CN108852131B - 流体阻尼装置及带阻尼的设备 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种流体阻尼装置及带阻尼的设备。本发明是在流体阻尼装置中，将盖体适当地固定在壳体的开口部。流体阻尼装置包括：插入至有底筒状的壳体的转子、以及固定在壳体的开口部的盖体。在壳体的轴线方向上的一侧的端部形成有薄壁部，在薄壁部的内周面上，以等角度间隔在四处形成有与盖体的小径部在轴线方向上抵接的限定部。在壳体的内周面上，形成有对阻尼室在圆周方向上加以间隔的间隔用凸部，限定部形成在与间隔用凸部相对应的圆周方向位置。在与限定部不同的圆周方向位置上形成有朝向径向外侧凹陷的凹部，在凹部内形成有熔接用凸部。小径部通过超声波熔接而与熔接用凸部熔接。

Description

流体阻尼装置及带阻尼的设备

技术领域

本发明涉及一种在壳体与转子(rotor)之间填充有流体的流体阻尼装置及带阻尼的设备。

背景技术

在专利文献1中，揭示了一种流体阻尼装置，在有底筒状的壳体与转子之间填充有油等流体。在专利文献1的流体阻尼装置中，将转子(旋转轴)的轴线方向上的一端配置在壳体的内侧，在旋转轴与壳体内周面之间形成阻尼室，在阻尼室内配置阀体，所述阀体设置在旋转轴的侧面。当转子朝向第一方向旋转时，阀体的径向上的前端与壳体内周面相接。因此，转子的旋转负载大。另一方面，当转子朝向与第一方向相反的方向旋转时，借由流体的阻力而使阀体与壳体内周面之间会空出间隙，因此流体会穿过所述间隙，所以转子的旋转负载小。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2016-223538号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

专利文献1的流体阻尼装置是通过固定在壳体的开口部上的盖体，来防止转子从壳体脱落。作为盖体的固定方法，可利用使形成于壳体的内周面的内螺纹与形成于盖体的外周面的外螺纹螺合的螺纹式的固定方法。但是，螺纹式的轴线方向上的尺寸大，用于使螺纹部分成形的模具费用昂贵。因此，为了实现轴线方向上的薄型化及成本的降低，通过熔接来加以固定。当通过熔接而将盖体固定在壳体上时，使壳体的内周面与插入至壳体的内侧的盖体的端部熔融而将盖体按入至壳体。

当通过熔接来进行固定时，为了使盖体朝向壳体的按入量适当，在壳体的内周面上形成阶差部，而使盖体抵接于阶差部。然而，即使在壳体上形成有阶差部的情况，也有可能使阶差部与盖体相抵接的部位因熔接的影响而变形，从而盖体朝向壳体的按入量产生不均。例如，当进行超声波熔接时，放上产生超声波的焊头(horn)而使熔接部位熔融，而当存在由焊头引起的熔接高度的不均时，有可能阶差部会产生变形而使盖体的按入量产生不均。如果盖体朝向壳体的按入量不均，填充流体的阻尼室的轴线方向上的尺寸精度就会下降。其结果为，有可能使阻尼室的容积发生变化，从而阻尼性能产生不均。

鉴于以上的问题，本发明的课题在于在流体阻尼装置中，适当地固定盖体。

[解决问题的技术手段]

为了解决所述课题，本发明的流体阻尼装置包括：有底筒状的壳体，朝向轴线方向上的一侧开口；转子，具备：插入至阻尼室的旋转轴及阀体，所述阻尼室形成于所述壳体上；流体，填充于所述阻尼室；盖体，所述转子所贯通的贯通孔，固定在所述壳体的开口部；以及密封构件，对所述转子的外周面与所述壳体的内周面的间隙进行密封；并且在所述壳体的内周面上，在圆周方向上的一部分形成有与所述盖体在所述轴线方向上抵接的限定部。

在本发明中，在流体阻尼装置的壳体的内周面上，在圆周方向上的一部分形成有限定部，所述限定部与固定在壳体的开口部的盖体在轴线方向上抵接。因此，当通过熔接而对盖体进行固定时，可以将熔接部位及限定部设置于在圆周方向上不同的位置，所以限定部因熔接的影响而变形的可能性小。因此，能够以高精度进行盖体的轴线方向上的定位，能够适当地固定盖体。由此，可以提高阻尼室的轴线方向上的尺寸精度，从而能够抑制阻尼性能的不均。

在本发明中，在所述壳体的内周面上，形成有将所述阻尼室在圆周方向上加以间隔的间隔用凸部，所述限定部形成在与所述间隔用凸部相对应的圆周方向位置。如此一来，可以在所述间隔用凸部的位置以高精度进行盖体的轴线方向上的定位。因此，可以提高阻尼室的轴线方向上的尺寸精度，从而能够抑制阻尼性能的不均。

在本发明中，在所述间隔用凸部的所述轴线方向上的一侧的端面上，形成有在径向上延伸的肋，所述限定部形成在包含所述肋的角度位置的范围内。如此一来，可以在用于提高阻尼室的密闭精度的肋的位置上以高精度进行盖体的轴线方向上的定位。因此，能够提高阻尼室的密闭精度。

在本发明中，所述限定部形成于以所述壳体的内周面的径向上的中心为基准而为相反侧的两处。例如，形成于在所述壳体的直径方向上延伸的直线上，并且形成于以所述壳体的径向上的中心为基准而为相反侧的两处。如上所述，通过相对于径向上的中心在相反侧形成两处的限定部，能够以高精度进行盖体的轴线方向上的定位。并且，当在沿直径方向延伸的直线上形成有两处的限定部时，可以抑制盖体的倾斜。

在本发明中，所述限定部形成于在圆周方向上相离的三处，所述三处之中的两处是以所述壳体的径向上的中心为基准，配置在与所述三处之中的剩下的一处为相反侧的位置。例如，所述限定部形成于以所述壳体的内周面的径向上的中心为基准而为等角度间隔的三处。如上所述，通过将在圆周方向上相离的三处之中的两处形成于与剩下的一处为相反侧的位置，能够以高精度进行盖体的轴线方向上的定位。特别是通过在圆周方向上均等地形成限定部，能够以高精度进行盖体的轴线方向上的定位，从而可以抑制盖体的倾斜。

在本发明中，所述限定部形成于在圆周方向上相离的四处，所述四处之中的两处是在所述壳体的直径方向上延伸的第一直线上，以所述壳体的径向上的中心为基准而为相反侧的两处，并且是与所述肋在所述轴线方向上重合的位置，所述四处之中的剩下的两处是在所述壳体的直径方向上延伸且与所述第一直线交叉的第二直线上，以所述壳体的径向上的中心为基准而为相反侧的两处。例如，所述限定部形成于以所述壳体的径向上的中心为基准而为等角度间隔的四处。如此一来，能够以高精度进行盖体的轴线方向上的定位。并且，通过在用于提高阻尼室的密闭精度的肋的位置上进行盖体的轴线方向上的定位，可以提高阻尼室的密闭精度。并且，通过在圆周方向上均等地形成限定部，能够以高精度进行盖体的轴线方向上的定位，从而可以抑制盖体的倾斜。

