ可以通过涂覆法形成。
虽然未单独示出，但是窗面板WP还可以包括设置在基体膜WP-BS的前表面上的功能涂层。功能涂层可以包括防指纹层、抗反射层和硬涂层。
参照图2，输入感测层ISL可以与显示面板DP的整个表面叠置。然而，作为变型，输入感测层ISL可以仅与显示区域DD-DA的一部分叠置，或者可以仅与非显示区域DD-NDA叠置。
输入感测层ISL可以是感测用户的触摸的触摸感测面板，或者可以是感测用户的手指的指纹信息的指纹感测面板。下面描述的感测电极的节距和宽度可以根据输入感测层ISL的使用来改变。触摸感测面板的感测电极可以具有数毫米(mm)至数十毫米(mm)的宽度，而指纹感测面板的感测电极可以具有数十微米(μm)至数百微米(μm)的宽度。
图3是根据实施例的显示面板DP的剖视图。图4是根据实施例的显示面板DP的平面图。图5是根据实施例的显示面板DP的放大剖视图。下面描述的显示面板DP可以应用于参照图2描述的全部显示装置DD。
如图3中所示，显示面板DP可以包括基体层BL、布置在基体层BL上的电路元件层DP-CL、显示元件层DP-OLED和薄膜封装层TFE。虽然未单独示出，但是显示面板DP还可以包括诸如防反射层、折射率控制层等的多个功能层。
基体层BL可以包括合成树脂膜。可以在用于制造显示面板DP的工作基底上形成合成树脂层。随后，可以在合成树脂层上形成导电层、绝缘层等。当去除工作基底时，合成树脂层可以对应于基体层BL。合成树脂层可以是聚酰亚胺基树脂层，合成树脂层的材料不受具体地限制。另外，基体层BL可以包括玻璃基底、金属基底或有机/无机复合基底。
电路元件层DP-CL可以包括至少一个绝缘层和至少一个电路元件。在下文中，包括在电路元件层DP-CL中的绝缘层可以被称为中间绝缘层。中间绝缘层可以包括至少一个中间无机膜和至少一个中间有机膜。电路元件可以包括信号线、像素驱动电路等。电路元件层DP-CL可以由用于通过涂覆、气相沉积等形成绝缘层、半导体层和导电层的工艺以及通过光刻工艺对绝缘层、半导体层和导电层进行图案化的工艺来形成。
显示元件层DP-OLED可以包括发光元件。显示元件层DP-OLED可以包括多个有机发光二极管。显示元件层DP-OLED还可以包括诸如像素限定层的有机层。
薄膜封装层TFE可以密封显示元件层DP-OLED。薄膜封装层TFE可以包括至少一个绝缘层。根据实施例的薄膜封装层TFE可以包括至少一个无机膜(在下文中，称为密封无机膜)。根据实施例的薄膜封装层TFE可以包括至少一个有机膜(在下文中，称为密封有机膜)和至少一个密封无机膜。
密封无机膜可以保护显示元件层DP-OLED免受湿气或氧的影响。另外，密封有机膜可以保护显示元件层DP-OLED免受诸如灰尘颗粒的外来物质的影响。密封无机膜可以包括氮化硅层、氮氧化硅层、氧化硅层、氧化钛层或氧化铝层。实施例不限于此，并且可以由能够保护显示元件层免受湿气或氧影响的无机材料制成。密封有机膜可以包括丙烯酸类的有机膜，但是实施例不限于此，并且可以由能够保护显示元件层免受诸如灰尘颗粒的外来物质的影响的有机材料制成。
如图4中所示，在平面上，显示面板DP可以包括显示区域DP-DA和非显示区域DP-NDA。在该实施例中，非显示区域DP-NDA可以沿显示区域DP-DA的边缘来限定。显示面板DP的显示区域DP-DA和非显示区域DP-NDA可以分别对应于图1和图2中示出的显示装置DD的显示区域DD-DA和非显示区域DD-NDA。
显示面板DP可以包括驱动电路GDC、多条信号线SGL、多个信号垫(pad，亦或称“焊盘”)DP-PD以及多个像素PX。多个像素PX可以设置在显示区域DP-DA中。像素PX中的每个可以包括有机发光二极管和与有机发光二极管连接的像素驱动电路。驱动电路GDC、多条信号线SGL、多个信号垫DP-PD和像素驱动电路可被包括在图3中示出的电路元件层DP-CL中。
驱动电路GDC可以包括扫描驱动电路。扫描驱动电路可以产生多个扫描信号，并且将扫描信号顺序地输出到下面描述的多条扫描线GL。扫描驱动电路还可以将另一控制信号输出到多个像素PX的驱动电路。
扫描驱动电路可以包括多个薄膜晶体管。多个薄膜晶体管可以通过与像素PX的驱动电路相同的工艺来形成。例如，多个薄膜晶体管可以通过低温多晶硅(LTPS)工艺或低温多晶氧化物(LTPO)工艺形成。
信号线SGL可以包括扫描线GL、数据线DL、电源线PL和控制信号线CSL。扫描线GL中的每条可以分别连接到像素PX中的对应的像素，数据线DL中的每条可以连接到像素PX中的对应的像素。电源线PL可以连接到每个像素PX。控制信号线CSL可以将控制信号提供到扫描驱动电路。
信号线SGL可以与显示区域DP-DA和非显示区域DP-NDA叠置。信号线SGL可以包括垫(pad，亦或称“焊盘”)部和线部。线部可以与显示区域DP-DA和非显示区域DP-NDA叠置。垫部可以连接到线部的端部。垫部可以设置在非显示区域DP-NDA中并且可以与信号垫DP-PD中的对应的信号垫叠置。下面将描述其具体实施方式。在非显示区域DP-NDA中设置有信号垫DP-PD的区域可以被限定为垫(pad，或称为“焊盘”)区域NDA-PD。
连接到像素PX的线部可以基本上构成信号线SGL中的大部分。线部可以连接到像素PX的第一晶体管T1和第二晶体管T2(见图5)。线部可以具有单层或多层结构。线部可以是单个主体或可以包括两个或更多个部分。两个或更多个部分可以设置在不同的层上并且可以通过穿过设置在所述两个或更多个部分之间的绝缘层的接触孔来彼此连接。
显示面板DP还可以包括设置在垫区域NDA-PD中的虚设垫(pad，亦或称“焊盘”)IS-DPD。虚设垫IS-DPD可以与信号线SGL通过同一工艺形成，并且因此可以与信号线SGL设置在同一层上。虚设垫IS-DPD可以选择性地设置在如图2中示出的包括输入感测层ISL的显示装置DD中，并且可以从包括输入感测单元ISU(如图7中所示)的显示装置DD中省略。
虚设垫IS-DPD可以与设置在图2中示出的输入感测层ISL中的信号线SGL的垫部分叠置。虚设垫IS-DPD可以是浮置电极。虚设垫IS-DPD可以与显示面板DP的信号线SGL电绝缘。下面将描述其具体实施方式。
在图4中，另外示出了电连接到显示面板DP的电路板PCB。电路板PCB可以是刚性电路板或柔性电路板。电路板PCB可以直接连接到显示面板DP，或者可以经由另一电路板连接到显示面板DP。
用于控制显示面板DP的操作的时序控制电路TC可以设置在电路板PCB上。此外，用于控制输入感测单元ISU或输入感测层ISL的输入感测电路IS-C可以设置在电路板PCB上。时序控制电路TC和输入感测电路IS-C中的每个可以以集成芯片的形式安装在电路板PCB上。作为另一示例，时序控制电路TC和输入感测电路IS-C可以以单个集成芯片的形式安装在电路板PCB上。电路板PCB可以包括电连接到显示面板DP的电路板垫(pad，亦或称“焊盘”)PCB-P。电路板PCB还可以包括将电路板垫PCB-P与时序控制电路TC和/或输入感测电路IS-C连接的信号线。
图5是根据实施例的显示面板DP的放大剖视图。参照图5，根据实施例的显示面板DP可以包括顺序布置在基体层BL上的电路元件层DP-CL、显示元件层DP-OLED和薄膜封装层TFE。
电路元件层DP-CL可以包括作为无机膜的缓冲膜BFL、第一中间无机膜10、第二中间无机膜20和中间有机膜30。无机膜和有机膜的材料不受具体地限制。在一个实施例中，可以选择性地布置或省略缓冲膜BFL。
第一晶体管T1的半导体图案OSP1(在下文中，称为第一半导体图案)和第二晶体管T2的半导体图案OSP2(在下文中，称为第二半导体图案)可以设置在缓冲膜BFL上。第一半导体图案OSP1和第二半导体图案OSP2可以从非晶硅、多晶硅或金属氧化物半导体中选择。
第一中间无机膜10可以设置在第一半导体图案OSP1和第二半导体图案OSP2上。第一晶体管T1的控制电极GE1(在下文中，称为“第一控制电极”)和第二晶体管T2的控制电极GE2(在下文中，称为“第二控制电极”)可以设置在第一中间无机膜10上。第一控制电极GE1和第二控制电极GE2可以与扫描线GL(见图4)通过同一光刻工艺来制造。
