CN108919581A - 一种显示面板及其制备方法、电子设备 - Google Patents

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Abstract

本申请公开了一种显示面板及其制备方法、电子设备,其中,所述显示面板中贯穿所述第二非显示区的数据线中包括多条第一数据线、多条第二数据线和多条第三数据线,所述第一数据线、第二数据线和第三数据线至少贯穿所述第二非显示区的部分位于显示面板的不同层,从而减少了在第二非显示区中位于同一层的数据线的数量,增加了第二非显示区中同一层中相邻数据线彼此之间的间距,根据电容的公式可知,在其他参数不变的情况下,增加相邻数据线彼此之间的间距可以降低相邻数据线之间的耦合电容,降低了由于较大的耦合电容导致的数据线在传输数据信号过程中引起数据信号跳变的概率,进而降低了因此而导致的显示面板显示异常的概率。

Description

一种显示面板及其制备方法、电子设备
技术领域
本申请涉及显示设备技术领域,更具体地说,涉及一种显示面板及其制备方法、电子设备。
背景技术
随着显示技术的不断发展,显示面板的应用也越来越广泛。为了满足用户对于显示装置的高屏占比的要求,显示面板的正面的四个边框全部采用无边框设计的全面屏显示面板应运而生。
参考图1和图2,图1为现有技术中全面屏显示面板的俯视结构示意图,图2为图1中虚线区域的放大示意图;为了在全面屏显示面板的正面安放光电感应器或前置摄像头,需要在显示面板的显示区域10中形成圆孔区20,圆孔区20的形成方式可以对该区域的显示面板和背光进行挖孔处理,也可以是将该区域设置为透明区域,即所谓的盲孔形式;该圆孔区20包括透明区22和围绕该透明区22的边框区21,其中,透明区22用于设置光电感应器和前者摄像头等器件;边框区21中用于布置原本需要经过透明区22的数据线。为了尽可能提高显示面板的屏占比,边框区21所占面积需要尽量的小,这就使得布置在边框区21中的数据线30密集排布,从而导致该区域中相邻数据线30之间的距离很小,这就会导致该区域中的数据线30之间的耦合电容增大,从而使得这些数据线30在先后传输数据信号的过程中,引起数据信号的跳变,进而造成这些数据线30所在区域的显示异常。
发明内容
为解决上述技术问题,本申请提供了一种显示面板及其制备方法、电子设备,以解决由于数据线排布过于密集而导致的显示面板显示异常的问题。
为实现上述技术目的,本申请实施例提供了如下技术方案:
一种显示面板,包括显示区、围绕所述显示区的第一非显示区和至少一个第二非显示区,所述显示区围绕所述第二非显示区;所述第二非显示区包括功能器件区和包围所述功能器件区的边框区,所述显示面板还包括:
衬底和位于所述衬底一侧交叉绝缘设置的多条数据线和多条栅极线;其中,
贯穿所述第二非显示区的数据线中包括多条第一数据线、多条第二数据线和多条第三数据线,所述第一数据线、第二数据线和第三数据线贯穿所述第二非显示区的部分设置于所述边框区中;
所述第一数据线与所述显示面板的第二金属层同层设置;
所述第二数据线至少贯穿所述第二非显示区的部分与所述显示面板的第一金属层同层设置;
所述第三数据线至少贯穿所述第二非显示区的部分与所述显示面板的遮光金属层同层设置;
所述第一金属层、所述第二金属层和所述遮光金属层之间彼此相互绝缘。
一种电子设备,包括如上述一项所述的显示面板。
一种显示面板的制备方法,包括:
提供衬底,所述衬底包括显示区、围绕所述显示区的第一非显示区和位于所述显示区中的至少一个第二非显示区,所述第二非显示区包括功能器件区和包围所述功能器件区的边框区;
在所述衬底上形成交叉绝缘设置的多条数据线和多条栅极线;其中,
贯穿所述第二非显示区的数据线中包括多条第一数据线、多条第二数据线和多条第三数据线,所述第一数据线、第二数据线和第三数据线贯穿所述第二非显示区的部分设置于所述边框区中;
所述第一数据线与所述显示面板的第二金属层同层设置;
所述第二数据线贯穿所述第二非显示区的部分与所述显示面板的第一金属层同层设置;
所述第三数据线贯穿所述第二非显示区的部分与所述显示面板的遮光金属层同层设置;
所述第一金属层、所述第二金属层和所述遮光金属层之间彼此相互绝缘。
从上述技术方案可以看出,本申请实施例提供了一种显示面板及其制备方法、电子设备,其中,所述显示面板中贯穿所述第二非显示区的数据线中包括多条第一数据线、多条第二数据线和多条第三数据线,所述第一数据线、第二数据线和第三数据线至少贯穿所述第二非显示区的部分位于显示面板的不同层,从而减少了在第二非显示区中位于同一层的数据线的数量,增加了第二非显示区中同一层中相邻数据线彼此之间的间距,根据电容的公式可知,在其他参数不变的情况下,增加相邻数据线彼此之间的间距可以降低相邻数据线之间的耦合电容,降低了由于较大的耦合电容导致的数据线在传输数据信号过程中引起数据信号跳变的概率,进而降低了因此而导致的显示面板显示异常的概率。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本申请的实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据提供的附图获得其他的附图。
图1为现有技术中的显示面板的俯视结构示意图;
图2为图1中虚线框中部分的局部放大示意图;
图3为本申请的一个实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图;
图4为本申请的一个实施例提供的一种图3中虚线框K的局部放大示意图;
图5为本申请的一个实施例提供的一种图4沿AA’线的剖面结构示意图;
图6为本申请的一个实施例提供的一种显示面板的截面结构示意图;
图7为本申请的另一个实施例提供的一种图4沿AA’线的剖面结构示意图;
图8为本申请的一个实施例提供的一种液晶显示面板的俯视结构示意图;
图9为本申请的一个实施例提供的一种OLED显示面板的俯视结构示意图;
图10为本申请的又一个实施例提供的一种图4沿AA’线的剖面结构示意图;
图11为本申请的一个实施例提供的一种显示面板沿第二数据线的剖面结构示意图;
