WO2019165658A1 - 一种oled显示器件 - Google Patents

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WO2019165658A1
WO2019165658A1 PCT/CN2018/080854 CN2018080854W WO2019165658A1 WO 2019165658 A1 WO2019165658 A1 WO 2019165658A1 CN 2018080854 W CN2018080854 W CN 2018080854W WO 2019165658 A1 WO2019165658 A1 WO 2019165658A1
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retaining wall
outer retaining
substrate
display device
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English (en)
French (fr)
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黄静
徐湘伦
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武汉华星光电半导体显示技术有限公司
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    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
    • H10K59/80—Constructional details
    • H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations
    • H10K59/873—Encapsulations
    • H—ELECTRICITY
    • H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10K—ORGANIC ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES
    • H10K59/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one organic light-emitting element covered by group H10K50/00
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    • H10K59/87—Passivation; Containers; Encapsulations

Definitions

  • the present invention relates to the field of flexible display technologies, and in particular, to an OLED display device.
  • OLED Organic light-emitting diode
  • LCD liquid crystal display
  • LED Organic light-emitting diode
  • the flexible package mainly adopts an inorganic/organic/inorganic laminate structure, which requires not only to fully shield the external water and oxygen, but also to effectively cover the particle contaminants, buffer bending and folding processes that cannot be avoided in the production process. Stress.
  • the organic layer in the package structure is usually realized by flash evaporation, inkjet printing (IJP), etc., wherein the IJP method has a shorter packaging time and an excellent planarization effect, but the monomer used for coating the organic layer is more fluid. It is easy to cause the boundary to be not well controlled, so the dam is usually formed on the periphery of the display area to block the monomer flow of the organic layer.
  • the design of the narrow bezel is disadvantageous, mainly because the continuous-bonded film layer is formed by the full-surface coating when the outermost inorganic layer is prepared, so that the mechanical stress generated by the cutting during the narrow bezel production is continuously transmitted. The edge of the outermost inorganic layer is cracked, which affects the surface roughness of the product.
  • the technical problem to be solved by the embodiments of the present invention is to provide an OLED display device, which has the discontinuity of the outermost inorganic layer through the outer retaining wall, thereby ensuring that the mechanical stress generated by the cutting is effectively interrupted, and the cutting can be effectively prevented.
  • the film layer is broken and the surface roughness of the product is guaranteed.
  • an OLED display device including:
  • the outer retaining wall is formed with a direction toward the flat layer a side surface and a second side surface away from the flat layer direction, and at least one of the first side surface and the second side surface forms an acute angle relationship with the substrate;
  • each of the light emitting members is received in a corresponding recess formed on the pixel defining layer;
  • first inorganic layer covering the pixel defining layer and each of the light emitting members, the first inorganic layer extending to the inner retaining wall and covering the inner retaining wall;
  • An organic layer disposed on the first inorganic layer, the organic layer extending between the inner retaining wall and the pixel defining layer, and an extended length of the organic layer is less than a length of the first inorganic layer ;as well as
  • a second inorganic layer disposed on the organic layer, the first inorganic layer, the outer retaining wall, and the substrate; wherein the second inorganic layer is on the first side due to the outer retaining wall At least one of the second side and the base form an acute angle relationship such that the outer retaining wall has a discontinuous connection state with the outer retaining wall as a break point.
  • the outer retaining wall is an inverted trapezoidal cylinder, and the first side and the second side formed thereon form an acute angle of less than or equal to 45 degrees with the base.
  • the height of the outer retaining wall is between [0.01 um, 3 um] and the width is between [5 um, 50 um].
  • the inner retaining wall and the outer retaining wall have the same structure.
  • the inner retaining wall and the outer retaining wall are made of epoxy resin, polyimide and polymethyl methacrylate.
  • the thickness of the organic layer is between [4um, 10um], and the materials used include acrylate, hexamethyldisiloxane, polyacrylate, polycarbonate and polystyrene.
  • the thickness of the first inorganic layer and the second inorganic layer are both between [0.1 um, 2 um], and the materials used include epoxy resin, polyimide and polymethyl methacrylate. .
  • each of the light emitting members includes an anode and an organic light emitting layer disposed thereon.
  • the organic light-emitting layer includes a hole injection layer, a hole transport layer, a light-emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, a cathode, and an optical path adjustment layer on the cathode.
  • the substrate is a TFT array substrate.
