CN108475141A

CN108475141A - 导电性薄膜及触摸面板

Info

Publication number: CN108475141A
Application number: CN201680078979.1A
Authority: CN
Inventors: 温井克行
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2016-01-22
Filing date: 2016-11-21
Publication date: 2018-08-31
Also published as: WO2017126212A1; US20180307350A1; JPWO2017126212A1

Abstract

本发明提供一种导电性薄膜及具备导电性薄膜的触摸面板，所述导电性薄膜中，与显示装置的显示单元的分辨率无关地波纹和干扰的产生较少，而且不会因由特定角度的入射光产生的金属细线的光泽而妨碍显示图像的识别。导电性薄膜设置于显示装置的显示单元上。所述导电性薄膜具有：第一导电部，其具有由金属细线构成，且排列有多个全等凸五边形的第一开口部的第一布线图案；及第二导电部，相对于第一导电部至少重叠一部分并分开而配置成层状。第二导电部具有由金属细线构成且具备多个开口部的第二布线图案。从将第一导电部和第二导电部重叠而成的层叠方向观察时，由第一导电部的第一布线图案和第二导电部的第二布线图案构成的开口部组中，开口部面积的变动系数小于52％。

Description

导电性薄膜及触摸面板

技术领域

本发明涉及一种配置于显示装置的显示单元上且用作触摸传感器的导电性薄膜及具备该导电性薄膜的触摸面板，尤其涉及一种与显示装置的显示单元的分辨率无关地波纹和干扰的产生较少，而且不会因由特定角度的入射光产生的金属细线的光泽而妨碍显示图像的识别的导电性薄膜及具备该导电性薄膜的触摸面板。

背景技术

近年来，在以平板电脑及智能手机等便携式信息设备为代表的各种电子设备中，可与液晶显示装置等显示装置组合使用，并通过与画面接触来对电子设备进行输入操作的触摸面板正在普及。

在触摸面板中，使用在透明基板上形成有导电层的透明导电薄膜。

导电层由除了ITO(铟锡氧化物：Indium Tin Oxide)等透明导电性氧化物或透明导电性氧化物以外的金属形成。与上述透明导电性氧化物相比，金属具有容易图案化、弯曲性优异、电阻更低等优点，因此铜、银等金属用于触摸面板等中的导电性细线。

在专利文献1中记载有一种使用金属细线的触摸面板。专利文献1的触摸面板是具备基材、多个Y电极图案、多个X电极图案、多个跨接绝缘层、多个跨接布线及透明绝缘层的静电电容传感器。多个Y电极图案分别具有大致菱形形状，以其顶点彼此相互相向的方式，沿着X方向及Y方向于基材的表面上排列成矩阵状。多个X电极图案为与Y电极图案相同的大致菱形形状。专利文献1的X电极图案和Y电极图案为菱形的网格图案。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2014-115694号公报

专利文献2：日本特开2013-214545号公报

专利文献3：日本特开2013-69261号公报

发明内容

发明要解决的技术课题

在用于触摸传感器的导电性薄膜中，如专利文献1的大致菱形形状的图案那样，通常为由2种等间距平行线形成的菱形的网格图案。

将导电性薄膜应用于触摸面板时，需要考虑由配置触摸面板的液晶显示装置中所包含的黑色矩阵的周期图案和导电性薄膜的菱形的网格图案的层叠引起的视觉干扰效果。

具体而言，在黑色矩阵图案的周期性和菱形的网格图案的周期性接近的情况下，产生比较长周期的干扰图案，对于触摸面板用户来说，可视觉辨认出条纹状的花纹。还将上述比较长周期的干扰图案称为波纹。

为了避免波纹，在菱形的网格图案中进行2种平行线相交的角度的调整、平行线间隔距离的调整、液晶显示装置的黑色矩阵图案和网格图案的设置角度的调整等，可采取使黑色矩阵图案和网格图案的周期性错开的应对。作为菱形的图案的改良，有时研究如专利文献2那样使菱形的图案具有不均匀性。

具体而言，对用于形成菱形的网格图案的平行线的间隔距离，在事先所确定的范围内导入不规则性，由此进一步抑制黑色矩阵图案和网格图案的波纹的产生。

然而，实际上对任意的液晶显示装置设计不会产生波纹的网格图案时，制作多个根据模拟结果认为优选的实际技术样品，需要实际上进行对液晶显示装置的重合评价来选择最优选的网格图案的劳力和时间。

而且，即使欲将相同的网格图案应用于分辨率不同的其他液晶显示装置，由于黑色矩阵的周期性不同，因此经最佳化的网格图案适合于其他分辨率的液晶显示装置的可能性较少，从而需要按液晶显示装置的每一分辨率设计网格图案，并进行实际技术确认。存在各种分辨率的液晶显示装置模型，对于分别使网格图案最佳化，需要无尽的时间，在对大量的触摸面板研发并提供触摸传感器的方面成为问题。

并且，因相对于午后的阳光等来自确定的角度的入射光，由构成网格图案的细线产生的散射，视觉辨认网格图案的细线形状来作为光泽的情况下，菱形的网格图案中可在连续并且广泛的范围内视觉辨认光泽，有时妨碍基于液晶显示装置的显示图像识别。

另一方面，专利文献3中研究了如下：通过随机设置网格图案中所包含的网格单元的形状，大幅降低网格图案本身的周期性，难以产生对黑色矩阵图案的周期性的干扰而避免产生波纹。在使用随机的网格图案的情况下，能够确认到对分辨率不同的液晶显示装置的适用性较高，且难以产生波纹，但是另一方面，已知眩光状的干扰的产生变得显著。认为该干扰的原因在于随机的网格图案的局部不均匀性。相对于午后的阳光等来自确定的角度的入射光，因由构成随机的网格图案的细线产生的散射，视觉辨认细线形状来作为光泽的情况下，随机的网格图案中，光泽不会在连续范围内产生，从而不会妨碍基于液晶显示装置的显示图像的识别。

期望将具有网格图案的触摸传感器组装到触摸面板时，不会产生波纹，且视觉辨认不到干扰，而且目前要求如下：对分辨率不同的液晶显示装置的适用性较高，由特定角度的入射光产生的构成网格图案的细线的光泽不会妨碍液晶显示装置的显示图像的识别。

本发明的目的在于解决基于前述以往技术的问题，并提供一种与显示装置的显示单元的分辨率无关地波纹和干扰的产生较少，而且不会因由特定角度的入射光产生的金属细线的光泽而妨碍显示图像的识别的导电性薄膜及具备导电性薄膜的触摸面板。

用于解决技术课题的手段

为了实现上述目的，本发明的第一方式提供一种导电性薄膜，其设置于显示装置的显示单元上，所述导电性薄膜的特征在于，具有：第一导电部，其具有由金属细线构成，且排列有多个全等凸五边形的第一开口部的第一布线图案；及第二导电部，相对于第一导电部至少重叠一部分并分开而配置成层状，第二导电部具有由金属细线构成且具备多个开口部的第二布线图案，从将第一导电部和第二导电部重叠而成的层叠方向观察时，由第一导电部的第一布线图案和第二导电部的第二布线图案构成的开口部组中，开口部面积的变动系数小于52％。

优选第二导电部的第二布线图案的开口部为多边形，且将全等凸五边形的第一开口部的重心位置设为顶点。

优选第二导电部的第二布线图案的开口部为多边形，且将全等凸五边形的第一开口部的各边的垂直平分线构成开口部的边中的至少一边。

凸五边形具有边a、边b、边c、边d及边e，且优选当将角A设为边a和边b所形成的角，将角B设为边b和边c所形成的角，将角C设为边c和边d所形成的角，将角D设为边d和边e所形成的角，将角E设为边e和边a所形成的角时，满足角A+角B+角C＝180°，使凸五边形的边b和凸五边形的边c交汇，并且在直线上配置有边e。

凸五边形具有边a、边b、边c、边d及边e，且优选当将角A设为边a和边b所形成的角，将角B设为边b和边c所形成的角，将角C设为边c和边d所形成的角，将角D设为边d和边e所形成的角，将角E设为边e和边a所形成的角时，满足角A+角B+角C＝180°，多个凸五边形配置成使凸五边形的边b和凸五边形的边c交汇，并且改变多个凸五边形的边e自事先所确定的直线的距离。

凸五边形具有边a、边b、边c、边d及边e，且优选当将角A设为边a和边b所形成的角，将角B设为边b和边c所形成的角，将角C设为边c和边d所形成的角，将角D设为边d和边e所形成的角，将角E设为边e和边a所形成的角时，满足角A+角B+角D＝180°，并且满足边a＝边d。

