CN108677148A - 蒸镀源、蒸镀装置 - Google Patents

Abstract

本发明提供一种蒸镀源、蒸镀装置，属于显示技术领域。本发明的蒸镀源，包括蒸镀本体，设置在所述蒸镀本体开口端的盖体；还包括喷嘴，所述喷嘴能够设置在所述盖体的边缘，且与所述盖体贯通连接，且在所述喷嘴与所述盖体贯通连接时，所述喷嘴向远离所述盖体的中心区域的方向倾斜。

Description

蒸镀源、蒸镀装置

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种蒸镀源、蒸镀装置。

背景技术

如图1所示，现有的坩埚包括坩埚本体1、设置在坩埚本体1开口端的坩埚盖2；其中，坩埚盖2上设置有多个开口为竖直向上的喷嘴4，多个喷嘴4按照一定间距并排设置在坩埚盖2上。

目前，常将上述的坩埚应用于蒸镀工艺中。具体的，首先，将有机材料放置在坩埚本体1的容纳腔中；然后，在真空环境中加热坩埚，以使容纳腔中的有机材料通过多个喷嘴4气化至基板3上；其中，基板3与坩埚盖2相对设置，且基板3表面温度较低，以便于有机材料沉积在其的表面。

在此应当说明的是，如图2所示，对于单个喷嘴4而言，从该喷嘴4气化出来的有机材料密度分布中间高于周边，从而导致蒸镀沉积至基板3上的膜层中间厚周边薄，针对该问题，现有技术中，常将多个喷嘴4按照一定间距并排设置在坩埚盖2上，这样一来，如图3所示，两相邻喷嘴4之间的膜层可由两个喷嘴4中的有机材料相互叠加而成，从而使得两喷嘴4之间的膜层密度与中间位置的密度大致相同，也即蒸镀等密度线6呈直线状。然而，发明人还是发现：基板3与坩埚盖2边缘的边缘喷嘴4相对的位置，尤其是在偏离边缘喷嘴4较大的地方，由于有机材料没有得到叠加，因此蒸镀等密度线6仍旧近似于抛物线分布，也即沉积在基板3上的膜层仍呈中间厚周边薄的分布，导致沉积膜层厚度均匀性差的问题，影响由该基板3制成的显示装置的显示均匀性。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一，提供一种蒸镀均匀的蒸镀源。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种蒸镀源，包括蒸镀本体，设置在所述蒸镀本体开口端的盖体；还包括喷嘴，所述喷嘴能够设置在所述盖体的边缘区域，且与所述盖体贯通连接，且在所述喷嘴与所述盖体贯通连接时，所述喷嘴向远离所述盖体的中心区域的方向倾斜。

优选的是，所述盖体的边缘设置有容纳部，所述喷嘴与所述容纳部采用可拆卸连接。

优选的是，所述喷嘴为多组，不同组的所述喷嘴具有不同的结构。

优选的是，所述盖体的边缘区域为圆弧结构，所述容纳部设置在所述圆弧结构上，所述喷嘴插设在所述容纳部中，且与所述容纳部滑动连接。

优选的是，沿着所述圆弧结构的弯曲方向，所述容纳部的两侧分别设有滑动轨道；

所述喷嘴包括喷嘴部、与所述喷嘴部固定连接的喷嘴座，所述喷嘴座与所述滑动轨道滑动连接。

优选的是，所述喷嘴座包括具有喷嘴孔的挡板，所述挡板与所述滑动轨道滑动连接；所述喷嘴部固定在所述喷嘴孔中。

优选的是，所述喷嘴部的轴线与所述蒸镀本体高度方向的夹角为所述喷嘴的倾斜角，所述倾斜角大于0°且小于等于45°。

优选的是，所述喷嘴与所述盖体为一体成型结构。

优选的是，所述喷嘴还能够设置在所述盖体的中心区域，且与所述盖体贯通连接，且在所述喷嘴与所述盖体贯通连接时，所述盖体上的多个喷嘴排列成一条直线，且沿着所述中心区域指向所述边缘区域的方向，多个所述喷嘴的倾斜角依次增大；其中，

所述倾斜角为所述喷嘴的轴线与所述蒸镀本体高度方向的夹角。

优选的是，所述蒸镀源包括坩埚。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种蒸镀装置，包括上述任一所述的蒸镀源。

附图说明

图1为现有的坩埚的示意图；

图2为现有的坩埚中的单个喷嘴对有机材料进行蒸镀的示意图；

图3为现有的坩埚中的两个喷嘴对有机材料进行蒸镀的示意图；

图4为本发明的实施例1的第一种坩埚的局部示意图；

图5为本发明的实施例1的圆弧结构的示意图；

图6为本发明的实施例1的喷嘴的示意图；

图7为本发明的实施例1的第二种坩埚的局部示意图；

图8为本发明的实施例1的第三种坩埚的局部示意图；

其中附图标记为：1、坩埚本体；2、坩埚盖；3、基板；4、喷嘴；41、喷嘴部；42、喷嘴座；5、容纳部；6、蒸镀等密度线。

具体实施方式

为使本领域技术人员更好地理解本发明的技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本发明作进一步详细描述。