  • an embodiment of the present invention further provides another OLED display device, including:
  • the outer retaining wall is formed with a direction toward the flat layer a side surface and a second side surface away from the flat layer direction, and at least one of the first side surface and the second side surface forms an acute angle relationship with the substrate;
  • each of the light emitting members is received in a corresponding recess formed on the pixel defining layer;
  • first inorganic layer covering the pixel defining layer and each of the light emitting members, the first inorganic layer extending to the inner retaining wall and covering the inner retaining wall;
  • An organic layer disposed on the first inorganic layer, the organic layer extending between the inner retaining wall and the pixel defining layer, and an extended length of the organic layer is less than a length of the first inorganic layer ;as well as
  • a second inorganic layer disposed on the organic layer, the first inorganic layer, the outer retaining wall, and the substrate; wherein the second inorganic layer is on the first side due to the outer retaining wall And at least one of the second sides forms an acute angle relationship with the substrate such that the outer retaining wall is in a discontinuous connection state with the outer retaining wall as a break point;
  • outer retaining wall is an inverted trapezoidal cylinder, and the first side and the second side formed thereon form an acute angle of less than or equal to 45 degrees with the base;
  • the inner retaining wall and the outer retaining wall have the same structure.
  • the inner retaining wall and the outer retaining wall are made of epoxy resin, polyimide and polymethyl methacrylate.
  • the thickness of the organic layer is between [4um, 10um], and the materials used include acrylate, hexamethyldisiloxane, polyacrylate, polycarbonate and polystyrene.
  • the thickness of the first inorganic layer and the second inorganic layer are both between [0.1 um, 2 um], and the materials used include epoxy resin, polyimide and polymethyl methacrylate. .
  • each of the light emitting members includes an anode and an organic light emitting layer disposed thereon.
  • the organic light-emitting layer includes a hole injection layer, a hole transport layer, a light-emitting layer, an electron transport layer, an electron injection layer, a cathode, and an optical path adjustment layer on the cathode.
  • the substrate is a TFT array substrate.
  • the embodiment of the present invention further provides another OLED display device, including:
  • the outer retaining wall is formed with a direction toward the flat layer a side surface and a second side surface away from the flat layer direction, and at least one of the first side surface and the second side surface forms an acute angle relationship with the substrate;
  • each of the light emitting members is received in a corresponding recess formed on the pixel defining layer;
  • first inorganic layer covering the pixel defining layer and each of the light emitting members, the first inorganic layer extending to the inner retaining wall and covering the inner retaining wall;
  • An organic layer disposed on the first inorganic layer, the organic layer extending between the inner retaining wall and the pixel defining layer, and an extended length of the organic layer is less than a length of the first inorganic layer ;as well as
  • a second inorganic layer disposed on the organic layer, the first inorganic layer, the outer retaining wall, and the substrate; wherein the second inorganic layer is on the first side due to the outer retaining wall And at least one of the second sides forms an acute angle relationship with the substrate such that the outer retaining wall is in a discontinuous connection state with the outer retaining wall as a break point;
  • the height of the outer retaining wall is between [0.01 um, 3 um] and the width is between [5 um, 50 um];
  • the inner retaining wall and the outer retaining wall are made of epoxy resin, polyimide and polymethyl methacrylate.
  • the thickness of the organic layer is between [4um, 10um], and the materials used include acrylate, hexamethyldisiloxane, polyacrylate, polycarbonate and polystyrene.
  • the thickness of the first inorganic layer and the second inorganic layer are both between [0.1 um, 2 um], and the materials used include epoxy resin, polyimide and polymethyl methacrylate. .
  • the present invention ensures that the mechanical stress generated by the cutting is effectively interrupted by the discontinuity of the outermost inorganic layer (ie, the second inorganic layer) by the outer retaining wall, thereby being effective. Preventing the breakage of the film layer caused by cutting and ensuring the surface roughness of the product is conducive to the development and design of narrow frame products.
  • FIG. 1 is a schematic cross-sectional structural view of an OLED display device according to an embodiment of the present invention.
  • FIG. 2 is a partial plan view showing the angle formed between the outer retaining wall and the base of FIG.