覆盖第一控制电极GE1和第二控制电极GE2的第二中间无机膜20可以设置在第一中间无机膜10上。第一晶体管T1的输入电极DE1(在下文中，称为第一输入电极)和输出电极SE1(在下文中，称为第一输出电极)以及第二晶体管T2的输入电极DE2(在下文中，称为第二输入电极)和输出电极SE2(在下文中，称为第二输出电极)可以设置在第二中间无机膜20上。
第一输入电极DE1可以通过穿过第一中间无机膜10和第二中间无机膜20的第一通孔CH1连接到第一半导体图案OSP1。第一输出电极SE1可以通过穿过第一中间无机膜10和第二中间无机膜20的第二通孔CH2连接到第一半导体图案OSP1。第二输入电极DE2可以通过穿过第一中间无机膜10和第二中间无机膜20的第三通孔CH3连接到第二半导体图案OSP2。第二输出电极SE2可以通过穿过第一中间无机膜10和第二中间无机膜20的第四通孔CH4连接到第二半导体图案OSP2。同时，在另一个实施例中，第一晶体管T1和第二晶体管T2中的一些可以被变型为底栅结构。
覆盖第一输入电极DE1、第二输入电极DE2、第一输出电极SE1和第二输出电极SE2的中间有机膜30可以设置在第二中间无机膜20上。中间有机膜30可以提供平坦的表面。
显示元件层DP-OLED可以设置在中间有机膜30上。显示元件层DP-OLED可以包括像素限定层PDL和有机发光二极管OLED。像素限定层PDL可以包括有机材料。第一电极AE可以设置在中间有机膜30上。第一电极AE可以通过穿过中间有机膜30的第五通孔CH5连接到第二输出电极SE2。开口OP可以由像素限定层PDL来限定。像素限定层PDL的开口OP可以延伸以暴露第一电极AE的至少一部分。作为变型，可以省略像素限定层PDL。
像素PX可以设置在显示区域DP-DA中。显示区域DP-DA可以包括发光区域PXA和与发光区域PXA相邻的不发光区域NPXA。不发光区域NPXA可以围绕发光区域PXA。发光区域PXA可以被限定为与第一电极AE的被开口OP暴露的部分对应。不发光区域NPXA可以被限定为与像素限定层PDL对应。
发光区域PXA可以与第一晶体管T1和第二晶体管T2中的至少一个叠置。开口OP可以变得较宽，并且可以加宽下面描述的第一电极AE和发光层EML。
空穴控制层HCL可以公共地设置在发光区域PXA和不发光区域NPXA中。虽然未单独示出，但是像素PX(见图4)中可以公共地形成诸如空穴控制层HCL的公共层。
发光层EML可以设置在空穴控制层HCL上。发光层EML可以设置在与开口OP对应的区域中。换言之，发光层EML可以单独地形成在每个像素PX中。发光层EML可以包括有机材料和/或无机材料。发光层EML可以产生预定的彩色的光。
虽然在本实施例中可以示例性地示出被图案化的发光层EML，但是发光层EML可以公共地设置到像素PX。在这时，发光层EML可以产生白光。此外，发光层EML可以具有称为串联(tandem)的多层结构。
电子控制层ECL可以设置在发光层EML上。虽然未单独示出，但是电子控制层ECL可以公共地形成在像素PX(见图4)中。第二电极CE可以设置在电子控制层ECL上。第二电极CE可以公共地设置在像素PX中。
薄膜封装层TFE可以设置在第二电极CE上。薄膜封装层TFE可以公共地设置到像素PX。在本实施例中，薄膜封装层TFE可以直接覆盖第二电极CE。在实施例中，还可以在薄膜封装层TFE与第二电极CE之间设置覆盖第二电极CE的覆盖层。然后，薄膜封装层TFE可以直接覆盖覆盖层。
在一个实施例中，有机发光二极管OLED还可以包括用于对在发光层EML中产生的光的谐振距离进行控制的谐振结构。谐振结构可以设置在第一电极AE与第二电极CE之间，谐振结构的厚度可以根据在发光层EML中产生的光的波长来确定。
图6A至图6D是根据实施例的薄膜封装层TFE的剖视图。在下文中，可以同样适用于参照图3的薄膜封装层TFE的描述。
如图6A中所示，根据实施例的薄膜封装层TFE可以包括多个密封无机膜IOL1至IOLn，其中，n是大于或等于2的自然数。第一密封无机膜IOL1可以与第二电极CE(参见图5)接触。
薄膜封装层TFE可以包括n-1个密封有机膜OL1至OL(n-1)。n-1个密封有机膜OL1至OL(n-1)可以与n个密封无机膜IOL1至IOLn交替布置。n-1个密封有机膜OL1至OL(n-1)可以具有平均比n个密封无机膜IOL1至IOLn大的厚度。
n个密封无机膜IOL1至IOLn中的每个可以是包含一种材料的单层，或者可以具有均包含不同的材料的多层。n-1个密封有机膜OL1至OL(n-1)可以通过沉积有机单体来形成。例如，有机单体可以包括丙烯酸单体，且不受具体地限制。
在一个实施例中，薄膜封装层TFE可以包括从第二电极CE以顺序的次序堆叠的氮氧化硅层、有机单体层、氮化硅层。另一个无机层可以设置在氮化硅层上，且氮化硅层可以具有在不同条件下沉积的多层(例如，两层)。
如图6B中所示，薄膜封装层TFE可以通过顺序地层叠第一密封无机膜IOL1、第一密封有机膜OL1、第二密封无机膜IOL2、第二密封有机膜OL2和第三密封无机膜IOL3来形成。
第一密封无机膜IOL1可以具有双层结构。第一子层S1可以是氟化锂层，第二子层S2可以是氧化铝层。第一密封有机膜OL1可以是第一有机单体层，第二密封无机膜IOL2可以是第一氮化硅层，第二密封有机膜OL2可以是第二有机单体层，第三密封无机膜IOL3可以是第二氮化硅层。
如图6C中所示，薄膜封装层TFE可以包括顺序堆叠的第一密封无机膜IOL10、第一密封有机膜OL1和第二密封无机膜IOL20。第一密封无机膜IOL10和第二密封无机膜IOL20中的每个可以具有双层结构。第一子层S10可以是氟化锂层，第二子层S20可以是氧化硅层。第二密封无机膜IOL20可以包括以不同沉积环境沉积的第一子层S100和第二子层S200。第一子层S100可以在低功率条件下沉积，第二子层S200可以在高功率条件下沉积。第一子层S100和第二子层S200中的每个可以是氮化硅层。
如图6D中所示，薄膜封装层TFE可以包括顺序堆叠的多个密封无机膜。薄膜封装层TFE可以包括第一密封无机膜IOL1、第二密封无机膜IOL2和第三密封无机膜IOL3。多个密封无机膜中的一个或更多个可以包括氮化硅层、氮氧化硅层、氧化硅层、氧化钛层或氧化铝层。例如，第一密封无机膜IOL1和第三密封无机膜IOL3可以包括氮化硅层、氮氧化硅层、氧化硅层、氧化钛层或氧化铝层。
多个密封无机膜中的至少一个可以是六甲基二硅氧烷(HMDSO)层。HMDSO层可以吸收应力。第二密封无机膜IOL2可以是HMDSO层。第二密封无机膜IOL2可以吸收第一密封无机膜IOL1和第三密封无机膜IOL3的应力，使得薄膜封装层TFE可以变得更柔。
当薄膜封装层TFE仅包含密封无机膜时，可以能够在单个腔室中连续沉积，从而可以简化工艺。然而，当薄膜封装层TFE包括密封有机膜和密封无机膜时，可以在腔室之间执行至少一个移动工艺。当密封无机膜中的一个是HMDSO层时，薄膜封装层TFE可以具有柔性。
显示装置DD中所需的视角/亮度比可以根据薄膜封装层TFE的厚度通过调节光吸收图案ABS(见图10)的宽度来保持恒定。这将在下面描述。
图7是根据实施例的显示装置DD的剖视图。在图7中，可以简化显示面板DP以示出输入感测单元ISU的堆叠关系。图7中未示出可以设置在输入感测单元ISU上的防反射单元和窗单元。
在本实施例中，示例性地描述了与如参照图2描述的输入感测“层”ISL对应的输入感测单元ISU。该“层”型输入感测单元ISU可以直接设置在由显示面板DP提供的基体表面上。换言之，可以省略基体层，使得与“面板”型输入感测单元ISU相比，可以减小显示模块DM(如图2中所示)的厚度。在本实施例中，基体表面可以是薄膜封装层TFE的上表面。