除非另外定义，本发明使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。

其中，为便于清楚地理解本实施例的意图，以下以蒸镀源包括坩埚为例进行说明；此时，本实施例中的蒸镀本体即为坩埚本体，盖体即为坩埚盖。

实施例1：

本实施例提供一种蒸镀源，包括坩埚本体，坩埚盖，喷嘴；其中，坩埚盖设置在坩埚本体的开口端，喷嘴能够设置在坩埚盖的边缘区域，且与坩埚盖贯通连接，且当喷嘴与坩埚盖贯通连接时，喷嘴向远离坩埚盖的中心区域的方向倾斜。

由于喷嘴与坩埚盖贯通连接时，喷嘴是向着远离坩埚盖中间区域的方向倾斜，故在采用本实施例的蒸镀源向与其相对设置的基板上蒸镀有机材料时，喷嘴的开口会对准基板的边缘位置，从而使得基板的边缘位置处沉积足够多的有机材料；而且，坩埚盖上、与该倾斜的喷嘴相邻的喷嘴也会向基板上喷射有机材料，此时，根据两相邻喷嘴所喷射的有机材料能够相互叠加的原理，基板边缘以内的位置也能够沉积足够多的有机材料。这样一来，基板边缘、以及边缘以内的位置处所沉积的有机材料的密度大致相同，从而使得蒸镀等密度线呈直线状，也即沉积在基板上的有机材料厚度均匀，提高由该基板制成的显示装置的显示均匀性。

为便于理解本实施例的意图，以下以蒸镀源为线蒸镀为例进行说明。此时，如图4所示，坩埚盖2上将设置有一排喷嘴，其中，位于坩埚盖2最左侧的喷嘴4向坩埚盖2的左侧倾斜，位于坩埚盖2最右侧的喷嘴4向坩埚盖2的右侧倾斜。当然，本实施例中的蒸镀源也可以为面蒸镀源等，在此不再一一赘述。

具体的，以下对喷嘴4与坩埚盖2的连接情况进行具体说明。

其中，作为本实施例的第一种优选方式，坩埚盖2的边缘设置有容纳部，喷嘴与容纳部采用可拆卸连接。也就是说，本实施例中的喷嘴与坩埚盖采用可拆卸连接，其可插设在坩埚盖的容纳部中，也可以从容纳部中取出。

优选的，喷嘴4为多组，不同组的喷嘴4具有不同的结构。需要说明的是，此处的结构具体包括：喷嘴4开口的形状(例如：圆形、矩形等等)、尺寸(例如：喷嘴4开口的大小或者喷嘴轴向的长度等等)，以及喷嘴4的轴线与坩埚本体1的高度方向的夹角，该夹角即可理解为喷嘴4的倾斜角。

为便于理解本实施例的意图，以下以不同组的喷嘴4具有不同的倾斜角为例进行说明。

具体的，如图4所示，本实施例中的一组喷嘴4具体包括两个喷嘴4，即上述提到的位于坩埚盖2最左侧和最右侧的喷嘴4，其中，位于坩埚盖2最左侧的喷嘴4向左侧倾斜，位于坩埚盖2最右侧的喷嘴4向右倾斜。在采用本实施例的蒸镀源向与其相对设置的基板3上蒸镀有机材料时，只需根据基板3的具体形状、尺寸，或者待蒸镀的有机材料的分子量、分子大小等因素，在坩埚盖2的容纳部5插设一组具有一定倾斜角的喷嘴4即可，无需更换坩埚盖2，从而简化在基板3上蒸镀有机材料的难度。

优选的，如图4-6所示，坩埚盖2的边缘区域为圆弧结构，容纳部5设置在圆弧结构上，喷嘴4插设在容纳部5中，且与容纳部5滑动连接。具体的，圆弧结构是指坩埚盖2的边缘区域是处于弯曲状的，该种结构能够使得位于容纳部5不同位置处的喷嘴4具有不同的倾斜角，也就是说，通过改变喷嘴4在容纳部5中的位置，即可调整喷嘴4的倾斜角。

进一步优选的，沿着圆弧结构的弯曲方向，容纳部5的两侧分别设有滑动轨道(图中未示出)；喷嘴4包括喷嘴部41、与喷嘴部41固定连接的喷嘴座42，喷嘴座42与滑动轨道滑动连接。这样一来，通过滑动喷嘴座42即可调整喷嘴座42在容纳部5中的位置，以此来改变喷嘴4的倾斜角度。

具体的，以下对调整位于坩埚盖2最左侧的喷嘴4的角度为例进行说明。

当待蒸镀的基板3长度较大时，需要将喷嘴座42向左侧滑动，以此来增大喷嘴4的倾斜角度；当待蒸镀的基板3长度较小时，需要将喷嘴座42向右侧滑动，以此来减小喷嘴4的倾斜角度。

更进一步优选的，如图5所示，喷嘴座42包括具有喷嘴孔的挡板，挡板与滑动轨道滑动连接；喷嘴部41固定在喷嘴孔中。应当注意的是，挡板的长度应大于容纳部5的长度，以此来确保向基板3蒸镀有机材料时，有机材料只能从挡板的喷嘴孔中蒸镀出，从而提高蒸镀效果。