凸五边形具有边a、边b、边c、边d及边e，且优选当将角A设为边a和边b所形成的角，将角B设为边b和边c所形成的角，将角C设为边c和边d所形成的角，将角D设为边d和边e所形成的角，将角E设为边e和边a所形成的角时，满足角C＝角E＝90°、边a＝边e，并且满足边c＝边d。

凸五边形具有边a、边b、边c、边d及边e，且优选当将角A设为边a和边b所形成的角，将角B设为边b和边c所形成的角，将角C设为边c和边d所形成的角，将角D设为边d和边e所形成的角，将角E设为边e和边a所形成的角时，满足角B×2+角C＝360°、角D×2+角A＝360°，并且满足边a＝边b＝边c＝边d。

凸五边形具有边a、边b、边c、边d及边e，且优选当将角A设为边a和边b所形成的角，将角B设为边b和边c所形成的角，将角C设为边c和边d所形成的角，将角D设为边d和边e所形成的角，将角E设为边e和边a所形成的角时，满足角A＝90°、角B+角E＝180°、角D×2+角E＝360°、角C×2+角B＝360°，并且满足边a＝边b＝(边c+边e)。

凸五边形具有边a、边b、边c、边d及边e，且优选当将角A设为边a和边b所形成的角，将角B设为边b和边c所形成的角，将角C设为边c和边d所形成的角，将角D设为边d和边e所形成的角，将角E设为边e和边a所形成的角时，满足角A＝90°、角C+角E＝180°、角B×2+角C＝360°，并且满足边d＝边e＝(边a×2+边c)。

凸五边形具有边a、边b、边c、边d及边e，且优选当将角A设为边a和边b所形成的角，将角B设为边b和边c所形成的角，将角C设为边c和边d所形成的角，将角D设为边d和边e所形成的角，将角E设为边e和边a所形成的角时，满足角A＝90°、角C+角E＝180°、角B×2+角C＝360°，并且满足边a×2＝边d＝(边c+边e)。

金属细线的线宽优选为0.5μm以上且5μm以下。

并且，优选第一导电部设置于透明基体的一个面上，且第二导电部设置于透明基体的另一个面上。

例如，第一布线图案及第二布线图案叠加在显示单元的像素排列图案上。并且，例如像素排列图案为显示单元的黑色矩阵图案。

本发明的第二方式提供一种触摸面板，其特征在于，在显示装置的显示单元上配置有第一方式的导电性薄膜。

发明效果

根据本发明，能够与显示装置的显示单元的分辨率无关地减少波纹和干扰的产生。而且，能够抑制因由特定角度的入射光产生的金属细线的光泽而妨碍显示图像的识别。

附图说明

图1是表示具有本发明的实施方式的导电性薄膜的显示装置的示意图。

图2是表示显示单元的像素排列图案的一例的示意图。

图3是表示使用了本发明的实施方式的导电性薄膜的触摸传感器的示意俯视图。

图4是表示本发明的实施方式的导电性薄膜的第一例的示意剖视图。

图5是表示本发明的实施方式的导电性薄膜的第二例的示意剖视图。

图6是表示凸五边形的第一例的示意图。

图7是表示使用了凸五边形的第一例的第一布线图案的示意图。

图8是表示凸五边形的第一例的变形例的示意图。

图9是表示使用了凸五边形的第一例的变形例的第一布线图案的示意图。

图10是表示凸五边形的第二例的示意图。

图11是表示使用了凸五边形的第二例的第一布线图案的示意图。

图12是表示凸五边形的第三例的示意图。

图13是表示使用了凸五边形的第三例的第一布线图案的示意图。

图14是表示凸五边形的第四例的示意图。

图15是表示使用了凸五边形的第四例的第一布线图案的示意图。

图16是表示凸五边形的第五例的示意图。

图17是表示使用了凸五边形的第五例的第一布线图案的示意图。

图18是表示凸五边形的第六例的示意图。

图19是表示使用了凸五边形的第六例的第一布线图案的示意图。

图20是表示凸五边形的第七例的示意图。

图21是表示凸五边形的第七例的第一布线图案的示意图。

图22是表示凸五边形的第八例的示意图。

图23是表示使用了凸五边形的第八例的第一布线图案的示意图。

图24是表示凸五边形的第九例的示意图。

图25是表示使用了凸五边形的第九例的第一布线图案的示意图。

图26是表示凸五边形的第十例的示意图。

图27是表示使用了凸五边形的第十例的第一布线图案的示意图。

图28是表示凸五边形的第十一例的示意图。

图29是表示使用了凸五边形的第十一例的第一布线图案的示意图。

图30是表示凸五边形的第十二例的示意图。

图31是表示使用了凸五边形的第十二例的第一布线图案的示意图。

图32是表示凸五边形的第十三例的示意图。

图33是表示使用了凸五边形的第十三例的第一布线图案的示意图。

图34是表示凸五边形的第十四例的示意图。

图35是表示使用了凸五边形的第十四例的第一布线图案的示意图。

图36是表示凸五边形的第十五例的示意图。

图37是表示使用了凸五边形的第十五例的第一布线图案的示意图。

图38是表示本发明的实施方式的导电性薄膜的第一布线图案的一例的示意图。

图39是表示本发明的实施方式的导电性薄膜的第二布线图案的第一例的示意图。

图40是表示本发明的实施方式的导电性薄膜的第二布线图案的第二例的示意图。

图41是用于说明第二布线图案的示意图。

图42是表示使用了第一例的凸五边形的第一布线图案的第一例的示意图。

图43是表示使用了第一例的凸五边形的第二布线图案的第一例的示意图。

图44是表示使用了第一例的凸五边形的第一布线图案的第二例的示意图。

图45是表示使用了第一例的凸五边形的第二布线图案的第二例的示意图。

图46是表示使用了第一例的凸五边形的第一布线图案的第三例的示意图。

图47是表示使用了第一例的凸五边形的第二布线图案的第三例的示意图。

图48是表示使用了第二例的凸五边形的第一布线图案的示意图。

图49是表示使用了第二例的凸五边形的第二布线图案的示意图。

图50是表示使用了第三例的凸五边形的第一布线图案的示意图。

图51是表示使用了第三例的凸五边形的第二布线图案的示意图。

图52是表示使用了第四例的凸五边形的第一布线图案的示意图。

图53是表示使用了第四例的凸五边形的第二布线图案的示意图。

图54是表示使用了第五例的凸五边形的第一布线图案的示意图。

图55是表示使用了第五例的凸五边形的第二布线图案的示意图。

图56是表示使用了第六例的凸五边形的第一布线图案的示意图。

图57是表示使用了第六例的凸五边形的第二布线图案的示意图。

图58是表示使用了第七例的凸五边形的第一布线图案的示意图。

图59是表示使用了第七例的凸五边形的第二布线图案的示意图。

图60是表示使用了第八例的凸五边形的第一布线图案的示意图。

图61是表示使用了第八例的凸五边形的第二布线图案的示意图。

图62是表示使用了第九例的凸五边形的第一布线图案的示意图。

图63是表示使用了第九例的凸五边形的第二布线图案的示意图。

图64是表示使用了第十例的凸五边形的第一布线图案的示意图。

图65是表示使用了第十例的凸五边形的第二布线图案的示意图。

图66是表示使用了第十一例的凸五边形的第一布线图案的示意图。

图67是表示使用了第十一例的凸五边形的第二布线图案的示意图。

图68是表示使用了第十二例的凸五边形的第一布线图案的示意图。

图69是表示使用了第十二例的凸五边形的第二布线图案的示意图。

图70是表示使用了第十三例的凸五边形的第一布线图案的示意图。

图71是表示使用了第十三例的凸五边形的第二布线图案的示意图。

图72是表示使用了第十四例的凸五边形的第一布线图案的示意图。

图73是表示使用了第十四例的凸五边形的第二布线图案的示意图。

图74是表示使用了第十五例的凸五边形的第一布线图案的示意图。

图75是表示使用了第十五例的凸五边形的第二布线图案的示意图。

图76是表示开口部为菱形的布线图案的示意图。

具体实施方式

以下，根据附图中所示的优选实施方式，对本发明的导电性薄膜以及触摸面板进行详细说明。

另外，以下显示数值范围的“～”包含两边所记载的数值。例如，ε为数值α～数值β是是指ε的范围为包含数值α与数值β的范围，若以数学符号来显示，则α≤ε≤β。

关于“平行”、“垂直”及“正交”等角度，包含技术领域中通常所容许的误差范围。另外，所谓“相同”，包含技术领域中通常所容许的误差范围。

透明是指于波长400nm～800nm的可见光波长区域中，透光率至少为60％以上，优选为75％以上，更优选为80％以上，进一步优选为85％以上。透光率是使用JIS K7375:2008中所规定的“塑料--总光线透过率及总光线反射率的求算方法”而测定。