图12为本申请的一个实施例提供的一种显示面板沿第三数据线的剖面结构示意图;
图13为本申请的一个实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图;
图14为本申请的另一个实施例提供的一种显示面板的剖面结构示意图;
图15为本申请的一个实施例提供的一种电子设备的外观示意图;
图16为本申请的一个实施例提供的一种显示面板制备方法的流程示意图;
图17为本申请的另一个实施例提供的一种显示面板制备方法的流程示意图;
图18为本申请的又一个实施例提供的一种显示面板制备方法的流程示意图。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图,对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本申请保护的范围。
本申请实施例提供了一种显示面板,如图3、图4和图5所示,图3为所述显示面板的俯视结构示意图,图4为图3中虚线框K的局部放大示意图,图5为图4中沿AA’线的剖面结构示意图,所述显示面板包括显示区100、围绕所述显示区100的第一非显示区300和至少一个第二非显示区200,所述显示区100围绕所述第二非显示区200;所述第二非显示区200包括功能器件区220和包围所述功能器件区220的边框区210,所述显示面板还包括:
衬底10和位于所述衬底10一侧交叉绝缘设置的多条数据线20和多条栅极线;其中,
贯穿所述第二非显示区200的数据线20中包括多条第一数据线21、多条第二数据线22和多条第三数据线23,所述第一数据线21、第二数据线22和第三数据线23贯穿所述第二非显示区200的部分设置于所述边框区210中;
所述第一数据线21与所述显示面板的第二金属层同层设置;
所述第二数据线22至少贯穿所述第二非显示区200的部分与所述显示面板的第一金属层同层设置;
所述第三数据线23至少贯穿所述第二非显示区200的部分与所述显示面板的遮光金属层同层设置;
所述第一金属层、所述第二金属层和所述遮光金属层之间彼此相互绝缘。
为了对第一数据线21、第二数据线22和第三数据线23的层级关系有更清楚的说明,首先对显示面板中衬底10上的各层结构进行简单说明:一般情况下,显示面板的衬底10靠近对置基板的一侧,设置有多层金属层,例如,对于液晶显示面板(Liquid CrystalDisplay,LCD),参考图6,图6为液晶显示面板的剖面结构示意图,液晶显示面板的衬底10靠近对置基板的一侧设置有遮光金属层LSM、第一金属层Metal1、第二金属层Metal2,薄膜晶体管TFT的栅极G和栅极线位于第一金属层Metal1,薄膜晶体管TFT的源极S、漏极D,以及数据线20位于第二金属层Metal2;遮光金属层LSM用于遮挡有源层Source中间的沟道区域,避免出现漏光现象。集成触控功能的液晶显示面板中,第二金属层Metal2远离衬底10的一侧还设置第三金属层(附图6中未示出),第三金属层用于设置触控走线。各层金属层之间设置有绝缘层,图中示例性地为底栅结构,可以理解的是栅极source也可以位于第二金属层Metal2之上,也就是第一金属层Metal1位于第二金属层Metal2之上,本发明在此不作限定,此外第三金属层Metal3为触控信号线层,第三金属层Metal3位于第二金属层Metal2之上。同样,对于有机发光(Organic Light-Emitting Diode,OLED)显示面板,在衬底10靠近对置基板的一侧设置有第一金属层、第二金属层和第三金属层,薄膜晶体管的栅极和栅极线位于第一金属层,第二金属层位于第一金属层和第三金属层之间,第二金属层的金属用于形成电容的极板,薄膜晶体管的源极、漏极,以及数据线20位于第三金属层,在此不再赘述。且遮光金属层LSM、第一金属层Metal1、第二金属层Metal2、第三金属层Metal3中各层金属层之间设置有绝缘层。
以图5为例,图5中示出了覆盖第一数据线21/Metal2(标号21/Metal2表示所述第一数据线与第二金属层Metal2同层)的第三绝缘层IL3、位于第一数据线21/Metal2与第二数据线22/Metal1(标号22/Metal1表示所述第二数据线与第一金属层Metal1同层)之间(即所述第一金属层Metal1与所述第二金属层Metal2之间)的第一绝缘层IL1以及位于第二数据线22/Metal1与第三数据线23/LSM(标号23/LSM表示所述第三数据线与遮光金属层LSM同层)之间(即所述第一金属层Metal1与所述衬底10之间)的第二绝缘层IL2;所述第一数据线21/Metal2、第二数据线22/Metal1和第三数据线23/LSM至少贯穿所述第二非显示区200的部分位于显示面板的不同层,从而减少了在第二非显示区200中位于同一层中的数据线20的数量,增加了第二非显示区200中同一层中相邻数据线20彼此之间的间距,根据电容公式可知,在其他参数不变的情况下,增加相邻数据线20彼此之间的间距可以降低相邻数据线20之间的耦合电容,降低了由于较大的耦合电容导致的数据线20在传输数据信号过程中引起数据信号跳变的概率,进而降低了因此而导致的显示面板显示异常的概率。此外图5中功能器件区220的正投影所对应的衬底基板10a也是可以打通的,此时功能期间区220为一个贯穿显示面板的一个通孔,本发明对此不做限定。
假设贯穿所述第二非显示区200的数据线20一共有150条,假设边框区210的半径R1的长度为450μm,在贯穿所述第二非显示区200的数据线20如图5所示分为三层排布(即贯穿所述第二非显示区200的数据线20均为第一数据线21/Metal2、第二数据线22/Metal1和第三数据线23/LSM)时,位于同一层的数据线20为50条,相邻数据线20之间的间距Pitch为9μm;而在贯穿所述第二非显示区200的数据线20分为两层排布时,位于同一层的数据线20的数量为75条,相邻数据线20之间的间距为6μm,根据电容公式可知,图5所示的贯穿所述第二非显示区200的数据线20排布方式相较于贯穿所述第二非显示区200的数据线20的两层排布方式,相邻数据线20之间形成的耦合电容的电容值会降低50%,有效地解决了由于数据线20排布过于密集而导致的显示面板显示异常的问题。