输入感测单元ISU可以具有多层结构，而与输入感测单元ISU是对应于输入感测面板还是对应于输入感测层无关。输入感测单元ISU可以包括感测电极、结合到感测电极的信号线以及至少一个绝缘层。例如，输入感测单元ISU可以以电容方式感测外部输入。在本实施例中的操作输入感测单元ISU的方法不受具体地限制。在实施例中，输入感测单元ISU可以通过电磁感应或压力感测来感测外部输入。
参照图7，根据实施例的输入感测单元ISU可以包括第一导电层IS-CL1、第一绝缘层IS-IL1、第二导电层IS-CL2和第二绝缘层IS-IL2。第一导电层IS-CL1和第二导电层IS-CL2中的每个可以具有单层结构或多层结构，所述多层结构包括沿着第三方向轴DR3堆叠的层。单层导电层可以包括金属层或透明导电层。金属层可以包括钼、银、钛、铜、铝和它们的合金中的至少一者。透明导电层可以包括诸如氧化铟锡(ITO)、氧化铟锌(IZO)、氧化锌(ZnO)和氧化铟锡锌(ITZO)的透明导电氧化物。此外，透明导电层可以包括诸如PEDOT的导电聚合物、金属纳米线、石墨烯等。
具有多层结构的第一导电层IS-CL1和第二导电层IS-CL2中的每个导电层可以包括多个金属层。多个金属层可以具有三层结构，例如，钛/铝/钛层。具有多层结构的第一导电层IS-CL1和第二导电层IS-CL2中的每个导电层可以包括至少一个金属层和至少一个透明导电层。
第一导电层IS-CL1和第二导电层IS-CL2中的每个可以包括多个图案。在下文中，第一导电层IS-CL1可以包括第一导电图案，第二导电层IS-CL2可以包括第二导电图案。第一导电图案和第二导电图案中的每个可以包括感测电极和信号线。
可以考虑到感测灵敏度来确定感测电极的层叠结构和材料。RC延迟会影响感测灵敏度。由于包括金属层的感测电极具有比透明导电层的电阻小的电阻，所以可以减小RC值。结果，可以减少限定在感测电极之间的电容器的充电时间。与金属层相比，包括透明导电层的感测电极可以不被用户视觉识别，并且可以增大输入区域以增大电容。
如下所述，包括金属层的感测电极可以具有网格形状，以防止用户看到感测电极。
另一方面，可以调节薄膜封装层TFE的厚度，使得由显示元件层DP-OLED的元件产生的噪声不会影响输入感测单元ISU。第一绝缘层IS-IL1和第二绝缘层IS-IL2中的每个可以具有单层或多层结构。第一绝缘层IS-IL1和第二绝缘层IS-IL2中的每个可以包括无机材料、有机材料或复合材料。
第一绝缘层IS-IL1和第二绝缘层IS-IL2中的至少一个可以包括无机膜。无机膜可以包括氧化铝、氧化钛、氧化硅、氮氧化硅、氧化锆和氧化铪中的至少一种。
第一绝缘层IS-IL1和第二绝缘层IS-IL2中的至少一个可以包括有机膜。有机膜可以由丙烯酸树脂、甲基丙烯酸树脂、聚异戊二烯、乙烯基树脂、环氧树脂、氨基甲酸乙酯树脂、纤维素树脂、硅氧烷树脂、聚酰亚胺树脂、聚酰胺树脂和二萘嵌苯树脂中的至少一种来形成。
虽然图7中未示出，但是输入感测单元ISU可以包括光吸收图案ABS(见图10)。光吸收图案ABS可以具有用于暴露发光区域PXA的开孔ABS-OPG，并且可被设置为与不发光区域NPXA叠置。光吸收图案ABS可以抑制入射在显示装置DD上的外部光的反射。这将在下面描述。
输入感测单元ISU可以具有与显示面板DP对应的基体。换言之，基体可以是面对显示面板DP的表面。显示面板DP的发光区域PXA和不发光区域NPXA中的每个可以对应于输入感测单元ISU的基体的透光区域和不透光区域。发光区域PXA和不发光区域NPXA可以分别以与透光区域和不透光区域相同的方式来使用。
光路改变部LNS(见图15)可以设置在第一绝缘层IS-IL1与第二绝缘层IS-IL2之间。在第一绝缘层IS-IL1与第二绝缘层IS-IL2之间的界面处的光路改变部LNS可以朝向显示元件层DP-OLED突出，或者可以朝向显示装置DD的外部突出以背向显示元件层DP-OLED。作为示例，光路改变部LNS可以呈朝向显示元件层DP-OLED的凹透镜或凸透镜的形状。光路改变部LNS可改变指向光路改变部LNS的光的路径以使光聚集或散射。因此，可以增加显示装置DD的前面的亮度或者可以改善白色角度依赖性(WAD)。这将在下面描述。
图8是根据实施例的输入感测单元ISU的平面图。图9是图8中示出的输入感测单元ISU的区域FF的放大视图。图10是沿着图9的VIII-VIII’线截取的显示装置DD的剖视图。在下文中，将省略与参照图1至图7描述的显示装置DD的构造相同的构造的详细描述。在下文中，示意性地示出了电路元件层DP-CL。
参照图8，根据实施例的输入感测单元ISU可以包括第一感测电极IE1-1至IE1-5以及第二感测电极IE2-1至IE2-4。
多个第一感测部SP1可以在一个第一感测电极中沿着第二方向轴DR2布置，多个第二感测部SP2可以在一个第二感测电极中沿着第一方向轴DR1布置。多个第一连接部CP1中的每个可以连接相邻的第一感测部SP1，多个第二连接部CP2中的每个可以连接相邻的第二感测部SP2。
第一感测电极IE1-1至IE1-5以及第二感测电极IE2-1至IE2-4可以具有网格图案。网格图案可以包括作为形成一个或更多个网格孔IS-OPR、IS-OPG和IS-OPB(见图9)的金属线的网格线。
由于第一感测电极IE1-1至IE1-5以及第二感测电极IE2-1至IE2-4具有网格图案，所以可以减小在如图7中示出的显示面板DP的电极与第一感测电极IE1-1至IE1-5之间以及与第二感测电极IE2-1至IE2-4之间产生的寄生电容。
如下所述，由于第一感测电极IE1-1至IE1-5以及第二感测电极IE2-1至IE2-4不与发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B叠置，所以第一感测电极IE1-1至IE1-5以及第二感测电极IE2-1至IE2-4可以对显示装置DD的用户不可见。
具有网格图案的第一感测电极IE1-1至IE1-5以及第二感测电极IE2-1至IE2-4可以由允许低温工艺的银、铝、铜、铬、镍或钛形成。但实施例不限于此。即使当通过连续工艺形成输入感测单元ISU时，也可以防止对有机发光二极管(如图5中所示)的损坏。
当具有网格图案的第一感测电极IE1-1至IE1-5以及第二感测电极IE2-1至IE2-4直接设置在显示面板DP上时，可以改善显示装置DD的柔性。
图8中示出的第一感测电极IE1-1至IE1-5以及第二感测电极IE2-1至IE2-4可以包括菱形形状的第一感测部SP1和第二感测部SP2。然而，实施例不限于此。第一感测部SP1和第二感测部SP2可以具有各种多边形形状。例如，第一感测电极IE1-1至IE1-5以及第二感测电极IE2-1至IE2-4可以具有条形形状，使得感测部及其连接部可以彼此不分开。
第一信号线SL1-1至SL1-5可以连接到第一感测电极IE1-1至IE1-5的相应的端部。第二信号线SL2-1至SL2-4中的每条可以连接到第二感测电极IE2-1至IE2-4中的每个的两端。在一个实施例中，第一信号线SL1-1至SL1-5中的每条还可以连接到第一感测电极IE1-1至IE1-5中的每个的两端。然而，在其它实施例中，第二信号线SL2-1至SL2-4中的每条可以仅连接到第二感测电极IE2-1至IE2-4中的每个的一端。
与包括其中的每条仅连接到第二感测电极IE2-1至IE2-4中的每个的一端的第二信号线SL2-1至SL2-4的输入感测单元ISU相比，可以改善根据本实施例的输入感测单元ISU的感测灵敏度，并且可以改善本实施例的感测灵敏度。由于第二感测电极IE2-1至IE2-4会比第一感测电极IE1-1至IE1-5长，所以会发生检测信号(或发送信号)的电压降，从而降低感测灵敏度。根据本实施例，由于可以通过均连接到第二感测电极IE2-1至IE2-4中的每个的两端的第二信号线SL2-1至SL2-4来提供检测信号(或发送信号)，所以可以防止检测信号(或发送信号)的电压降，从而避免感测灵敏度的降低。
