CN106835028A - 一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法 - Google Patents

Abstract

本发明实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，涉及真空蒸发镀膜领域，能够解决现有的线蒸镀源或者面蒸镀源在蒸镀过程中对待蒸镀基板上不同蒸镀区域的蒸镀膜层厚度不均匀的问题。包括蒸镀坩埚，还包括设置在蒸镀坩埚出口侧的多个蒸镀喷嘴，多个蒸镀喷嘴至少排列为一排。蒸镀坩埚内部包括有蒸镀材料空腔，蒸镀坩埚出口侧的侧壁设置有连通蒸镀材料空腔的贯通腔，蒸镀喷嘴包括喷头以及与喷头固定连接的活动部，喷头通过贯通腔与蒸镀材料空腔相连通，活动部设置于贯通腔内并可在贯通腔内转动，以使得喷头在活动部的带动下摆动。

Description

一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法

技术领域

本发明涉及真空蒸发镀膜领域，尤其涉及一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法。

背景技术

真空蒸镀是指在真空环境中，将待成膜物质加热蒸发或升华后，使其在低温工件或基片表面凝结或沉积，形成镀层的工艺。在有机显示领域，有机显示器件的镀膜工艺好坏是影响有机显示器件功能优劣的关键因素。

对于中小尺寸有机显示器件的小世代线，通常采用点蒸镀源进行蒸镀，承载中小尺寸有机显示器件的基板在蒸镀过程中匀速旋转以使得基板上各不同位置处的材料蒸镀均匀。对于较大尺寸有机显示器件的大世代线，若采用点蒸镀源进行蒸镀，则蒸镀效率太低难以保证产线需求，因此，需要采用线蒸镀源或者面蒸镀源对较大尺寸有机显示器件进行蒸镀。

采用线蒸镀源或者面蒸镀源对较大尺寸有机显示器件进行蒸镀时，线蒸镀源或者面蒸镀源通过在蒸镀坩埚上排列固定的多个蒸镀喷嘴同时将加热气化的蒸镀材料在线(线蒸镀源)或面(面蒸镀源)的范围内喷出，承载较大尺寸有机显示器件的基板在蒸镀过程中匀速水平通过线蒸镀源或者面蒸镀源的蒸镀喷嘴上方即可完成较大尺寸有机显示器件的蒸镀。

由于线蒸镀源或者面蒸镀源上不同位置的蒸镀喷嘴分别对应待蒸镀基板上的固定的蒸镀区域，因此，极易导致待蒸镀基板上与各蒸镀喷嘴对应区域以及相邻蒸镀喷嘴之间所对应的区域的蒸镀膜层厚度不均匀，这种蒸镀膜层厚度的不均匀性会导致有机显示器件的亮度和色彩不均匀，从而影响有机显示器件成品的最终显示性能。

发明内容

本发明实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，能够解决现有的线蒸镀源或者面蒸镀源在蒸镀过程中对待蒸镀基板上不同蒸镀区域的蒸镀膜层厚度不均匀的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

本发明实施例的一方面，提供一种蒸镀源，包括蒸镀坩埚，还包括设置在蒸镀坩埚出口侧的多个蒸镀喷嘴，多个蒸镀喷嘴至少排列为一排。蒸镀坩埚内部包括有蒸镀材料空腔，蒸镀坩埚出口侧的侧壁设置有连通蒸镀材料空腔的贯通腔，蒸镀喷嘴包括喷头以及与喷头固定连接的活动部，喷头通过贯通腔与蒸镀材料空腔相连通，活动部设置于贯通腔内并可在贯通腔内转动，以使得喷头在活动部的带动下摆动。

可选的，活动部为活动轴，活动轴一端设置于贯通腔侧壁、另一端固定连接在喷头侧壁上，活动轴平行于蒸镀坩埚出口侧所在的平面。

优选的，活动部为活动球，活动球内部中空且表面加工有开口，喷头通过活动球与蒸镀材料空腔相连通。其中，活动球的直径大于贯通腔在蒸镀坩埚出口侧上、下表面的直径且小于贯通腔在蒸镀坩埚出口侧中心横截面的直径。

