CN108539037A - 一种oeld显示器件 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种OELD显示器件，包括基底；基底上的平坦层、内侧挡墙及外侧挡墙；平坦层上的多个发光构件及像素定义层，发光构件容纳于像素定义层上凹槽中；覆盖于像素定义层和发光构件上的第一无机层，第一无机层延伸至内侧挡墙并覆盖；设置于第一无机层上的有机层，有机层延伸至内侧挡墙和像素定义层之间，延伸长度小于第一无机层；覆盖于有机层、第一无机层、外侧挡墙及基底上的第二无机层，第二无机层因外侧挡墙的第一及第二侧面之中有至少一个与基底形成锐角，使得其以外侧挡墙为断点呈不连续性连接。实施本发明，通过外侧挡墙使最外层无机层具有不连续性来确保切割产生的机械应力被中断，防止切割带来的膜层断裂，并保证产品表面粗糙度。
Description
技术领域
本发明涉及柔性显示技术领域，尤其涉及一种OELD显示器件。
背景技术
有机发光二极管（OLED）具有响应速度快、温度适用范围广、自发光、可以实现柔性显示等优点，被誉为继CRT、LCD、LED之后的第三代显示技术。随着市场需求的不断增加，柔性OLED的研发与生产成为目前显示行业发展的热门领域。然而，由于有机材料对外界水氧特别敏感，因此柔性封装直接关系到OLED的显示寿命，也是制约OLED发展的瓶颈之一。
目前，柔性封装主要采用无机/有机/无机的叠层结构，要求不但要实现充分阻隔外界水氧的侵蚀，而且要能有效的覆盖生产过程中无法避免的颗粒污染物、缓冲弯曲、折叠过程中的应力。封装结构中的有机层通常利用闪蒸、喷墨打印（IJP）等技术实现，其中IJP的方法虽然封装时间更短，并且平坦化效果优异，但是有机层涂覆使用的单体因流动性较好而容易导致其边界不能很好的控制，因此通常会采用在显示区域外围制作挡墙（dam）的方式来阻挡有机层的单体流动。为了完全阻挡有机层的单体流动，会至少制作两个挡墙，这就要求封装结构制作时最外层无机层边界至少要超过最外围的挡墙边缘，才能保证边缘不会很快水氧入侵。然而，对窄边框的设计是不利的，主要因为制备最外层无机层时采用整面镀膜的方式形成连续性连接的膜层，因而在窄边框制作时切割所产生的机械应力会持续传递使得最外层无机层边缘开裂，从而影响产品表面粗糙度。
发明内容
本发明实施例所要解决的技术问题在于，提供一种OELD显示器件，通过外侧挡墙使得最外层无机层具有不连续性而确保切割所产生的机械应力会被有效中断，能够有效的防止切割带来的膜层断裂，并保证产品表面粗糙度。
为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种OELD显示器件，包括：
基底；
设置于所述基底上的平坦层、外侧挡墙以及位于所述平坦层和所述外侧挡墙之间的内侧挡墙；其中，所述外侧挡墙上形成有朝向所述平坦层方向的第一侧面以及远离所述平坦层方向的第二侧面，且所述第一侧面和所述第二侧面之中至少有一个与所述基底之间形成一定锐角的关系；
设置于所述平坦层上的多个发光构件以及像素定义层；其中，每一所述发光构件均容纳于所述像素定义层上形成的对应凹槽中；
覆盖于所述像素定义层和每一所述发光构件上的第一无机层，所述第一无机层延伸至所述内侧挡墙并覆盖所述内侧挡墙；
设置于所述第一无机层上的有机层，所述有机层延伸至所述内侧挡墙和所述像素定义层之间，且所述有机层的延伸长度小于所述第一无机层的长度；以及
设置于所述有机层、所述第一无机层、所述外侧挡墙及所述基底上的第二无机层；其中，所述第二无机层因所述外侧挡墙在所述第一侧面和第二侧面之中至少一个与所述基底之间形成一定锐角的关系，使得其以所述外侧挡墙为断点呈不连续性连接状态。
其中，所述外侧挡墙为倒梯形柱体，且其上形成的第一侧面和第二侧面均与所述基底之间形成小于等于45度的锐角。
其中，所述外侧挡墙的高度位于[0.01um，3um]之间，宽度位于[5um，50um]之间。
其中，所述内侧挡墙和所述外侧挡墙具有相同的结构。
其中，所述内侧挡墙和所述外侧挡墙所采用的制作材质均包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
其中，所述有机层的厚度位于[4um，10um]之间，且所采用的制作材质包括丙烯酸脂、六甲基二甲硅醚、聚丙烯酸酯类、聚碳酸脂类和聚苯乙烯。
其中，所述第一无机层和所述第二无机层的厚度均位于[0.1um，2um]之间，且所采用的制作材质包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
其中，每一所述发光构件均包括阳极及其上设置的有机发光层。
