CN108299014A - 一种二次凸面瓷板画及其烧制工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种二次凸面瓷板画，包括一瓷板基板和设置在瓷板基板表面的底釉层，在底釉层的表面点涂有凸面釉烧结而成的凸点，底釉选用亚光釉，按照重量份数由30‑40份云母石、10‑20份钾长石、25‑35份高岭土、0.5‑2份骨粉、4‑10份钠长石、6‑18份碳酸钡、3‑18份霰石、2‑8份石灰石、6‑15份硼砂、10‑20份泻利盐和10‑15份氧化铝组成；二次凸面瓷板画在烧制时首先称取各釉浆原料湿磨生成料浆，然后将亚光釉喷涂于瓷板基板表面烘干后进行烧制，之后将凸面釉点涂于亚光基板上，再进行二次烧制即可制得二次凸面瓷板画；本发明所述二次凸面瓷板画及其烧制工艺，通过在亚光釉上点涂凸面釉，二次烧制，制作工艺简单，方便，使得瓷板画有凸起，通透感好，立体生动，富有表现力。

Description

一种二次凸面瓷板画及其烧制工艺
技术领域
本发明涉及瓷板画设计制作领域，具体涉及一种二次凸面瓷板画及其烧制工艺。
背景技术
瓷板画又称瓷画，作为一种文化的载体，发源于瓷都景德镇，由烧瓷艺术演绎而来，是瓷器文化与绘画艺术的完美结合，在一整块瓷板胚体上彩绘图案，经过烧制等一系列的工艺最终成为在瓷板上呈现色彩丰富图案的陶瓷板，具有很高的艺术及收藏价值，在市场上颇受欢迎。传统的瓷板画由画师手绘，制作周期长，很难大量生产，且价格昂贵，现有的工业化批量生产瓷板画的方法多采用贴花纸，将画印在贴花纸上，然后沾水将贴花纸贴在瓷胚上烧制而成，由于烧制温度过高，严重影响了画面的颜色，破坏了其艺术性，且极易褪色，易被水等侵蚀，且画面结构单一，不够立体生动，没有表现力，严重阻碍了瓷板画的发展。
发明内容
为了解决上述问题，本发明的目的是提出一种二次凸面瓷板画及其烧制工艺，通过在亚光釉上点涂凸面釉，然后进行二次烧制，制作工艺简单，方便，节省了企业成本，使得制成的瓷板画底釉光泽柔和，平整细腻，有透明的凸起，通透感好，立体生动，富有表现力，具有很强的艺术性和收藏性。
本发明为了解决上述问题所采取的技术方案为：一种二次凸面瓷板画，该瓷板画包括一瓷板基板和设置在瓷板基板表面的底釉层，在底釉层的表面点涂有凸面釉烧结而成的凸点，所述的底釉选用亚光釉，按照重量份数由30-40份云母石、10-20份钾长石、25-35份高岭土、0.5-2份骨粉、4-10份钠长石、6-18份碳酸钡、3-18份霰石、2-8份石灰石、6-15份硼砂、10-20份泻利盐和10-15份氧化铝组成；
所述的凸面釉按照重量份数由30-50份石英、20-40份钾长石、8-15份硼砂、6-15份硅酸锆、3-8份氧化镁、2-8份氧化锌、2-8份氧化钠、6-16份碳酸钡、3-18份碳酸钙和3-5份氧化锂和1-5份防流釉助剂组成，防流釉助剂由0.1-0.5份N,N-二甲基丙酰胺和1-1.5份α磷酸锆组成，该防流釉助剂在使用前先进行预处理，具体操作如下：首先向α磷酸锆中加入其重量8-10倍的水混匀，之后加入其干粉重量2-3倍的质量分数为30%的甲胺溶液混匀后，20K-25KHz超声10-15s混匀呈胶体化，间隔5s，再加入N,N-二甲基丙酰胺20K-25KHz超声10-15s混匀后加入N,N-二甲基丙酰胺重量0.5%的过硫酸铵作为引发剂，而后升温至68-75℃聚合反应1-2h后，75℃恒温烘干后粉碎即可制得防流釉助剂。
一种二次凸面瓷板画的烧制工艺，所述的二次凸面瓷板画在烧制时首先称取各釉浆原料湿磨生成料浆，然后将亚光釉喷涂于瓷板基板表面烘干后进行一次烧制得亚光基板，之后将凸面釉用毛笔点涂于亚光基板上形成一个水滴状凸起，再进行二次烧制即可制得二次凸面瓷板画。
所述的亚光釉的喷涂厚度为1.5-2.5mm，然后烘干进行烧制，烧制时，先用氧化火将烧制温度从室温均匀上升至1100-1150℃，升温速率为150-200℃/h，之后减少通风量，用还原火保温40-50min，再次升温至1250-1265℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温30-40min，停火，降至室温即完成一次烧制。
所述的凸面釉的点涂厚度为1.5-2.0cm。
所述的凸面釉烧制时全程使用氧化火，烧制温度从室温均匀上升至500-700℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温4h，再次升温至850-900℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温3h，停火，降至室温即完成烧制。
所述的亚光釉浆的含水量为48-53%，所述的凸面釉浆的含水量为20-25%。
本发明的有益效果：