优选的，蒸镀喷嘴的最大摆动角度小于等于90°。

进一步的，相邻两个蒸镀喷嘴的间距为10mm-200mm。

优选的，多个蒸镀喷嘴至少排列为两排时，相邻两排的蒸镀喷嘴交错设置。

进一步的，本发明实施例的蒸镀源，还包括控制器，控制器分别与每一个蒸镀喷嘴相连接，分别控制每一个蒸镀喷嘴的活动部在贯通腔内的转动。

本发明实施例的另一方面，提供一种蒸镀装置，包括上述的蒸镀源。

本发明实施例的再一方面，提供一种蒸镀方法，应用于上述蒸镀装置，包括，加热蒸镀坩埚，使蒸镀坩埚内的蒸镀材料受热气化；控制活动部转动，以使得喷头在活动部的带动下摆动。

进一步的，当蒸镀喷嘴至少排列为两排时，控制活动部转动具体为：控制同一排的多个活动部沿第一方向转动，控制相邻排的多个活动部沿第一方向或与第一方向相反的第二方向转动。

本发明实施例提供一种蒸镀源、蒸镀装置及蒸镀方法，包括蒸镀坩埚，还包括设置在蒸镀坩埚出口侧的多个蒸镀喷嘴，多个蒸镀喷嘴至少排列为一排。蒸镀坩埚内部包括有蒸镀材料空腔，蒸镀坩埚出口侧的侧壁设置有连通蒸镀材料空腔的贯通腔，蒸镀喷嘴包括喷头以及与喷头固定连接的活动部，喷头通过贯通腔与蒸镀材料空腔相连通，活动部设置于贯通腔内并可在贯通腔内转动，以使得喷头在活动部的带动下摆动。在蒸镀坩埚出口侧侧壁设置连通蒸镀材料空腔的贯通腔，通过将蒸镀喷嘴的活动部设置于贯通腔内并可在贯通腔内转动，使得与蒸镀材料空腔相连通的喷头在活动部转动的带动下，以活动部为顶点摆动方向。从而降低待蒸镀基板上与蒸镀喷嘴对应区域以及相邻蒸镀喷嘴之间所对应的区域的蒸镀膜层厚度差异，提高待蒸镀基板上各处蒸镀材料膜厚的均匀性，提高有机显示器件的光学均匀性和整体显示性能。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例提供的一种蒸镀源的结构示意图；

图2为图1的俯视图；

图3为图1中区域X的局部放大图之一；

图4为本发明实施例提供的一种蒸镀源中活动部为活动轴且活动轴的轴线与同排多个蒸镀喷嘴之间连线垂直的结构示意图；

图5为图1中区域X的局部放大图之二；

图6为本发明实施例提供的一种蒸镀源中相邻两排蒸镀喷嘴交错设置的结构示意图；

图7为本发明实施例提供的一种蒸镀源中还设置有控制器的结构示意图；

图8为本发明实施例提供的一种蒸镀方法的流程图之一；

图9为本发明实施例提供的一种蒸镀方法的流程图之二；

图10为本发明实施例提供的一种蒸镀源的蒸镀喷嘴摆动方式；

图11为本发明实施例提供的；另一种蒸镀源的蒸镀喷嘴摆动方式。

附图标记：

10-蒸镀坩埚；11-蒸镀材料空腔；20-振幅喷嘴；21-喷头；22-活动部；221-活动轴；222-活动球；30-贯通腔；40-控制器；L-活动球直径；W-相邻两个活动轴之间的距离；X-放大区域，a-活动球上的开口；a1-活动球与喷头连接端的开口；a2-活动球连通蒸镀材料空腔的开口；h1-贯通腔在蒸镀坩埚出口侧上表面的截面直径；h2-贯通腔在蒸镀坩埚出口侧下表面的截面直径；h3-贯通腔在蒸镀坩埚出口侧中心横截面的直径；α-蒸镀喷嘴的最大摆动角度。

