CN212270218U - 一种用于点蒸发源的坩埚 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种用于点蒸发源的坩埚,包括坩埚本体,所述坩埚本体为具有开口的中空结构,还包括上盖,所述上盖设置在所述坩埚本体的开口上,所述上盖设置有凸出的喷嘴,所述喷嘴与水平面之间倾斜形成夹角,所述喷嘴与所述坩埚本体相连通,所述喷嘴用于坩埚本体内的待蒸镀物的喷出通道。通过设置具有倾斜角度的喷嘴,喷嘴与水平面倾斜形成夹角可以使更多坩埚本体内的待蒸镀物从喷嘴中喷出,可以更好地沉积并覆盖待制作区域,提高待蒸镀物的利用率,减小了生产成本。
Description
技术领域
本实用新型涉及蒸镀制程技术领域,尤其涉及一种用于点蒸发源的坩埚。
背景技术
OLED,即有机发光二极管(organic light-emitting diode)是继LCD 后新一代的显示器,具有宽视角、高亮度、高对比度、低驱动电压和快速响应的优点,目前在制作OLED显示器时,主要在高真空环境下采用蒸镀成膜成膜工艺,其中坩埚作为蒸镀设备的蒸发源,盛放金属或有机材料,材料受热汽化后沉积到玻璃基板上形成有机薄膜,用于实现OLED器件发光。真空蒸镀过程中,蒸发源相对于基板位置限制,蒸镀时只有很少的材料才能到达基板,因此点蒸发源的材料利用率较低,增加生产成本,另外坩埚在蒸发源内取放过程中坩埚相对于基板距离往往难以保证不变,这样制程参数工具(tooling) 会随之改变,那么为维持蒸镀膜厚正确就需要矫正tooling,如此又会降低制程效率。
实用新型内容
为此,需要提供一种用于点蒸发源的坩埚,解决坩埚本体内的待蒸镀物的利用率低的问题。
为实现上述目的,发明人提供了一种用于点蒸发源的坩埚,包括坩埚本体,所述坩埚本体为具有开口的中空结构,还包括上盖,所述上盖设置在所述坩埚本体的开口上,所述上盖包括盖体和凸出盖体上表面的喷嘴,所述喷嘴相对水平面倾斜形成小于90度的夹角,所述喷嘴内腔与所述坩埚本体相连通,所述喷嘴内腔用于作为坩埚本体内的待蒸镀物的喷出通道。
进一步地,坩埚本体外还包括加热装置,所述加热装置用于加热坩埚。
进一步地,所述加热装置为蒸发源,所述蒸发源具有供所述坩埚本体放置的槽,所述坩埚本体设置在槽内。
进一步地,还包括定位机构,所述定位机构用于固定上盖。
进一步地,所述定位机构包括固定板,所述固定板设置有开孔,加热装置上设置有螺纹孔,所述固定板通过螺栓固定在所述加热装置上,所述上盖具有两个以上的缺口,所述固定板贴合所述上盖的缺口用于固定上盖。
进一步地,所述定位机构为多个。
进一步地,坩埚本体外还包括基板,所述基板设置在所述坩埚本体的上方,所述基板用于装载经所述喷嘴喷出的坩埚本体内的待蒸镀物,所述基板正对所述喷嘴方向。
进一步地,所述坩埚本体及上盖为多个,每个坩埚本体上设置有一个上盖,多个所述坩埚本体及上盖环绕设置在所述基板的下方。
进一步地,多个所述坩埚本体及上盖环绕所述基板的四周等间距地设置。
进一步地,所述喷嘴与水平面之间倾斜形成夹角为30-60度。
区别于现有技术,上述技术方案设置具有倾斜角度的喷嘴,喷嘴与水平面倾斜形成夹角可以使更多坩埚本体内的待蒸镀物从喷嘴中喷出,可以更好地沉积并覆盖待制作区域,提高待蒸镀物的利用率,减小了生产成本。
附图说明
图1为本实施例所述坩埚的结构示意图;
图2为本实施例所述上盖的结构侧视图;
图3为本实施例所述上盖的结构俯视图;
图4为本实施例一个固定板固定坩埚的结构图;
图5为本实施例多个固定板固定坩埚的结构图;
图6为本实施例所述第一固定板的结构示意图;
图7为本实施例所述第二固定板的结构示意图;
图8为本实施例所述基板的结构示意图;
图9为本实施例所述多个坩埚的结构示意图;
附图标记说明:
1、坩埚本体;
2、上盖;
21、喷嘴;
22、缺口;
3、蒸发源;
4、基板;
5、固定板;
51、第一固定板;
