CN211522306U - 一种蒸镀坩埚及装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种蒸镀坩埚及装置包括：坩埚本体、坩埚上盖；所述坩埚本体为具有开口的中空结构，且所述坩埚上盖设置于所述坩埚本体上。所述坩埚上盖还包括有出料口，出料口中空且与坩埚本体内部连通，所述出料口可活动的设置于所述坩埚上盖上，出料口活动时使得出料口与坩埚上盖的夹角发生变化。发明通过设置一种可调节蒸镀角度的出料口，其可以根据需要调节出料口的方向从而改变蒸镀角，避免出现蒸镀不均匀的现象。该坩埚的出料口方向可以调节，以适应不同的材料和加热条件，使得出料口可以根据实际需要改变蒸镀角。

Description

一种蒸镀坩埚及装置

技术领域

本实用新型涉及蒸镀制程技术领域，尤其是一种蒸镀坩埚及装置。

背景技术

有机发光二极管(Organic Light-Emitting Diode，OLED)凭借其优秀的显示特性，经过数十年的发展，已经广泛应用在显示,照明领域，是最具发展前景的显示技术。

OLED器件的发光部分主要是由有机材料构成，有机材料在真空腔中，通过物理气相沉积法在基板表面形成多层的有机膜层：将有机材料放置在真空腔内的坩埚中加热，材料受热之后气化或者升华，其蒸气沉积在温度比较低的基板上，形成多层膜结构的OLED器件。在OLED器件中，有些膜层是由单一的材料构成的，有些膜层是由两种(或两种以上)的材料构成的，这就需要将多种材料共同蒸镀，形成掺杂的膜层。掺杂的均匀性制备过程中一个重要的考量点。

盛放有机材料的坩埚是蒸镀过程中的要使用到的一个关键部件，坩埚一般由盛放材料的部分和坩埚盖构成，坩埚盖子上有出料口。一般的坩埚的出料口都和是和坩埚盖一体成型的，出料口的位置是相对固定的。受热的材料蒸气从出料口出来之后，会呈一定的角度向基板方向运动。由于材料的不同，加热条件的不同，材料蒸气出射的角度会有所不同。这会给几种材料的共蒸镀时膜层掺杂的均匀性带来不确定的因素。

实用新型内容

为此，需要提供一种蒸镀坩埚及装置，解决材料蒸气出射角度不固定，导致掺杂的均匀性欠佳等问题。

为实现上述目的，发明人提供了一种蒸镀坩埚，包括：坩埚本体、坩埚上盖；所述坩埚本体为具有开口的中空结构，且所述坩埚上盖设置于所述坩埚本体上；

所述坩埚上盖还包括有出料口，出料口中空且与坩埚本体内部连通，所述出料口可活动的设置于所述坩埚上盖上，出料口活动时使得出料口与坩埚上盖的夹角发生变化。

进一步地，还包括：限位装置；所述限位装置设置于所述坩埚上盖上，用于固定出料口保持出料口与坩埚上盖的夹角不变。

进一步地，所述限位装置通过磁吸方式设置于所述坩埚上盖上。

进一步地，所述出料口与坩埚上盖通过球形可活动机构相连接；

所述球形可活动机构嵌设于所述坩埚上盖上，且所述出料口贯穿设置于球形可活动机构上。

进一步地，所述球形可活动机构半径为R，所述球形可活动机构超出坩埚上盖的上、下两部分高度分别为L1、L2，且0.2R≤L1≤0.6R，0.2R≤L2≤0.6R。

进一步地，所述坩埚上盖朝一侧倾斜。

发明人还提供了一种蒸镀坩埚装置，包括多个任意实施例所述蒸镀坩埚。

进一步地，所述一种蒸镀坩埚装置包括三个所述蒸镀坩埚；

位于中间的蒸镀坩埚的坩埚上盖与水平方向平行，位于两侧的蒸镀坩埚的坩埚上盖朝中间倾斜。

区别于现有技术，上述技术方案通过可转动设置于所述坩埚上盖上的出料口解决因材料蒸气出射的角度不同，导致几种材料混合不均匀的问题。具体的，由于材料的不同，蒸镀镀率的不同，材料的蒸镀角会有所变化，对于掺杂型的膜层，蒸镀角的变化意味着掺杂时掺杂的均匀性会发生变化，请参阅图2，以左侧坩埚为例，M2为需要左侧坩埚蒸镀的区域，因位于坩埚内的蒸镀材料改变，从而导致蒸镀角度也发生变化，即由M2区域变为M1区域，蒸镀角的变化可能会引起薄膜局部掺杂不均匀。发明通过设置一种可调节蒸镀角度的出料口，其可以根据需要，调节出料口的方向，从而改变蒸镀角，使得M1与M2的范围重合，避免出现蒸镀不均匀的现象。本实用新型提供了一种蒸镀坩埚，该坩埚的出料口方向可以调节，以适应不同的材料和加热条件，使得出料口可以根据实际需要改变蒸镀角。