其中，本实施例优选的，如图6所示，喷嘴的轴线为线段a，坩埚本体的高度方向为线段b，此时，喷嘴的倾斜角即为线段a与线段b的夹角，该夹角大于0°且小于等于45°。当然，本实施例中的喷嘴4的倾斜角并不局限于上述的角度，其还可以根据实际情况进行调整、设定。

其中，作为本实施例的第二种优选方式，喷嘴4与坩埚盖2为一体成型结构。

需要说明的是，由于喷嘴4与坩埚盖2为一体成型结构，故本实施例中的一种坩埚盖2对应一种倾斜角度的喷嘴4，该倾斜角度具体是指：喷嘴4的轴线与坩埚本体1高度方向的夹角，其角度的大小在0°～45°之间。当然，喷嘴4的倾斜角还可以为60°等等，其具体可根据待进行蒸镀有机材料的基板3的尺寸，或者待进行蒸镀的有机材料的分子量、分子大小等因素进行设定，在此不做限定。这样一来，在向不同形状、尺寸的基板3蒸镀有机材料时，通过更换不同的坩埚盖2即可实现在基板3上沉积厚度均匀的有机材料。

其中，本实施例优选的，如图7所示，喷嘴还能够设置在盖体的中心区域，且与盖体贯通连接，且在喷嘴与盖体贯通连接时，盖体上的多个喷嘴排列成一条直线，且沿着中心区域指向边缘区域的方向，多个喷嘴的倾斜角依次增大。由此可以看出，坩埚盖上的每个喷嘴均具有一定的倾斜角度，且沿着中间往两边的方向，喷嘴的倾斜角依次增大，以此来进一步确保蒸镀至基板3上的有机材料的均匀性，使得有机材料的蒸镀等密度线6趋于平直状。

当然，在本实施例中，设置在坩埚盖上的多个喷嘴也并不需要全部都倾斜，如图8所示，也可以仅仅只让靠近坩埚盖最左侧和最右侧的两个喷嘴具有一定倾斜角，在此不做限定。

其中，图7和图8中的所有喷嘴均是与坩埚盖贯通连接的。

综上，由于本实施例中的坩埚盖2设置有多个呈直线排列的喷嘴4，且沿着中间往两边的方向，每个喷嘴的倾斜角依次增大，该种结构设置使得采用本实施例中的蒸镀源对基板3进行蒸镀时，基板3上沉积的有机材料厚度大致相同，提高由该基板3制成的显示装置的显示均匀性。

实施例2：

本实施例提供一种蒸镀装置，包括实施例1中的蒸镀源。

由于本实施例的蒸镀装置包裹上述的蒸镀源，故其具有良好的蒸镀效果。

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式，然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本发明的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (11)

1.一种蒸镀源，包括蒸镀本体，设置在所述蒸镀本体开口端的盖体；其特征在于，还包括喷嘴，所述喷嘴能够设置在所述盖体的边缘区域，且与所述盖体贯通连接，且在所述喷嘴与所述盖体贯通连接时，所述喷嘴向远离所述盖体的中心区域的方向倾斜。

2.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述盖体的边缘设置有容纳部，所述喷嘴与所述容纳部采用可拆卸连接。

3.根据权利要求2所述的蒸镀源，其特征在于，所述喷嘴为多组，不同组的所述喷嘴具有不同的结构。

4.根据权利要求2所述的蒸镀源，其特征在于，所述盖体的边缘区域为圆弧结构，所述容纳部设置在所述圆弧结构上，所述喷嘴插设在所述容纳部中，且与所述容纳部滑动连接。

5.根据权利要求4所述的蒸镀源，其特征在于，沿着所述圆弧结构的弯曲方向，所述容纳部的两侧分别设有滑动轨道；

所述喷嘴包括喷嘴部、与所述喷嘴部固定连接的喷嘴座，所述喷嘴座与所述滑动轨道滑动连接。

6.根据权利要求5所述的蒸镀源，其特征在于，所述喷嘴座包括具有喷嘴孔的挡板，所述挡板与所述滑动轨道滑动连接；所述喷嘴部固定在所述喷嘴孔中。

7.根据权利要求5所述的蒸镀源，其特征在于，所述喷嘴部的轴线与所述蒸镀本体高度方向的夹角为所述喷嘴的倾斜角，所述倾斜角大于0°且小于等于45°。

8.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述喷嘴与所述盖体为一体成型结构。

9.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述喷嘴还能够设置在所述盖体的中心区域，且与所述盖体贯通连接，且在所述喷嘴与所述盖体贯通连接时，所述盖体上的多个喷嘴排列成一条直线，且沿着所述中心区域指向所述边缘区域的方向，多个所述喷嘴的倾斜角依次增大；其中，

所述倾斜角为所述喷嘴的轴线与所述蒸镀本体高度方向的夹角。

10.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述蒸镀源包括坩埚。

11.一种蒸镀装置，其特征在于，包括权利要求1-10中任一所述的蒸镀源。