  • an OLED display device provided in the first embodiment of the present invention includes:
  • the outer retaining wall 25 is formed with a first side facing the flat layer 20 251 and a second side 252 away from the flat layer 20, and at least one of the first side 251 and the second side 252 forms an acute angle relationship with the substrate 10;
  • each of the light emitting members 21 is received in a corresponding recess 221 formed on the pixel defining layer 22;
  • a second inorganic layer 28 disposed on the organic layer 27, the first inorganic layer 26, the outer retaining wall 25, and the substrate 10; wherein the second inorganic layer 28 is on the first side 251 and the second side 252 due to the outer retaining wall 25 At least one of the sides forms an acute angle relationship with the substrate 10 such that it is in a discontinuous connection state with the outer retaining wall 25 as a break point.
  • the OLED device of FIG. 1 is divided into four regions by the light-emitting member 21, the inner retaining wall 24 and the outer retaining wall 25, which are respectively the display region D and correspond to the inner retaining wall 24 to the display region D.
  • components such as the light-emitting member 21 are disposed in the display region D, the organic layer 27 is restricted to the first package region C, and the second inorganic layer 28 is segmented in the second package region B and the third package region A.
  • the mechanical stress generated when the third encapsulation area A is cut may be interrupted at the outer retaining wall 25, and at most the second inorganic layer 28 may be cracked at the segment edge of the third encapsulation area A. Therefore, the segmentation on the second package area B, the first package area A and the display area D is complete, which is beneficial to the development and design of the narrow frame product.
  • the second inorganic layer 28 is directly applied by the whole surface coating method, and does not need to pass through the mask plate, which is beneficial to the effectiveness of the surface roughness of the product and the development of the narrow-frame OLED, and is generally applicable to the bendable, folded and crimped OLED. Device field.
  • the outer retaining wall 25 has various structures, including an inverted trapezoidal cylinder, an ellipsoid, and the like, and only needs to satisfy at least one of the first side surface 251 and the second side surface 252 to form a smaller space between the base surface 10 and the base surface 10. It can be an acute angle equal to 45 degrees.
  • the outer retaining wall 25 is an inverted trapezoidal cylinder having a side facing the flat layer 20 (ie, the first side 251) and a side away from the flat layer 20 (ie, the second side) 252) forms an acute angle of less than or equal to 45 degrees with the substrate 10.
  • the height of the outer retaining wall 25 is between [0.01 um, 3 um] and the width is between [5 um, 50 um].
  • the inner retaining wall 24 and the outer retaining wall 25 have the same structure, that is, the inner side retaining wall 24 forms a third side facing the flat layer 20 and a fourth side away from the flat layer 20. And at least one of the third side surface and the fourth side surface formed thereon forms an acute angle of less than or equal to 45 degrees with the substrate 10, so that the mechanical stress transmission caused by the cutting can be further interrupted on the inner side retaining wall 24.
  • the mechanical stress generated by the anti-cutting is enhanced to bring the risk of layer breakage of the film to the second inorganic layer 28, and the risk of film breakage caused by the mechanical stress generated by the cutting to the first inorganic layer 26 can also be prevented.
  • the inner retaining wall 24 and the outer retaining wall 25 are made of epoxy resin, polyimide and polymethyl methacrylate.
  • the thickness of the organic layer 27 is between [4 um, 10 um], and the materials used include acrylate, hexamethyldisiloxane, polyacrylates, polycarbonates, and Polystyrene is prepared by ink jet printing, plasma enhanced chemical vapor deposition, and the like.
  • the thicknesses of the first inorganic layer 26 and the second inorganic layer 28 are both between [0.1 um, 2 um], and the materials used include epoxy resin, polyimide, and polymethyl methacrylate, and pass plasma. Prepared by methods such as vapor phase deposition, atomic layer deposition or physical vapor deposition.
  • each of the light-emitting members includes an anode 211 and an organic light-emitting layer 212 disposed thereon, and the organic light-emitting layer 212 includes a hole injection layer, a hole transport layer, a light-emitting layer, an electron transport layer, and an electron.
  • the substrate 10 is a TFT array substrate, and the substrate 10 may be a TFT array substrate, including a substrate substrate and a driving circuit thereon.
  • the embodiments of the present invention have the following beneficial effects: the present invention ensures discontinuity of the outermost inorganic layer (ie, the second inorganic layer) by the outer retaining wall to ensure that the mechanical stress generated by the cutting is effectively interrupted. Therefore, the film layer breakage caused by the cutting can be effectively prevented, and the surface roughness of the product can be ensured, which is beneficial to the development and design of the narrow frame product.