52、第二固定板。
具体实施方式
为详细说明技术方案的技术内容、构造特征、所实现目的及效果,以下结合具体实施例并配合附图详予说明。
请参阅图1至图9,本实施例一种用于点蒸发源的坩埚,包括坩埚本体1,所述坩埚本体1为具有开口的中空结构。所述坩埚本体1用于盛放待蒸镀物,一般情况下,待蒸镀物可以是金属或有机材料等待蒸镀的材料。坩埚还包括上盖2,所述上盖2设置在所述坩埚本体1的开口上,所述上盖2对所述坩埚本体1进行盖合,所述上盖2包括盖体和凸出盖体上表面的喷嘴21,所述喷嘴21与水平面倾斜形成小于90度的夹角,所述喷嘴21的内腔与所述坩埚本体1相连通,所述喷嘴21的内腔用于作为坩埚本体1内的待蒸镀物的喷出通道。其中,所述喷嘴21与水平面是非相对垂直设置,所述喷嘴21的法线与水平面倾斜形成夹角(如图1所示,图1中x为喷嘴到基板的距离,a为喷嘴与水平面的夹角,虚线分别为喷嘴的中心线和基板的法线),一般地,夹角为 30-60度使待蒸镀物能完全覆盖基板4(指待蒸镀物待制作区域),通过喷嘴 21的角度及喷嘴21对准的方向,可调整坩埚本体内汽化的待蒸镀物从喷嘴 21喷出的角度与方向,使更多的待蒸镀物能够沉积并覆盖基板4,提高蒸镀时待蒸镀物的利用率,减小了生产成本。
在本实施例中,坩埚是用于蒸镀材料(待蒸镀物)的盛放设备,当然在坩埚本体1外还包括加热装置,如蒸发源3,蒸发源3可以是电阻加热源、电子束加热元、激光加热源和高频感应加热源等,所述蒸发源3用于加热所述坩埚本体1,所述蒸发源3具有供所述坩埚本体1放置的槽,所述坩埚本体1 放置在槽内。当然,当坩埚为多个时,所述蒸发源3也为多个,或者所述蒸发源3上可设置多个供所述坩埚本体1放置的槽,使得多个坩埚可以放置其中。或者在某些实施例中,所述加热装置为加热板、红外线热板对坩埚进行加热的形式。
坩埚在蒸发源3内取放的过程中,坩埚相对于所述基板4的距离会发生改变,这样制程参数工具(tooling)会随之改变,那么为维持蒸镀膜厚的正确就需要矫正工具,于是还包括有定位机构,所述定位机构用于固定坩埚。请参阅图3、图4、图5、图6和图7,在本实施例中,所述定位机构包括固定板5,所述固定板5为“L”形,坩埚外侧的蒸发源3上设置有螺纹孔,所述固定板5设置有开孔,所述固定板5通过螺栓穿过开孔固定在所述蒸发源3 上,所述上盖2的四周侧壁具有缺口22,所述固定板5的两个端部贴合所述上盖2的缺口22。请参阅图4和图5,其中所述固定板5和所述上盖2的缺口22可以一个或者多个,并互相配合,多个所述固定板5可以从坩埚的各个角度对其进行固定。而且所述固定板5与所述蒸发源3的位置可以是相对可调的,即所述固定板5可以在所述蒸发源3上进行随时拆卸,以便于坩埚的取放。请参阅图6和图7,一般地,起到可拆卸的第二固定板52可以是通过具有把手的螺栓进行固定,通过旋拧具有把手的螺栓实现对第二固定板52的拆卸;起到紧实固定的第一固定板51可以通过螺栓直接旋入蒸发源上的螺纹孔,以实现对第一固定板51和蒸发源3的紧锢。通过所述定位机构对坩埚进行固定,避免在对坩埚进行取放或者矫正的过程中使坩埚偏离原先设定好的位置,可以提高制程工艺的效率。
在某些实施例中,所述定位机构可以为机械爪的结构。所述机械爪包括机械手臂、爪指及控制连件,机械手臂固定在蒸发源上或者其它地方,爪指与机械手臂铰接或滑动连接,控制连件用于控制爪指的爪放动作,在爪指的收拢侧设有活动件,爪指对坩埚的上盖或者所述坩埚本体进行抓取固定,实现对坩埚的定位。