具体实施方式

下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

本发明实施例提供一种蒸镀源，如图1所示，包括蒸镀坩埚10，还包括设置在蒸镀坩埚10出口侧的多个蒸镀喷嘴20，如图2所示，多个蒸镀喷嘴20至少排列为一排。如图1所示，蒸镀坩埚10内部包括有蒸镀材料空腔11，蒸镀坩埚10出口侧的侧壁设置有连通蒸镀材料空腔11的贯通腔30，蒸镀喷嘴20包括喷头21以及与喷头21固定连接的活动部22，喷头21通过贯通腔30与蒸镀材料空腔11相连通，活动部22设置于贯通腔30内并可在贯通腔30内转动，以使得喷头21在活动部22的带动下摆动。

需要说明的是，第一，蒸镀源包括蒸镀坩埚10，蒸镀坩埚10内侧包括蒸镀材料空腔11，蒸镀材料设置在蒸镀材料空腔11内，对蒸镀坩埚10进行加热后，蒸镀材料在蒸镀材料空腔11内受热气化蒸发，通过设置在蒸镀坩埚10出口侧的蒸镀喷嘴20喷出，并最终落在待蒸镀基板上形成蒸镀膜层。当蒸镀坩埚10出口侧设置有多个蒸镀喷嘴20，并且多个蒸镀喷嘴20排列为一排时，蒸镀材料呈线性喷出，即为线蒸镀源(如图2所示)，当蒸镀坩埚10出口侧设置的多个蒸镀喷嘴20排列为多排时，蒸镀材料以多个蒸镀喷嘴20排列形成的面喷出，即为面蒸镀源，待蒸镀基板匀速通过线蒸镀源或面蒸镀源上方，以在待蒸镀基板上形成整面的蒸镀膜层。本发明实施例的蒸镀源指的是上述的线蒸镀源或面蒸镀源。

第二，喷头21在活动部22的带动下摆动，指的是蒸镀喷嘴20的喷头21以活动部22为中心，进行偏离原先位置的移动，其中，活动部22在固定位置转动，喷头21的摆动即带动喷头21中蒸镀材料改变喷射方向。此处所述的摆动，可以为沿某一直线进行的直线往复运动，也可以为沿某一非直线的固定轨迹进行的循环运动，此处对具体的摆动轨迹不做限定。当喷头21在活动部22的带动下摆动时，喷头21中蒸镀材料的喷射方向随之改变，扩大喷头21所能够覆盖的待蒸镀基板上的范围，从而降低每一个喷头21所覆盖的区域以及相邻两个喷头21之间区域的蒸镀速率差异。

第三，贯通腔30的形状在本发明实施例中未进行具体限定，只要保证能够将活动部22设置在贯通腔30内部，且通过贯通腔30能够将蒸镀材料空腔11与喷头21之间相连通即可。

第四，例如，如图1所示，为基板水平方式蒸镀，蒸镀坩埚10的出口侧设置在蒸镀坩埚10的上方，多个蒸镀喷嘴20在蒸镀坩埚10出口侧呈线性排列，蒸镀材料在蒸镀坩埚10内部的蒸镀材料空腔11中经过受热蒸发后由蒸镀喷嘴20向上喷出，待蒸镀基板水平放置且待蒸镀面朝向蒸镀坩埚10出口侧的方向以一定速度匀速水平通过多个蒸镀喷嘴20所在的位置完成蒸镀操作。或者，还可以为基板垂直方式蒸镀，蒸镀坩埚10的出口侧设置在蒸镀坩埚10的垂直侧，待蒸镀基板垂直放置且在竖直方向运动匀速通过多个蒸镀喷嘴20所在的位置完成蒸镀操作。

第五，本发明实施例的蒸镀源对于喷头21的形状不做具体限定，喷头21的截面形状为圆形、矩形或其他图形均可。此外，喷头21的截面形状为圆形时，可以为口部截面直径大于底部截面直径的喇叭口状，以增大喷头21喷出的蒸镀材料可覆盖面积，或者，也可以为口部截面直径与底部截面直径相等的圆柱状，甚至进一步使口部截面直径小于底部截面直径，以提高喷头21的喷出速率，此处可以根据实际使用需要进行选择。