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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

一种OLED显示器件，包括基底（10）；基底（10）上的平坦层（20）、内侧挡墙（24）及外侧挡墙（25）；平坦层（20）上的多个发光构件（21）及像素定义层（22），发光构件（21）容纳于像素定义层（22）上的凹槽（221）中；覆盖于像素定义层（22）和发光构件（21）上的第一无机层（26），第一无机层（26）延伸至内侧挡墙（24）并覆盖；设置于第一无机层（26）上的有机层（27），有机层（27）延伸至内侧挡墙（24）和像素定义层（22）之间，延伸长度小于第一无机层（26）；覆盖于有机层（27）、第一无机层（26）、外侧挡墙（25）及基底（10）上的第二无机层（28），第二无机层（28）因外侧挡墙（25）的第一及第二侧面（251,252）之中有至少一个与基底（10）形成锐角，使得其以外侧挡墙（25）为断点呈不连续性连接。这种不连续性确保切割产生的机械应力被中断，防止切割带来的膜层断裂，并保证产品表面粗糙度。

Description

一种OLED显示器件
本申请要求于2018年2月27日提交中国专利局、申请号为201810162851.4、发明名称为“一种OLED显示器件”的中国专利申请的优先权，上述专利的全部内容通过引用结合在本申请中。
技术领域
本发明涉及柔性显示技术领域，尤其涉及一种OLED显示器件。
背景技术
有机发光二极管(OLED)具有响应速度快、温度适用范围广、自发光、可以实现柔性显示等优点，被誉为继CRT、LCD、LED之后的第三代显示技术。随着市场需求的不断增加，柔性OLED的研发与生产成为目前显示行业发展的热门领域。然而，由于有机材料对外界水氧特别敏感，因此柔性封装直接关系到OLED的显示寿命，也是制约OLED发展的瓶颈之一。
目前，柔性封装主要采用无机/有机/无机的叠层结构，要求不但要实现充分阻隔外界水氧的侵蚀，而且要能有效的覆盖生产过程中无法避免的颗粒污染物、缓冲弯曲、折叠过程中的应力。封装结构中的有机层通常利用闪蒸、喷墨打印(IJP)等技术实现，其中IJP的方法虽然封装时间更短，并且平坦化效果优异，但是有机层涂覆使用的单体因流动性较好而容易导致其边界不能很好的控制，因此通常会采用在显示区域外围制作挡墙(dam)的方式来阻挡有机层的单体流动。为了完全阻挡有机层的单体流动，会至少制作两个挡墙，这就要求封装结构制作时最外层无机层边界至少要超过最外围的挡墙边缘，才能保证边缘不会很快水氧入侵。然而，对窄边框的设计是不利的，主要因为制备最外层无机层时采用整面镀膜的方式形成连续性连接的膜层， 因而在窄边框制作时切割所产生的机械应力会持续传递使得最外层无机层边缘开裂，从而影响产品表面粗糙度。
发明内容
本发明实施例所要解决的技术问题在于，提供一种OLED显示器件，通过外侧挡墙使得最外层无机层具有不连续性而确保切割所产生的机械应力会被有效中断，能够有效的防止切割带来的膜层断裂，并保证产品表面粗糙度。
为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种OLED显示器件，包括：
基底；
设置于所述基底上的平坦层、外侧挡墙以及位于所述平坦层和所述外侧挡墙之间的内侧挡墙；其中，所述外侧挡墙上形成有朝向所述平坦层方向的第一侧面以及远离所述平坦层方向的第二侧面，且所述第一侧面和所述第二侧面之中至少有一个与所述基底之间形成一定锐角的关系；
设置于所述平坦层上的多个发光构件以及像素定义层；其中，每一所述发光构件均容纳于所述像素定义层上形成的对应凹槽中；
覆盖于所述像素定义层和每一所述发光构件上的第一无机层，所述第一无机层延伸至所述内侧挡墙并覆盖所述内侧挡墙；
设置于所述第一无机层上的有机层，所述有机层延伸至所述内侧挡墙和所述像素定义层之间，且所述有机层的延伸长度小于所述第一无机层的长度；以及
设置于所述有机层、所述第一无机层、所述外侧挡墙及所述基底上的第二无机层；其中，所述第二无机层因所述外侧挡墙在所述第一侧面和第二侧面之中至少一个与所述基底之间形成一定锐角的关系，使得其以所述外侧挡墙为断点呈不连续性连接状态。
其中，所述外侧挡墙为倒梯形柱体，且其上形成的第一侧面和第二侧面均与所述基底之间形成小于等于45度的锐角。
其中，所述外侧挡墙的高度位于[0.01um，3um]之间，宽度位于[5um，50um]之间。