在本发明中，在所述壳体的内周面上，在与所述限定部不同的圆周方向位置上形成有与所述盖体熔接的熔接用凸部，所述熔接用凸部是在所述轴线方向上延伸，并且依次在所述轴线方向上排列着所述熔接用凸部的所述轴线方向上的一端、所述限定部及所述熔接用凸部的所述轴线方向上的另一端。如上所述，如果熔接用凸部与限定部形成于不同的圆周方向位置，那么即使熔接高度在包含限定部的轴线方向上的位置(轴线方向上的高度)的范围内，限定部产生变形的可能性也小。因此，能够以高精度进行盖体的轴线方向上的定位。

在本发明中，所述盖体具备：插入至所述壳体的小径部，在所述壳体上，在与所述熔接用凸部不同的圆周方向位置上设置有以所述转子的旋转中心为中心的圆弧状内周面，所述小径部是通过所述圆弧状内周面而在与所述轴线方向正交的方向上定位。如此一来，可以在与熔接部位不同的圆周方向位置上，使盖体与壳体同轴地定位。

在本发明中，优选的是：所述熔接用凸部的内周面呈以所述转子的旋转中心为中心的圆弧状。如此一来，可以使熔接用凸部与盖体在圆周方向上均等地熔接。

在本发明中，优选的是：在与所述熔接用凸部相邻的位置的至少一部分上设置有防流出部，且所述防流出部处在比所述壳体的内周面更靠径向内侧的位置。例如，作为防流出部，可以设置能够保持从熔接部露出的树脂等熔融原材料的间隙(即，熔接毛边积存处)。如此一来，可以使从熔接部露出的熔融原材料保持于防流出部，因此在壳体及盖体的外侧露出熔融原材料而形成熔接毛边的可能性小，从而增加去除熔接毛边的工序的可能性小。并且，熔融原材料向阻尼室侧露出而使阻尼室的密闭性下降的可能性小。

在此情况下，优选的是：所述防流出部至少设置在与所述熔接用凸部在圆周方向上相邻的位置。由此，可以使在圆周方向上露出的熔融原材料保持于防流出部。

在本发明中，优选的是：所述壳体及所述盖体是在所述轴线方向上的规定的范围内加以熔接，在比所述规定的范围更靠所述轴线方向上的另一侧的位置，设置有位于所述防流出部的所述轴线方向上的另一侧的流出限制部。如此一来，可以限制熔融原材料从防流出部向阻尼室侧流出。

在此情况下，优选的是：所述防流出部设置在与所述熔接用凸部在圆周方向上相邻的位置上，且连续地从所述壳体的所述轴线方向上的一侧的端部起设置到所述流出限制部为止。如此一来，可以设置在轴线方向上连续的防流出部，因此能够抑制熔融原材料向壳体与盖体的外侧及阻尼室侧流出。

并且，优选的是：所述防流出部设置在所述规定的范围的所述轴线方向上的另一侧，且设置在比所述熔接用凸部的内周面更靠径向内侧的位置。如此一来，可以将向轴线方向上的另一侧(阻尼室侧)露出的熔融原材料收容至径向内侧的防流出部。

或者，优选的是：所述流出限制部设置在比所述密封构件更靠所述轴线方向上的一侧的位置。如此一来，可以防止向轴线方向上的另一侧(阻尼室侧)露出的熔融原材料所引起的密封构件的变形。因此，阻尼室的密闭性下降的可能性小。

在本发明中，所述防流出部设置在所述规定的范围的所述轴线方向上的一侧。如此一来，从熔接范围(规定的范围)向轴线方向上的一侧(壳体的开口部侧)露出的熔融原材料向壳体的外侧流出的可能性小。

在本发明中，在所述壳体的内周面上，在圆周方向上的一部分形成有与所述盖体熔接的熔接用凸部，所述熔接用凸部及所述盖体是在所述轴线方向上的规定的范围内加以熔接，在比所述规定的范围更靠所述轴线方向上的一侧的位置设置有防流出部，且所述防流出部处在比所述壳体的内周面更靠径向内侧的位置。

在本发明中，在流体阻尼装置的壳体的内周面上，在圆周方向上的一部分形成有与盖体熔接的熔接用凸部。而且，相对于将熔接用凸部与盖体加以熔接的范围在轴线方向上的一侧(壳体的开口部侧)，在比壳体的内周面更靠径向内侧的位置上设置有防流出部。例如，作为防流出部，可以设置能够保持从熔接部露出的树脂等熔接原材料的间隙(即，熔接毛边积存处)。如此一来，可以适当地处理从熔接部位露出的熔接原材料。例如，能够使熔接原材料保持于防流出部，因此在壳体及盖体的外侧露出熔接原材料而形成熔接毛边的可能性小。因此，增加去除熔接毛边的工序的可能性小。

在本发明中，优选的是，所述盖体具备：插入至所述壳体而熔接于所述熔接用凸部的小径部、以及直径大于所述小径部的大径部，所述防流出部被所述大径部从所述轴线方向上的一侧覆盖。如此一来，可以通过大径部而使防流出部无法从外部见到，所以能够使保持于防流出部的熔接原材料无法从外部见到，从而外观性优良。并且，即使熔接原材料从防流出部微量露出而形成有熔接毛边，熔接毛边也会被大径部覆盖而无法直接见到，因此增加去除熔接毛边的工序的可能性小。

在本发明中，优选的是：在所述壳体内，在与所述熔接用凸部不同的圆周方向位置上设置有以所述转子的旋转中心为中心的圆弧状内周面，所述小径部通过所述圆弧状内周面而在与所述轴线方向正交的方向上定位。如此一来，可以在与熔接部位不同的圆周方向位置上，使盖体与壳体同轴地定位。

在本发明中，优选的是，所述壳体具备：形成于所述熔接用凸部的所述轴线方向上的一侧的阶差部。如此一来，容易在阶差部与盖体之间确保防流出部的空间。并且，在此情况下，优选的是：所述熔接用凸部具备与所述阶差部的内周缘相连的锥形面，所述锥形面以越靠向所述轴线方向上的一侧则越向径向外侧扩大的方式倾斜。如此一来，可以使盖体的前端面的边缘在轴线方向上抵接于熔接用凸部的锥形面，因此可以在进行超声波熔接时形成适当的接触状态。