图1是表示具有本发明的实施方式的导电性薄膜的显示装置的示意图，图2是表示显示单元的像素排列图案的一例的示意图。

如图1所示，导电性薄膜10例如经由光学透明层18而设置于显示装置20的显示单元22上。

在导电性薄膜10的表面10a上设置有保护层12。导电性薄膜10与检测部14连接。

由导电性薄膜10及保护层12构成触摸传感器13，由导电性薄膜10、保护层12及检测部14构成触摸面板16。由触摸面板16和显示装置20构成显示设备24。

保护层12的表面12a成为在显示单元22所显示的显示物的视觉辨认面。并且，保护层12的表面12a成为触摸面板16的触摸面。

检测部14由利用于静电电容式触摸传感器或电阻膜式触摸传感器的检测的公知的部件构成。触摸传感器13中，若为静电电容式，则由检测部14检测通过手指等与保护层12的表面12a的接触而静电电容发生变化的位置。若为电阻膜式，则由检测部14检测电阻发生变化的位置。

保护层12用于保护导电性薄膜10。关于保护层12，其结构并无特别限定。例如可使用玻璃、聚碳酸酯(PC)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)或聚甲基丙烯酸甲酯树脂(PMMA)等丙烯酸树脂。如上所述，保护层12的表面12a成为触摸面，因此可以根据需要在表面12a上设置硬涂层。

关于光学透明层18，光学透明且具有绝缘性，并且只要能够稳定地固定导电性薄膜10，则其结构并无特别限定。作为光学透明层18，例如能够使用光学透明的粘结剂(OCA，光学胶：Optical Clear Adhesive)及UV(紫外光：Ultra Violet)固化树脂等光学透明的树脂(OCR，光学树脂：Optical Clear Resin)。并且，光学透明层18可以局部中空。

另外，可以是不设置光学透明层18，而在显示单元22上隔着间隙分开设置导电性薄膜10的结构。还将该间隙称为气隙。

显示装置20例如是液晶显示装置，该情况下，显示单元22为液晶显示单元。如图2所示，显示单元22具备具有像素排列图案的黑色矩阵。

另外，显示装置并不限定于液晶显示装置，可以是有机EL(有机电致发光：Organicelectro luminescence)显示装置，该情况下，显示单元为有机EL(Organic electroluminescence)元件。

在显示单元22中，如图2所示，多个像素26排列成矩阵状，并构成事先所确定的像素排列图案。其中1个像素26例如是沿水平方向排列红色子像素26r、绿色子像素26g及蓝色子像素26b这3个子像素而构成。例如，其中1个子像素设为在垂直方向上设有纵向长度更长的矩形。像素26的水平方向的排列间距即水平像素间距Ph与像素26的垂直方向的排列间距即垂直像素间距Pv设为大致相同。即，由其中1个像素26和包围该其中1个像素26的黑色矩阵(BM)27构成的形状成为正方形。并且，其中1个像素26的纵横比不是1，而是成为水平方向(横向)的长度＞垂直方向(纵向)的长度。图2中所示的第一方向D1和与第一方向D1正交的第二方向D2与后述图3的第一方向D1和第二方向D2对应。

关于由多个像素26的每一个的红色子像素26r、绿色子像素26g及蓝色子像素26b构成的像素排列图案，由分别包围这些红色子像素26r、绿色子像素26g及蓝色子像素26b的黑色矩阵27的黑色矩阵图案28规定。像素排列图案是根据显示装置20的分辨率来确定。黑色矩阵图案28也是根据显示装置20的分辨率来确定。

关于将显示单元22和导电性薄膜10叠加时所产生的波纹，通过显示单元22的黑色矩阵27的黑色矩阵图案28、及导电性薄膜10的后述第一导电部和第二导电部的刚性图案的干扰而产生。因此，严格来讲，黑色矩阵图案28为像素排列图案的反转图案，但是在此，当作表示相同的图案。

另外，像素排列图案及黑色矩阵图案28并不限定于方形网格，可以是三角形网格。

接着，根据图3以及图4及图5，对导电性薄膜10进行说明。

图3是表示使用了本发明的实施方式的导电性薄膜的触摸传感器的示意俯视图。图4是表示本发明的实施方式的导电性薄膜的第一例的示意剖视图，图5是表示本发明的实施方式的导电性薄膜的第二例的示意剖视图。

导电性薄膜10例如利用于静电电容式触摸传感器。如图3所示，在透明基体30的表面30a上形成有分别沿第一方向D1延伸，并且在与第一方向D1正交的第二方向D2上并排配置的多个第一导电部32，与多个第一导电部32电连接的多个第一边缘布线33排列成彼此靠近。多个第一边缘布线33在透明基体30的一边30c汇集于1个端子39。

同样地，在透明基体30的背面30b上形成有分别沿第二方向D2延伸，并且在第一方向D1上并排配置的多个第二导电部34，与多个第二导电部34电连接的多个第二边缘布线35排列成彼此靠近。多个第二边缘布线35在透明基体30的一边30c汇集于1个端子39。第二导电部34与第一导电部32至少重叠一部分并分开而配置成层状。更具体而言，从与透明基体30的一个面垂直的方向Dn(参考图4及图5)观察时，第二导电部34配置成至少一部分与第一导电部32重叠。将第一导电部32和第二导电部34重叠而成的层叠方向D3(参考图4及图5)为与上述垂直方向Dn(参考图4、图5)相同的方向。

另外，第一导电部32和多个第二导电部34作为检测电极发挥功能。

导电性薄膜10中，在透明基体30上，俯视观察时重叠配置有多个第一导电部32和多个第二导电部34的区域为传感器区域37。在静电电容式触摸传感器中，传感器区域37为能够检测手指等的接触即触摸的区域。

第一导电部32及第二导电部34均具有由金属细线36构成，且具备开口部的网格图案。关于第一导电部32及第二导电部34的网格图案，将在后面进行详细说明。

第一边缘布线33及第二边缘布线35可以由金属细线36形成，并且所谓金属细线36，可以由线宽及厚度等不同的导电布线构成。第一边缘布线33及第二边缘布线35例如可以由带状的导体形成。关于导电性薄膜10的各构成部件，将在后面进行详细说明。

如上所述，导电性薄膜10并不限定于静电电容式触摸传感器，可以是电阻膜式触摸传感器。即使为电阻膜式触摸传感器，俯视观察时重叠配置有多个第一导电部32和多个第二导电部34的区域成为传感器区域37。

关于导电性薄膜10，并无特别限定，但是例如，如图4所示，在透明基体30的表面30a上设置有第一导电部32，且在透明基体30的背面30b上设置有第二导电部34。通过在其中1个透明基体30的表面30a上设置第一导电部32，且在背面30b上设置第二导电部34，即使透明基体30收缩，也能够减小第一导电部32和第二导电部34之间的位置关系的偏差。

如上所述，将第一导电部32和第二导电部34重叠而成的层叠方向D3为与上述垂直方向Dn相同的方向。

并且，例如，如图5中所示的导电性薄膜10那样，可以是在1个透明基体30及透明基体31上设置1个导电部的结构。导电性薄膜10可以是如下结构：在1个透明基体30的表面30a上设置有第一导电部32，且在透明基体30的背面30b上经由粘结层38层叠有在表面31a上设置有第二导电部34的透明基体31。另外，透明基体31为与透明基体30相同的结构。另外，粘结层38能够使用与上述光学透明层18相同的物质。图5中，如上所述，将第一导电部32和第二导电部34重叠而成的层叠方向D3为与上述垂直方向Dn相同的方向。

关于金属细线36的线宽w，并无特别限定，在被用作第一导电部32及第二导电部34的情况下，优选为0.5μm以上且5μm以下。只要金属细线36的线宽w为上述范围，则能够比较容易地形成低电阻的导电部。

在金属细线36被用作边缘布线(引出布线)的情况下，金属细线36的线宽w优选为500μm以下，更优选为50μm以下，尤其优选为30μm以下。只要线宽w为上述范围，则能够比较容易地形成低电阻的边缘布线。

并且，在金属细线36被用作导电性薄膜10中的边缘布线的情况下，还能够与第一导电部32及第二导电部34同样地设为网格图案，在该情况下，线宽w并无特别限定，优选为30μm以下，更优选为15μm以下，进一步优选为10μm以下，尤其优选为9μm以下，最优选为7μm以下，且优选为0.5μm以上，更优选为1.0μm以上。只要线宽w为上述范围，则能够比较容易地形成低电阻的边缘布线。通过将传感器片中的边缘布线设为网格图案，形成第一导电部32及第二导电部34时，照射来自氙气闪光灯的脉冲光的工序中，能够提高检测电极和边缘布线的由照射引起的低电阻化的均匀性，除此之外，还能够在将粘结剂层进行贴合的情况下，将第一导电部32及第二导电部34和边缘布线的剥离强度设为一定，能够使面内分布变小，因此优选。