其中，所述内侧挡墙和所述外侧挡墙具有相同的结构。
其中，所述内侧挡墙和所述外侧挡墙所采用的制作材质均包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
其中，所述有机层的厚度位于[4um，10um]之间，且所采用的制作材质包括丙烯酸脂、六甲基二甲硅醚、聚丙烯酸酯类、聚碳酸脂类和聚苯乙烯。
其中，所述第一无机层和所述第二无机层的厚度均位于[0.1um，2um]之间，且所采用的制作材质包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
其中，每一所述发光构件均包括阳极及其上设置的有机发光层。
其中，所述有机发光层包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极和位于所述阴极上的光程调节层。
其中，所述基底为TFT阵列基板。
相应于，本发明实施例还提供了另一种OLED显示器件，包括：
基底；
设置于所述基底上的平坦层、外侧挡墙以及位于所述平坦层和所述外侧挡墙之间的内侧挡墙；其中，所述外侧挡墙上形成有朝向所述平坦层方向的第一侧面以及远离所述平坦层方向的第二侧面，且所述第一侧面和所述第二侧面之中至少有一个与所述基底之间形成一定锐角的关系；
设置于所述平坦层上的多个发光构件以及像素定义层；其中，每一所述发光构件均容纳于所述像素定义层上形成的对应凹槽中；
覆盖于所述像素定义层和每一所述发光构件上的第一无机层，所述第一无机层延伸至所述内侧挡墙并覆盖所述内侧挡墙；
设置于所述第一无机层上的有机层，所述有机层延伸至所述内侧挡墙和 所述像素定义层之间，且所述有机层的延伸长度小于所述第一无机层的长度；以及
设置于所述有机层、所述第一无机层、所述外侧挡墙及所述基底上的第二无机层；其中，所述第二无机层因所述外侧挡墙在所述第一侧面和所述第二侧面之中至少有一个与所述基底之间形成一定锐角的关系，使得其以所述外侧挡墙为断点呈不连续性连接状态；
其中，所述外侧挡墙为倒梯形柱体，其上形成的第一侧面和第二侧面均与所述基底之间形成小于等于45度的锐角；
其中，所述内侧挡墙和所述外侧挡墙具有相同的结构。
其中，所述内侧挡墙和所述外侧挡墙所采用的制作材质均包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
其中，所述有机层的厚度位于[4um，10um]之间，且所采用的制作材质包括丙烯酸脂、六甲基二甲硅醚、聚丙烯酸酯类、聚碳酸脂类和聚苯乙烯。
其中，所述第一无机层和所述第二无机层的厚度均位于[0.1um，2um]之间，且所采用的制作材质包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
其中，每一所述发光构件均包括阳极及其上设置的有机发光层。
其中，所述有机发光层包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极和位于所述阴极上的光程调节层。
其中，所述基底为TFT阵列基板。
相应于，本发明实施例还提供了又一种OLED显示器件，包括：
基底；
设置于所述基底上的平坦层、外侧挡墙以及位于所述平坦层和所述外侧挡墙之间的内侧挡墙；其中，所述外侧挡墙上形成有朝向所述平坦层方向的第一侧面以及远离所述平坦层方向的第二侧面，且所述第一侧面和所述第二侧面之中至少有一个与所述基底之间形成一定锐角的关系；
设置于所述平坦层上的多个发光构件以及像素定义层；其中，每一所述 发光构件均容纳于所述像素定义层上形成的对应凹槽中；
覆盖于所述像素定义层和每一所述发光构件上的第一无机层，所述第一无机层延伸至所述内侧挡墙并覆盖所述内侧挡墙；
设置于所述第一无机层上的有机层，所述有机层延伸至所述内侧挡墙和所述像素定义层之间，且所述有机层的延伸长度小于所述第一无机层的长度；以及
设置于所述有机层、所述第一无机层、所述外侧挡墙及所述基底上的第二无机层；其中，所述第二无机层因所述外侧挡墙在所述第一侧面和所述第二侧面之中至少有一个与所述基底之间形成一定锐角的关系，使得其以所述外侧挡墙为断点呈不连续性连接状态；
其中，所述外侧挡墙的高度位于[0.01um，3um]之间，宽度位于[5um，50um]之间；
其中，所述内侧挡墙和所述外侧挡墙具有相同的结构；
其中，所述内侧挡墙和所述外侧挡墙所采用的制作材质均包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