本发明实施例提供一种蒸镀源，包括蒸镀坩埚，还包括设置在蒸镀坩埚出口侧的多个蒸镀喷嘴，多个蒸镀喷嘴至少排列为一排。蒸镀坩埚内部包括有蒸镀材料空腔，蒸镀坩埚出口侧的侧壁设置有连通蒸镀材料空腔的贯通腔，蒸镀喷嘴包括喷头以及与喷头固定连接的活动部，喷头通过贯通腔与蒸镀材料空腔相连通，活动部设置于贯通腔内并可在贯通腔内转动，以使得喷头在活动部的带动下摆动。在蒸镀坩埚出口侧侧壁设置连通蒸镀材料空腔的贯通腔，通过将蒸镀喷嘴的活动部设置于贯通腔内并可在贯通腔内转动，使得与蒸镀材料空腔相连通的喷头在活动部转动的带动下，以活动部为顶点摆动方向。从而降低待蒸镀基板上与蒸镀喷嘴对应区域以及相邻蒸镀喷嘴之间所对应的区域的蒸镀膜层厚度差异，提高待蒸镀基板上各处蒸镀材料膜厚的均匀性，提高有机显示器件的光学均匀性和整体显示性能。

可选的，如图3所示，活动部22为活动轴221，活动轴221一端设置于贯通腔30侧壁、另一端固定连接在喷头21侧壁上，活动轴221平行于蒸镀坩埚10出口侧所在的平面。

需要说明的是，活动轴21平行于蒸镀坩埚10出口侧所在的平面，指的是蒸镀坩埚10出口侧的中心位置，并非限定蒸镀坩埚10的出口侧内外表面均必须为平面，例如，如图1所示的基板水平方式蒸镀，蒸镀坩埚10出口侧所在的平面即指的是水平面。

如图3所示，活动轴221穿过喷头21的侧壁并与喷头21固定连接，并且设置于贯通腔30的侧壁内，活动轴221平行于蒸镀坩埚10出口侧所在的平面，这样一来，活动轴221在水平面内沿其轴线自转时，即可带动喷头21移动距离，使得喷头21的蒸镀材料喷出方向改变，当活动轴221按照一固定的周期正、反转交替进行时，喷头21即在与活动轴221向垂直的方向上进行直线往复运动，通过喷头21喷出的蒸镀材料呈线性均匀分布。

为了提高喷头21的运动稳定性，优选的，如图3所示，在贯通腔30的相对两侧分别设置活动轴221，且活动轴221的轴线重合，以在相对的两侧对喷头21进行支撑和带动。

进一步的，如图4所示，活动轴221的轴线与同一排的多个蒸镀喷嘴20之间的连线垂直。

如图4所示，多个蒸镀喷嘴20在蒸镀坩埚10出口侧呈两排设置，蒸镀源为面蒸镀源，活动轴221的轴线(如图4中虚线所示)与同一排的多个蒸镀喷嘴20之间的连线(如图4中实线所示)相互垂直，则活动轴221转动时，多个蒸镀喷嘴20的摆动方向如图4中粗箭头所示。待蒸镀基板沿细箭头所示的方向匀速水平通过面蒸镀源上方，同一排的多个蒸镀喷嘴20在活动轴221转动的带动下能够沿图4中粗箭头所示的方向往复摆动，这样一来，对于同一排的多个蒸镀喷嘴20，在喷头21固定的情况下，相邻的两个蒸镀喷嘴20之间的区域形成的膜层相对较薄，就会在待蒸镀基板上导致蒸镀膜层均匀性差，通过活动轴221转动的方式带动蒸镀喷嘴20沿同一排的多个蒸镀喷嘴20之间的连线方向往复摆动，从而使得相邻的两个蒸镀喷嘴20之间的区域也能够被蒸镀材料覆盖，进而减轻待蒸镀基板上形成的蒸镀膜层厚薄不均的现象，提高蒸镀膜层厚度的整体均匀性。

优选的，如图5所示，活动部22为活动球222，活动球222内部中空且表面加工有开口a，开口a至少包括设置在喷头21一侧的开口a1以及设置在靠近蒸镀材料空腔11一侧的开口a2。喷头21通过活动球222与蒸镀材料空腔11相连通。其中，活动球222的直径大于贯通腔30在蒸镀坩埚10出口侧上、下表面的直径(上表面的直径为h1，下表面的直径为h2)且小于贯通腔30在蒸镀坩埚10出口侧中心横截面的直径h3。