关于金属细线36的厚度t，并无特别限定，优选为1～200μm，更优选为30μm以下，进一步优选为20μm以下，尤其优选为0.01～9μm，最优选为0.05～5μm。只要厚度t为上述范围，则能够比较容易地形成低电阻并且耐久性优异的检测电极。

关于金属细线36的线宽w及金属细线36的厚度t，获取包含金属细线36的导电性薄膜10的截面图像，将截面图像读入个人电脑中，并使其显示于显示器，对在显示器上规定上述金属细线36的线宽w的2个部位，分别绘制水平线，并求出水平线之间的长度。由此，能够获得金属细线36的线宽w。并且，对规定金属细线36的厚度t的2个部位，分别绘制水平线，并求出水平线之间的长度。由此，能够获得金属细线36的厚度t。

以下，对导电性薄膜10的各部件进行说明。

＜透明基体＞

由于透明基体30和透明基体31相同，因此只对透明基体30进行说明。关于透明基体30，只要能够支撑第一导电部32、第一边缘布线33、第二导电部34及第二边缘布线35，则其种类并无特别限定，尤其优选塑料薄膜。

作为构成透明基体30的材料的具体例，优选PET(聚对苯二甲酸乙二醇酯)(258℃)、聚环烯烃(134℃)、聚碳酸酯(250℃)、丙烯酸树脂(128℃)、PEN(聚萘二甲酸乙二醇酯)(269℃)、PE(聚乙烯)(135℃)、PP(聚丙烯)(163℃)、聚苯乙烯(230℃)、聚氯乙烯(180℃)、聚偏二氯乙烯(212℃)或TAC(三乙酰纤维素)(290℃)等熔点为约290℃以下的塑料膜，尤其优选PET、聚环烯烃以及聚碳酸酯。()内的数值是熔点。

透明基体30的总光线透射率优选为85％～100％。全透光率为例如使用JISK7375：2008中所规定的“塑料-总光线透过率及总光线反射率的求算方法”测定。

作为透明基体30的优选方式之一，可以列举实施了选自包含大气压等离子体处理、电晕放电处理以及紫外线照射处理的组的至少1个处理的已处理基板。通过实施上述处理，在经处理的透明基体30的面上导入OH基团等亲水性基团，从而进一步提高第一导电部32、第一边缘布线33、第二导电部34、第二边缘布线35与透明基体30的粘附性。

上述处理中，从进一步提高第一导电部32、第一边缘布线33、第二导电部34、第二边缘布线35与透明基体30的粘附性的观点考虑，优选大气压等离子体处理。

作为透明基体30的其他的优选方式，优选在设置有第一导电部32、第一边缘布线33、第二导电部34及第二边缘布线35的面上具有包含高分子的底涂层。通过在该底涂层上形成有用于形成第一导电部32、第一边缘布线33、第二导电部34及第二边缘布线35的感光层，进一步提高第一导电部32、第一边缘布线33、第二导电部34及第二边缘布线35与透明基体30的粘附性。

底涂层的形成方法并无特别限定，例如可举出将包含高分子的底涂层形成用组合物涂布于基板上，并根据需要实施加热处理的方法。底涂层形成用组合物也可以根据需要含有溶剂。溶剂的种类并无特别限定，可例示后述感光层形成用组合物中所使用的溶剂。并且，作为含有高分子的底涂层形成用组合物，也可以使用含有高分子的微粒的乳胶。

底涂层的厚度并无特别限定，从第一导电部32、第一边缘布线33、第二导电部34、第二边缘布线35与透明基体30的粘附性进一步优异的观点考虑，优选为0.02～0.3μm，更优选为0.03～0.2μm。

＜金属细线＞

金属细线36具有导电性，例如由金属或合金构成。金属细线36例如能够由铜线或银线构成。优选在金属细线36中包含金属银，但是也可以包含除金属银以外的金属、例如金、铜等。并且，优选金属细线36含有适合形成网格图案的、金属银及明胶等的高分子粘合剂。

金属细线36并不限定于由上述金属或合金构成，例如还可以包含金属氧化物粒子、银浆或铜浆等金属浆料、以及银纳米线及铜纳米线等金属纳米线粒子。

接着，对金属细线36的形成方法进行说明。关于金属细线36的形成方法，只要能够形成于透明基体30、31上，则并无特别限定。对于金属细线36的形成方法，例如能够适当地利用电镀法、银盐法、蒸镀法及印刷法等。

对基于电镀法的金属细线36的形成方法进行说明。例如，金属细线36能够由通过对非电解电镀基底层进行非电解电镀来形成于基底层上的金属电镀膜构成。在此情况下，可以如下方式形成：将至少含有金属微粒子的催化剂油墨在基材上形成为图案状后，使基材浸渍于非电解电镀浴中，而形成金属电镀膜。更具体而言，可利用日本特开2014-159620号公报中所记载的金属被膜基材的制造方法。另外，可以如下方式形成：将至少具有可与金属催化剂前体进行相互作用的官能基的树脂组成物在基材上形成为图案状后，施加催化剂或催化剂前体，使基材浸渍于非电解电镀浴中，而形成金属电镀膜。更具体而言，可应用日本特开2012-144761号公报中所记载的金属被膜基材的制造方法。

对基于银盐法的金属细线36的形成方法进行说明。首先，在包含卤化银的银盐乳剂层上，使用成为金属细线36的曝光图案实施曝光处理，然后进行显影处理，由此能够形成金属细线36。更具体而言，可利用日本特开2015-22397号公报中所记载的金属细线的制造方法。

对基于蒸镀法的金属细线36的形成方法进行说明。首先，通过蒸镀来形成铜箔层，并利用光刻法而从铜箔层形成铜布线，由此可形成金属细线36。铜箔层除蒸镀铜箔以外，还可以利用电解铜箔。更具体而言，可利用日本特开2014-29614号公报中所记载的形成铜布线的步骤。

对基于印刷法的金属细线36的形成方法进行说明。首先，将含有导电性粉末的导电浆料以与金属细线36相同的图案涂布于基板上，之后实施加热处理，由此可形成金属细线36。使用导电浆料的图案形成例如通过喷墨法或网版印刷法来进行。作为导电浆料，更具体而言，可利用日本特开2011-28985号公报中所记载的导电浆料。

接着，对第一导电部32及第二导电部34进行说明。

第一导电部32具有由金属细线36构成，且排列有多个全等凸五边形的第一开口部的第一布线图案。第一布线图案由全等凸五边形构成。第二导电部34具有由金属细线36构成，且具备多个开口部的第二布线图案。第二布线图案与第一布线图案不同。以如下方式确定第二布线图案：若确定第一布线图案，则成为在第一布线图案中所确定的变动系数小于52％的图案。

另外，变动系数越小，则干扰视觉辨认性越良好。变动系数的下限值为0％。以下，还将全等凸五边形简称为凸五边形。

在第一导电部32及第二导电部34中，从相对于导电性薄膜10的表面10a即透明基体30的表面30a垂直的方向Dn(参考图4及图5)观察时，即从将第一导电部32和第二导电部34重叠而成的层叠方向D3(参考图4及图5)观察时，由第一导电部32的第一布线图案和第二导电部34的第二布线图案构成的开口部组中，开口部面积的变动系数小于52％。

将使用了全等凸五边形的平面填充图案利用于布线图案，将变动系数设为小于52％，由此与随机图案不同，由开口率一定的网格单元组成，因此与随机图案比较，能够减少干扰成分的产生。并且，在全等凸五边形和液晶显示装置的液晶显示单元等的、方形网格或三角形网格的黑色矩阵的干扰中，难以引起干扰并难以产生波纹。因此，如上所述，在显示单元22上配置导电性薄膜10的状态下，观察显示单元22的显示物时，能够兼顾波纹的产生的抑制和干扰的产生的抑制。而且，使用了全等凸五边形的平面填充图案中，金属细线36的有序性较弱，也可抑制由金属细线36产生的光泽在连续范围内产生。不会因由特定角度的入射光产生的金属细线36的光泽而妨碍显示单元22的显示图像的识别。

接着，根据图6～图37，对第一导电部32的凸五边形及第一布线图案进行说明。

已知有15种能够填充平面的凸五边形。即，已知有15种能够在平面上形成布线图案的凸五边形。其中，关于14种，示于杉本晃久、“Marcia P Sward Lobby平铺的分析”、形状的科学杂志第26倦第2号(2011)p.122-131。