其中，所述有机层的厚度位于[4um，10um]之间，且所采用的制作材质包括丙烯酸脂、六甲基二甲硅醚、聚丙烯酸酯类、聚碳酸脂类和聚苯乙烯。
其中，所述第一无机层和所述第二无机层的厚度均位于[0.1um，2um]之间，且所采用的制作材质包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
实施本发明实施例具有如下有益效果：本发明通过外侧挡墙使得最外层无机层(即第二无机层)具有不连续性来确保切割所产生的机械应力会被有效中断，从而能够有效的防止切割带来的膜层断裂，并保证产品表面粗糙度，有利于窄边框产品的开发设计。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面 描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明实施例提供的一种OLED显示器件的剖面结构示意图；
图2为图1中外侧挡墙与基底之间所成夹角的局部平面示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本发明作进一步地详细描述。
如图1所示，为本发明实施例一中，提供的一种OLED显示器件，包括：
基底10；
设置于基底10上的平坦层20、外侧挡墙25以及位于平坦层20和外侧挡墙25之间的内侧挡墙24；其中，外侧挡墙25上形成有朝向平坦层20方向的第一侧面251以及远离平坦层20方向的第二侧面252，且第一侧面251和第二侧面252之中至少有一个与基底10之间形成一定锐角的关系；
设置于平坦层20上的多个发光构件21以及像素定义层22；其中，每一发光构件21均容纳于像素定义层22上形成的对应凹槽221中；
覆盖于像素定义层22和每一发光构件21上的第一无机层26，该第一无机层26延伸至内侧挡墙24并覆盖内侧挡墙24；
设置于第一无机层26上的有机层27，该有机层27延伸至内侧挡墙24和像素定义层22之间，且有机层27的延伸长度小于第一无机层26的长度；以及
设置于有机层27、第一无机层26、外侧挡墙25及基底10上的第二无机层28；其中，第二无机层28因外侧挡墙25在第一侧面251和第二侧面252之中至少一个侧面与基底10之间形成一定锐角的关系，使得其以外侧挡墙25为断点呈不连续性连接状态。
可以理解的是，图1中OLED器件以发光构件21、内侧挡墙24及外侧挡墙25为分界点，划分出四个区域，分别为显示区D、对应于内侧挡墙24 至显示区D的第一封装区C、对应于外侧挡墙25至内侧挡墙24的第二封装区B以及对应于基底10远离显示区D一侧的边缘至外侧挡墙25的第三封装区A。此时，发光构件21等元器件设置在显示区D，有机层27限制于第一封装区C，第二无机层28在第二封装区B和第三封装区A进行分段。因此在窄边框制作时，对第三封装区A进行切割时所产生的机械应力会在外侧挡墙25处中断，最多只能使第二无机层28位于第三封装区A的分段边缘开裂，从而确保第二封装区B、第一封装区A及显示区D上的分段完整，有利于窄边框产品的开发设计。
应当说明的是，第二无机层28采用整面镀膜方式直接涂抹，无需通过掩膜板，有利于产品表面粗糙度的有效性以及窄边框OLED开发，可普遍适用于可弯曲、折叠以及卷曲OLED器件领域。
在本发明实施例一中，外侧挡墙25有多种结构，包括倒梯形柱体、椭圆体等只需满足第一侧面251和第二侧面252之中有至少一个与基底10之间形成小于等于45度的锐角即可。在一个实施例中，如图2所示，外侧挡墙25为倒梯形柱体，其朝向平坦层20方向的侧面(即第一侧面251)和远离平坦层20方向的侧面(即第二侧面252)均与基底10之间形成小于等于45度的锐角。
为了满足制程要求，外侧挡墙25的高度位于[0.01um，3um]之间，宽度位于[5um，50um]之间。
当然，为了进一步中断切割应力的传递，内侧挡墙24和外侧挡墙25具有相同的结构，即内侧挡墙24上形成朝向平坦层20方向的第三侧面和远离平坦层20方向的第四侧面，且其上形成的第三侧面和第四侧面之中有至少一个与基底10之间形成小于等于45度的锐角，这样就能进一步在内侧挡墙24上中断切割所产生的机械应力的传递，增强防范切割所产生的机械应力给第二无机层28带来膜的层断裂风险，同时也可以防范切割所产生的机械应力给第一无机层26带来的膜层断裂风险。
在本发明实施例一中，内侧挡墙24和外侧挡墙25所采用的制作材质均包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