在上述实施例的基础上,在本申请的一个实施例中,如图7所示,图7为图4沿AA’线的剖面结构示意图,所述边框区210包括第一区域211和第二区域212;
贯穿所述第二非显示区200的所述第一数据线21/Metal2、所述第二数据线22/Metal1和所述第三数据线23/LSM的数量相同,且所述第一数据线21/Metal2、第二数据线22/Metal1和第三数据线23/LSM贯穿所述第二非显示区200的部分在所述衬底10上的正投影位于所述第一区域211中。
在图7所示的结构中,第二区域212位于第一区域211朝向所述功能器件区220的一侧。在本申请的可选实施例中,第二区域212还可以位于第一区域211远离所述功能器件区220的一侧,或者第一区域211和第二区域212在边框区210中交替出现,本发明在此不作限定。在本实施例中,所述边框区210的第一区域211中用于设置三层数据线20,而第二区域212中用于设置两层数据线20。当所述第二非显示区200中,当相邻采用三层数据线20的排布方式和两层数据线20的排布方式结合仍能满足相邻数据线20之间的耦合电容要求时,可以采用本实施例提供的方案,其中在第二区域212中由于在垂直于衬底10表面的方向上的数据线20的层数较少,有利于降低第二区域212中位于不同层的数据线20彼此之间产生的耦合电容。
继续参见图7,对于位于所述第一区域211中的第一数据线21/Metal2、第二数据线22/Metal1和第三数据线23/LSM而言,可选的,第一数据线21/Metal2、第二数据线22/Metal1和第三数据线23/LSM贯穿所述第二非显示区200的部分在所述衬底10上的正投影至少部分交叠或全部交叠,部分交叠是指图7中第一数据线21/Metal2、第二数据线22/Metal1和第三数据线23/LSM三者不限于图的完全重叠状态,还可以两者或者三者之间有一部分在显示面板上的投影有交叠。贯穿所述第二非显示区200的部分在所述衬底10上的正投影有交叠的第一数据线21/Metal2、第二数据线22/Metal1和第三数据线23/LSM有利于减小所述边框区210所占用的面积,当所述第一数据线21/Metal2、第二数据线22/Metal1和第三数据线23/LSM贯穿所述第二非显示区200的部分在所述衬底10上的正投影全部重叠时,可以将所述边框区210所占用的面积缩减到最小。
为了更清楚的对显示面板的结构进行说明,参考图8和图9,图8为本申请的一个实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图,图9为本申请的另一个实施例提供的一种显示面板的俯视结构示意图;在图8和图9所示的实施例中,所述显示面板还包括:位于多条所述数据线20和多条所述栅极线交叉限定区域中的显示像素LA;图8所示的显示面板的结构为液晶显示面板的结构示意图,图8中还示出了与栅极线电连接的栅极驱动电路,以及与数据线20电连接的数据驱动电路,一般情况下,在图8所示的显示面板中,栅极线和数据线20交叉区域中像素电路只包括一个薄膜晶体管;图9为有机发光显示面板的衬底10的俯视示意图,在图9中还示出了与栅极线电连接的第一栅极驱动电路和第二栅极驱动电路,以及与所述数据线20均电连接的数据驱动电路,栅极线和数据线20交叉区域中的像素电路通常包括多个薄膜晶体管,目前主流的应用于OLED显示面板的像素电路包括7个薄膜晶体管和1个电容(7T1C),具体的像素电路结构已为本领域技术人员所熟知,本申请在此不做赘述。
另外,需要说明的是,图8和图9中示出的栅极驱动方式只用于举例说明,除了如图8和图9所示的交叉驱动的栅极驱动方式,还可以是单边驱动的栅极驱动方式、双边驱动的栅极驱动方式等其他驱动方式,本申请对所述显示面板的栅极驱动方式并不做限定,具体视实际情况而定。
一般情况下,如图10所示,图10为图4中沿AA’线的剖面结构示意图,无论对于液晶显示面板还是有机发光显示面板而言,所述显示像素LA均包括第一类子像素R、第二类子像素G和第三类子像素B。所述第一类子像素R、第二类子像素G和第三类子像素B分别用于出射红光、绿光和蓝光。
可选的,贯穿所述第二非显示区200的部分在所述衬底10上的正投影交叠的第一数据线21/Metal2、第二数据线22/Metal1和第三数据线23/LSM连接同一类子像素。在显示面板中,为同一类子像素传输的数据信号相同,因此在当贯穿所述第二非显示区200的部分在所述衬底10上的正投影有交叠的第一数据线21/Metal2、第二数据线22/Metal1和第三数据线23/LSM连接同一类子像素时,在垂直于衬底10方向上相邻的两个数据线20之间由于传输的数据信号相同,可以起到对彼此的屏蔽作用,不会形成耦合电容对数据信号的传输造成不良影响。
下面的一些实施例对第二数据线和第三数据线的具体结构进行说明,所述第二数据线可以整条均与所述第一金属层Metal1同层设置,还可以是贯穿所述第二非显示区的部分与所述第一金属层Metal1同层设置,而位于显示区的部分与所述第二金属层Metal2同层设置;同样的,所述第三数据线可以整条线均与所述遮光金属层LSM同层设置;也可以是贯穿所述第二非显示区的部分与所述遮光金属层LSM同层设置,而位于显示区的部分与所述第二金属层Metal2同层设置。
当所述第二数据线整条均与所述第一金属层Metal1同层设置,所述第三数据线整条线均与所述遮光金属层LSM同层设置时,可以简化所述显示面板的制备工艺。
当所述第二数据线贯穿所述第二非显示区的部分与所述第一金属层Metal1同层设置,而位于所述显示区的部分与所述第二金属层Metal2同层设置时,参考图11,图11为所述显示面板沿第二数据线的剖面结构示意图,所述显示面板还包括:多个位于所述第二非显示区200,且贯穿所述第一绝缘层IL1的第三通孔TK3;
所述第二数据线包括两段第一金属线M1和一段第二金属线M2;其中,