第一信号线SL1-1至SL1-5可以设置在左侧上，第二信号线SL2-1至SL2-4可以设置在右侧上。第一信号线SL1-1至SL1-5以及第二信号线SL2-1至SL2-4的位置可以相互改变。与图8不同，第一信号线SL1-1至SL1-5可以设置在右侧上，第二信号线SL2-1至SL2-4可以设置在左侧上。
第一信号线SL1-1至SL1-5以及第二信号线SL2-1至SL2-4可以包括线部SL-L和垫(pad，亦或称“焊盘”)部SL-P。垫部SL-P可以在垫区域NDA-PD中对齐。垫部SL-P可以与图4中示出的虚设垫IS-DPD叠置。
输入感测单元ISU可以包括信号垫DP-PD。信号垫DP-PD可以在垫区域NDA-PD中对齐。
在实施例中，第一信号线SL1-1至SL1-5以及第二信号线SL2-1至SL2-4可以被单独地制造并结合的电路板替换。
图9是图8中示出的输入感测单元ISU的区域FF的放大视图。参照图9，第一感测部SP1可以与光吸收图案ABS叠置并且可以不与发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B叠置。光吸收图案ABS可以与不发光区域NPXA叠置。发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B中的每个可以以与图5中示出的发光区域PXA相同的方式来限定。
第一感测部SP1的网格线(金属线)可以限定多个网格孔IS-OPR、IS-OPG和IS-OPB。多个网格孔IS-OPR、IS-OPG和IS-OPB中的每个可以与发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B中的每个以及光吸收图案ABS对应。换言之，发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B可以通过光吸收图案ABS的开孔ABS-OPG暴露。光吸收图案ABS的开孔ABS-OPG以及发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B可以通过网格孔IS-OPR、IS-OPG和IS-OPB暴露。
当在平面图中观看显示装置DD时，光吸收图案ABS的开孔ABS-OPG可以形成为与发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B叠置。网格孔IS-OPR、IS-OPG和IS-OPB可以形成为在平面图中与发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B以及光吸收图案ABS的开孔ABS-OPG叠置。
网格线的线宽度W1可以小于光吸收图案ABS的宽度W2。光吸收图案ABS的宽度W2可以小于与不发光区域NPXA对应的像素限定层PDL的宽度W3。
光吸收图案ABS和网格线可以形成在不发光区域NPXA上，并且可以不侵入发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B。因此，可以防止光吸收图案ABS和网格线阻挡从发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B发射的光，光吸收图案ABS和网格线可以对用户不可见。
作为示例，网格线可以具有钛/铝/钛的三层结构。
根据在有机发光二极管OLED中产生的光的颜色，发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B可被分成多个组。参照图9，根据光发射颜色，发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B可被分成三个组。
根据从有机发光二极管OLED的发光层EML发射的光的颜色，发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B可以具有不同的面积。发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B的面积可以根据有机发光二极管OLED的类型来确定。
网格孔IS-OPR、IS-OPG和IS-OPB可被分成具有不同面积的多个组。网格孔IS-OPR、IS-OPG和IS-OPB可以根据相应的发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B被分成三个组。
如图9中所示，网格孔IS-OPR、IS-OPG和IS-OPB中的每个可以与发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B中的每个对应，但实施例不限于此。网格孔IS-OPR、IS-OPG和IS-OPB中的每个可以与两个或更多个发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B对应。形成网格孔IS-OPR、IS-OPG和IS-OPB的网格线可以与形成在不发光区域NPXA上的光吸收图案ABS对应。
如图9中所示，发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B可以具有彼此不同的面积。然而，实施例不限于此。发光区域PXA-R、PXA-G和PXA-B可以具有相同的尺寸，网格孔IS-OPR、IS-OPG和IS-OPB可以具有相同的尺寸。网格孔IS-OPR、IS-OPG和IS-OPB可以具有菱形形状。然而，实施例不限于此，网格孔IS-OPR、IS-OPG和IS-OPB可以是各种多边形形状。网格孔IS-OPR、IS-OPG和IS-OPB可以具有带倒圆角的多边形形状。
图10是根据图9的VIII-VIII’的显示装置DD的剖视图。参照图10，第一感测电极IE1-1至IE1-5中的每个的第一感测部SP1可以包括第一网格图案SP1-1和第二网格图案SP1-2。第一网格图案SP1-1和第二网格图案SP1-2中的每个可以包括以网格形状形成的金属。换言之，第二网格图案SP1-2可以位于第一网格图案SP1-1上，光吸收图案ABS可以置于第一网格图案SP1-1与第二网格图案SP1-2之间。至少一个连接接触孔CNT-D可以形成在光吸收图案ABS中，接触部SP1-D可以通过连接接触孔CNT-D将第二网格图案SP1-2和第一网格图案SP1-1电连接。
第一网格图案SP1-1可以形成在薄膜封装层TFE上以与位于不发光区域NPXA中的像素限定层PDL对应。光吸收图案ABS可以形成为与第一网格图案SP1-1叠置。光吸收图案ABS可以具有与发光区域PXA叠置的开孔ABS-OPG。光吸收图案ABS可以以与第一网格图案SP1-1相同的方式对应于位于不发光区域NPXA中的像素限定层PDL。第二网格图案SP1-2可以形成在光吸收图案ABS上。第二网格图案SP1-2的宽度可以小于或等于光吸收图案ABS的宽度W2。
光吸收图案ABS可以具有从光吸收图案ABS的一个表面穿透到与所述一个表面相对的另一表面的连接接触孔CNT-D。连接接触孔CNT-D可以在朝向像素限定层PDL的方向上穿透光吸收图案ABS。接触部SP1-D可以通过连接接触孔CNT-D将第一网格图案SP1-1和第二网格图案SP1-2电连接。接触部SP1-D可以由导电材料形成。作为示例，为了加工便利，接触部SP1-D可以由与第一网格图案SP1-1或第二网格图案SP1-2相同的材料形成。作为另一示例，接触部SP1-D可以由具有比第一网格图案SP1-1或第二网格图案SP1-2高的电导率的材料形成。
第二感测电极IE2-1至IE2-4中的每个的第二感测部SP2可以具有与第一感测电极IE1-1至IE1-4中的每个的第一感测部SP1相似的两层网格图案。光吸收图案ABS可以设置在网格图案的两层之间。两层网格图案可以通过穿过在光吸收图案ABS中形成的连接接触孔CNT-D的接触部来被电连接。