其次，本发明是具备：所述流体阻尼装置的带阻尼的设备，在所述旋转轴上，安装有相对于设备本体而旋转移动的开闭构件。例如，所述开闭构件是西式坐便器的便座。如上所述，当在所述流体阻尼装置的旋转轴上安装有便座等开闭构件时，可以增大开闭构件的旋转负载。因此，可以抑制开闭构件的突然的动作。

[发明的效果]

在本发明中，在流体阻尼装置的壳体的内周面上，在圆周方向上的一部分形成有与固定于壳体的开口部上的盖体在轴线方向上抵接的限定部。因此，当通过熔接来固定盖体时，可以将熔接部与限定部设置于在圆周方向上不同的位置，所以限定部因为熔接而变形的可能性小。因此，能够以高精度进行盖体的轴线方向上的定位，从而可以适当地固定盖体。

附图说明

图1是具备搭载有应用本发明的流体阻尼装置的西式坐便器的西式卫生间单元的说明图。

图2是流体阻尼装置的外观立体图。

图3是流体阻尼装置的分解立体图。

图4是利用沿轴线的面将流体阻尼装置加以切断的截面立体图。

图5是利用与轴线垂直的面将流体阻尼装置加以切断的剖视图。

图6是从轴线方向上的一侧观察壳体的开口部的前视图。

图7是从轴线方向上的一侧观察壳体的开口部的立体图。

图8是将壳体与盖体加以分离的状态的局部剖视图。

图9是流体阻尼装置的熔接部位的局部剖视图。

[符号的说明]

1：西式坐便器(带阻尼的设备)；

2：坐便器本体(设备本体)；

3：水槽；

5：便座(开闭构件)；

6：便盖(开闭构件)；

7：单元盖体；

10：流体阻尼装置；

10a：流体阻尼装置本体；

10b：连结轴；

11：阻尼室；

12：流体；

20：壳体；

21：主体部；

22：底部；

24、73：凹部；

26：间隔用凸部；

27：圆筒状内周面；

28：薄壁部；

29：开口部；

30：转子；

40：旋转轴；

41：轴部；

42：法兰部；

43：第一轴部；

44：第二轴部；

46：阀体保持部；

48：垫圈；

49：O形圈(密封构件)；

50：阀体；

51：基部；

52：前端部；

60：盖体；

61：贯通孔；

62：大径部；

63：小径部；

70：限定部；

71、74、81：圆弧状内周面；

72：宽幅部；

75：侧端面；

76：圆弧状阶差面；

80：熔接用凸部；

82：锥形面；

83：圆弧状端面；

90：防流出部；

91L、91R：第一防流出部；

92：第二防流出部；

93：第三防流出部；

95：流出限制部；

100：西式卫生间单元；

261：肋；

262：内周侧端面；

291：开口端面；

421：第一法兰部；

422：第二法兰部；

423：周槽；

461：阀体保持槽；

462：第一凸部；

463：第二凸部；

631：环状端面；

A1～A4：径向位置；

L：轴线；

L1：一侧；

L2：另一侧；

R1：第一方向；

R2：第二方向；

W：熔接原料；

X：熔接范围；

X1：熔接范围的一侧端部；

X2：熔接范围的另一侧端部。

具体实施方式

以下，一边参照附图，一边对用于实施本发明的方式进行说明。再者，在以下的说明中，将转子30的旋转轴40所延伸的方向设为轴线L方向，将在轴线L方向上，旋转轴40从壳体20突出之侧设为一侧L1，将与旋转轴40从壳体20突出之侧相反之侧设为另一侧L2来进行说明。

(带阻尼的设备)

图1是包含搭载有应用本发明的流体阻尼装置10的西式坐便器1的西式卫生间单元100的说明图。图1所示的西式卫生间单元100包括：西式坐便器1(带阻尼的设备)及水槽3。西式坐便器1包括：坐便器本体2(设备本体)、树脂制的便座5(开闭构件)、树脂制的便盖6(开闭构件)及单元盖体7等。在单元盖体7的内部，内置有流体阻尼装置10用于便座及用于便盖，便座5及便盖6分别经由流体阻尼装置10而与坐便器本体2连结。在这里，作为与便座5连结的流体阻尼装置10、以及与便盖6连结的流体阻尼装置10，可以使用相同构成的装置。在以下的说明中，对与便座5连结的流体阻尼装置10进行说明。

图2是流体阻尼装置10的立体图，是从一侧L1观察的立体图。流体阻尼装置10包括：在轴线L方向上延伸的圆柱状的流体阻尼装置本体10a、以及从流体阻尼装置本体10a向一侧L1突出的连结轴10b。连结轴10b与便座5连结。连结轴10b的前端部由于相对向的面为平坦面，所以可防止便座5相对于连结轴10b的空转。流体阻尼装置10在竖立着的便座5将要倾倒以覆盖坐便器本体2时，会产生与之相抵抗的力(旋转负载)，而使便座5倾倒的速度下降。

(流体阻尼装置)

图3是流体阻尼装置的分解立体图。并且，图4是利用沿轴线L的面将流体阻尼装置10加以切断的截面立体图，图5是利用与轴线L垂直的面将流体阻尼装置加以切断的剖视图。流体阻尼装置10包括：有底筒状的壳体20、能够旋转地保持于壳体20上的转子30、以及堵塞壳体20的开口部29的圆环状的盖体60。在本方式中，壳体20及盖体60是树脂成形品。

壳体20包括：在轴线L方向上延伸的圆筒状的主体部21、以及堵塞主体部21的另一侧L2的端部的底部22。在主体部21的一侧L1的端部形成有开口部29。如图4所示，在底部22的中央，形成有朝向另一侧L2凹陷的圆形的凹部24。在凹部24中，插入有设置在转子30的旋转轴40的另一侧L2的前端的轴部41。轴部41是通过凹部24而能够旋转地保持着。

如图5所示，在主体部21的内周面上，在圆周方向上错开180°的两处上，形成有朝向径向内侧突出的间隔用凸部26。间隔用凸部26是在轴线L方向上延伸，间隔用凸部26的另一侧L2的端部与底部22相连。间隔用凸部26是从径向外侧向内侧，圆周方向上的尺寸(厚度)变薄。间隔用凸部26是在圆周方向上对形成于主体部21的内侧的阻尼室11进行划分。

转子30包括：另一侧L2的端部配置在壳体20的内侧的旋转轴40、以及保持于旋转轴40上的阀体50。旋转轴40整体上呈直线状，在比轴线L方向上的中央更靠另一侧L2的位置上形成有环状的法兰(flange)部42。法兰部42形成于旋转轴40的全周上。相对于法兰部42在另一侧L2，设置有直径小于法兰部42的第一轴部43，相对于法兰部42在一侧L1，设置有直径小于法兰部42并且大于第一轴部43的第二轴部44。插入至壳体20的凹部24内的轴部41从第一轴部43的前端面的中央突出。在第二轴部44的前端，形成有相对向的平坦面。