两段所述第一金属线M1位于所述显示区100,与所述第二金属层Metal2同层设置;两段所述第一金属线M1在所述衬底10上的正投影位于所述第二金属线M2在所述衬底10上的正投影的两端;
所述第二金属线M2位于所述边框区200,与所述第一金属层Metal1同层设置;所述第二金属线M2通过所述第三通孔TK3连接两段所述第一金属线M1。
当所述第三数据线贯穿所述第二非显示区200的部分与所述遮光金属层LSM同层设置,而位于所述显示区100的部分与所述第二金属层Metal2同层设置时,参考图12,图12为所述显示面板沿所述第三数据线的剖面结构示意图,所述显示面板还包括:多个位于所述第二非显示区200,且贯穿所述第一绝缘层IL1和第二绝缘层IL2的第四通孔TK4;
所述第三数据线包括两段第三金属线M3和一段第四金属线M4;其中,
两段所述第三金属线M3位于所述显示区100,与所述第二金属层Metal2同层设置;两段所述第三金属线M3在所述衬底10上的正投影位于所述第四金属线M4在所述衬底10上的正投影的两端;
所述第四金属线M4位于所述边框区,与所述遮光金属层LSM同层设置;所述第四金属线M4通过所述第四通孔TK4连接两段所述第三金属线M3。
由于在显示面板中,第二金属层Metal2的电阻相较于其他金属层的电阻而言都较小,因此,当所述第二数据线和第三数据线如图11和图12所示设置时,可以最大化的降低第二数据线和第三数据线的电阻,避免由于第二数据线和第三数据线的电阻与其他数据线的电阻差异较大而造成的显示问题。
下面的一些实施例对位于所述第二区域中的数据线的可行结构进行说明,在本申请的一个实施例中,如图13所示,图13为所述显示面板的剖面结构示意图,在本实施例中,贯穿所述第二非显示区的数据线中还包括多条第四数据线24和多条第五数据线25,所述第四数据线24和第五数据线25贯穿所述第二非显示区的部分在所述衬底10上的正投影有交叠,且位于所述第二区域中;
所述第二绝缘层IL2还包括部分或全部贯穿所述第二绝缘层IL2的第一凹槽GV1;
所述第四数据线24与所述第二金属层Metal2同层设置;
所述第五数据线25贯穿所述第二非显示区的部分与所述第一金属层Metal1同层设置,且至少贯穿所述第二非显示区的部分设置于所述第一凹槽GV1中,且盖于凹槽GV1的底面上,凹槽GV1没有设置第五数据线25的区域填充为第一绝缘层IL1。
在图13所示的结构中,所述显示面板还包括:多个贯穿所述第一绝缘层的第一通孔TK1;
所述第五数据线25贯穿所述第二非显示区的部分251设置于所述第一凹槽GV1中;
所述第五数据线25位于所述显示区的部分252与所述第二金属层Metal2同层设置,且通过所述第一通孔TK1与所述第五数据线25贯穿所述第二非显示区的部分251连接。
在图13所示的结构中,为了尽量减小第五数据线25的电阻,所述第五数据线25贯穿所述第二非显示区的部分与第一金属线同层设置,但位于显示区的部分通过换线处理与所述第二金属层Metal2同层设置,由电阻较小的第二金属层Metal2形成。
当然地,所述第五数据线25也可以整条数据线均与所述第一金属层Metal1同层设置,以简化显示面板的制备工艺。
在本实施例中,由于所述第五数据线25至少贯穿所述第二非显示区的部分设置于所述第一凹槽GV1中,增加了第四数据线24和第五数据线25在垂直于衬底10方向上的距离,由电容公式可知,在增加了第四数据线24和第五数据线25在垂直于衬底10方向上的距离时,可以减小第四数据线24和第五数据线25形成的耦合电容的大小,降低了由于第四数据线24和第五数据线25之间的耦合电容对显示面板的显示造成不良影响的可能。
在上述实施例的基础上,在本申请的另一个实施例中,参考图14,图14为所述显示面板沿数据线延伸方向的剖面结构示意图,贯穿所述第二非显示区的数据线中还包括多条第六数据线26和第七数据线27,所述第六数据线26和第七数据线27贯穿所述第二非显示区的部分在所述衬底10上的正投影有交叠,且位于所述第二区域中;
所述第六数据线26与所述第二金属层Metal2同层设置;
所述第七数据线27至少贯穿所述第二非显示区的部分271与所述遮光金属层LSM同层设置,且至少贯穿所述第二非显示区的部分271由所述遮光金属层LSM形成;
所述第六数据线26贯穿所述第二非显示区的部分与所述第七数据线27贯穿所述第二非显示区的部分之间设置有第一绝缘层IL1和第二绝缘层IL2。
在图14所示的结构中,所述显示面板还包括:多个贯穿所述第一绝缘层IL1和第二绝缘层IL2的第二通孔TK2;
所述第七数据线27贯穿所述第二非显示区的部分271与所述遮光金属层LSM同层设置;
所述第七数据线27位于所述显示区的部分271与所述第二金属层Metal2同层设置,且通过所述第二通孔TK2与所述第七数据线27贯穿所述第二非显示区的部分271连接。
在图14所示的结构中,为了尽量减小第七数据线27的电阻,所述第七数据线27贯穿所述第二非显示区的部分271与遮光金属层LSM同层设置,但位于显示区的部分272通过换线处理与所述第二金属层Metal2同层设置,由电阻较小的第二金属层Metal2形成。
当然地,所述第七数据线27也可以整条数据线均与所述遮光金属层LSM同层设置,以简化显示面板的制备工艺。
在本实施例中,由于所述第七数据线27至少贯穿所述第二非显示区的部分与所述遮光金属层LSM同层设置,使得第六数据线26和第七数据线27在垂直于衬底10方向上的距离最大化,由电容公式可知,在增加了第六数据线26和第七数据线27在垂直于衬底10方向上的距离时,可以减小第六数据线26和第七数据线27形成的耦合电容的大小,降低了由于第六数据线26和第七数据线27之间的耦合电容对显示面板的显示造成不良影响的可能。
相应的,如图15所示,图15为电子设备的外观示意图,本申请实施例还提供了一种电子设备ED,包括如上述任一实施例所述的显示面板panel。
相应的,本申请实施例还提供了一种显示面板的制备方法,如图16所示,图16为显示面板的制备方法的流程示意图,所述显示面板的制备方法包括:
S101:提供衬底,所述衬底包括显示区、围绕所述显示区的第一非显示区和位于所述显示区中的至少一个第二非显示区,所述第二非显示区包括功能器件区和包围所述功能器件区的边框区;