由于感测电极具有第一网格图案和第二网格图案，且第一网格图案和第二网格图案彼此电连接，所以可以降低感测电极的电阻，从而改善RC延迟。
光吸收图案ABS可以包括能够阻挡光的材料。例如，光吸收图案ABS可以包括具有高的光吸收率的有机材料。光吸收图案ABS可以包括黑色颜料或黑色染料。光吸收图案ABS可以包括光敏有机材料并且可以包括例如着色剂(诸如，颜料或染料)。光吸收图案ABS可以具有单层结构或多层结构。
通过在光吸收图案ABS中阻挡外部光的反射，可以改善显示装置DD的反射颜色。
更具体地，当外部光入射在显示装置DD上时，光会在显示装置DD中反射。例如，外部光会被显示面板DP中的TFT或电极反射，然后发射到显示装置DD的外部。当外部光在显示装置DD中反射然后发射到显示装置DD的外部时，由显示装置DD表达的颜色会因外部光的反射而失真。换言之，反射颜色特性会劣化。此外，外部光反射会使难以显示真正的黑色，并导致室外可视性差。
防反射面板RPP可以防止入射到显示装置DD中的外部光在显示装置DD中被反射并被发射到外部。然而，由于有机发光显示器的结构特性，单独的防反射面板RPP会在防止外部光的反射方面受到限制。
换言之，有机发光显示面板与LCD显示面板相比会更易受外部光反射的影响。更具体地，LCD显示面板可以通过液晶层屏蔽外部光的反射。然而，由于有机发光显示面板是自发光显示器，所以会没有单独的液晶层。因此，有机发光显示面板会在结构上易受室外光反射的影响。尽管防反射面板RPP可以设置在有机发光显示面板上以减少外部光的反射，但是具有防反射面板RPP的有机发光显示面板对于具有液晶层的LCD显示面板而言在抑制外部光的反射方面会相对较差。此外，由于反射颜色的劣化特性，有机发光显示面板会难以实现真正的黑色。
根据实施例的显示装置DD可以包括光吸收图案ABS以防止外部光的反射，从而改善显示装置DD的反射颜色的特性并改善室外可视性。换言之，光吸收图案ABS可以设置在显示装置DD的不发光区域NPXA上，并且可以吸收被显示面板DP中的TFT或电极反射并指向不发光区域NPXA的光。因此，光吸收图案ABS可以防止入射到显示装置DD中的外部光再次被释放到显示装置DD的外部。此外，由于开孔ABS-OPG暴露了发光区域PXA，所以可以避免亮度的降低并且可以改善反射颜色的特性。
由光吸收图案ABS改善的反射颜色的特性可以在图11A和图11B中示出。
图11A是示出在传统的显示装置中通过用排除镜面分量(SCE)测量的倾斜角和方位角的a*b*分布的色坐标图，图11B是示出在一个实施例中的通过用SCE测量的倾斜角和方位角的a*b*分布的色坐标图。
测量反射光的方法可以包括包含镜面分量(SCI)和排除镜面分量(SCE)，所述SCI包括镜面反射，所述SCE排除镜面反射。在SCE模式下，可以去除镜面反射，使得可以仅测量漫反射。在SCI模式下，可以测量漫反射和镜面反射两者，并且可以不考虑表面条件地测量总反射。
通常，人们忽略这样的镜面反射并识别颜色。因此，在如人们看到它那样来测量颜色时，可以仅测量除镜面反射之外的漫反射。通常，可以在SCE模式下测量显示装置的反射颜色。
图11A和图11B示出了示出在SCE模式下测量的倾斜角和方位角中的每个的a*b*分布的色坐标。图11C是示出由三层L1、L2和L3形成的薄膜封装层TFE的剖视图。图11A是示出对于没有光吸收图案的传统显示装置的、根据在SCE模式下测量的各倾斜角和各方位角的a*b*分布的色坐标图。图11B是示出对于包括光吸收图案ABS的显示装置的、通过在SCE模式下测量的各倾斜角和方位角的a*b*分布的色坐标图。
在SCE模式下，可以在将测量对象(即，显示装置)旋转360°的同时相对于显示装置的平面的法线以0°、8°、30°、45°和60°的倾斜角进行测量从显示装置反射的光。
测量值可以显示在国际照明委员会(CIE)L*a*b*色彩空间中。
在CIE L*a*b*色彩空间中，L*值可以表示亮度。L*＝0可以表示黑色，L*＝100可以表示白色。a*值可以表示红色/绿色比例。如果a*值为负，那么颜色更接近绿色。如果a*值为正，那么颜色可以更接近红色或紫色。b*值代表黄色/蓝色比例。如果b*值为负，那么颜色可以更接近蓝色。如果b*值为正，那么颜色可以更接近黄色。
L*值、a*值和b*值偏离零越大，会发生越多的颜色失真。这可以说反射颜色是弱的。
图11A示出了不具有光吸收图案ABS的有机发光二极管OLED的测量结果。参照图11A，a*和b*的值在0°和8°以及45°和60°处被测量为负值，且a*和b*的值分布广泛。这会意味着显示装置的反射颜色的特性低，且没有实现真正的黑色。具体地说，b*值会偏移到-4，这意味着会实现带有蓝色的黑色。另外，由于a*值和b*值分布广泛，所以颜色会根据观看显示装置的倾斜角和方位角来被不同地识别。
另一方面，图11B示出了具有光吸收图案ABS的有机发光二极管OLED的测量结果。参照图11B，可以看出a*和b*的散布较低，且a*和b*的值与图11A的值相比没有偏离零太多。也就是说，a*和b*的较低的散布可以意味着取决于观看显示装置的倾斜角或方位角的颜色的差异不大，且接近零的a*和b*值可以意味着显示装置再现了更接近真正的黑色的颜色。
如图11A和图11B所示，根据实施例的显示装置DD可以包括光吸收图案ABS，从而改善显示装置DD的反射颜色的特性并制造实现真正的黑色的产品。
根据实施例的显示装置DD可以包括光吸收图案ABS。如上所述，可以防止外部光的反射以改善反射颜色的特性。然而，光吸收图案ABS不仅会吸收外部光，而且还会吸收从发光元件发射的光。因此，由于应用光吸收图案ABS以改善反射颜色，所以会降低光提取效率。
根据实施例，可以通过调节光吸收图案ABS的宽度来使显示装置DD中所需的视角/亮度比保持恒定。在显示装置DD的平面图中，光吸收图案ABS的宽度可以根据光吸收图案ABS的开孔ABS-OPG的边界与发光区域PXA的外边界之间的距离来变化。可以根据薄膜封装层TFE的厚度通过调节光吸收图案ABS的开孔ABS-OPG的边界与发光区域PXA的外边界之间的距离来使显示装置DD的视角/亮度比保持恒定。
为了保持视角/亮度比的恒定比例(即，在预定视角下亮度值与参考值的比)，可以满足下面的式1：
d＝t×tanθ (式1)。
在式1中，d可以是光吸收图案ABS的开孔ABS-OPG的边界与发光区域PXA的外边界之间的距离，t可以是薄膜封装层TFE的厚度，并且θ可以是相对于显示装置的用于测量视角/亮度比的表面的法线方向的倾斜角。
显示装置DD在特定视角处会需要预定水平或更高的亮度值。例如，在有机发光显示装置中，当倾斜角垂直于有机发光显示装置的平面时的亮度值(即，倾斜角为0°处的亮度值)被设置为参考值时，倾斜角为45°处的亮度值可以满足参考值的45％或更大。
为了获得倾斜角为45°处的相对于参考值的45％的亮度值，根据式1，光吸收图案ABS的开孔ABS-OPG的边界与发光区域PXA的外边界之间的距离d可以满足d＝t×tan45°。距离d可以根据薄膜封装层TFE的厚度t来确定。
光吸收图案ABS的开孔ABS-OPG的边界与发光区域PXA的外边界之间的距离d可以与薄膜封装层TFE的厚度t成比例。因此，当增大薄膜封装层TFE的厚度t时，可以调节光吸收图案ABS的开孔ABS-OPG的尺寸，使得可以增大距离d。当减小薄膜封装层TFE的厚度t时，可以调节光吸收图案ABS的开孔ABS-OPG的尺寸，使得可以减小距离d。
当增大光吸收图案ABS的开孔ABS-OPG的边界与发光区域PXA的外边界之间的距离d时，会减小光吸收图案ABS的宽度W2。另一方面，当减小光吸收图案ABS的开孔ABS-OPG的边界与发光区域PXA的外边界之间的距离d时，会增大光吸收图案ABS的宽度W2。
当增大距离d时，会减小光吸收图案ABS的宽度W2，使得会相对地减弱外部光的吸收。结果，会减弱反射颜色的特性。另外，由于减小了形成在光吸收图案ABS上的感测电极的图案线的宽度，所以会增大电阻且会发生RC延迟。