法兰部42包括：在轴线L方向上空出规定的间隔而配置的第一法兰部421及第二法兰部422，在第一法兰部421与第二法兰部422之间形成有环状的周槽423(参照图4)。在周槽423上安装有O形圈49。当将转子30组装至壳体20时，使O形圈49抵接于壳体20的圆筒状内周面27而压塌。因此，对壳体20与法兰部42的间隙进行密闭，在壳体20的底部22与法兰部42之间形成有相对于外部而被密闭的阻尼室11。在阻尼室11内填充有油等流体12(粘性流体)。

然后，如果将盖体60插入至旋转轴40的第二轴部44与壳体20的主体部21之间，将盖体60固定在壳体20的开口部29，就构成流体阻尼装置10。这时，在盖体60与旋转轴40的第二法兰部422之间，配置圆环状的垫圈(washer)48。在所述状态下，设置在旋转轴40的另一侧L2的端部的轴部41能够旋转地支撑在形成于壳体20的底部22的凹部24内，并且第二轴部44能够旋转地支撑在形成于盖体60上的贯通孔61的内侧。并且，第二轴部44的一部分贯通盖体60的贯通孔61而向一侧L1突出，构成连结轴10b。

垫圈48与第二法兰部422相抵接的抵接面是转子30旋转时进行滑动的滑动面。即，转子30的第二法兰部422的一侧L1的面成为与垫圈48滑动的滑动面。通过将垫圈48设为金属制，可以抑制滑动面的磨损。再者，在滑动面上，优选的是预先涂布润滑脂等润滑材料。

(阻尼室)

如图5所示，在主体部21与第一轴部43之间，设置环状的阻尼室11。从主体部21的内周面向内侧突出的间隔用凸部26的内周侧端面262，抵接于第一轴部43的外周面。因此，阻尼室11被两处的间隔用凸部26划分成同一形状的两室。在第一轴部43的外周面上，在圆周方向上相隔180°的两处，形成有阀体保持部46。两处的阀体保持部46为同一形状，从第一轴部43的外周面向径向外侧突出。并且，阀体保持部46延伸至第一轴部43的另一侧L2的端部为止，一侧L1的端部与第一法兰部421相连。

在两处的阀体保持部46上，分别保持有阀体50。阀体保持部46的圆周方向上的宽度在径向内侧比径向外侧更窄。在阀体保持部46的径向外侧的端部，形成有朝向径向内侧凹陷的阀体保持槽461。阀体保持槽461形成在位于圆周方向的一侧的第一凸部462与位于圆周方向上的另一侧的第二凸部463之间，在轴线L方向上呈直线状延伸。阀体保持槽461呈内周面跨超过约180°的角度范围而弯曲的圆弧状。

阀体50包括：保持于阀体保持槽461的基部51、以及从基部51向径向外侧突出的前端部52。阀体50的前端部52朝向相对于径向而倾斜的方向突出，并与圆筒状内周面27接触。在本方式中，与第二凸部463相比，第一凸部462的朝向径向外侧的突出尺寸更少，阀体50的前端部52朝向覆盖至第一凸部462的外周侧的方向倾斜。

在流体阻尼装置10中，在图1所示的便座5从竖立姿势向平伏姿势旋转的关闭动作时，转子30(旋转轴40)围绕着轴线L向第一方向R1(参照图5)旋转。第一方向R1是转子30相对于阀体50的基部51向前端部52所处之侧旋转的方向。这时，阀体50利用来自流体12的压力，而使阀体50的前端部52按压至圆筒状内周面27。因此，流体12无法穿过阀体50与圆筒状内周面27之间，而对转子30(旋转轴40)施加旋转负载。但是，这时，也会在壳体20的底部22与阀体50之间空出微小的间隙，所以稍微容许流体的移动。因此，转子30虽然被施加旋转负载，但是容许以低速度向第一方向R1旋转。

并且，在图1所示的便座5从平伏姿势向竖立姿势旋转的打开动作时，转子30(旋转轴40)围绕着轴线L向第二方向R2(参照图5)旋转。第二方向R2与第一方向R1为相反方向。这时，利用来自流体12的压力使阀体50的前端部52远离圆筒状内周面27，所以流体12可以穿过阀体50与圆筒状内周面27之间。因此，转子30的旋转负载小。

(阻尼室的轴线L方向上的密封构造)

阀体50的一侧L1的端部与第一法兰部421相接。因此，在阀体50与第一法兰部421之间几乎未空出间隙。因此，流体12不会穿过阀体50与第一法兰部421之间。与此相对，阀体50的另一侧L2的端部位于比阀体保持部46的另一侧L2的端面稍靠一侧L1的位置。因此，相对于阀体50在另一侧L2，在阀体50的另一侧L2的端部与壳体20的底部22之间空出有微小的间隙。因此，流体12可以穿过间隙而微量通过。

旋转轴40构成第一轴部43的另一侧L2的端面与阀体保持部46的另一侧L2的端面连续的面。在这里，有时在第一轴部43及阀体保持部46的另一侧L2的端面与壳体20的底部22之间存在间隙，但是在第一轴部43及阀体保持部46的另一侧L2的端面上，形成有在径向上延伸的肋(省略图示)。所述肋在构成流体阻尼装置10时，被压塌至对应于第一轴部43及阀体保持部46的另一侧L2的端面与壳体20的底部22的间隙的状态为止。因此，流体12不会穿过第一轴部43及阀体保持部46的另一侧L2的端面与壳体20的底部22之间。

图6是从轴线L方向上的一侧L1观察壳体20的开口部29的前视图，图7是从轴线L方向上的一侧L1观察壳体20的开口部29的立体图。如图6、图7所示，在间隔用凸部26的一侧L1的端面上，形成有沿径向延伸的肋261。肋261与主体部21的圆筒状内周面27相连，从圆筒状内周面27呈直线状延伸至间隔用凸部26的内周侧端面262为止。所述肋261在构成流体阻尼装置10时，被压塌至对应于间隔用凸部26的一侧L1的端面与旋转轴40的第一法兰部421的间隙的状态为止。因此，流体12不会穿过间隔用凸部26的一侧L1的端面与旋转轴40的第一法兰部421之间。

(盖体的固定构造)

如图3、图4所示，盖体60整体上呈圆环状，在中心形成有用于使转子30的第二轴部44穿过的圆形的贯通孔61。盖体60包括：形成于轴线L方向上的一侧L1的端部的凸缘状的大径部62、以及从大径部62的中央向另一侧L2突出的小径部63。小径部63的外径为大致固定，在小径部63的前端，形成有朝向轴线L方向上的另一侧L2的环状端面631。大径部62与设置于壳体20的轴线L方向上的一侧L1的端部的开口端面291在轴线L方向上相对向，对开口端面291从轴线L方向上的一侧L1进行覆盖。