S102:在所述衬底上形成交叉绝缘设置的多条数据线和多条栅极线;其中,
贯穿所述第二非显示区的数据线中包括多条第一数据线、多条第二数据线和多条第三数据线,所述第一数据线、第二数据线和第三数据线贯穿所述第二非显示区的部分设置于所述边框区中;
所述第一数据线与所述显示面板的第二金属层同层设置;
所述第二数据线贯穿所述第二非显示区的部分与所述显示面板的第一金属层同层设置;
所述第三数据线贯穿所述第二非显示区的部分与所述显示面板的遮光金属层同层设置;
所述第一金属层、所述第二金属层和所述遮光金属层之间彼此相互绝缘。
制备获得的显示面板结构参考图3、图4和图5,图3为所述显示面板的俯视结构示意图,图4为图3中虚线框K的局部放大示意图,图5为图4中沿AA’线的剖面结构示意图,图5中示出了覆盖第一数据线21的第三绝缘层IL3、位于第一数据线21与第二数据线22之间(即所述第一金属层与所述第二金属层之间)的第一绝缘层IL1以及位于第二数据线22与第三数据线23之间(即所述第一金属层与所述衬底10之间)的第二绝缘层IL2;所述第一数据线21、第二数据线22和第三数据线23至少贯穿所述第二非显示区200的部分位于显示面板的不同层,从而减少了在第二非显示区200中位于同一层中的数据线20的数量,增加了第二非显示区200中同一层中相邻数据线20彼此之间的间距,根据电容公式可知,在其他参数不变的情况下,增加相邻数据线20彼此之间的间距可以降低相邻数据线20之间的耦合电容,降低了由于较大的耦合电容导致的数据线20在传输数据信号过程中引起数据信号跳变的概率,进而降低了因此而导致的显示面板显示异常的概率。
下面对在所述衬底上形成交叉绝缘设置的多条数据线和多条栅极线的具体过程进行说明,在本申请的一个实施例中,如图17所示,图17为显示面板的制备方法的流程示意图,所述显示面板的制备方法包括:
S201:提供衬底,所述衬底包括显示区、围绕所述显示区的第一非显示区和位于所述显示区中的至少一个第二非显示区,所述第二非显示区包括功能器件区和包围所述功能器件区的边框区;
S202:在所述衬底上形成位于所述边框区的多条第四金属线和遮光金属层;
S203:在所述遮光金属层背离所述衬底一侧形成缓冲层;
S204:在所述缓冲层背离所述衬底一侧形成多个源极区和多个漏极区;
S205:覆盖所述源极区和漏极区形成栅绝缘层;
S206:在所述栅绝缘层背离所述衬底一侧形成多个栅极、多条栅极线以及位于所述边框区的多条第二金属线;
S207:在所述栅极和栅极线背离所述衬底一侧形成第一绝缘层;
S208:在所述第一绝缘层背离所述衬底一侧形成多条第一数据线、位于所述第四金属线两端的多条第三金属线以及位于所述第二金属线两端的多条第一金属线;
S209:形成多个位于所述第二非显示区,且贯穿所述第一绝缘层的第三通孔,并将所述第二金属线通过所述第三通孔与其对应的两段所述第一金属线连接,以形成所述第二数据线;
S210:形成多个位于所述第二非显示区,且贯穿所述第一绝缘层和第二绝缘层的第四通孔,并将所述第四金属线通过所述第四通孔与其对应的两段所述第三金属线连接,以形成所述第三数据线。
在本实施例中,是以具有顶栅结构的薄膜晶体管的显示面板为例进行的制备流程说明;如图18,图18为所述显示面板的制备方法的流程示意图,所述显示面板的制备方法包括:
S301:提供衬底,所述衬底包括显示区、围绕所述显示区的第一非显示区和位于所述显示区中的至少一个第二非显示区,所述第二非显示区包括功能器件区和包围所述功能器件区的边框区;
S302:在所述衬底上形成位于所述边框区的多条第四金属线和遮光金属层;
S303:在所述遮光金属层背离所述衬底一侧形成缓冲层;
S304:在所述缓冲层背离所述衬底一侧形成多个栅极、多条栅极线以及位于所述边框区的多条第二金属线;
S305:覆盖所述栅极、栅极线和第二金属线形成栅绝缘层;
S306:在所述栅绝缘层背离所述衬底一侧形成多个源极区和多个漏极区;
S307:覆盖所述源极区和漏极区形成第一绝缘层;
S308:在所述第一绝缘层背离所述衬底一侧形成多条第一数据线、位于所述第四金属线两端的多条第三金属线以及位于所述第二金属线两端的多条第一金属线;
S309:形成多个位于所述第二非显示区,且贯穿所述第一绝缘层的第三通孔,并将所述第二金属线通过所述第三通孔与其对应的两段所述第一金属线连接,以形成所述第二数据线;
S310:形成多个位于所述第二非显示区,且贯穿所述第一绝缘层、第二绝缘层和栅绝缘层的第四通孔,并将所述第四金属线通过所述第四通孔与其对应的两段所述第三金属线连接,以形成所述第三数据线。
在本实施例中,是以具有底栅结构的薄膜晶体管的显示面板为例进行的制备流程说明。
由于在显示面板中,第二金属层的电阻相较于其他金属层的电阻而言都较小,因此,在图17和图18所示的制备方法中,所述第二数据线和第三数据线位于显示区的部分均通过换线工艺与第二金属层同层设置,以最大化降低第二数据线和第三数据线的电阻,避免由于第二数据线和第三数据线的电阻与其他数据线的电阻差异较大而造成的显示问题。
综上所述,本申请实施例提供了一种显示面板及其制备方法、电子设备,其中,所述显示面板中贯穿所述第二非显示区的数据线中包括多条第一数据线、多条第二数据线和多条第三数据线,所述第一数据线、第二数据线和第三数据线至少贯穿所述第二非显示区的部分位于显示面板的不同层,从而减少了在第二非显示区中位于同一层的数据线的数量,增加了第二非显示区中同一层中相邻数据线彼此之间的间距,根据电容的公式可知,在其他参数不变的情况下,增加相邻数据线彼此之间的间距可以降低相邻数据线之间的耦合电容,降低了由于较大的耦合电容导致的数据线在传输数据信号过程中引起数据信号跳变的概率,进而降低了因此而导致的显示面板显示异常的概率。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