需要说明的是，第一，开口a1和a2的大小，至少要保证能够在活动球222转动至最大角度时开口边缘不阻挡蒸镀材料由蒸镀坩埚10的蒸镀材料空腔11内向外蒸发即可。

第二，当活动部22为活动球222时，贯通腔30的横截面为圆形，以便活动球222在贯通腔30内转动时，减小与贯通腔30之间的摩擦阻力。

如图5所示，活动球222的直径L大于贯通腔30在蒸镀坩埚10出口侧上、下表面的直径(上表面的直径为h1，下表面的直径为h2)且小于贯通腔30在蒸镀坩埚10出口侧中心横截面的直径h3，这样一来，一方面，活动球222能够被限制在贯通腔30内部而不会脱落，另一方面，活动球222还能够在贯通腔30内部转动以带动喷头21的摆动。当活动球222先偏转一定距离后沿顺时针或逆时针的方向做循环圆运动时，固定连接在活动球222上的喷头21能够在活动球222的带动下循环进行锥摆式摆动，如图5中箭头所示，即为蒸镀喷嘴20沿顺时针方向进行锥摆式摆动的示意。此外，若活动球222沿某一垂直平面进行直线往复式转动时，固定连接在活动球222上的喷头21能够在活动球222的带动下也进行直线往复式摆动。

优选的，如图5所示，蒸镀喷嘴20的最大摆动角度α小于等于90°。

需要说明的是，当蒸镀喷嘴20的摆动方式为直线往复式摆动时，最大摆动角度指的是喷头21摆动至极限位置时的中心线与喷头21位于中心位置时的中心线之间的夹角，当蒸镀喷嘴20的摆动方式为锥摆式摆动时，如图5所示，最大摆动角度指的是活动球222沿顺时针或逆时针的方向做循环圆运动时喷头21的中心线与喷头位于中心位置时的中心线之间的夹角。

蒸镀喷嘴20的最大摆动角度大于90°时，喷头21摆动的幅度过大，一方面，喷头21在摆动过程中喷出的蒸镀材料在待蒸镀基板上形成环状区域，则难以保证蒸镀喷嘴20位于中心位置时对应区域的蒸镀效果(即环状中心)，另一方面，喷头21摆动的幅度过大也容易造成相邻两个喷头21之间的碰撞。

更为优选的，蒸镀喷嘴20的最大摆动角度α可以设置在小于等于60°的范围内。

进一步的，如图4所示，相邻两个蒸镀喷嘴20的间距W为10mm-200mm。

若相邻两个蒸镀喷嘴20的间距W小于10mm时，相邻两个蒸镀喷嘴20之间的距离过近，在喷头21摆动的过程中容易造成相邻两个喷头21之间的发生碰撞。若相邻两个蒸镀喷嘴20的间距W大于200mm，则由于相邻两个蒸镀喷嘴20之间距离过大，会进一步降低待蒸镀基板上对应相邻两个蒸镀喷嘴之间位置处的蒸镀膜层厚度，从而降低蒸镀膜层厚度的整体均匀性。

更为优选的，相邻两个蒸镀喷嘴20的间距W在30mm-50mm之间。

优选的，如图6所示，多个蒸镀喷嘴20至少排列为两排时(如图6所示的多个蒸镀喷嘴20排列为3排)，相邻两排的蒸镀喷嘴20交错设置。

这样一来，能够扩大相邻两排的蒸镀喷嘴20之间位置处被蒸镀喷嘴20喷出的蒸镀材料所覆盖的面积，从而提高了蒸镀膜层厚度的整体均匀性。

优选的，蒸镀喷嘴20的摆动周期在0.1s-20s之间，同时，蒸镀喷嘴20的摆动周期还需要与待蒸镀基板送入蒸镀源的速度相配合，待蒸镀基板送入速度较快时，蒸镀喷嘴20的摆动周期需要相应缩短，反之，待蒸镀基板送入速度较慢时，蒸镀喷嘴20的摆动周期需要相应延长。更为优选的，蒸镀喷嘴20的摆动周期可以进一步设置在1s-5s之间。