请参阅图8和图9,在本实施例中,在坩埚本体1外还包括基板4,所述基板4用于装载经所述喷嘴21喷出的坩埚本体1内的待蒸镀物,所述基板4 设置在所述坩埚本体1的上方,所述基板4与水平面相平,所述基板正对所述喷嘴方向。根据两条平行线的内错角相等的原理,所述基板4与所述喷嘴 21也成30-60度。优选的,坩埚设置在所述基板4的平分线上。当所述坩埚本体1及上盖2为多个时,每个坩埚本体1上设置有一个上盖2,并配备有蒸发源3。多个所述坩埚本体1及上盖2环绕设置在所述基板的四周等间距地设置,具体根据坩埚本体1的数量而定。如图9所示,当坩埚本体为4个时,四个坩埚本体1及上盖2分别位于基板4的四周等间距地设置,四个坩埚本体1及上盖2与基板4的中心形成面积相等的四份区域;当坩埚本体为三个时,三个坩埚本体1及上盖2分别位于基板4的四周等间距地设置,三个坩埚本体1及上盖2与基板4的中心形成面积相等的三份区域。这样能够使蒸镀物以较大的程度并均匀地将蒸镀物镀到基板4上,获得的蒸镀膜的厚度一致,提高产品的良率。
需要说明的是,尽管在本文中已经对上述各实施例进行了描述,但并非因此限制本实用新型的专利保护范围。因此,基于本实用新型的创新理念,对本文所述实施例进行的变更和修改,或利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换,直接或间接地将以上技术方案运用在其他相关的技术领域,均包括在本实用新型专利的保护范围之内。
Claims (8)
1.一种用于点蒸发源的坩埚,包括坩埚本体,所述坩埚本体为具有开口的中空结构,其特征在于,还包括上盖,所述上盖设置在所述坩埚本体的开口上,所述上盖包括盖体和凸出盖体上表面的喷嘴,所述喷嘴相对水平面倾斜形成小于90度的夹角,所述喷嘴内腔与所述坩埚本体相连通,所述喷嘴内腔用于作为坩埚本体内的待蒸镀物的喷出通道;还包括定位机构,所述定位机构用于固定上盖,所述定位机构包括固定板,所述固定板设置有开孔,加热装置上设置有螺纹孔,所述固定板通过螺栓固定在所述加热装置上,所述上盖具有两个以上的缺口,所述固定板贴合所述上盖的缺口用于固定上盖。
2.根据权利要求1所述的一种用于点蒸发源的坩埚,其特征在于,坩埚本体外还包括加热装置,所述加热装置用于加热坩埚。
3.根据权利要求2所述的一种用于点蒸发源的坩埚,其特征在于,所述加热装置为蒸发源,所述蒸发源具有供所述坩埚本体放置的槽,所述坩埚本体设置在槽内。
4.根据权利要求1所述的一种用于点蒸发源的坩埚,其特征在于,所述定位机构为多个。
5.根据权利要求1所述的一种用于点蒸发源的坩埚,其特征在于,坩埚本体外还包括基板,所述基板设置在所述坩埚本体的上方,所述基板用于装载经所述喷嘴喷出的坩埚本体内的待蒸镀物,所述基板正对所述喷嘴方向。
6.根据权利要求5所述的一种用于点蒸发源的坩埚,其特征在于,所述坩埚本体及上盖为多个,每个坩埚本体上设置有一个上盖,多个所述坩埚本体及上盖环绕设置在所述基板的下方。
7.根据权利要求5所述的一种用于点蒸发源的坩埚,其特征在于,多个所述坩埚本体及上盖环绕所述基板的四周等间距地设置。
8.根据权利要求1所述的一种用于点蒸发源的坩埚,其特征在于,所述喷嘴与水平面之间倾斜形成夹角为30-60度。
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CN201922308824.6U CN212270218U (zh) | 2019-12-20 | 2019-12-20 | 一种用于点蒸发源的坩埚 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN114318237A (zh) * | 2021-12-29 | 2022-04-12 | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 | 一种蒸镀装置 |
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2019
- 2019-12-20 CN CN201922308824.6U patent/CN212270218U/zh active Active
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