对所公开的实施例的上述说明,使本领域专业技术人员能够实现或使用本申请。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的,本文中所定义的一般原理可以在不脱离本申请的精神或范围的情况下,在其它实施例中实现。因此,本申请将不会被限制于本文所示的这些实施例,而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (20)

1.一种显示面板,包括显示区、围绕所述显示区的第一非显示区和至少一个第二非显示区,所述显示区围绕所述第二非显示区;所述第二非显示区包括功能器件区和包围所述功能器件区的边框区,其特征在于,所述显示面板还包括:
衬底和位于所述衬底一侧交叉绝缘设置的多条数据线和多条栅极线;其中,
贯穿所述第二非显示区的数据线中包括多条第一数据线、多条第二数据线和多条第三数据线,所述第一数据线、第二数据线和第三数据线贯穿所述第二非显示区的部分设置于所述边框区中;
所述第一数据线与所述显示面板的第二金属层同层设置;
所述第二数据线至少贯穿所述第二非显示区的部分与所述显示面板的第一金属层同层设置;
所述第三数据线至少贯穿所述第二非显示区的部分与所述显示面板的遮光金属层同层设置;
所述第一金属层、所述第二金属层和所述遮光金属层之间彼此相互绝缘。
2.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述边框区包括第一区域和第二区域;
贯穿所述第二非显示区的所述第一数据线、所述第二数据线和所述第三数据线的数量相同,且所述第一数据线、第二数据线和第三数据线贯穿所述第二非显示区的部分在所述衬底上的正投影位于所述第一区域中。
3.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第一数据线、第二数据线和第三数据线贯穿所述第二非显示区的部分在所述衬底上的正投影至少部分交叠。
4.根据权利要求3所述的显示面板,其特征在于,所述第一数据线、第二数据线和第三数据线贯穿所述第二非显示区的部分在所述衬底上的正投影全部重叠。
5.根据权利要求4所述的显示面板,其特征在于,还包括:位于多条所述数据线和多条所述栅极线交叉限定区域中的显示像素;
所述显示像素包括第一类子像素、第二类子像素和第三类子像素。
6.根据权利要求5所述的显示面板,其特征在于,贯穿所述第二非显示区的部分在所述衬底上的正投影交叠的第一数据线、第二数据线和第三数据线连接同一类子像素。
7.根据权利要求2所述的显示面板,其特征在于,还包括:
位于所述第一金属层与所述第二金属层之间的第一绝缘层;
位于所述第一金属层与所述衬底之间的第二绝缘层。
8.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,贯穿所述第二非显示区的数据线中还包括多条第四数据线和多条第五数据线,所述第四数据线和第五数据线贯穿所述第二非显示区的部分在所述衬底上的正投影有交叠,且位于所述第二区域中;
所述第二绝缘层还包括部分或全部贯穿所述第二绝缘层的第一凹槽;
所述第四数据线与所述第二金属层同层设置;
所述第五数据线贯穿所述第二非显示区的部分与所述第一金属层同层设置,且至少贯穿所述第二非显示区的部分设置于所述第一凹槽中。
9.根据权利要求8所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:多个贯穿所述第一绝缘层的第一通孔;
所述第五数据线贯穿所述第二非显示区的部分设置于所述第一凹槽中;
所述第五数据线位于所述显示区的部分与所述第二金属层同层设置,且通过所述第一通孔与所述第五数据线贯穿所述第二非显示区的部分连接。
10.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,贯穿所述第二非显示区的数据线中还包括多条第六数据线和第七数据线,所述第六数据线和第七数据线贯穿所述第二非显示区的部分在所述衬底上的正投影有交叠,且位于所述第二区域中;
所述第六数据线与所述第二金属层同层设置;
所述第七数据线至少贯穿所述第二非显示区的部分与所述遮光金属层同层设置,且至少贯穿所述第二非显示区的部分由所述遮光金属层形成;
所述第六数据线贯穿所述第二非显示区的部分与所述第七数据线贯穿所述第二非显示区的部分之间设置有第一绝缘层和第二绝缘层。
11.根据权利要求10所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:多个贯穿所述第一绝缘层和第二绝缘层的第二通孔;
所述第七数据线贯穿所述第二非显示区的部分与所述遮光金属层同层设置;
所述第七数据线位于所述显示区的部分与所述第二金属层同层设置,且通过所述第二通孔与所述第七数据线贯穿所述第二非显示区的部分连接。
12.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述第二数据线贯穿所述第二非显示区的部分与所述第一金属层同层设置;
所述第二数据线位于所述显示区的部分与所述第二金属层同层设置。
13.根据权利要求12所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:多个位于所述第二非显示区,且贯穿所述第一绝缘层的第三通孔;
所述第二数据线包括两段第一金属线和一段第二金属线;其中,
两段所述第一金属线位于所述显示区,与所述第二金属层同层设置;两段所述第一金属线在所述衬底上的正投影位于所述第二金属线在所述衬底上的正投影的两端;
所述第二金属线位于所述边框区,与所述第一金属层同层设置;所述第二金属线通过所述第三通孔连接两段所述第一金属线。
14.根据权利要求7所述的显示面板,其特征在于,所述第三数据线贯穿所述第二非显示区的部分与所述遮光金属层同层设置;
所述第三数据线位于所述显示区的部分与所述第二金属层同层设置。
15.根据权利要求14所述的显示面板,其特征在于,所述显示面板还包括:多个位于所述第二非显示区,且贯穿所述第一绝缘层和第二绝缘层的第四通孔;
所述第三数据线包括两段第三金属线和一段第四金属线;其中,
两段所述第三金属线位于所述显示区,与所述第二金属层同层设置;两段所述第三金属线在所述衬底上的正投影位于所述第四金属线在所述衬底上的正投影的两端;