其中，所述有机发光层包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极和位于所述阴极上的光程调节层。
其中，所述基底为TFT阵列基板。
实施本发明实施例，具有如下有益效果：
本发明通过外侧挡墙使得最外层无机层（即第二无机层）具有不连续性来确保切割所产生的机械应力会被有效中断，从而能够有效的防止切割带来的膜层断裂，并保证产品表面粗糙度，有利于窄边框产品的开发设计。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，根据这些附图获得其他的附图仍属于本发明的范畴。
图1为本发明实施例提供的一种OELD显示器件的剖面结构示意图；
图2为图1中外侧挡墙与基底之间所成夹角的局部平面示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述。
如图1所示，为本发明实施例一中，提供的一种OELD显示器件，包括：
基底10；
设置于基底10上的平坦层20、外侧挡墙25以及位于平坦层20和外侧挡墙25之间的内侧挡墙24；其中，外侧挡墙25上形成有朝向平坦层20方向的第一侧面251以及远离平坦层20方向的第二侧面252，且第一侧面251和第二侧面252之中至少有一个与基底10之间形成一定锐角的关系；
设置于平坦层20上的多个发光构件21以及像素定义层22；其中，每一发光构件21均容纳于像素定义层22上形成的对应凹槽221中；
覆盖于像素定义层22和每一发光构件21上的第一无机层26，该第一无机层26延伸至内侧挡墙24并覆盖内侧挡墙24；
设置于第一无机层26上的有机层27，该有机层27延伸至内侧挡墙24和像素定义层22之间，且有机层27的延伸长度小于第一无机层26的长度；以及
设置于有机层27、第一无机层26、外侧挡墙25及基底10上的第二无机层28；其中，第二无机层28因外侧挡墙25在第一侧面251和第二侧面252之中至少一个侧面与基底10之间形成一定锐角的关系，使得其以外侧挡墙25为断点呈不连续性连接状态。
可以理解的是，图1中OLED器件以发光构件21、内侧挡墙24及外侧挡墙25为分界点，划分出四个区域，分别为显示区D、对应于内侧挡墙24至显示区D的第一封装区C、对应于外侧挡墙25至内侧挡墙24的第二封装区B以及对应于基底10远离显示区D一侧的边缘至外侧挡墙25的第三封装区A。此时，发光构件21等元器件设置在显示区D，有机层27限制于第一封装区C，第二无机层28在第二封装区B和第三封装区A进行分段。因此在窄边框制作时，对第三封装区A进行切割时所产生的机械应力会在外侧挡墙25处中断，最多只能使第二无机层28位于第三封装区A的分段边缘开裂，从而确保第二封装区B、第一封装区A及显示区D上的分段完整，有利于窄边框产品的开发设计。
应当说明的是，第二无机层28采用整面镀膜方式直接涂抹，无需通过掩膜板，有利于产品表面粗糙度的有效性以及窄边框OLED开发，可普遍适用于可弯曲、折叠以及卷曲OLED器件领域。
在本发明实施例一中，外侧挡墙25有多种结构，包括倒梯形柱体、椭圆体等只需满足第一侧面251和第二侧面252之中有至少一个与基底10之间形成小于等于45度的锐角即可。在一个实施例中，如图2所示，外侧挡墙25为倒梯形柱体，其朝向平坦层20方向的侧面（即第一侧面251）和远离平坦层20方向的侧面（即第二侧面252）均与基底10之间形成小于等于45度的锐角。
为了满足制程要求，外侧挡墙25的高度位于[0.01um，3um]之间，宽度位于[5um，50um]之间。
当然，为了进一步中断切割应力的传递，内侧挡墙24和外侧挡墙25具有相同的结构，即内侧挡墙24上形成朝向平坦层20方向的第三侧面和远离平坦层20方向的第四侧面，且其上形成的第三侧面和第四侧面之中有至少一个与基底10之间形成小于等于45度的锐角，这样就能进一步在内侧挡墙24上中断切割所产生的机械应力的传递，增强防范切割所产生的机械应力给第二无机层28带来膜的层断裂风险，同时也可以防范切割所产生的机械应力给第一无机层26带来的膜层断裂风险。
在本发明实施例一中，内侧挡墙24和外侧挡墙25所采用的制作材质均包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