所谓凸五边形，是指五边形中，连结五边形内的任意的2个点的线段始终包含于该五边形中。

以下，在凸五边形中，针对5个边附加a～e的符号，且针对5个角附加A～E的符号而进行说明。凸五边形具有边a、边b、边c、边d及边e。在五边形中，将角A设为边a和边b所形成的角，将角B设为边b和边c所形成的角，将角C设为边c和边d所形成的角，将角D设为边d和边e所形成的角，将角E设为边e和边a所形成的角。

图6中所示的凸五边形40称为类型01stan。凸五边形40的特征在于，其满足角A+角B+角C＝180°，且边e未配置在直线上。图7中所示的第一布线图案42由多个全等凸五边形40构成，且配置有多个凸五边形40的开口部41。多个凸五边形40配置成使凸五边形40的边b和凸五边形40的边c交汇，并且改变多个凸五边形40的边e自事先所确定的直线47的距离。即，多个凸五边形的边e未配置于相同的直线上，而是边e偏离而配置有多个凸五边形40。

关于多个全等凸五边形40，使凸五边形40的边b和凸五边形40的边c交汇，并且将边e配置于直线上。在该情况下，称为类型01edge。

图8中所示的凸五边形43称为类型01sp。凸五边形43满足角A＝90°、角B＝角E＝120°、角C＝60°、角D＝150°，并且满足边a＝边e、边b＝边c＝边d。图9中所示的第一布线图案43b由多个全等凸五边形43构成，且配置有多个凸五边形43的开口部43a。

并且，构成图9中所示的第一布线图案43b的基本的重复单元43c包括凸五边形43的配置。该凸五边形43包含在各凸五边形43的顶点B即边b和边c的交点处3个凸五边形43所接触的部位和在各凸五边形的顶点C即边c和边d的交点处。6个凸五边形43所接触的部位的。

图10中所示的凸五边形40a称为类型02。凸五边形40a满足角A+角B+角D＝180°，并且满足边a＝边d。图11中所示的第一布线图案42a由多个全等凸五边形40a构成，由多个全等凸五边形40a构成，且配置有多个凸五边形40的开口部41a。

图12中所示的凸五边形40b称为类型03。凸五边形40b满足角A+角C+角D＝120°、边a＝边b，并且满足边d＝边c+边e。图13中所示的第一布线图案42b由多个全等凸五边形40b构成，且配置有多个凸五边形40b的开口部41c。

图14中所示的凸五边形40c称为类型04。凸五边形40c满足角C＝角E＝90°、边a＝边e，并且满足边c＝边d。图15中所示的第一布线图案42c由多个全等凸五边形40c构成，且配置有多个凸五边形40c的开口部41c。

图16中所示的凸五边形40d称为类型05。凸五边形40d满足角A＝120°、角C＝60°、边a＝边b，并且满足边c＝边d。图17中所示的第一布线图案42d由多个全等凸五边形40d构成，且配置有多个凸五边形40d的开口部41d。

图18中所示的凸五边形40e称为类型06。凸五边形40e满足角A+角B+角D＝360°、角A＝角C×2、边a＝边b＝边e，并且满足边c＝边d。图19中所示的第一布线图案42e由多个全等凸五边形40e构成，且配置有多个凸五边形40e的开口部41e。

图20中所示的凸五边形40f称为类型07。凸五边形40f满足角B×2+角C＝360°、角D×2+角A＝360°，并且满足边a＝边b＝边c＝边d。图21中所示的第一布线图案42f由多个全等凸五边形40f构成，且配置有多个凸五边形40f的开口部41f。

图22中所示的凸五边形40g称为类型08。凸五边形40g满足角A×2+角B＝360°、角D×2+角C＝360°，并且满足边a＝边b＝边c＝边d。图23中所示的第一布线图案42g由多个全等凸五边形40g构成，且配置有多个凸五边形40g的开口部41g。

图24中所示的凸五边形40h称为类型09。凸五边形40h满足角E×2+角B＝360°、角D×2+角C＝360°，并且满足边a＝边b＝边c＝边d。图25中所示的第一布线图案42h由多个全等凸五边形40h构成，且配置有多个凸五边形40h的开口部41h。

图26中所示的凸五边形40j称为类型10。凸五边形40j满足角A＝90°、角B+角E＝180°、角D×2+角E＝360°、角C×2+角B＝360°，并且满足边a＝边b＝(边c+边e)。

图27中所示的第一布线图案42j由多个全等凸五边形40j构成，且配置有多个凸五边形40j的开口部41j。

图28中所示的凸五边形40k称为类型11。凸五边形40k满足角A＝90°、角C+角E＝180°、角B×2+角C＝360°，并且满足边d＝边e＝(边a×2+边c)。图29中所示的第一布线图案42k由多个全等凸五边形40k构成，且配置有多个凸五边形40k的开口部41k。

图30中所示的凸五边形40m称为类型12。凸五边形40m满足角A＝90°、角C+角E＝180°、角B×2+角C＝360°，并且满足边a×2＝边d＝(边c+边e)。图31中所示的第一布线图案42m由多个全等凸五边形40m构成，且配置有多个凸五边形40m的开口部41m。

图32中所示的凸五边形40n称为类型13。凸五边形40n满足角A＝角C＝90°、角B×2＝角E×2＝(360°-角D)，并且满足边c×2＝边d×2＝边e。图33中所示的第一布线图案42n由多个全等凸五边形40n构成，且配置有多凸五边形40n的开口部41n。

图34中所示的凸五边形40p成为类型14。凸五边形40p满足角A＝90°、角B＝145.34°、角C＝69.32°、角D＝124.66°、角E＝110.68°，并且满足边a×2＝边c×2＝边d＝边e。图35中所示的第一布线图案42p由多个全等凸五边形40p构成，且配置有多个凸五边形40p的开口部41p。

图36中所示的凸五边形40q称为类型15。凸五边形40q满足角A＝90°、角B＝135°、角C＝105°、角D＝90°、角E＝150°、边a＝1、边b＝1/2、边c＝1/(2(√3-1))^1/2、边d＝1/2，并且满足边e＝1/2。图37中所示的第一布线图案42q由多个全等凸五边形40q构成，且配置有多个凸五边形40q的开口部41q。

上述任意的凸五边形均将边设为直线，但是可以由波浪线构成边。在为波浪线的情况下，可以是正弦波状，也可以是圆弧状。

图38是表示本发明的实施方式的导电性薄膜的第一布线图案的一例的示意图。另外，图38的第一方向D1和第二方向D2与图3的第一方向D1和第二方向D2对应。

如图38所示，多个全等凸五边形40a配置成将平面填充，利用由粗线表示的、直线状的外形线44切断凸五边形40a，利用外形线44切断的凸五边形40a与其他凸五边形40a电绝缘。夹在外形线44之间的区域为第一导电部32，由多个全等凸五边形40a，构成排列有多个凸五边形40a的第一开口部41a的第一布线图案42a。

另外，关于除第一导电部32以外的区域45，可以削除，也可以不削除。在不削除的情况下可细分割。从透射率的观点考虑，优选不削除而设为虚拟布线。外形线44并不限定于直线，可以设为锯齿波状。

接着，对第二导电部34的第二布线图案进行说明。

图39是表示本发明的实施方式的导电性薄膜的第二布线图案的第一例示意图。图39中，示出第一布线图案42a和第二布线图案50，且示出从与透明基体30(未图示，参考图4及图5)的表面30a(未图示，参考图4及图5)垂直的方向Dn(未图示，参考图4及图5)观察到的状态、即从将第一导电部32和第二导电部34重叠而成的层叠方向D3(参考图4及图5)观察到的状态。如上所述，第一布线图案42a由凸五边形40a构成。

如图39所示，由第一导电部32的第一布线图案42a和第二导电部34的第二布线图案50构成的开口部组60中，开口部面积的变动系数小于52％。由此，能够与显示装置的分辨率无关地减少波纹的产生及干扰的产生。而且，不会因由特定角度的入射光产生的金属细线36的光泽而妨碍显示单元22(参考图1)的显示图像的识别。

关于第二导电部34的第二布线图案50，需要与第一布线图案42a一同如上述那样将开口部面积的变动系数设为小于52％，且依赖于第一布线图案42a。例如，如图39所示，第二布线图案50具备多个将第一布线图案42a的第一开口部41a的重心G作为顶点的多边形的开口部51。

接着，对变动系数进行说明。

所谓变动系数，称为相对标准偏差。变动系数是将开口部的面积的平均值作为基准并以百分比表现开口部的面积的标准偏差的值。

另外，在如后述图76那样重叠2个开口部为菱形的布线图案的情况下，理论上，变动系数为0％。即，由2个菱形形成的开口部的面积中不存在偏差。

图39中，将由1个开口部51和多个全等凸五边形40a构成的开口部组60作为例子进行说明。开口部51中，与凸五边形40a构成开口部62。每一个开口部62的面积的偏差由变动系数表示。