所述第四金属线位于所述边框区,与所述遮光金属层同层设置;所述第四金属线通过所述第四通孔连接两段所述第三金属线。
16.根据权利要求1所述的显示面板,其特征在于,所述第二数据线与所述第一金属层同层设置;
所述第三数据线与所述遮光金属层同层设置。
17.一种电子设备,其特征在于,包括如权利要求1-16任一项所述的显示面板。
18.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括:
提供衬底,所述衬底包括显示区、围绕所述显示区的第一非显示区和位于所述显示区中的至少一个第二非显示区,所述第二非显示区包括功能器件区和包围所述功能器件区的边框区;
在所述衬底上形成交叉绝缘设置的多条数据线和多条栅极线;其中,
贯穿所述第二非显示区的数据线中包括多条第一数据线、多条第二数据线和多条第三数据线,所述第一数据线、第二数据线和第三数据线贯穿所述第二非显示区的部分设置于所述边框区中;
所述第一数据线与所述显示面板的第二金属层同层设置;
所述第二数据线贯穿所述第二非显示区的部分与所述显示面板的第一金属层同层设置;
所述第三数据线贯穿所述第二非显示区的部分与所述显示面板的遮光金属层同层设置;
所述第一金属层、所述第二金属层和所述遮光金属层之间彼此相互绝缘。
19.根据权利要求18所述的方法,其特征在于,所述在所述衬底上形成交叉绝缘设置的多条数据线和多条栅极线包括:
在所述衬底上形成位于所述边框区的多条第四金属线和遮光金属层;
在所述遮光金属层背离所述衬底一侧形成缓冲层;
在所述缓冲层背离所述衬底一侧形成多个源极区和多个漏极区;
覆盖所述源极区和漏极区形成栅绝缘层;
在所述栅绝缘层背离所述衬底一侧形成多个栅极、多条栅极线以及位于所述边框区的多条第二金属线;
在所述栅极和栅极线背离所述衬底一侧形成第一绝缘层;
在所述第一绝缘层背离所述衬底一侧形成多条第一数据线、位于所述第四金属线两端的多条第三金属线以及位于所述第二金属线两端的多条第一金属线;
形成多个位于所述第二非显示区,且贯穿所述第一绝缘层的第三通孔,并将所述第二金属线通过所述第三通孔与其对应的两段所述第一金属线连接,以形成所述第二数据线;
形成多个位于所述第二非显示区,且贯穿所述第一绝缘层和第二绝缘层的第四通孔,并将所述第四金属线通过所述第四通孔与其对应的两段所述第三金属线连接,以形成所述第三数据线。
20.根据权利要求18所述的方法,其特征在于,所述在所述衬底上形成交叉绝缘设置的多条数据线和多条栅极线包括:
在所述衬底上形成位于所述边框区的多条第四金属线和遮光金属层;
在所述遮光金属层背离所述衬底一侧形成缓冲层;
在所述缓冲层背离所述衬底一侧形成多个栅极、多条栅极线以及位于所述边框区的多条第二金属线;
覆盖所述栅极、栅极线和第二金属线形成栅绝缘层;
在所述栅绝缘层背离所述衬底一侧形成多个源极区和多个漏极区;
覆盖所述源极区和漏极区形成第一绝缘层;
在所述第一绝缘层背离所述衬底一侧形成多条第一数据线、位于所述第四金属线两端的多条第三金属线以及位于所述第二金属线两端的多条第一金属线;
形成多个位于所述第二非显示区,且贯穿所述第一绝缘层的第三通孔,并将所述第二金属线通过所述第三通孔与其对应的两段所述第一金属线连接,以形成所述第二数据线;
形成多个位于所述第二非显示区,且贯穿所述第一绝缘层、第二绝缘层和栅绝缘层的第四通孔,并将所述第四金属线通过所述第四通孔与其对应的两段所述第三金属线连接,以形成所述第三数据线。
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Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109270719A (zh) * 2018-12-12 2019-01-25 惠科股份有限公司 显示面板和显示装置
CN109686762A (zh) * 2018-12-18 2019-04-26 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 高屏占比有机发光二极管显示面板
CN109712996A (zh) * 2019-02-19 2019-05-03 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板、其制备方法及显示装置
CN110571248A (zh) * 2019-08-15 2019-12-13 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 阵列基板及其制造方法
CN111047969A (zh) * 2019-11-19 2020-04-21 厦门天马微电子有限公司 显示面板及显示装置
CN111176040A (zh) * 2020-01-02 2020-05-19 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板和显示面板
CN111430427A (zh) * 2020-04-08 2020-07-17 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制造方法
CN111613616A (zh) * 2020-06-02 2020-09-01 云谷(固安)科技有限公司 显示面板及显示装置
CN111653576A (zh) * 2020-06-12 2020-09-11 合肥维信诺科技有限公司 阵列基板、显示面板以及显示装置
CN111665652A (zh) * 2019-03-08 2020-09-15 株式会社日本显示器 显示装置
CN111816071A (zh) * 2020-07-03 2020-10-23 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板
WO2021243880A1 (zh) * 2020-06-05 2021-12-09 京东方科技集团股份有限公司 显示基板以及显示装置