附图说明

图1为背景技术坩埚；

图2为背景技术坩埚的侧视图；

图3为所述坩埚上盖的结构图；

图4为所述一种蒸镀坩埚装置结构图。

附图标记说明：

1、坩埚本体，

2、坩埚上盖；

21、球形可活动机构；

22、出料口；

3、限位装置。

具体实施方式

为详细说明技术方案的技术内容、构造特征、所实现目的及效果，以下结合具体实施例并配合附图详予说明。

请参阅图1至图4，本实施例提供了一种蒸镀坩埚，包括：坩埚本体1、坩埚上盖2；所述坩埚本体1为具有开口的中空结构，用于盛放蒸镀材料，并用于加热；一般有机材料装在坩埚本体1内部，加热之后，在坩埚本体1内部气化或者升华，从出料口22喷出。所述坩埚上盖2设置于所述坩埚本体1上，使坩埚形成一个相对密闭的空间，通过所述坩埚上盖2的出料口22将加热后的蒸镀材料射出。需要说明的是，在本实施例中所述出料口22可活动的设置于所述坩埚上盖2上，出料口活动时使得出料口与坩埚上盖的夹角发生变化。可以根据不同的材料特性，改变材料蒸镀角。为了防止所述球形可活动机构21旋转角度过小，在某些实施例中，请参阅图4，所述坩埚上盖2与水平方向呈非零夹角。上述技术方案通过可调整设置于所述坩埚上盖2上的出料口22解决因材料蒸气出射的角度不同，导致几种材料混合不均匀的问题。

具体的，由于材料的不同，蒸镀镀率的不同，材料的蒸镀角会有所变化，对于掺杂型的膜层，蒸镀角的变化意味着掺杂时掺杂的均匀性会发生变化，请参阅图2，以左侧坩埚为例，M2为需要左侧坩埚蒸镀的区域，因位于坩埚内的蒸镀材料改变，从而导致蒸镀角度也发生变化，蒸镀区域即由原M2区域变为M1区域，蒸镀角的变化可能会引起薄膜局部掺杂不均匀。请参阅图4，左侧坩埚，发明通过设置一种可调节蒸镀角度的出料口22，所述出料口22可以根据需要，调节出料口22的方向，从而改变蒸镀角，使得M1与M2的范围重合，避免出现蒸镀不均匀的现象。本实用新型提供了一种蒸镀坩埚，该坩埚的出料口22方向可以调节，以适应不同的材料和不同的加热条件，使得出料口22可以根据实际需要改变蒸镀角。

请参阅图3，在某些实施例中所述一种蒸镀坩埚还包括：限位装置3；所述限位装置3设置于所述坩埚上盖2上，用于固定出料口22。在实际使用中，由于出料口22在使用过程中蒸镀角度会发生变化，为此提供了一个限位装置3防止其在使用过程中蒸气出射的角度发生偏移。具体的，限位装置3是用于限制所述出料口22的，在调节好的出料口22后，可以用限位装置3对其的角度进行限定，以避免在使用过程中出料口22的角度发生变化。

在某些实施例中，所述限位装置3通过磁吸方式设置于所述坩埚上盖上。需要说明的是，所述磁性材料为钕、铁、硼等，相对地因磁性材料需吸附于所述坩埚上盖2上，这就需要所述干锅上盖的材料为Fe、Co、Ni或者合金等。在实际使用中，在调节好所述出料口22后，将所述限位装置3吸附于所述坩埚上盖2上，并顶住或依靠住所述出料口22给其一个支撑力，使所述出料口22的蒸镀角度在后续使用时不发生改变。

当然，所述限位装置3也可为限位夹，在调节好蒸镀角度后，限位夹一端夹住所述出料口22，另一端固定连接于架子上，且架子放置于地上，使所述出料口22相对于限位夹静止。在使用中，限位夹给所述出料口22提供一个支撑力，防止其角度的改变。当然在某些实施例中也可以使用其他固定的方式。