另一方面，当减小距离d时，会增大光吸收图案ABS的宽度W2，从而可以相对地增大外部光的吸收。因此，可以改善反射颜色的特性。然而，由于从发光元件发射的光也被光吸收图案ABS吸收，所以会降低视角/亮度比。
当根据式1确定光吸收图案ABS的尺寸时，可以改善反射颜色的特性，并且可以使视角/亮度比保持在预定水平。
根据另一实施例，参照图11C，当薄膜封装层TFE由三层L1、L2和L3形成时，可以由下面的式2来确定开孔ABS-OPG的边界与发光区域PXA的外边界之间的距离d：
在式2中，t1、t2和t3可以分别是薄膜封装层TFE的层L1、L2和L3的厚度，n1、n2和n3可以分别是层L1、L2和L3的折射率。此外，D可以是相对于显示装置的用于测量视角/亮度比的平面的法线方向的倾斜角。例如，D可以是0°、45°和60°。这里，可以分别是角度θ1、θ2和θ3。
更一般地，当薄膜封装层TFE包括k层时，可以由下面的式3来确定开孔ABS-OPG的边界与发光区域PXA的外边界之间的距离d：
在式3中，ti可以是包括k层的薄膜封装层TFE的第i层的厚度，ni可以是第i层的折射率。
图12是示出传统显示装置和根据实施例的显示装置中的每个的根据视角的亮度比的曲线图。
参照图12，Ref.值可以表示应用不具有光吸收图案ABS的一般偏振器的有机发光显示装置在每个视角下的亮度比。窄BM值可以表示根据包括光吸收图案ABS的有机发光显示装置的亮度比，所述光吸收图案ABS的尺寸根据式1来确定。通常，与0°的视角处的亮度比相比，45°的视角处的亮度比可以要求至少是45％。在仅使用没有光吸收图案ABS的一般偏振器的有机发光显示装置中，在45°的视角处的亮度比可以达到50％。在应用了根据本实施例的光吸收图案ABS的有机发光显示装置中，在45°的视角处的亮度比可以达到45％。换言之，光吸收图案ABS的应用会造成亮度比在45°的视角处的轻微降低。然而，在小于45°的视角下，根据实施例的有机发光显示装置可具与一般有机发光显示装置的视角/亮度比相似的视角/亮度比。
典型有机发光显示器可以具有好的视角/亮度比。但是，如图11A中所示，由于反射颜色的特性非常弱，所以室外可视性会差且会难以实现真正的黑色。相反，根据实施例的显示装置在保持视角/亮度比的同时可以增强室外可视性，并且可以如图11B所示地通过改善反射颜色的特性来实现接近实际黑色的产品。
图13A至图13C是示出根据另一实施例的显示装置DD的剖视图。在下文中，将省略与参照图1至图7描述的显示装置DD相同的构造的详细描述。参照图8至图10描述的实施例同样适用于下面将要描述的输入感测单元ISU。
对于感测电极和光吸收图案ABS被布置的位置而言，图13A至图13C中示出的显示装置DD中的每个与图10中示出的显示装置DD不同。差异如下。
在图13A中示出的显示装置DD中，第一感测部SP1可以设置在光吸收图案ABS上。也就是说，在图10中示出的显示装置DD中，光吸收图案ABS可以夹在形成第一感测部SP1的第一网格图案SP1-1与第二网格图案SP1-2之间。然而，在图13A中示出的显示装置DD中，光吸收图案ABS可以形成在薄膜封装层TFE上。在光吸收图案ABS上可以形成第一网格图案SP1-1之后，可以在第一网格图案SP1-1上形成第二网格图案SP1-2。第一绝缘层IS-IL1可以形成在第一网格图案SP1-1与第二网格图案SP1-2之间。连接接触孔CNT-D可以形成在第一绝缘层IS-IL1中。接触部SP1-D可以形成在连接接触孔CNT-D中以将第一网格图案SP1-1和第二网格图案SP1-2电连接。第二绝缘层IS-IL2可以形成在第二网格图案SP1-2上。第二绝缘层IS-IL2可以完全覆盖第二网格图案SP1-2并且可以用作平坦化层。
在图13B中示出的显示装置DD中，光吸收图案ABS可以设置在第一感测部SP1上。换言之，在图10中示出的显示装置DD中，光吸收图案ABS可以夹在形成第一感测部SP1的第一网格图案SP1-1与第二网格图案SP1-2之间。然而，在图13B中示出的显示装置DD中，第一感测部SP1可以形成在薄膜封装层TFE上，光吸收图案ABS可以形成在第一感测部SP1上。具体地，在薄膜封装层TFE上可以形成第一网格图案SP1-1之后，可以在第一网格图案SP1-1上形成第二网格图案SP1-2。第一绝缘层IS-IL1可以形成在第一网格图案SP1-1与第二网格图案SP1-2之间。连接接触孔CNT-D可以形成在第一绝缘层IS-IL1中。接触部SP1-D可以形成在连接接触孔CNT-D中以将第一网格图案SP1-1和第二网格图案SP1-2电连接。光吸收图案ABS可以形成在第二网格图案SP1-2上。可以在光吸收图案ABS中形成对应于发光区域PXA的开孔ABS-OPG之后形成第二绝缘层IS-IL2。第二绝缘层IS-IL2可以完全覆盖光吸收图案ABS并且可以用作平坦化层。
图13C中示出的显示装置DD可以与图13A中示出的显示装置DD在第一感测部SP1设置在光吸收图案ABS上方面类似，并且可以与图13A中示出的显示装置DD在绝缘层IS-IL1设置在第一感测部SP1与光吸收图案ABS之间方面不同。也就是说，图13C中示出的显示装置DD可以通过以下步骤来形成：在薄膜封装层TFE上形成光吸收图案ABS；在光吸收图案ABS中形成与发光区域PXA对应的开孔ABS-OPG；在光吸收图案ABS上形成第一绝缘层IS-IL1。第一绝缘层IS-IL1可以完全覆盖光吸收图案ABS并且可以用作平坦化层。在第一绝缘层IS-IL1上形成第一网格图案SP1-1之后，可以在第一网格图案SP1-1上形成第二网格图案SP1-2。第二绝缘层IS-IL2可以形成在第一网格图案SP1-1与第二网格图案SP1-2之间。连接接触孔CNT-D可以形成在第二绝缘层IS-IL2中，接触部SP1-D可以形成在连接接触孔CNT-D中。第一网格图案SP1-1和第二网格图案SP1-2可以通过接触部SP1-D电连接。第三绝缘层IS-IL3可以形成在第二网格图案SP1-2上。第三绝缘层IS-IL3可以完全覆盖第二网格图案SP1-2并且可以用作平坦化层。
图13A至图13C中示出的显示装置DD可以包括如图10中示出的显示装置DD的具有彼此电连接的第一网格图案SP1-1和第二网格图案SP1-2的感测电极。因此，可以减小感测电极的电阻，从而可以改善RC延迟。
图14是示出根据另一实施例的显示装置DD的剖视图。在下文中，将省略与参照图1至图7描述的显示装置DD的构造相同的构造的详细描述。参照图8至图10描述的实施例同样适用于下面描述的输入感测单元ISU。
图14中示出的显示装置DD对于感测电极的形式而言可以与图10中示出的显示装置DD不同。换言之，图14中示出的显示装置DD可以具有由网格图案中的一层(例如，第一网格图案SP1-1)形成的感测电极。然而，图10中示出的显示装置DD可以具有由两个网格图案(即，第一网格图案SP1-1和第二网格图案SP1-2)形成的感测电极。更具体地，图14的显示装置DD可以通过以下步骤来形成：在薄膜封装层TFE上形成光吸收图案ABS；在光吸收图案ABS上形成第一感测部SP1；在第一感测部SP1上形成绝缘层IS-IL。防反射面板RPP可以设置在绝缘层IS-IL上。
图15是示出根据另一实施例的显示装置DD的剖视图。图16A至图16C是示出具有具备不同尺寸的光路改变部的显示装置DD的剖视图。在下文中，将省略与参照图1至图7描述的显示装置DD的构造相同的构造的详细描述。参照图8至图10描述的实施例同样适用于下面描述的输入感测单元ISU。
图15中示出的显示装置DD可以与图10中示出的显示装置DD在显示装置DD还包括光路改变部LNS方面不同。也就是说，图10中示出的显示装置DD可以设置有直接位于覆盖感测电极的绝缘层IS-IL上的防反射面板RPP。然而，在图15中示出的显示装置DD中，光路改变部LNS可以设置在第一绝缘层IS-IL1与防反射面板RPP之间。