分别求出开口部62的面积，使用所获得的开口部62的面积，求出变动系数。另外，关于开口部62的面积，从与透明基体30(未图示，参考图4及图5)的表面30a(未图示，参考图4及图5)垂直的方向Dn(未图示，参考图4及图5)、即将第一导电部32和第二导电部34重叠而成的层叠方向D3(参考图4及图5)进行摄影，将摄影数据读入个人电脑，求出开口部62的像素数，并将其换算为面积。求出开口部62的面积的标准偏差和开口部62的面积的平均值，并根据他们求出变动系数。

图40是表示本发明的实施方式的导电性薄膜的第二布线图案的第二例的示意图，图41是用于说明第二布线图案的示意图。图40中，示出第一布线图案42a和第二布线图案50，且示出从与透明基体30(未图示，参考图4及图5)的表面30a(未图示，参考图4及图5)垂直的方向Dn(未图示，参考图4及图5)观察到的状态、即从将第一导电部32和第二导电部34重叠而成的层叠方向D3(参考图4及图5)观察到的状态。

例如，如图40所示，第二布线图案52的开口部53为多边形。第一布线图案42a的第一开口部41b的各边的垂直平分线构成第二布线图案52的开口部53的边中的至少一边。

图40中，将由1个开口部55和多个全等凸五边形40a构成的开口部组60作为例子而进行说明。开口部55中，与凸五边形40a构成开口部63。每一个开口部63的面积的偏差由变动系数表示。变动系数的求算方法与上述图39的例子相同。

如图41所示，在汇集有4个凸五边形40a的状态下，开口部55为方形。开口部55的4个边由垂直平分线构成。具体而言，由边b的垂直平分线57a、边e的垂直平分线57b、边d的垂直平分线57c及边e的垂直平分线57d形成。

关于第二布线图案52的开口部53，即使有时仅由凸五边形的垂直平分线57无法成为封闭的二维图形，也能够通过将第二布线图案52的开口部53的边中的至少一边构成为凸五边形的垂直平分线57，以变动系数小于52％的方式任意地设定其他边。

图40中，将由1个开口部53和多个全等凸五边形40a构成的开口部组60作为例子而进行说明。开口部53中与凸五边形40a构成开口部63。每一个开口部63的面积的偏差由变动系数表示。

分别求出开口部63的面积，使用所获得的开口部63地面积，求出变动系数。另外，开口部63的面积的求算方法与上述开口部62的面积相同。

关于第二布线图案52，将凸五边形40a作为例子而进行了说明，但是即使利用上述任意的凸五边形，也能够通过上述2种方法来获得第二布线图案。

由图40、图41中所示的第一布线图案42a和第二布线图案50构成的开口部组60中，开口部面积的变动系数小于52％。即使在该情况下，也能够与显示装置的分辨率无关地减少波纹的产生及干扰的产生。而且，不会因由特定角度的入射光产生的金属细线36的光泽妨碍显示单元22(参考图1)的显示图像的识别。

接着，将第一导电部32的第一布线图案和第二导电部的第二布线图案的具体例示于图42～图75中。图42～图75中，对与图6～图37相同的结构物附加相同符号，并省略其详细说明。

图42～图75均示出从与透明基体30(未图示，参考图4及图5)的表面30a(未图示，参考图4及图5)垂直的方向Dn(未图示，参考图4及图5)观察到的状态、即从将第一导电部32和第二导电部34重叠而成的层叠方向D3(参考图4及图5)观察到的状态。

图42～图75中，偶数编号的图号的附图表示具有将凸五边形的重心G设为顶点的开口部的第二布线图案，图42～图75中，奇数编号的图号的附图中，将凸五边形的边的垂直平分线设为开口部的边中的至少一边。

图42～图75中的任一图中，如上所述，配置于显示单元上时，能够与显示单元的分辨率无关地，减少波纹的产生及干扰的产生。而且，不会因由特定角度的入射光产生的金属细线36的光泽而妨碍显示单元22(参考图1)的显示图像的识别。

图42～图47使用了图6中所示的凸五边形40。还将图42及图43的第一布线图案称为类型01sp。还将图44及图45的第一布线图案称为类型01edge。还将图46及图47的第一布线图案称为类型01stan。

图48及图49使用了图10中所示的凸五边形40a，还将第一布线图案称为类型02。图48与图39相同，图49与图40相同。

图50及图51使用了图12中所示的凸五边形40b，还将第一布线图案称为类型03。

图52及图53使用了图14中所示的凸五边形40c，还将第一布线图案称为类型04。

图54及图55使用了图16中所示的凸五边形40d，还将第一布线图案称为类型05。

图56及图57使用了图18中所示的凸五边形40e，还将第一布线图案称为类型06。

图58及图59使用了图20中所示的凸五边形40f，还将第一布线图案称为类型07。

图60及图61使用了图22中所示的凸五边形40g，还将第一布线图案称为类型08。

图62及图63使用了图24中所示的凸五边形40h，还将第一布线图案称为类型09。

图64及图65使用了图26中所示的凸五边形40j，还将第一布线图案称为类型10。

图66及图67使用了图28中所示的凸五边形40k，还将第一布线图案称为类型11。

图68及图69使用了图30中所示的凸五边形40m，还将第一布线图案称为类型12。

图70及图71使用了图32中所示的凸五边形40n，还将第一布线图案称为类型13。

图72及图73使用了图34中所示的凸五边形40p，还将第一布线图案称为类型14。

图74及图75使用了图36中所示的凸五边形40q，还将第一布线图案称为类型15。

本发明基本上如上述构成。以上，对本发明的导电性薄膜及触摸面板进行了详细说明，但本发明并不限定于上述实施方式，当然可在不脱离本发明的主旨的范围内，进行各种改良或变更。

实施例

以下，列举实施例来更具体地说明本发明的特征。关于以下的实施例中所示的材料、试剂、用量、物质量、比例、处理内容、处理顺序等，只要不脱离本发明的主旨，则能够进行适当变更。因此，本发明的范围不应由以下所示的具体例限定性地进行解释。

本实施例中，形成具有上述图42～图75及图76中所示的布线图案的导电性薄膜，使用具备该导电性薄膜的触摸面板，对模型通用性、波纹视觉辨认性、干扰视觉辨认性、光泽视觉辨认性进行了评价。关于评价结果，示于下述表1中。

＜评价用触摸面板的制作＞

按照液晶显示装置(以下，称为LCD(液晶显示器：Liquid crystal display))、光学透明的粘结剂(OCA，光学透明粘结剂：Optical Clear Adhesive，3M Company制造的8146-3(产品编号))、所制作出的各导电性薄膜、光学透明的粘结剂(OCA，Optical ClearAdhesive，3M Company制作的8146-3(产品编号))、盖玻璃的顺序进行层叠而制作了显示设备。对于液晶显示装置，分别使用分辨率为100dpi(每英寸点数：dots per inch)、150dpi、200dpi、250dpi、300dpi、350dpi的液晶显示装置，如上所述那样制作了显示设备。

＜模型通用性、波纹视觉辨认性、干扰视觉辨认性的评价＞

显示设备中，在LCD上设为只有绿色的显色画面，从各种角度观察画面显示。由10名测试员实施相同的观察，以如下基准对波纹视觉辨认性、干扰视觉辨认性进行了评价。

调整导电性薄膜的设置角度并搜索波纹视觉辨认性、干扰视觉辨认性最优异的(视觉辨认不到波纹、干扰)设置角度，在100dpi～350dpi的各LCD上确定了共同的导电性薄膜的设置角度。当制作评价用触摸面板时实施了该处理。

观察各分辨率的LCD，在波纹视觉辨认性和干扰视觉辨认性的评价中，在两者的评价结果同时优选的、即为评价A或评价B的情况下，将模型通用性评价为A，将无法同时获得优选的结果的情况评价为D。

针对波纹视觉辨认性和干扰视觉辨认性，根据由10名测试员实施的观察结果的统计，并依据以下所示的评价基准，给与了A～D的评价。

能够视觉辨认波纹或干扰的人数

评价结果A表示没有问题，评价结果B表示可容许，评价结果C表示不可容许，评价结果D明确地表示不可容许的程度。作为评价结果，优选为A或B。

＜光泽视觉辨认性的评价＞

显示设备中，在LCD上设为只有绿色的显色画面，从各种角度观察画面显示。由10名测试员实施相同的观察，根据以下所示的评价基准，给予A～D的评价并对光泽视觉辨认性进行了评价。