进一步的，如图7所示，本发明实施例的蒸镀源，还包括控制器40，控制器40分别与每一个蒸镀喷嘴20相连接，分别控制每一个蒸镀喷嘴20的活动部22在贯通腔30内的转动。

这样一来，能够通过控制器40控制蒸镀源内每一个蒸镀喷嘴20的摆动角度、摆动路径以及摆动周期，从而提高本发明实施例的蒸镀源的运动准确性和稳定性。例如，控制同一排的多个蒸镀喷嘴20以相同的摆动角度、摆动路径以及摆动周期进行摆动，相邻排的多个蒸镀喷嘴20之间的摆动角度和摆动周期相同、摆动路径相反(如图10所示，当蒸镀喷嘴20为直线往复式摆动时，摆动路径相反指的是摆动方向相差180°；当蒸镀喷嘴20为锥摆式摆动时，摆动路径相反指的是一排为顺时针方向摆动，则另一排为逆时针方向摆动)。又例如，如图11所示，也可以控制蒸镀源内所有的蒸镀喷嘴20摆动周期相同，且相邻的蒸镀喷嘴20摆动方向相反的方式进行摆动。

本发明实施例的另一方面，提供一种蒸镀装置，包括上述的蒸镀源。

蒸镀材料置于蒸镀坩埚10的蒸镀材料空腔11内，对蒸镀坩埚10进行加热使得蒸镀材料通过蒸镀坩埚10出口侧的蒸镀喷嘴20喷出。待蒸镀基板匀速通过与蒸镀喷嘴20相对应的区域，以一定路径摆动的多个蒸镀喷嘴20，能够在摆动过程中持续喷出蒸镀材料，使得蒸镀材料不仅能够附着在蒸镀喷嘴20对应的区域，同时在相邻两个蒸镀喷嘴20之间的位置也能够均匀附着，从而提高了蒸镀材料在待蒸镀基板上的蒸镀膜层厚度整体均匀性。

在上述对于蒸镀源的说明中，已经对于包括有本发明实施例的蒸镀源的蒸镀装置进行了详细的说明，此处不再赘述。

本发明实施例的再一方面，提供一种蒸镀方法，应用于上述蒸镀装置，如图8所示，包括，S101、加热蒸镀坩埚10，使蒸镀坩埚10内的蒸镀材料受热气化。S102、控制活动部22转动，以使得喷头21在活动部22的带动下摆动。

在使用本发明实施例的蒸镀方法对待蒸镀基板进行蒸镀操作时，首先加热蒸镀坩埚10，蒸镀坩埚10内部包括有蒸镀材料空腔11，蒸镀材料放置在蒸镀材料空腔11内，蒸镀材料在蒸镀材料空腔11内加热到一定温度后由于自身的性质，蒸发形成气态，同时，向蒸镀材料空腔11内通入载气，载气通常为惰性气体，通入的载气一方面由于性质稳定，不易与蒸镀材料在高温下发生反应影响蒸镀材料的蒸发，另一方面，载气在蒸镀材料空腔11内流动，能够使得蒸发为气态的蒸镀材料在整个蒸镀材料空腔11内均匀分布，从而降低蒸镀材料在每一个蒸镀喷嘴20处的喷出速率差异。在蒸镀坩埚10的出口侧设置有贯通腔30，蒸镀喷嘴20一一对应的安装在贯通腔30内，并通过贯通腔30与蒸镀材料空腔11之间连通，蒸发为气态的蒸镀材料通过蒸镀喷嘴20喷出后落在与蒸镀喷嘴20对应的喷出位置的待蒸镀基板上，在待蒸镀基板上沉积后形成蒸镀膜层。控制活动部22转动，活动部22转动能够带动喷头21的摆动，喷头21摆动则会规律的改变蒸镀材料的喷出方向。在喷头21的摆动过程中持续喷出蒸镀材料，能够扩大喷头21喷出的蒸镀材料所能够覆盖的区域，并使得经过喷头21喷出的蒸镀材料在待蒸镀基板上均匀的沉积以形成蒸镀膜层。