具体地，图15中示出的显示装置DD可以包括形成为朝向显示元件层DP-OLED突出的槽，所述槽位于覆盖形成在薄膜封装层TFE上的光吸收图案ABS和感测电极的第一绝缘层IS-IL1上。第二绝缘层IS-IL2可以形成在第一绝缘层IS-IL1上并且可以填充槽。也就是说，第二绝缘层IS-IL2可以用作平坦化层。
第二绝缘层IS-IL2可以具有比第一绝缘层IS-IL1的折射率大的折射率。从发光元件发射的光可以通过第一绝缘层IS-IL1传输到第二绝缘层IS-IL2。通过利用折射率匹配，光随后透射过的第二绝缘层IS-IL2的折射率可以大于第一绝缘层IS-IL1的折射率，从而可轻易地提取困在薄膜封装层TFE与空气之间的光。
光路改变部LNS可以指形成在第一绝缘层IS-IL1上的槽的填充有第二绝缘层IS-IL2的部分。穿过光路改变部LNS的光的路径可以因光路改变部LNS的几何形状和折射率的差异而改变。图15中示出的光路改变部LNS可以使入射在光路改变部LNS上的光会聚，其有时称为光路改变单元LNS。
具体地，光路改变部LNS的槽可以形成为朝向有机发光二极管OLED突出。第一绝缘层IS-IL1和第二绝缘层IS-IL2可以是顺序地设置在从有机发光二极管OLED发射的光的路径上的介质。第一绝缘层IS-IL1的折射率可以小于第二绝缘层IS-IL2的折射率。因此，图15中示出的光路改变单元LNS可以执行用于会聚光的凸透镜的功能。
从有机发光二极管OLED发射的光在穿过光路改变部LNS的同时可以被会聚，从而可以增加显示装置DD的前面处的亮度。也就是说，光路改变单元LNS可以增大显示装置DD的光提取效率。
如上所述，由于根据实施例的显示装置DD包括光吸收图案ABS，因此可以能够防止外部光的反射并改善反射颜色的特性。然而，光吸收图案ABS不仅会吸收外部光，而且还会吸收从发光元件发射的光。因此，用于改善反射颜色的特性的光吸收图案ABS会降低光提取效率。然而，根据实施例的显示装置DD可以包括光路改变部LNS以及光吸收图案ABS，从而改善反射颜色的特性并防止亮度的降低。因此，可以改善显示装置DD的视角/亮度比。
光路改变部LNS可以与光吸收图案ABS的开孔ABS-OPG叠置。更具体地，如图16A和图16B中所示，光路改变部LNS可以具有等于或小于开孔ABS-OPG的尺寸的尺寸。如上所述，根据光路改变部LNS的形状，光路改变部LNS可以改变从有机发光二极管OLED发射的光的路径以会聚光，从而增加显示装置DD的前部处的亮度以及/或者改善视角/亮度比并改善WAD。
图16A和图16B中示出的其尺寸形成为等于或小于开孔ABS-OPG的尺寸的光路改变部LNS可以具有比图16C中示出的其尺寸形成为大于开孔ABS-OPG的尺寸的光路改变部LNS高的光会聚效果。
换言之，可以限制形成光路改变部LNS的第一绝缘层IS-IL1的厚度，并且可以在第一绝缘层IS-IL1中设置感测电极和光吸收图案ABS。因此，可以限制光路改变部LNS的曲率。
图16A和图16B中示出的其尺寸形成为等于或小于开孔ABS-OPG的尺寸的光路改变部LNS可以具有比图16C中示出的其尺寸形成为大于开孔ABS-OPG的尺寸的光路改变部LNS小的曲率。光路改变部LNS的曲率可以越小，焦距可以越短。焦距可以越短，透镜的发散和会聚可以越强。焦距可以越长，透镜的发散和会聚可以越弱。由于图16A和图16B中示出的光路改变部LNS的曲率小于图16C中示出的光路改变部LNS的曲率，图16A和图16B中示出的光路改变部LNS可以具有比图16C中示出的光路改变部LNS的焦距短的焦距。因此，图16A和图16B中示出的光路改变单元LNS可以具有比图16C中示出的光路改变单元LNS大的会聚效果。
此外，通过增大第二绝缘层IS-IL2的折射率以大于第一绝缘层IS-IL1的折射率，可以进一步增强因第一绝缘层IS-IL1与第二绝缘层IS-IL2之间的折射率匹配引起的光会聚效果。
图17A和图17B是示出根据另一实施例的显示装置DD的剖视图。在下文中，将省略与参照图1至图7描述的显示装置DD的构造相同的构造的详细描述。参照图8至图10描述的实施例同样适用于下面描述的输入感测单元ISU。
对于感测电极和光吸收图案ABS形成的位置而言，图17A和图17B中示出的显示装置DD中的每个可以与图15中示出的显示装置DD不同。下面描述这些差异。
在图17A中示出的显示装置DD中，第一感测部SP1可以设置在光吸收图案ABS上。
也就是说，在图15中示出的显示装置DD中，光吸收图案ABS可以设置在包括在第一感测部SP1中的第一网格图案SP1-1与第二网格图案SP1-2之间。然而，在图17A中示出的显示装置DD中，光吸收图案ABS可以形成在薄膜封装层TFE上，第一网格图案SP1-1可以形成在光吸收图案ABS上，第二网格图案SP1-2可以形成在第一网格图案SP1-1上。
第一绝缘层IS-IL1可以形成在第一网格图案SP1-1与第二网格图案SP1-2之间。连接接触孔CNT-D可以形成在第一绝缘层IS-IL1中。接触部SP1-D可以形成在连接接触孔CNT-D中。因此，接触部SP1-D可以将第一网格图案SP1-1和第二网格图案SP1-2电连接。
第二绝缘层IS-IL2可以形成在第二网格图案SP1-2上。朝向显示元件层DP-OLED突出的槽可以形成在第二绝缘层IS-IL2上。第三绝缘层IS-IL3可以形成在第二绝缘层IS-IL2上以填充槽。换言之，第三绝缘层IS-IL3可以用作平坦化层。
在图17B中示出的显示装置DD中，光吸收图案ABS可以设置在第一感测部SP1上。也就是说，在图15中示出的显示装置DD中，光吸收图案ABS可以设置在包括在第一感测部SP1中的第一网格图案SP1-1与第二网格图案SP1-2之间。然而，在图17B中示出的显示装置DD中，第一感测部SP1可以形成在薄膜封装层TFE上，光吸收图案ABS可以形成在第一感测部SP1上。具体地，第一网格图案SP1-1可以形成在薄膜封装层TFE上，第二网格图案SP1-2可以形成在第一网格图案SP1-1上。第一绝缘层IS-IL1可以形成在第一网格图案SP1-1与第二网格图案SP1-2之间。连接接触孔CNT-D可以形成在第一绝缘层IS-IL1中，接触部SP1-D可以形成在连接接触孔CNT-D中。因此，接触部SP1-D可以将第一网格图案SP1-1和第二网格图案SP1-2电连接。
光吸收图案ABS可以形成在第二网格图案SP1-2上。在于光吸收图案ABS中形成对应于发光区域PXA的开孔ABS-OPG之后，可以形成第二绝缘层IS-IL2。朝向显示元件层DP-OLED突出的槽可以形成在第二绝缘层IS-IL2上。第三绝缘层IS-IL3可以形成在第二绝缘层IS-IL2上并且可以填充槽。换言之，第三绝缘层IS-IL3可以用作平坦化层。
图18A至图18C是示出根据另一实施例的显示装置DD的剖视图。在下文中，将省略与参照图1至图7描述的显示装置DD的构造相同的构造的详细描述。参照图8至图10描述的实施例同样适用于下面描述的输入感测单元ISU。图18A至图18C中示出的显示装置DD中的每个可以通过与图15、图17A和图17B中示出的显示装置DD在形成光路改变部LNS之前的相同的方法来形成。由于元件相同，所以将省略它们的描述。
图18A至图18C中示出的显示装置DD中的每个可以与图15、图17A和图17B中示出的显示装置DD中的每个对应，光路改变部LNS的形状可以彼此不同。也就是说，图15、图17A和图17B中示出的显示装置DD中的每个的光路改变部LNS可以朝向显示元件层DP-OLED突出。考虑到发光的发光元件，光路改变部LNS可以被视为凸透镜。然而，图18A至图18C中示出的显示装置DD的光路改变部LNS可以与显示元件层DP-OLED相对。换言之，光路改变部LNS可以朝向防反射面板RPP突出。考虑到发光的发光元件，光路改变部LNS可以被视为凹透镜。