能够视觉辨认广范围的光泽的人数

评价结果A表示没有问题，评价结果B表示可容许，评价结果C表示不可容许，评价结果D明确地表示不可容许的程度。评价结果优选为A或B。

以下，对导电性薄膜10的制作方法进行说明。

＜导电性薄膜的制作方法＞

(卤化银乳剂的制备)

在保持成38℃、pH4.5的下述1液中，同时分别将下述2液以及3液的相当于90％的量一边搅拌，一边经20分钟进行添加，形成了0.16μm的核粒子。接着，经8分钟添加下述4液及5液，进一步，经2分钟添加下述的2液及3液的剩余的10％的量，而使其成长至0.21μm。进一步，添加碘化钾0.15g，进行5分钟熟化后结束了粒子形成。

1液：

2液：

水 300ml

硝酸银 150g

3液：

4液：

水 100ml

硝酸银 50g

5液：

之后，根据常规方法，通过絮凝法来进行水洗。具体而言，将温度降低到35℃，使用硫酸降低pH(pH3.6±0.2的范围)，直至卤化银沉淀。接下来，将上清液去除约3升(第一水洗)。进一步添加3升的蒸馏水后，添加硫酸至卤化银沉淀。再次，将3升的上清液去除(第二次水洗)。再1次重覆与第二次水洗相同的操作(第三次水洗)，结束了水洗/脱盐步骤。将水洗/脱盐后的乳剂调整成pH6.4、pAg7.5，添加明胶3.9g、苯硫代磺酸钠10mg、苯硫代亚磺酸钠3mg、硫代硫酸钠15mg与氯金酸10mg，并在55℃下以获得最佳灵敏度的方式实施化学增感，然后添加作为稳定剂的1,3,3a,7-四氮杂茚100mg、作为防腐剂的Proxel(商品名称，ICICo.,Ltd.制造)100mg。最后获得的乳剂包含0.08摩尔％的碘化银，是将氯溴化银的比率设为氯化银70摩尔％、溴化银30摩尔％的、平均粒径为0.22μm、变动系数为9％的碘氯溴化银立方体粒子乳剂。

(感光层形成用组合物的制备)

在上述乳剂中添加1.2×10-4摩尔/摩尔Ag的1,3,3a,7-四氮茚、1.2×10-2摩尔/摩尔Ag的对苯二酚、3.0×10-4摩尔/摩尔Ag的柠檬酸、0.90g/摩尔Ag的2,4-二氯-6-羟基-1,3,5-三嗪钠盐以及微量的坚膜剂，使用柠檬酸将涂布液pH调整为5.6。

在上述涂布液中，以相对于所含有的明胶成为聚合物/明胶(质量比)＝0.5/1的方式添加了由(P-1)显示的聚合物和含有包含二烷基苯基PEO硫酸酯的分散剂的聚合物乳胶(分散剂/聚合物的质量比为2.0/100＝0.02)。

而且，作为交联剂，添加了EPOXY RESIN DY 022(商品名称：Nagase ChemteXCorporation.制造)。另外，以后述感光层中的交联剂的量成为0.09g/m²的方式调整了交联剂的添加量。

如以上制备出了感光层形成用组合物。

另外，由上述式(P-1)显示的聚合物为参考日本专利第3305459号以及日本专利第3754745号而合成的。

(感光层形成工序)

在透明基体30的两个面上涂布上述聚合物乳胶，并设置了厚度为0.05μm的底涂层。在透明基体30中，使用了100μm的聚对苯二甲酸乙二酯(PET)薄膜(FujifilmCorporation制造)。

接着，在底涂层上设置有防光晕层，该防光晕层包含上述聚合物胶乳、明胶及以约1.0的光学浓度通过显影液的碱脱色的染料的混合物。另外，聚合物与明胶的混合质量比(聚合物/明胶)为2/1，聚合物的含量为0.65g/m²。

在上述防光晕层上涂布上述感光层形成用组合物，进而以明胶量成为0.08g/m²的方式涂布以固体成分质量比(聚合物/明胶/EPOCROS K-2020E/SNOWTEX C)1/1/0.3/2混合上述聚合物乳胶、明胶、EPOCROS K-2020E(商品名称：NIPPON SHOKUBAI CO.,LTD.制造，噁唑啉系交联反应性聚合物乳胶(交联性基团：噁唑啉基))、SNOWTEX C(商品名称：NissanChemical Industries，Ltd.制造，胶体二氧化硅)而成的组合物，从而获得了在两个面形成有感光层的支撑体。将在两个面上形成有感光层的支撑体设为薄膜A。所形成的感光层的银量为6.2g/m²，明胶量为1.0g/m²。

(曝光显影步骤)

事先分别准备上述图42～图75及图76的布线图案的光掩模，在上述薄膜A的两个面上配置上述图42～图75及图76的各布线图案的光掩模，使用将高压汞灯作为光源的平行光进行了曝光。

曝光后，利用下述显影液进行显影，进一步使用定影液(商品名称：CN16X用N3X-R，Fujifilm Corporation制造)进行了显影处理。而且，利用纯水进行冲洗，并进行干燥，由此获得了在两个面上形成有由Ag(银)细线构成的功能性图案、由Ag细线构成的厚度调整用图案及明胶层的支撑体。在Ag细线之间形成有明胶层。将所获得的薄膜设为薄膜B。

(显影液的组成)

在1升(L)显影液中包含以下化合物。

(明胶分解处理)

相对于薄膜B，经120秒钟浸渍于蛋白水解酶(Nagase ChemteX Corporation.制造的Bioprase AL-15FG)的水溶液(蛋白水解酶的浓度：0.5质量％，液温：40℃)中。从水溶液取出薄膜B，在温水(液温：50℃)中浸渍120秒钟，并进行了清洗。将明胶分解处理后的薄膜设为薄膜C。

(低电阻化处理)

相对于上述薄膜C，使用包括金属制辊子的压延装置，在30kN的压力下进行了压延处理。此时，同时输送2个具有线粗糙度Ra＝0.2μm、Sm＝1.9μm(通过KEYENCE CORPORATION.制造的形状分析激光显微镜VK-X110进行的测定(JIS-B-0601-1994))的粗面形状的PET薄膜，以使它们的粗面与上述薄膜C的表面及背面面对，在上述薄膜C的表面及背面转印形成了粗面形状。

上述压延处理后，经120秒钟通过温度为150℃的过热蒸汽槽，进行了加热处理。将加热处理后的薄膜设为薄膜D。该薄膜D为导电性薄膜。

接着，对实施例1～实施例37及比较例1～比较例10进行说明。

关于实施例1～实施例37及比较例1～比较例10的导电性薄膜，如下述表1中所示那样进行了制作。关于金属细线的线宽调整，通过调整曝光掩模中与金属细线相当的图案的宽度、曝光量、曝光波长、显影液、显影时间以及显影温度条件，以获得事先所确定的线宽的方式实施了处理。曝光量为曝光亮度及曝光时间。

(实施例1)

实施例1中，作成具有图44中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例2)

实施例2中，作成具有图46中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例3)

实施例3中，作成具有图48中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例4)

实施例4中，作成具有图50中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例5)

实施例5中，作成具有图52中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例6)

实施例6中，作成具有图58中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例7)

实施例7中，作成具有图60中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例8)

实施例8中，作成具有图62中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例9)

实施例9中，作成具有图64中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例10)

实施例10中，作成具有图66中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例11)

实施例11中，作成具有图68中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例12)

实施例12中，作成具有图70中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例13)

实施例13中，作成具有图74中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例14)

实施例14中，作成具有图45中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例15)

实施例15中，作成具有图43中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例16)

实施例16中，作成具有图47中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例17)

实施例17中，作成具有图49中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例18)

实施例18中，作成具有图53中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例19)

实施例19中，作成具有图55中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例20)

实施例20中，作成具有图57中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例21)

实施例21中，作成具有图59中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例22)

实施例22中，作成具有图61中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例23)

实施例23中，作成具有图63中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例24)

实施例24中，作成具有图65中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例25)

实施例25中，作成具有图67中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例26)

实施例26中，作成具有图69中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例27)

实施例27中，作成具有图73中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(实施例28)

实施例28中，作成具有图48中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为2.5μm，开口率为98.3％。

(实施例29)

实施例29中，作成具有图48中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为2.0μm，开口率为98.7％。

(实施例30)

实施例30中，作成具有图48中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为1.5μm，开口率为99.0％。

(实施例31)

实施例31中，作成具有图48中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为1.0μm，开口率为99.3％。

(实施例32)

实施例32中，作成具有图48中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为0.5μm，开口率为99.7％。

(实施例33)

实施例32中，作成具有图49中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为2.5μm，开口率为98.3％。

(实施例34)

实施例34中，作成具有图49中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为2.0μm，开口率为98.7％。

(实施例35)