在本发明实施例一中，有机层27的厚度位于[4um，10um]之间，且所采用的制作材质包括丙烯酸脂、六甲基二甲硅醚、聚丙烯酸酯类、聚碳酸脂类和聚苯乙烯，并通过喷墨打印、等离子体增强化学的气相沉积法等方式制备得到。第一无机层26和第二无机层28的厚度均位于[0.1um，2um]之间，且所采用的制作材质包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯，并通过等离子体增强化学的气相沉积法、原子层沉积或物理气相沉积法等方法制备得到。
在本发明实施例一中，每一发光构件均包括阳极211及其上设置的有机发光层212，且有机发光层212包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极和位于所述阴极上的光程调节层。
在本发明实施例一中，基底10为TFT阵列基板，该基板10可以为TFT阵列基板，包括衬底基板及其上的驱动电路。
综上所述，实施本发明实施例具有如下有益效果：本发明通过外侧挡墙使得最外层无机层(即第二无机层)具有不连续性来确保切割所产生的机械应力会被有效中断，从而能够有效的防止切割带来的膜层断裂，并保证产品表面粗糙度，有利于窄边框产品的开发设计。
以上内容是结合具体的优选实施方式对本发明所作的进一步详细说明，不能认定本发明的具体实施只局限于这些说明。对于本发明所属技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明构思的前提下，还可以做出若干简单推演或替换，都应当视为属于本发明的保护范围。

Claims (20)

  1. 一种OLED显示器件，其中，包括：
    基底；
    设置于所述基底上的平坦层、外侧挡墙以及位于所述平坦层和所述外侧挡墙之间的内侧挡墙；其中，所述外侧挡墙上形成有朝向所述平坦层方向的第一侧面以及远离所述平坦层方向的第二侧面，且所述第一侧面和所述第二侧面之中至少有一个与所述基底之间形成一定锐角的关系；
    设置于所述平坦层上的多个发光构件以及像素定义层；其中，每一所述发光构件均容纳于所述像素定义层上形成的对应凹槽中；
    覆盖于所述像素定义层和每一所述发光构件上的第一无机层，所述第一无机层延伸至所述内侧挡墙并覆盖所述内侧挡墙；
    设置于所述第一无机层上的有机层，所述有机层延伸至所述内侧挡墙和所述像素定义层之间，且所述有机层的延伸长度小于所述第一无机层的长度；以及
    设置于所述有机层、所述第一无机层、所述外侧挡墙及所述基底上的第二无机层；其中，所述第二无机层因所述外侧挡墙在所述第一侧面和所述第二侧面之中至少有一个与所述基底之间形成一定锐角的关系，使得其以所述外侧挡墙为断点呈不连续性连接状态。
  2. 如利要求1所述的OLED显示器件，其中，所述外侧挡墙为倒梯形柱体，其上形成的第一侧面和第二侧面均与所述基底之间形成小于等于45度的锐角。
  3. 如权利要求2所述的OLED显示器件，其中，所述外侧挡墙的高度位于[0.01um，3um]之间，宽度位于[5um，50um]之间。
  4. 如权利要求3所述的OLED显示器件，其中，所述内侧挡墙和所述外侧挡墙具有相同的结构。
  5. 如权利要求4所述的OLED显示器件，其中，所述内侧挡墙和所述外侧挡墙所采用的制作材质均包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
  6. 如权利要求5所述的OLED显示器件，其中，所述有机层的厚度位于[4um，10um]之间，且所采用的制作材质包括丙烯酸脂、六甲基二甲硅醚、聚丙烯酸酯类、聚碳酸脂类和聚苯乙烯。
  7. 如权利要求6所述的OLED显示器件，其中，所述第一无机层和所述第二无机层的厚度均位于[0.1um，2um]之间，且所采用的制作材质包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
  8. 如权利要求7所述的OLED显示器件，其中，每一所述发光构件均包括阳极及其上设置的有机发光层。
  9. 如权利要求8所述的OLED显示器件，其中，所述有机发光层包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极和位于所述阴极上的光程调节层。
  10. 如权利要求9所述的OLED显示器件，其中，所述基底为TFT阵列基板。
  11. 一种OLED显示器件，其中，包括：
    基底；