请参阅图4，在本实施例中，所述出料口22与坩埚上盖2通过球形可活动机构21相连接。所述球形可活动机构21嵌设于所述坩埚上盖2上，且所述出料口22贯穿设置于球形可活动机构21上。在本实施例中，所述坩埚上盖2上设置有一个用于容置球形可活动机构21的孔洞，将所述球形可活动机构21置于孔洞中，使所述球形可活动机构21于孔洞中转动，用于调整蒸镀角度，且不会脱落。同时所述出料口22贯穿设置在所述球形可活动机构21上。需要说明的是，在本实施例中，所述球形可活动机构21半径为R，超出坩埚上盖2的上、下两部分高度分别为L1、L2，且0.2R≤L1≤0.6R，0.2R≤L2≤0.6R。当然，在某些实施例中旋转方式还可为设置于所述坩埚上盖2上的金属管，该金属管质地较硬，但可任意角度弯折，如，铜管等。本实施例通过设置一种可调节蒸镀角度的出料口22，其可以根据需要，调节出料口22的方向，从而改变蒸镀角，避免出现蒸镀不均匀的现象。本实用新型提供了一种蒸镀坩埚，该坩埚的出料口22方向可以调节，以适应不同的材料和加热条件，使得出料口22可以根据实际需要改变蒸镀角。

本实用新型还提供了一种蒸镀坩埚装置，包括多个所述的一种蒸镀坩埚。当然，蒸镀的源的个数可以是两个或者多个。参见图2，基板位于装置上方，三个坩埚内部均具有有机材料，为了保证3个坩埚蒸镀的材料有共同的蒸镀区域，其中左侧、右侧和中部坩埚的出料口22均有一定的倾斜角度。一般情况下，三个出料口22所蒸镀的蒸镀区域应该是重合的。但是如果材料不同(例如左侧坩埚的材料由A换成了A’),那左侧坩埚对应的加热参数就会有所不同，从而影响到其的蒸镀角，可能会导致左侧坩埚的蒸镀区域M1发生偏移，与两个坩埚的蒸镀区域不重合，进而导致部分区域的材料掺杂比例发生变化。掺杂比例发生变化就会导致器件的性能发生变化，从而导致制程中产生缺陷。本实用新型提供了一种蒸镀坩埚装置，其包括三个蒸镀源。位于中间的一种蒸镀坩埚的坩埚上盖2与水平方向平行，位于两侧的一种蒸镀坩埚的坩埚上盖2朝中间倾斜。同时多个一种蒸镀坩埚上的坩埚上盖2均可以调整角度。发明通过设置一种可调节蒸镀角度的出料口22，所述出料口22可以根据需要，调节出料口22的方向，从而改变蒸镀角，使得M1与M2的范围重合，避免出现蒸镀不均匀的现象。本实用新型提供了一种蒸镀坩埚装置，该装置中的坩埚的出料口22方向均可以调节，以适应不同的材料和加热条件，使得出料口22可以根据实际需要改变蒸镀角，使不同坩埚的蒸镀区域重合。

需要说明的是，尽管在本文中已经对上述各实施例进行了描述，但并非因此限制本实用新型的专利保护范围。因此，基于本实用新型的创新理念，对本文所述实施例进行的变更和修改，或利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，直接或间接地将以上技术方案运用在其他相关的技术领域，均包括在本实用新型的专利保护范围之内。

Claims (8)

1.一种蒸镀坩埚，其特征在于，包括：坩埚本体、坩埚上盖；所述坩埚本体为具有开口的中空结构，且所述坩埚上盖设置于所述坩埚本体上；

所述坩埚上盖还包括有出料口，出料口中空且与坩埚本体内部连通，所述出料口可活动的设置于所述坩埚上盖上，出料口活动时使得出料口与坩埚上盖的夹角发生变化。

2.根据权利要求1所述一种蒸镀坩埚，其特征在于，还包括：限位装置；所述限位装置设置于所述坩埚上盖上，用于固定出料口保持出料口与坩埚上盖的夹角不变。

3.根据权利要求2所述一种蒸镀坩埚，其特征在于，所述限位装置通过磁吸方式设置于所述坩埚上盖上。

4.根据权利要求1所述一种蒸镀坩埚，其特征在于，所述出料口与坩埚上盖通过球形可活动机构相连接；

所述球形可活动机构嵌设于所述坩埚上盖上，且所述出料口贯穿设置于球形可活动机构上。

5.根据权利要求4所述一种蒸镀坩埚，其特征在于，所述球形可活动机构半径为R，所述球形可活动机构超出坩埚上盖的上、下两部分高度分别为L1、L2，且0.2R≤L1≤0.6R，0.2R≤L2≤0.6R。

6.根据权利要求1所述一种蒸镀坩埚，其特征在于，所述坩埚上盖朝一侧倾斜。

7.一种蒸镀坩埚装置，其特征在于，包括多个权利要求1至6所述蒸镀坩埚。

8.根据权利要求7所述一种蒸镀坩埚装置，其特征在于，所述一种蒸镀坩埚装置包括三个所述蒸镀坩埚；

位于中间的蒸镀坩埚的坩埚上盖与水平方向平行，位于两侧的蒸镀坩埚的坩埚上盖朝中间倾斜。

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