如图4所示，在壳体20中，在主体部21的轴线L方向上的一侧L1的端部形成有薄壁部28。主体部21的内周面包括：形成有间隔用凸部26的圆筒状内周面27，在圆筒状内周面27的轴线L方向上的一侧L1形成有薄壁部28。在圆筒状内周面27与薄壁部28之间，形成有朝向轴线L方向上的一侧L1的限定部70，薄壁部28的内周面经由限定部70与圆筒状内周面27相连。盖体60通过使小径部63的环状端面631与限定部70抵接而在轴线L方向上定位。并且，盖体60如后所述，在与限定部70在圆周方向上不同的位置上，将小径部63与薄壁部28加以熔接。

如图6、图7所示，在薄壁部28的内周面上，在圆周方向上的一部分形成有限定部70。在本方式中，以等角度间隔在四处形成有限定部70。限定部70是在圆周方向上以规定的角度范围呈圆弧状延伸。限定部70的内周缘经倒角成R状，与圆筒状内周面27相连。并且，限定部70的外周缘与向轴线L方向上的一侧L1上升的圆弧状内周面71相连。圆弧状内周面71是薄壁部28的内周面，是以壳体20的中心轴线(轴线L)为中心的圆弧状的面。盖体60通过小径部63的外周面与圆弧状内周面71在径向上抵接，而在与轴线L正交的方向上定位。圆弧状内周面71与壳体20的轴线L方向上的一侧L1的端面即开口端面291相连。在开口端面291上，与圆弧状内周面71相连的部分成为径向上的宽度宽于其他部分的宽幅部72。壳体20的开口端面291是由盖体60的大径部62从轴线L方向上的一侧L1对包含宽幅部72的整体进行覆盖。在本方式中，盖体60与壳体20的轴线L方向上的定位是在限定部70与小径部63相抵接的部位进行。因此，壳体20的开口端面291与大径部62在轴线L方向上不抵接，而具有间隙地相对向。

限定部70是以圆筒状内周面27的中心即轴线L为基准，以90°的角度间隔而配置。并且，限定部70形成于与间隔用凸部26相对应的圆周方向位置。如图6所示，四处的限定部70之中，相隔180度的两处的限定部70中，其圆周方向上的中央与间隔用凸部26的圆周方向上的中央相一致。在间隔用凸部26的圆周方向上的中央，形成有肋261。因此，两处的限定部70的圆周方向上的中央与肋261的角度位置相一致。通过在肋261的角度位置上设置限定部70，而利用肋261的角度位置进行盖体60的轴线L方向上的定位。即，利用肋261的角度位置，来使盖体60的轴线L方向上的位置精度提高。由此，使阻尼室11的密闭精度提高。

如图6、图7所示，在薄壁部28的内周面上，形成有使在圆周方向上相邻的限定部70之间的区域向径向外侧及轴线L方向上的另一侧L2凹陷的凹部73。在本方式中，在薄壁部28的内周面上，以等角度间隔在四处形成有凹部73。凹部73的内周面包括：朝向径向内侧的圆弧状内周面74、从圆弧状内周面74的圆周方向上的两侧向径向内侧上升的一对侧端面75、与圆弧状内周面74及侧端面75的轴线L方向上的另一侧L2的端缘相连的圆弧状阶差面76。凹部73凹陷至比限定部70更靠轴线L方向上的另一侧L2的位置为止。因此，圆弧状阶差面76位于比限定部70更靠轴线L方向上的另一侧L2的位置。圆弧状阶差面76是朝向轴线L方向上的一侧L1的平坦面，相对于限定部70位于轴线L方向上的另一侧L2。

在四处的凹部73中，分别形成有熔接用凸部80。即，在薄壁部28上，以等角度间隔在四处形成有熔接用凸部80，熔接用凸部80形成于与限定部70不同的圆周方向位置。熔接用凸部80具备：在将盖体60的小径部63插入至薄壁部28而进行超声波熔接时，与小径部63抵接而熔接的部分、以及不与小径部63熔接的部分。即，不是使整个熔接用凸部80与小径部63熔接的部分，而是使熔接用凸部80的一部分与小径部63熔接的部分。熔接用凸部80是从圆弧状内周面74向径向内侧突出，从凹部73的圆弧状阶差面76向轴线L方向上的一侧L1上升的形状。熔接用凸部80是在轴线L方向上以规定的高度延伸，并且依次在轴线L方向上排列着熔接用凸部80的轴线L方向上的一端、限定部70及熔接用凸部80的轴线L方向上的另一端。即，熔接用凸部80形成于包含限定部70的轴线L方向上的位置的范围内。熔接用凸部80的内周面是以轴线L为中心的圆弧状内周面81，所述面位于比限定部70的圆弧状内周面74更靠径向内侧的位置。熔接用凸部80的径向内侧的部分是在利用超声波熔接对盖体60的小径部63进行固定时，经熔融而软化从而与小径部63形成为一体的部分(成为熔接原料的部分)。

图8是将壳体20与盖体60加以分离的状态的局部剖视图。此外，图9是流体阻尼装置10的熔接部位的局部剖视图。图9中，利用符号W表示熔接用凸部80的熔接原料的部分。在本方式中，在薄壁部28的内周侧插入盖体60的小径部63的前端而使熔接用凸部80与小径部63相抵接之后，从壳体20及盖体60的外侧，使未图示的超声波熔接用的焊头抵接于与熔接用凸部80相对应的角度位置而施加超声波振动，使熔接用凸部80与小径部63的抵接部位熔融而软化。当在所述状态下，将盖体60按压至壳体20侧而使小径部63按入至轴线L方向上的另一侧L2时，可以将盖体60按入至小径部63的环状端面631抵接于限定部70的位置为止。由此，使盖体60在轴线L方向上定位。并且，当盖体60通过限定部70而在轴线L方向上定位时，通过小径部63的环状端面631的内周部分，经由垫圈48而使旋转轴40的第二法兰部422在轴线L方向上定位。即，盖体60向壳体20的按入量是通过限定部70来控制。并且，阻尼室11的轴线L方向上的高度是通过限定部70来控制。

如图9所示，盖体60的小径部63及熔接用凸部80是在轴线L方向上的规定的范围内加以熔接。以下，利用符号X表示轴线L方向上的熔接范围。并且，将熔接范围X的轴线L方向上的一侧L1的端部设为一侧端部X1，将熔接范围X的轴线L方向上的另一侧L2的端部设为另一侧端部X2。如图9所示，熔接范围X的另一侧端部X2与小径部63的环状端面631为同一高度，与限定部70为同一高度。熔接用凸部80延伸至比熔接范围X的另一侧端部X2更靠轴线L方向上的另一侧L2的位置为止。即，熔接用凸部80形成于包含熔接范围X的另一侧端部X2的轴线L方向上的位置的范围内。