    设置于所述基底上的平坦层、外侧挡墙以及位于所述平坦层和所述外侧挡墙之间的内侧挡墙；其中，所述外侧挡墙上形成有朝向所述平坦层方向的第一侧面以及远离所述平坦层方向的第二侧面，且所述第一侧面和所述第二侧面之中至少有一个与所述基底之间形成一定锐角的关系；
    设置于所述平坦层上的多个发光构件以及像素定义层；其中，每一所述发光构件均容纳于所述像素定义层上形成的对应凹槽中；
    覆盖于所述像素定义层和每一所述发光构件上的第一无机层，所述第一无机层延伸至所述内侧挡墙并覆盖所述内侧挡墙；
    设置于所述第一无机层上的有机层，所述有机层延伸至所述内侧挡墙和所述像素定义层之间，且所述有机层的延伸长度小于所述第一无机层的长度；以及
    设置于所述有机层、所述第一无机层、所述外侧挡墙及所述基底上的第二无机层；其中，所述第二无机层因所述外侧挡墙在所述第一侧面和所述第二侧面之中至少有一个与所述基底之间形成一定锐角的关系，使得其以所述外侧挡墙为断点呈不连续性连接状态；
    其中，所述外侧挡墙为倒梯形柱体，其上形成的第一侧面和第二侧面均与所述基底之间形成小于等于45度的锐角；
    其中，所述内侧挡墙和所述外侧挡墙具有相同的结构。
  12. 如权利要求11所述的OLED显示器件，其中，所述内侧挡墙和所述外侧挡墙所采用的制作材质均包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
  13. 如权利要求12所述的OLED显示器件，其中，所述有机层的厚度位于[4um，10um]之间，且所采用的制作材质包括丙烯酸脂、六甲基二甲硅醚、聚丙烯酸酯类、聚碳酸脂类和聚苯乙烯。
  14. 如权利要求13所述的OLED显示器件，其中，所述第一无机层和所述第二无机层的厚度均位于[0.1um，2um]之间，且所采用的制作材质包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
  15. 如权利要求14所述的OLED显示器件，其中，每一所述发光构件均包括阳极及其上设置的有机发光层。
  16. 如权利要求15所述的OLED显示器件，其中，所述有机发光层包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层、电子注入层、阴极和位于所述阴极上的光程调节层。
  17. 如权利要求16所述的OLED显示器件，其中，所述基底为TFT阵列基板。
  18. 一种OLED显示器件，其中，包括：
    基底；
    设置于所述基底上的平坦层、外侧挡墙以及位于所述平坦层和所述外侧挡墙之间的内侧挡墙；其中，所述外侧挡墙上形成有朝向所述平坦层方向的第一侧面以及远离所述平坦层方向的第二侧面，且所述第一侧面和所述第二侧面之中至少有一个与所述基底之间形成一定锐角的关系；
    设置于所述平坦层上的多个发光构件以及像素定义层；其中，每一所述发光构件均容纳于所述像素定义层上形成的对应凹槽中；
    覆盖于所述像素定义层和每一所述发光构件上的第一无机层，所述第一无机层延伸至所述内侧挡墙并覆盖所述内侧挡墙；
    设置于所述第一无机层上的有机层，所述有机层延伸至所述内侧挡墙和所述像素定义层之间，且所述有机层的延伸长度小于所述第一无机层的长度；以及
    设置于所述有机层、所述第一无机层、所述外侧挡墙及所述基底上的第二无机层；其中，所述第二无机层因所述外侧挡墙在所述第一侧面和所述第二侧面之中至少有一个与所述基底之间形成一定锐角的关系，使得其以所述外侧挡墙为断点呈不连续性连接状态；
    其中，所述外侧挡墙的高度位于[0.01um，3um]之间，宽度位于[5um，50um]之间；
    其中，所述内侧挡墙和所述外侧挡墙具有相同的结构；
    其中，所述内侧挡墙和所述外侧挡墙所采用的制作材质均包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
  19. 如权利要求18所述的OLED显示器件，其中，所述有机层的厚度位于[4um，10um]之间，且所采用的制作材质包括丙烯酸脂、六甲基二甲硅醚、聚丙烯酸酯类、聚碳酸脂类和聚苯乙烯。
  20. 如权利要求19所述的OLED显示器件，其中，所述第一无机层和 所述第二无机层的厚度均位于[0.1um，2um]之间，且所采用的制作材质包括环氧树脂、聚酰亚胺和聚甲基丙烯酸甲酯。
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