US11302767B2 (en) 2019-09-25 2022-04-12 Samsung Display Co., Ltd. Display panel with shielded signal lines routed around an opening area in the display panel
WO2023040117A1 (zh) * 2021-09-18 2023-03-23 惠科股份有限公司 阵列基板、显示面板及电子设备

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100026611A1 (en) * 2008-07-29 2010-02-04 Hitachi Displays, Ltd. Display Device
CN104820321A (zh) * 2015-05-08 2015-08-05 厦门天马微电子有限公司 一种阵列基板和显示面板
CN107039493A (zh) * 2015-12-04 2017-08-11 三星显示有限公司 显示设备

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100026611A1 (en) * 2008-07-29 2010-02-04 Hitachi Displays, Ltd. Display Device
CN104820321A (zh) * 2015-05-08 2015-08-05 厦门天马微电子有限公司 一种阵列基板和显示面板
CN107039493A (zh) * 2015-12-04 2017-08-11 三星显示有限公司 显示设备

Cited By (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109270719A (zh) * 2018-12-12 2019-01-25 惠科股份有限公司 显示面板和显示装置
CN109686762A (zh) * 2018-12-18 2019-04-26 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 高屏占比有机发光二极管显示面板
WO2020125004A1 (zh) * 2018-12-18 2020-06-25 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 高屏占比有机发光二极管显示面板
CN109712996A (zh) * 2019-02-19 2019-05-03 京东方科技集团股份有限公司 一种阵列基板、其制备方法及显示装置
CN111665652A (zh) * 2019-03-08 2020-09-15 株式会社日本显示器 显示装置
CN111665652B (zh) * 2019-03-08 2023-06-20 株式会社日本显示器 显示装置
CN110571248A (zh) * 2019-08-15 2019-12-13 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 阵列基板及其制造方法
WO2021027040A1 (zh) * 2019-08-15 2021-02-18 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 阵列基板及其制造方法
US11302767B2 (en) 2019-09-25 2022-04-12 Samsung Display Co., Ltd. Display panel with shielded signal lines routed around an opening area in the display panel
CN111047969B (zh) * 2019-11-19 2021-10-08 厦门天马微电子有限公司 显示面板及显示装置
CN111047969A (zh) * 2019-11-19 2020-04-21 厦门天马微电子有限公司 显示面板及显示装置
CN111176040A (zh) * 2020-01-02 2020-05-19 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板和显示面板
CN111176040B (zh) * 2020-01-02 2023-08-25 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板和显示面板
CN111430427A (zh) * 2020-04-08 2020-07-17 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板及其制造方法
CN111613616A (zh) * 2020-06-02 2020-09-01 云谷(固安)科技有限公司 显示面板及显示装置
WO2021243880A1 (zh) * 2020-06-05 2021-12-09 京东方科技集团股份有限公司 显示基板以及显示装置
CN111653576A (zh) * 2020-06-12 2020-09-11 合肥维信诺科技有限公司 阵列基板、显示面板以及显示装置
CN111653576B (zh) * 2020-06-12 2023-10-27 合肥维信诺科技有限公司 阵列基板、显示面板以及显示装置
CN111816071A (zh) * 2020-07-03 2020-10-23 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 显示面板
WO2023040117A1 (zh) * 2021-09-18 2023-03-23 惠科股份有限公司 阵列基板、显示面板及电子设备

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