并且，熔接用凸部80延伸至比熔接范围X的一侧端部X1更靠轴线L方向上的一侧L1的位置为止。在熔接用凸部80的轴线L方向上的一侧的端部，形成有与圆弧状内周面81相连的锥形面82、以及从锥形面82向径向外侧扩大的圆弧状端面83。锥形面82以越靠向轴线L方向上的一侧L1则越向径向外侧扩大的方式倾斜。如图9所示，熔接范围X的一侧端部X1位于锥形面82的轴线L方向上的中途位置。圆弧状端面83是朝向轴线L方向的一侧L1的平坦面，设置在比壳体20的开口端面291更向轴线L方向上的另一侧L2下降一层的位置上。圆弧状端面83与凹部73的圆弧状内周面74的轴线L方向上的中途位置连接。即，在熔接用凸部80的轴线L方向上的一侧L1的端部，利用圆弧状端面83及圆弧状内周面74形成有阶差部。

(防流出部及流出限制部)

在本方式的壳体20内，在与熔接用凸部80相邻的位置上，设置有用于保持通过超声波振动而熔融并软化的熔融树脂(熔融原材料)的防流出部90。防流出部90在露出有熔融树脂(熔融原材料)的情况下，作为收容熔融树脂(熔融原材料)的熔接毛边积存处而发挥作用。防流出部90也有时保持熔融树脂(熔融原材料)，或者不露出熔融树脂(熔融原材料)而作为空间保留下来。并且，在壳体20内，在防流出部90的轴线L方向上的另一侧L2，设置有用于限制熔融树脂朝向对阻尼室11进行密封的O形圈49之侧流出的流出限制部95。具体来说，形成有熔接用凸部80的凹部73的圆弧状阶差面76作为流出限制部95而发挥作用。圆弧状阶差面76(流出限制部95)设置在熔接用凸部80与O形圈49之间，因此限制从熔接用凸部80露出的熔融树脂(熔融原材料)抵达至O形圈49。再者，在圆弧状阶差面76的内周缘设置有R状的倒角部，流出限制部95也包含所述倒角部。

在本方式中，作为防流出部90，在与熔接用凸部80在圆周方向上相邻的位置上，设置有第一防流出部91L、第一防流出部91R。如图7所示，第一防流出部91L、第一防流出部91R是设置在熔接用凸部80的圆周方向上的两侧的槽状的间隙。第一防流出部91L、第一防流出部91R设置在熔接用凸部80与凹部73的侧端面75之间。第一防流出部91L、第一防流出部91R在从设置于壳体20的轴线L方向上的一侧L1的端部的开口端面291到凹部73的圆弧状阶差面76为止的范围内，在轴线L方向上连续地设置。

并且，如图9所示，作为其他防流出部90，形成有设置在熔接用凸部80的轴线L方向上的另一侧L2的部分的径向内侧的第二防流出部92、以及设置在熔接用凸部80的轴线L方向上的一侧L1的第三防流出部93。熔接用凸部80的圆弧状内周面81设置在比壳体20的圆筒状内周面27更向径向外侧后退的位置。因此，在比熔接范围X更靠轴线L方向上的另一侧L2的位置，在熔接用凸部80的径向内侧，在圆弧状内周面81与旋转轴40的法兰部42之间，形成有作为径向上的间隙的第二防流出部92。

第二防流出部92的圆周方向上的两端与所述第一防流出部91L、第一防流出部91R相连，在第一防流出部91L、第一防流出部91R及第二防流出部92的轴线L方向上的另一侧L2，设置有圆弧状阶差面76(流出限制部95)。在超声波熔接时经熔融而软化的熔融树脂(熔融原材料)在向熔接用凸部80的圆周方向上的两侧露出时，由第一防流出部91L、第一防流出部91R所保持。同样地，在超声波熔接时经熔融而软化的熔融树脂(熔融原材料)在向盖体60的小径部63的轴线L方向上的另一侧L2朝向熔接用凸部80的径向内侧露出时，由第二防流出部92保持。保持于第一防流出部91L、第一防流出部91R及第二防流出部92的熔融树脂(熔融原材料)由设置在第一防流出部91L、第一防流出部91R及第二防流出部92的轴线L方向上的另一侧的圆弧状阶差面76(流出限制部95)，以不露出至O形圈49的位置的方式而保持。因此，O形圈49因为熔融树脂(熔融原材料)而变形的可能性小。

第三防流出部93是在设置于熔接用凸部80的轴线L方向上的一侧L1的圆弧状端面83的上方，设置在盖体60的小径部63的外周面与壳体20的凹部73的圆弧状内周面74之间的径向上的间隙。当在超声波熔接时熔融而软化的熔融树脂(熔融原材料)朝向熔接用凸部80的轴线L方向上的一侧露出时，由第三防流出部93保持。如上所述，通过在壳体20的开口端面291与熔接用凸部80之间设置阶差部而确保第三防流出部93，来防止熔融树脂(熔融原材料)从壳体20的开口端面291与盖体60的大径部62的间隙露出至外部，从而能够避免熔融树脂(熔融原材料)露出至壳体20与盖体60的外侧而形成熔接毛边。

壳体20的开口端面291被盖体60的大径部62从轴线L方向上的一侧L1覆盖。并且，设置在开口端面291的内周侧的第三防流出部93、以及设置在其圆周方向上的两侧的第一防流出部91L、第一防流出部91R也被盖体60的大径部62从轴线L方向上的一侧L1覆盖。即，大径部62作为覆盖第一防流出部91L、第一防流出部91R及第三防流出部93的盲板而发挥作用。并且，如上所述，盖体60的大径部62不与壳体20的开口端面291抵接，而在壳体20的开口端面291与盖体60的大径部62之间，形成有熔融树脂可以微量露出的间隙。

在这里，图9中，如果利用符号A1表示利用O形圈49的密封位置(即，O形圈49与壳体20的圆筒状内周面27相抵接的位置)的径向位置，利用符号A2表示熔接用凸部80的圆弧状内周面81的径向位置，利用符号A3表示小径部63的外周面的径向位置，利用符号A4表示凹部73的圆弧状内周面74的径向位置，那么依次从径向内侧向径向外侧排列着径向位置A1、径向位置A2、径向位置A3、径向位置A4。第一防流出部91L、第一防流出部91R在比熔接范围X的另一侧端部X2更靠轴线L方向上的另一侧L2的位置，是在从径向位置A1到径向位置A4的范围内扩大的间隙，而在比熔接范围X的另一侧端部X2更靠轴线L方向上的一侧的位置，是从径向位置A3到径向位置A4的范围的间隙。并且，第二防流出部92成为从径向位置A1到径向位置A2的范围的间隙，第三防流出部93成为从径向位置A3到径向位置A4的范围的间隙。在本方式中，作为流出限制部95而发挥作用的平面即圆弧状阶差面76，在设置有第二防流出部92的角度范围内，形成在从径向位置A1到径向位置A2的范围内。并且，在设置有第一防流出部91L、第一防流出部91R的角度范围内，形成在从径向位置A1到径向位置A4的范围内。