实施例35中，作成具有图49中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为1.5μm，开口率为99.0％。

(实施例36)

实施例36中，作成具有图49中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为1.0μm，开口率为99.3％。

(实施例37)

实施例37中，作成具有图49中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为0.5μm，开口率为99.7％。

(比较例1)

比较例1中，作成具有图42中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(比较例2)

比较例2中，作成具有图54中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(比较例3)

比较例3中，作成具有图56中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(比较例4)

比较例4中，作成具有图70中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(比较例5)

比较例5中，作成具有图51中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(比较例6)

比较例6中，作成具有图71中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(比较例7)

比较例7中，作成具有图73中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(比较例8)

比较例8中，作成具有图76中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为3.0μm，开口率为98.0％。

(比较例9)

比较例9中，作成具有图76中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为2.0μm，开口率为98.7％。

(比较例10)

比较例10中，作成具有图76中所示的布线图案的导电性薄膜。将金属细线的线宽设为1.0μm，开口率为99.3％。

图76中所示的布线图案由第一布线图案100和第二布线图案102组成，第一布线图案100由金属细线36构成且开口部104为菱形，所述第二布线图案102由金属细线36构成且开口部104为菱形。第一布线图案100的菱形的开口部104与第二布线图案102的菱形的开口部104设为相同的大小。开口部104的一边的长度Pa设为150μm。

比较例8～比较例10中，为了兼备波纹视觉辨认性和干扰视觉辨认性，图案作成时制作多个偏角(第一布线图案100的金属细线36和第二布线图案102的金属细线36所形成的角)不同的导电性薄膜来进行准备，其中包括选择能够使模型通用性的评价为A的导电性薄膜的步骤。

[表1]

如表1所示，实施例1～实施例37中，与比较例1～比较例10相比，针对波纹视觉辨认性、干扰视觉辨认性及光泽视觉辨认性获得了良好的结果。而且，还具有模型通用性，与显示单元的分辨率无关地，针对波纹视觉辨认性及干扰视觉辨认性也获得了良好的结果。

比较例1～比较例7中，变动系数较大，干扰视觉辨认性较差，无法兼顾波纹的产生的抑制和干扰的产生的抑制。比较例8～比较例10中，开口部为菱形且变动系数为0％，但是光泽视觉辨认性较差。

第一布线图案为类型01edge(实施例1、实施例14)、类型01stan(实施例2、实施例16)、类型02(实施例3、实施例17、实施例28～实施例37)、类型04(实施例5、实施例18)、类型07(实施例6、实施例21)、类型09(实施例8、实施例23)、类型10(实施例9、实施例24)、类型11(实施例10、实施例25)、类型12(实施例11、实施例26)中，重心图案和垂直图案中的任一者或两者中，针对波纹视觉辨认性或干扰视觉辨认性获得了良好的结果。

符号说明

10-导电性薄膜，10a、12a-表面，12-保护层，13-触摸传感器，14-检测部，16-触摸面板，18-光学透明层，20-显示装置，22-显示单元，24-显示设备，26-像素，26b-蓝色子像素，26g-绿色子像素，26r-红色子像素，27-黑色矩阵，28-黑色矩阵图案，30、31-透明基体，30a、31a-表面，30b-背面，30c-一边，32-第1导电部，33-第一边缘布线，34-第2导电部，35-第二边缘布线，36-金属细线，37-传感器区域，38-粘接层，39-端子，40、40a、40b、40c、40d、40e、40f、40g、40h、40j、40k、40m、40n、40p、40r、43-全等凸五边形(凸五边形)，41、41a、41b、41c、41d、41e、41f、41g、41h、41j、41k、41m、41n、41p、41r、43a、51、53、55、62、63-开口部，42、42a、42b、42c、42d、42e、42f、42g、42h、42j、42k、42m、42n、42p、42r、43b-第一布线图案，43c-重复单元，44-外形线，45-区域，44-外形线，47-直线，50、52-第二布线图案，57、57a、57b、57c、57d-垂直平分线，100-第一布线图案，102-第二布线图案，104-开口部，60-开口部组，D1-第一方向，D2-第二方向，D3-层叠方向，Dn-垂直方向，G-重心，Pv-垂直像素间距，Ph-水平像素间距，t-厚度，w-线宽。

Claims

1.一种导电性薄膜，其设置于显示装置的显示单元上，所述导电性薄膜的特征在于，具有：

第一导电部，其具有由金属细线构成且排列有多个全等凸五边形的第一开口部的第一布线图案；及

第二导电部，其相对于所述第一导电部至少重叠一部分并分开间隔而配置成层状，

所述第二导电部具有由金属细线构成且具备多个开口部的第二布线图案，

从将所述第一导电部和所述第二导电部重叠而成的层叠方向观察时，由所述第一导电部的所述第一布线图案和所述第二导电部的所述第二布线图案构成的开口部组中，开口部面积的变动系数小于52％。

2.根据权利要求1所述的导电性薄膜，其中，

所述第二导电部的所述第二布线图案的所述开口部为多边形，且将所述全等凸五边形的所述第一开口部的重心位置作为顶点。

3.根据权利要求1所述的导电性薄膜，其中，

所述第二导电部的所述第二布线图案的所述开口部为多边形，由所述全等凸五边形的所述第一开口部的各边的垂直平分线构成所述开口部的边中的至少一边。

4.根据权利要求1～3中任意一项所述的导电性薄膜，其中，

所述凸五边形具有边a、边b、边c、边d及边e，当设角A为边a和边b所形成的角，设角B为所述边b和所述边c所形成的角，设角C为所述边c和所述边d所形成的角，设角D为所述边d和所述边e所形成的角，设角E为所述边e和所述边a所形成的角时，满足角A+角B+角C＝180°，

使所述凸五边形的所述边b和所述凸五边形的所述边c交汇，并且所述边e配置在直线上。

5.根据权利要求1～3中任意一项所述的导电性薄膜，其中，

多个所述凸五边形配置成使所述凸五边形的边b和所述凸五边形的边c交汇，并且改变所述多个所述凸五边形的所述边e与事先所确定的直线相距的距离。

6.根据权利要求1～3中任意一项所述的导电性薄膜，其中，所述凸五边形具有边a、边b、边c、边d及边e,当设角A为所述边a和所述边b所形成的角，设角B为所述边b和所述边c所形成的角，设角C为所述边c和所述边d所形成的角，设角D为所述边d和所述边e所形成的角，设角E为所述边e和所述边a所形成的角时，

满足角A+角B+角D＝180°，并且满足边a＝边d。

7.根据权利要求1～3中任意一项所述的导电性薄膜，其中，

所述凸五边形具有边a、边b、边c、边d及边e，当设角A为所述边a和所述边b所形成的角，设角B为所述边b和所述边c所形成的角，设角C为所述边c和所述边d所形成的角，设角D为所述边d和所述边e所形成的角，设角E为所述边e和所述边a所形成的角时，

满足角C＝角E＝90°、边a＝边e，并且满足边c＝边d。

8.根据权利要求1～3中任意一项所述的导电性薄膜，其中，

满足角B×2+角C＝360°、角D×2+角A＝360°，并且满足边a＝边b＝边c＝边d。

9.根据权利要求1～3中任意一项所述的导电性薄膜，其中，

满足角E×2+角B＝360°、角D×2+角C＝360°，并且满足边a＝边b＝边c＝边d。

10.根据权利要求1～3中任意一项所述的导电性薄膜，其中，

满足角A＝90°、角B+角E＝180°、角D×2+角E＝360°、角C×2+角B＝360°，并且满足边a＝边b＝(边c+边e)。

11.根据权利要求1～3中任意一项所述的导电性薄膜，其中，

满足角A＝90°、角C+角E＝180°、角B×2+角C＝360°，并且满足边d＝边e＝(边a×2+边c)。

12.根据权利要求1～3中任意一项所述的导电性薄膜，其中，

满足角A＝90°、角C+角E＝180°、角B×2+角C＝360°，并且满足边a×2＝边d＝(边c+边e)。

13.根据权利要求1～12中任意一项所述的导电性薄膜，其中，

所述金属细线的线宽为0.5μm以上且5μm以下。

14.根据权利要求1～13中任意一项所述的导电性薄膜，其中，

所述第一导电部设置于透明基体的一个面上，且所述第二导电部设置于所述透明基体的另一个面上。

15.根据权利要求1～14中任意一项所述的导电性薄膜，其中，

所述第一布线图案及所述第二布线图案叠加在所述显示单元的像素排列图案上。

16.根据权利要求15所述的导电性薄膜，其中，

所述像素排列图案为所述显示单元的黑色矩阵图案。

17.一种触摸面板，其特征在于，在显示装置的显示单元上配置有权利要求1～16中任意一项所述的导电性薄膜。