图18A至图18C中示出的光路改变部LNS可以形成为与光吸收图案ABS的开孔ABS-OPG叠置。更具体地，光路改变单元LNS的尺寸可以等于或小于开孔ABS-OPG的尺寸。如上所述，光路改变单元LNS可以改变从发光装置发射的光的路径并且根据光路改变单元LNS的形状来会聚或散射光。因此，可以增加显示装置DD的前面的亮度，并且可以改善视角/亮度比和WAD。图18A至图18C中示出的光路改变部LNS可以朝向显示装置DD的外部凸出，并且因此可以用作凹透镜。因此，从发光装置发射的光可以被光路改变单元LNS散射，从而改善视角/亮度比并进一步改善WAD。
如图18A至图18C中所示，其尺寸形成为等于或小于开孔ABS-OPG的尺寸的光路改变部LNS可以比其尺寸形成为大于开孔ABS-OPG的尺寸的光路改变部LNS更大地增强散射效果。
其中形成光路改变部LNS的第二绝缘层IS-IL2(图18B和图18C中的第三绝缘层IS-IL3)的厚度受到限制。另外，由于防反射面板RPP设置在第二绝缘层IS-IL2(如图18A所示)或第三绝缘层IS-IL3(如图18B和图18C所示)上，所以光路改变部LNS的曲率会被限制。其尺寸形成为等于或小于开孔ABS-OPG的尺寸的光路改变部LNS可以形成为具有比形成为大于开孔ABS-OPG的光路改变部LNS小的曲率。当曲率越小时，焦距可以越小。焦距可以越短，透镜的发散和会聚可以越强。焦距越长，透镜的发散和会聚可以越弱。通过减小曲率，可以缩短焦距，从而可以增大散射效果。例如，通过使光路改变部LNS等于或小于光吸收图案ABS的开孔ABS-OPG，可以缩短焦距，从而可以增大散射效果。
根据实施例的显示装置DD可以设置有具有这样的散射效果的光路改变部LNS，使得即使当为了改善反射颜色的特性而设置光吸收图案ABS时，也可以保持而不减小行业中所需的视角/亮度比。
根据实施例，可以改善显示装置的反射颜色并且可以改善视角/亮度比。
在这里已经公开了示例实施例，虽然采用了特定的术语，但是仅以一般的和描述性的含义来使用它们并将对它们进行解释，而不是为了限制的目的。在一些情形下，如本领域的普通技术人员将明显的，自提交本申请之时起，除非另外明确指出，否则结合具体实施例描述的特征、特性和/或元件可以单独使用或者与结合其它示例性实施例描述的特征、特性和/或元件组合使用。因此，本领域技术人员将理解的是，在不脱离权利要求书中所阐述的发明构思的精神和范围的情况下，可以做出形式和细节上的各种改变。

Claims (25)

1.一种显示装置，所述显示装置包括：
显示面板，包括多个发光区域和多个不发光区域；以及
输入感测单元，设置在所述显示面板上，
所述显示面板还包括：
基体层；
发光元件，设置在所述基体层上；
像素限定层，限定所述发光元件的位置；以及
密封层，覆盖所述发光元件和所述像素限定层，
其中，所述多个发光区域中的发光区域被限定为与所述发光元件的被所述像素限定层暴露的区域对应，所述多个不发光区域中的每个被限定为与所述像素限定层的区域对应，
其中，所述密封层包括一层或更多层，
所述输入感测单元包括：
光吸收图案，设置为与所述多个不发光区域对应并被构造为吸收入射光；以及
感测电极，与所述光吸收图案叠置，
其中，所述光吸收图案具有用于暴露所述多个发光区域中的每个的开孔，并且
其中，所述光吸收图案被设置为使得所述开孔的边界与所述发光区域的外边界彼此间隔开。
2.如权利要求1所述的显示装置，其中，所述开孔的所述边界与所述发光区域的所述外边界之间的距离d通过下面的等式来确定，
其中，k为自然数，ti为所述密封层的第i层的厚度，ni为所述密封层的所述第i层的折射率，D为相对于所述显示装置的平面的法线方向的倾斜角。
3.如权利要求2所述的显示装置，其中，所述倾斜角D是当为每个视角测量所述显示装置的亮度比时的视角，以及
其中，所述距离d根据等式来确定以确保所述显示装置的所述视角相对于预定的视角的所述亮度比。
4.如权利要求1所述的显示装置，其中，所述开孔的宽度或面积大于所述多个发光区域中的每个的宽度或面积。
5.如权利要求1所述的显示装置，其中，所述开孔的所述边界不侵入所述多个发光区域中的每个的所述外边界。
6.如权利要求1所述的显示装置，其中，所述光吸收图案与所述多个不发光区域中的每个叠置。
7.如权利要求1所述的显示装置，其中，所述输入感测单元还包括具有光路改变部的绝缘层，所述光路改变部被构造为改变入射在与所述开孔对应的所述绝缘层上的光的路径。
8.如权利要求7所述的显示装置，其中，所述光路改变部朝向所述发光元件突出。
9.如权利要求7所述的显示装置，其中，所述光路改变部背向所述发光元件突出。
10.如权利要求7所述的显示装置，其中，所述绝缘层包括覆盖所述感测电极的第一绝缘层和设置在所述第一绝缘层上的第二绝缘层，以及
其中，所述光路改变部设置在所述第一绝缘层与所述第二绝缘层之间。
11.如权利要求10所述的显示装置，其中，所述第二绝缘层具有比所述第一绝缘层的折射率大的折射率。
12.如权利要求7所述的显示装置，其中，所述光路改变部与所述多个发光区域中的每个叠置。
13.如权利要求7所述的显示装置，其中，所述光路改变部的直径或面积小于或等于所述开孔的宽度或面积。
14.如权利要求1所述的显示装置，其中，所述感测电极具有不与所述多个发光区域中的每个叠置的网格图案。
15.如权利要求14所述的显示装置，其中，所述网格图案设置为与所述光吸收图案叠置。
16.如权利要求14所述的显示装置，其中，所述网格图案包括形成至少一个网格孔的金属线，并且
其中，所述金属线的宽度小于所述光吸收图案的宽度。
17.如权利要求16所述的显示装置，其中，所述网格孔比所述开孔大。
18.如权利要求14所述的显示装置，其中，所述感测电极包括第一网格图案和第二网格图案，并且
其中，所述第二网格图案位于所述第一网格图案上并与所述第一网格图案分开，并且通过至少一个接触部电连接到所述第一网格图案。
19.如权利要求18所述的显示装置，其中，所述光吸收图案设置在所述第一网格图案与所述第二网格图案之间，并且
其中，所述至少一个接触部通过所述光吸收图案中的连接接触孔将所述第一网格图案和所述第二网格图案电连接。
20.如权利要求18所述的显示装置，其中，所述输入感测单元还包括绝缘层，所述绝缘层具有包括多个子绝缘层的多层结构，
其中，所述多个子绝缘层中的至少一个子绝缘层设置在所述第一网格图案与所述第二网格图案之间，并且
其中，所述至少一个接触部通过穿过设置在所述第一网格图案与所述第二网格图案之间的所述至少一个子绝缘层的连接接触孔将所述第一网格图案和所述第二网格图案电连接。
21.如权利要求20所述的显示装置，其中，所述第一网格图案位于所述光吸收图案上。
22.如权利要求20所述的显示装置，其中，所述光吸收图案位于所述第二网格图案上。
23.如权利要求14所述的显示装置，其中，所述感测电极包括：
第一感测电极，在第一方向上延伸；以及
第二感测电极，在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸，
其中，所述第一感测电极包括沿所述第一方向布置的多个第一感测部和将所述多个第一感测部彼此连接的多个第一连接部，
其中，所述第二感测电极包括沿所述第二方向上布置的多个第二感测部和将所述多个第二感测部彼此连接的多个第二连接部，
其中，所述多个第一感测部和所述多个第二感测部设置在同一层上或者设置在不同层上，并且
其中，所述多个第一连接部与所述第一感测部设置在同一层上，或者所述多个第二连接部与所述第一感测部设置在同一层上。
24.如权利要求1所述的显示装置，所述显示装置还包括防反射面板，所述防反射面板被构造为防止入射在所述显示装置上的外部光在显示装置中被反射并被发射到外部。
25.如权利要求24所述的显示装置，其中，所述防反射面板设置在所述输入感测单元上，并且
其中，所述光吸收图案被构造为吸收在所述显示装置中反射的所述外部光之中的、入射在所述光吸收图案上的光。
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