(本方式的主要效果)

如以上说明，本方式的流体阻尼装置10(流体阻尼装置)在壳体20的薄壁部28的内周面上，在圆周方向上的一部分形成有与固定在壳体20的开口部29的盖体60的小径部63在轴线L方向上抵接的限定部70。因此，当通过熔接来固定盖体60时，可以将熔接部位及限定部70设置在圆周方向上不同的位置，因此限定部70因熔接的影响而产生变形的可能性小。例如，即使熔接高度存在不均，如果圆周方向上的位置被错开，也可以避免由熔接导致的限定部70的变形。因此，能够以高精度进行盖体60的轴线L方向上的定位，从而可以适当地固定盖体60。其结果为，可以提高阻尼室11的轴线L方向上的尺寸精度，从而可以抑制阻尼性能的不均。

在本方式中，在壳体20的内周面上，形成有对阻尼室11在圆周方向上加以间隔的间隔用凸部26，而限定部70形成在与间隔用凸部26相对应的圆周方向位置上。因此，能够在间隔用凸部26的位置上以高精度进行盖体60的轴线L方向上的定位。特别是在本方式中，在包含形成于间隔用凸部26的轴线L方向上的一侧的端面上的肋261的角度位置的范围内形成有限定部70，在限定部70的圆周方向上的中央形成有肋261。由此，能够在用于提高阻尼室11的密闭精度的肋261的位置上以高精度进行盖体60的轴线L方向上的定位。因此，可以提高阻尼室11的密闭精度。

在本方式中，在以壳体20的径向上的中心即轴线L为基准而为等角度间隔的四处形成有限定部70，所述四处之中配置在径向上的相反侧的两处形成于包含间隔用凸部26的肋261的角度位置的范围内。即，在圆周方向上均等地形成有限定部70，所以能够以高精度进行盖体60的轴线L方向上的定位，从而可以抑制盖体60的倾斜。并且，可以在未设置限定部70的位置上对壳体20及盖体60进行熔接，所以能够在圆周方向上均等地设置熔接部。因此，可以在圆周方向上平衡地设置熔接部。

再者，限定部70及熔接用凸部80可以并非设置各四处而是设置各三处，或者设置各两处。并且，还可以设置五处以上。无论哪种情况，优选的都是等角度间隔地设置，但是也可以是等角度间隔以外的配置。例如，在设置两处的情况，只要是以壳体20的径向上的中心为基准而为相反侧的位置即可，也可以从在壳体的直径方向上延伸的直线上的两处(即，相隔180°的两处)偏离规定角度。并且，在设置三处的情况，可以将三处之中的两处及剩下的一处配置在以壳体20的径向上的中心为基准而为相反侧的位置。例如，可以在成为等腰三角形的顶点的位置的三处配置限定部70。此外，在设置四处的情况，可以设置于在壳体20的直径方向上延伸而相互交叉的第一直线及第二直线之中，第一直线上以壳体20的径向上的中心为基准而为相反侧的两处、及第二直线上以壳体20的径向上的中心为基准而为相反侧的两处的共计四处。这时，第一直线上的两处优选的是与肋261重合的位置。并且，限定部70及熔接用凸部80优选的是设置于在圆周方向上不同的位置。

本方式的盖体60具备：插入至壳体20的端部(薄壁部28)的小径部63、以及直径大于小径部63的大径部62，小径部63插入至壳体20，通过形成于与熔接用凸部80不同的圆周方向位置的圆弧状内周面71而在与轴线L方向正交的方向上定位。因此，可以在与熔接部位不同的圆周方向位置上，使盖体60与壳体20同轴地定位。并且，盖体60的大径部62从轴线L方向上的一侧覆盖着壳体20的开口端面291、以及形成于其内周侧的第一防流出部91L、第一防流出部91R及第三防流出部93。因此，露出至第一防流出部91L、第一防流出部91R及第三防流出部93的熔融树脂无法直接从外部见到，所以外观性优良。并且，即使熔融树脂从第一防流出部91L、第一防流出部91R及第三防流出部93微量露出而形成有熔接毛边，熔接毛边也会被大径部62覆盖而无法直接见到，因此增加去除熔接毛边的工序的可能性小。此外，大径部62不与开口端面291抵接，因此盖体60被露出的熔融树脂上推等事态产生的可能性小。因此，盖体60的轴线L方向上的位置精度下降的可能性小。

在本方式中，在壳体20的内周面上与盖体60熔接的熔接用凸部80形成在与限定部70不同的圆周方向位置，熔接用凸部80形成于包含限定部70的轴线L方向上的位置的范围内。如果将熔接用凸部80及限定部70形成于不同的圆周方向位置，即使熔接高度处于包含限定部70的轴线L方向上的位置(轴线L方向上的高度)的范围内，限定部70产生变形的可能性也少。因此，能够以高精度进行相对于壳体20的盖体60的轴线L方向上的定位。并且，与在轴线L方向上错开设置熔接用凸部80及限定部70的情况相比，可以实现流体阻尼装置10的轴线L方向上的小型化。

在本方式中，熔接用凸部80呈包含以转子30的旋转中心即轴线L为中心的圆弧状内周面81的形状。因此，可以使盖体60的小径部63与熔接用凸部80在圆周方向上均等地接触，从而可以在圆周方向上均等地熔接。

在本方式中，在与熔接用凸部80相邻的位置，并且在比壳体20的内周面更靠径向内侧的位置上，设置有能够保持从熔接范围露出的熔融树脂的防流出部90。具体来说，在与熔接用凸部80在圆周方向上相邻的位置上设置有第一防流出部91L、第一防流出部91R。并且，在比熔接范围X更靠轴线L方向上的另一侧L2的位置，并且在比熔接用凸部80的圆弧状内周面81更靠径向内侧的位置上设置有第二防流出部92。此外，在比熔接范围X更靠轴线L方向上的一侧的位置上，设置有第三防流出部93。因此，可以保持从熔接范围露出的熔融树脂，在壳体20及盖体60的外侧露出熔融树脂而形成熔接毛边的可能性小。因此，增加去除熔接毛边的工序的可能性小。

并且，在本方式中，在防流出部90的轴线L方向上的另一侧L2设置有流出限制部95。例如，在第一防流出部91L、第一防流出部91R及第二防流出部92的轴线L方向上的另一侧L2，设置有作为流出限制部95而发挥作用的圆弧状阶差面76。所述流出限制部95(圆弧状阶差面76)设置在比O形圈49更靠轴线L方向上的一侧L1的位置。因此，可以减少熔融原材料抵达至O形圈49而使阻尼室11的密闭性下降的可能性。