在本发明实施例一中，有机层27的厚度位于[4um，10um]之间，且所采用的制作材质包括丙烯酸脂、六甲基二甲硅醚、聚丙烯酸酯类、聚碳酸脂类和聚苯乙烯，并通过喷墨打印、等离子体增强化学的气相沉积法等方式制备得到。第一无机层26和第二无机层28的厚度均位于[0.1um，2um]之间，且所采用的制作材质包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯，并通过等离子体增强化学的气相沉积法、原子层沉积或物理气相沉积法等方法制备得到。
在本发明实施例一中，每一发光构件均包括阳极211及其上设置的有机发光层212，且有机发光层212包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极和位于所述阴极上的光程调节层。
在本发明实施例一中，基底10为TFT阵列基板，该基板10可以为TFT阵列基板，包括衬底基板及其上的驱动电路。
实施本发明实施例，具有如下有益效果：
本发明通过外侧挡墙使得最外层无机层（即第二无机层）具有不连续性来确保切割所产生的机械应力会被有效中断，从而能够有效的防止切割带来的膜层断裂，并保证产品表面粗糙度，有利于窄边框产品的开发设计。
以上所揭露的仅为本发明一种较佳实施例而已，当然不能以此来限定本发明之权利范围，因此依本发明权利要求所作的等同变化，仍属本发明所涵盖的范围。
Claims (10)
1.一种OELD显示器件，其特征在于，包括：
基底（10）；
设置于所述基底（10）上的平坦层（20）、外侧挡墙（25）以及位于所述平坦层（20）和所述外侧挡墙（25）之间的内侧挡墙（24）；其中，所述外侧挡墙（25）上形成有朝向所述平坦层（20）方向的第一侧面（251）以及远离所述平坦层（20）方向的第二侧面（252），且所述第一侧面（251）和所述第二侧面（252）之中至少有一个与所述基底（10）之间形成一定锐角的关系；
设置于所述平坦层（20）上的多个发光构件（21）以及像素定义层（22）；其中，每一所述发光构件（21）均容纳于所述像素定义层（22）上形成的对应凹槽（221）中；
覆盖于所述像素定义层（22）和每一所述发光构件（21）上的第一无机层（26），所述第一无机层（26）延伸至所述内侧挡墙（24）并覆盖所述内侧挡墙（24）；
设置于所述第一无机层（26）上的有机层（27），所述有机层（27）延伸至所述内侧挡墙（24）和所述像素定义层（22）之间，且所述有机层（27）的延伸长度小于所述第一无机层（26）的长度；以及
设置于所述有机层（27）、所述第一无机层（26）、所述外侧挡墙（25）及所述基底（10）上的第二无机层（28）；其中，所述第二无机层（28）因所述外侧挡墙（25）在所述第一侧面（251）和所述第二侧面（252）之中至少有一个与所述基底（10）之间形成一定锐角的关系，使得其以所述外侧挡墙（25）为断点呈不连续性连接状态。
2.如利要求1所述的OELD显示器件，其特征在于，所述外侧挡墙（25）为倒梯形柱体，其上形成的第一侧面（251）和第二侧面（252）均与所述基底（10）之间形成小于等于45度的锐角。
3.如权利要求2所述的OELD显示器件，其特征在于，所述外侧挡墙（25）的高度位于[0.01um，3um]之间，宽度位于[5um，50um]之间。
4.如权利要求3所述的OELD显示器件，其特征在于，所述内侧挡墙（24）和所述外侧挡墙（25）具有相同的结构。
5.如权利要求4所述的OELD显示器件，其特征在于，所述内侧挡墙（24）和所述外侧挡墙（25）所采用的制作材质均包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
6.如权利要求5所述的OELD显示器件，其特征在于，所述有机层（27）的厚度位于[4um，10um]之间，且所采用的制作材质包括丙烯酸脂、六甲基二甲硅醚、聚丙烯酸酯类、聚碳酸脂类和聚苯乙烯。
7.如权利要求6所述的OELD显示器件，其特征在于，所述第一无机层（26）和所述第二无机层（28）的厚度均位于[0.1um，2um]之间，且所采用的制作材质包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
8.如权利要求7所述的OELD显示器件，其特征在于，每一所述发光构件均包括阳极（211）及其上设置的有机发光层（212）。
9.如权利要求8所述的OELD显示器件，其特征在于，所述有机发光层（220）包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极和位于所述阴极上的光程调节层。
10.如权利要求9所述的OELD显示器件，其特征在于，所述基底（10）为TFT阵列基板。
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