进一步的，如图9所示，当蒸镀喷嘴20至少排列为两排时，控制活动部22转动具体为：S201、控制同一排的多个活动部22沿第一方向转动，控制相邻排的多个活动部22沿第一方向或与第一方向相反的第二方向转动。

此处需要说明的是，当蒸镀喷嘴20为直线往复式摆动方式时，在一个摆动周期内，包括相差180°的两个方向的运动，此时第一方向指的是其中一个方向，第二方向指的是与第一方向相差180°的第二个方向。当蒸镀喷嘴20为锥摆式摆动时，在一个摆动周期内，喷头21的运动轨迹为一个圆，此时第一方向指的是沿顺时针方向形成圆的轨迹，第二方向指的是沿逆时针方向形成圆的轨迹，或者，第一方向指的是沿逆时针方向形成圆的轨迹，第二方向指的是沿顺时针方向形成圆的轨迹。

当蒸镀喷嘴20至少排列为两排时，控制同一排的多个活动部22均沿第一方向转动，以使得同一排的多个喷头21以相同的路径、相同的速度、相同的轨迹摆动，控制相邻排的多个活动部22沿第一方向转动，这样一来，多排蒸镀喷嘴20的摆动路径、摆动速度、摆动方向均相同。或者，控制相邻排的多个活动部22沿第二方向转动，以使得相邻两排喷头21之间的摆动路径相同、速度相同、运动方向相反。上述两种方式可根据待蒸镀基板的具体需要进行选择，均能够进一步使得待蒸镀基板上各处沉积的蒸镀材料厚度均匀。

以上所述，仅为本发明的具体实施方式，但本发明的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内，可轻易想到变化或替换，都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此，本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (10)

1.一种蒸镀源，其特征在于，包括蒸镀坩埚，还包括设置在所述蒸镀坩埚出口侧的多个蒸镀喷嘴，多个所述蒸镀喷嘴至少排列为一排；

所述蒸镀坩埚内部包括有蒸镀材料空腔，所述蒸镀坩埚出口侧的侧壁设置有连通所述蒸镀材料空腔的贯通腔，所述蒸镀喷嘴包括喷头以及与所述喷头固定连接的活动部，所述喷头通过所述贯通腔与所述蒸镀材料空腔相连通，所述活动部设置于所述贯通腔内并可在所述贯通腔内转动，以使得所述喷头在所述活动部的带动下摆动。

2.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述活动部为活动轴，所述活动轴一端设置于所述贯通腔侧壁、另一端固定连接在所述喷头侧壁上，所述活动轴平行于所述蒸镀坩埚出口侧所在的平面。

3.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，所述活动部为活动球，所述活动球内部中空且表面加工有开口，所述喷头通过所述活动球与所述蒸镀材料空腔相连通；

其中，所述活动球的直径大于所述贯通腔在所述蒸镀坩埚出口侧上、下表面的直径且小于所述贯通腔在所述蒸镀坩埚出口侧中心横截面的直径。

4.根据权利要求2或3所述的蒸镀源，其特征在于，所述蒸镀喷嘴的最大摆动角度小于等于90°。

5.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，相邻两个所述蒸镀喷嘴的间距设置为10mm-200mm。

6.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，多个所述蒸镀喷嘴至少排列为两排时，相邻两排的所述蒸镀喷嘴交错设置。

7.根据权利要求1所述的蒸镀源，其特征在于，还包括控制器，所述控制器分别与每一个所述蒸镀喷嘴相连接，分别控制每一个所述蒸镀喷嘴的活动部在所述贯通腔内的转动。

8.一种蒸镀装置，其特征在于，包括权利要求1-7任一项所述的蒸镀源。

9.一种蒸镀方法，应用于权利要求8所述的蒸镀装置，其特征在于，包括，

加热蒸镀坩埚，使所述蒸镀坩埚内的蒸镀材料受热气化；

控制活动部转动，以使得喷头在所述活动部的带动下摆动。

10.根据权利要求9所述的蒸镀方法，其特征在于，当所述蒸镀喷嘴至少排列为两排时，所述控制活动部转动具体为：

控制同一排的多个所述活动部沿第一方向转动，控制相邻排的多个所述活动部沿所述第一方向或与所述第一方向相反的第二方向转动。