Claims (25)

1.一种流体阻尼装置，其特征在于，包括：

有底筒状的壳体，朝向轴线方向上的一侧开口；

转子，具备：插入至阻尼室的旋转轴及阀体，所述阻尼室形成于所述壳体；

流体，填充于所述阻尼室；

盖体，具备所述转子所贯通的贯通孔，所述盖体固定于所述壳体的开口部；以及

密封构件，对所述转子的外周面与所述壳体的内周面的间隙进行密封；

其中，

在所述壳体的内周面上，在圆周方向上的一部分形成有限定部，所述限定部与所述盖体在所述轴线方向上抵接；

其中，在所述壳体的内周面上，在与所述限定部不同的圆周方向位置上形成有与所述盖体熔接的熔接用凸部，

所述熔接用凸部是在所述轴线方向上延伸，

依次在所述轴线方向上排列着所述熔接用凸部的所述轴线方向上的一端、所述限定部及所述熔接用凸部的所述轴线方向上的另一端。

2.根据权利要求1所述的流体阻尼装置，其特征在于，

在所述壳体的内周面上，形成有对所述阻尼室在圆周方向上加以间隔的间隔用凸部，

所述限定部形成于与所述间隔用凸部相对应的圆周方向位置。

3.根据权利要求2所述的流体阻尼装置，其特征在于，

在所述间隔用凸部的所述轴线方向上的一侧的端面上，形成有在径向上延伸的肋，

所述限定部形成在包含所述肋的角度位置的范围内。

4.根据权利要求1所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述限定部形成于以所述壳体的径向上的中心为基准而为相反侧的两处。

5.根据权利要求4所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述限定部形成于在所述壳体的直径方向上延伸的直线上，并且形成于以所述壳体的径向上的中心为基准而为相反侧的两处。

6.根据权利要求1所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述限定部形成于在圆周方向上相离的三处，

所述三处之中的两处是以所述壳体的径向上的中心为基准，配置在与所述三处之中的剩下的一处为相反侧的位置。

7.根据权利要求6所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述限定部形成于以所述壳体的径向上的中心为基准而为等角度间隔的三处。

8.根据权利要求3所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述限定部形成于在圆周方向上相离的四处，

所述四处之中的两处是在所述壳体的直径方向上延伸的第一直线上，以所述壳体的径向上的中心为基准而为相反侧的两处，并且是与所述肋在所述轴线方向上重合的位置，

所述四处之中的剩下的两处是在所述壳体的直径方向上延伸且与所述第一直线交叉的第二直线上，以所述壳体的径向上的中心为基准而为相反侧的两处。

9.根据权利要求8所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述限定部形成于以所述壳体的径向上的中心为基准而为等角度间隔的四处。

10.根据权利要求1所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述熔接用凸部的内周面呈以所述转子的旋转中心为中心的圆弧状。

11.根据权利要求1所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述盖体具备：插入至所述壳体的小径部，

在所述壳体上，在与所述熔接用凸部不同的圆周方向位置上设置有以所述转子的旋转中心为中心的圆弧状内周面，

所述小径部通过所述圆弧状内周面而在与所述轴线方向正交的方向上定位。

12.根据权利要求1、10、11中任一项所述的流体阻尼装置，其特征在于，

在与所述熔接用凸部相邻的位置的至少一部分上设置有防流出部，且所述防流出部处在比所述壳体的内周面更靠径向内侧的位置。

13.根据权利要求12所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述防流出部至少设置在与所述熔接用凸部在圆周方向上相邻的位置。

14.根据权利要求12所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述壳体及所述盖体是在所述轴线方向上的规定的范围内加以熔接，

在比所述规定的范围更靠所述轴线方向上的另一侧的位置，设置有位于所述防流出部的所述轴线方向上的另一侧的流出限制部。

15.根据权利要求14所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述防流出部设置在与所述熔接用凸部在圆周方向上相邻的位置上，且连续地从所述壳体的所述轴线方向上的一侧的端部起设置到所述流出限制部为止。

16.根据权利要求14所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述防流出部设置在所述规定的范围的所述轴线方向上的另一侧，且设置在比所述熔接用凸部的内周面更靠径向内侧的位置。

17.根据权利要求14所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述流出限制部设置在比所述密封构件更靠所述轴线方向上的一侧的位置。

18.根据权利要求14所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述防流出部设置在所述规定的范围的所述轴线方向上的一侧。

19.一种流体阻尼装置，其特征在于，包括：

有底筒状的壳体，朝向轴线方向上的一侧开口；

转子，具备：插入至阻尼室的旋转轴及阀体，所述阻尼室形成于所述壳体；

流体，填充于所述阻尼室；

盖体，具备所述转子所贯通的贯通孔，所述盖体固定于所述壳体的开口部；以及

密封构件，对所述转子的外周面与所述壳体的内周面的间隙进行密封；

其中，

在所述壳体的内周面上，在圆周方向上的一部分形成有限定部，所述限定部与所述盖体在所述轴线方向上抵接，

在所述壳体的内周面上，在圆周方向上的一部分形成有与所述盖体熔接的熔接用凸部，所述熔接用凸部及所述盖体是在所述轴线方向上的规定的范围内加以熔接，

在比所述规定的范围更靠所述轴线方向上的一侧的位置设置有防流出部，且所述防流出部处在比所述壳体的内周面更靠径向内侧的位置。

20.根据权利要求19所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述盖体具备：插入至所述壳体并且熔接于所述熔接用凸部的小径部、以及直径大于所述小径部的大径部，

所述防流出部被所述大径部从所述轴线方向上的一侧覆盖。

21.根据权利要求20所述的流体阻尼装置，其特征在于，

在所述壳体上，在与所述熔接用凸部不同的圆周方向位置上设置有以所述转子的旋转中心为中心的圆弧状内周面，

所述小径部通过所述圆弧状内周面而在与所述轴线方向正交的方向上定位。

22.根据权利要求19所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述壳体具备：形成于所述熔接用凸部的所述轴线方向上的一侧的阶差部。

23.根据权利要求22所述的流体阻尼装置，其特征在于，

所述熔接用凸部具备：与所述阶差部的内周缘相连的锥形面，

所述锥形面以越靠向所述轴线方向上的一侧则越向径向外侧扩大的方式倾斜。

24.一种带阻尼的设备，具备根据权利要求1至23中任一项所述的流体阻尼装置，所述带阻尼的设备的特征在于：

在所述旋转轴上，安装有相对于设备本体而旋转移动的开闭构件。

25.根据权利要求24所述的带阻尼的设备，其特征在于，

所述开闭构件为西式坐便器的便座。

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