1、本发明通过在亚光釉的釉料中添加骨粉、云母石等，熔融后使得烧成的瓷板画更加细腻，加入霰石后，其中的钙离子能增大哑光釉的光泽度，与泻利盐连用后，泻利盐中镁离子可以增大烧成的液体晶相的晶体析出率，但是钙离子、骨粉等又能抑制晶体的异常增大，其析出的晶体微小有规律的分散，嵌在玻璃晶体中将光线漫反射出去，得到的亚光釉釉料分布均匀，形成的釉面效果稳定，呈现亚光质感，光泽柔和；
2、本发明通过在凸面釉当中添加防流釉助剂，利用α磷酸锆的层间结构通过聚合反应将N,N-二甲基丙酰胺的酰胺基插入到层间结构中，增大对亚光釉表面的粘附性，形成一个保护膜，有效的防止流釉，且其胶质的特点还具有减水功效，使得形成的凸起烧制之后更加饱满，添加石英、硼砂等，烧制之后跟钾长石、氧化镁等形成了玻璃状化合物，晶莹剔透，添加硅酸锆、氧化锂等物质增加凸起的光泽度，更加通透，立体生动，富有表现力；
3、本发明所述的烧制工艺，通过先喷涂亚光釉，烧制之后，再点涂透明釉，之后进行二次凸面烧制，烧制工艺简单方便，节省了企业成本，由于透明釉的含水量少，只有20-25%，点釉之后，烧制时，随着水分的蒸发，形成一个透明的珠状凸起，使得制得的瓷板画富有层次感，更加的生动立体，具有很强的艺术性和收藏性。
具体实施方式
结合以下具体实施例，对本发明作进一步的详细说明，本发明的保护范围不局限于以下实施例。实施本发明的过程、条件、试剂、实验方法等，除以下专门提及的内容之外，均为本领域的普遍知识和公知常识，本发明没有特别限制内容。
实施例1
一种二次凸面瓷板画，该瓷板画包括一瓷板基板和设置在瓷板基板表面的底釉层，在底釉层的表面点涂有凸面釉烧结而成的凸点，所述的底釉选用亚光釉，按照重量份数由30份云母石、10份钾长石、25份高岭土、0.5份骨粉、4份钠长石、6份碳酸钡、3份霰石、2份石灰石、6份硼砂、10份泻利盐和10份氧化铝组成；
所述的凸面釉按照重量份数由30份石英、20份钾长石、8份硼砂、6份硅酸锆、3份氧化镁、2份氧化锌、2份氧化钠、6份碳酸钡、3份碳酸钙和3份氧化锂和1份防流釉助剂组成，防流釉助剂由0.1份N,N-二甲基丙酰胺和1份α磷酸锆组成，该防流釉助剂在使用前先进行预处理，具体操作如下：首先向α磷酸锆中加入其重量8-10倍的水混匀，之后加入其干粉重量2-3倍的质量分数为30%的甲胺溶液混匀后，20K-25KHz超声10-15s混匀呈胶体化，间隔5s，再加入N,N-二甲基丙酰胺20K-25KHz超声10-15s混匀后加入N,N-二甲基丙酰胺重量0.5%的过硫酸铵作为引发剂，而后升温至68-75℃聚合反应1-2h后，75℃恒温烘干后粉碎即可制得防流釉助剂。
一种二次凸面瓷板画的烧制工艺，所述的二次凸面瓷板画在烧制时首先称取各釉浆原料湿磨生成料浆，然后将亚光釉喷涂于瓷板基板表面烘干后进行一次烧制得亚光基板，之后将凸面釉用毛笔点涂于亚光基板上形成一个水滴状凸起，再进行二次烧制即可制得二次凸面瓷板画。
所述的亚光釉的喷涂厚度为1.5-2.5mm，然后烘干进行烧制，烧制时，先用氧化火将烧制温度从室温均匀上升至1100-1150℃，升温速率为150-200℃/h，之后减少通风量，用还原火保温40-50min，再次升温至1250-1265℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温30-40min，停火，降至室温即完成一次烧制。
所述的凸面釉的点涂厚度为1.5-2.0cm。
所述的凸面釉烧制时全程使用氧化火，烧制温度从室温均匀上升至500-700℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温4h，再次升温至850-900℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温3h，停火，降至室温即完成烧制。
所述的亚光釉浆的含水量为48-53%，所述的凸面釉浆的含水量为20-25%。
实施例2
一种二次凸面瓷板画，该瓷板画包括一瓷板基板和设置在瓷板基板表面的底釉层，在底釉层的表面点涂有凸面釉烧结而成的凸点，所述的底釉选用亚光釉，按照重量份数由32份云母石、15份钾长石、28份高岭土、1.25份骨粉、6份钠长石、12份碳酸钡、8份霰石、5份石灰石、8份硼砂、15份泻利盐和11份氧化铝组成；
所述的凸面釉按照重量份数由40份石英、25份钾长石、11份硼砂、8份硅酸锆、5份氧化镁、4份氧化锌、5份氧化钠、8份碳酸钡、10份碳酸钙和3.5份氧化锂和3份防流釉助剂组成，防流釉助剂由0.2份N,N-二甲基丙酰胺和1.25份α磷酸锆组成，该防流釉助剂在使用前先进行预处理，具体操作如下：首先向α磷酸锆中加入其重量8-10倍的水混匀，之后加入其干粉重量2-3倍的质量分数为30%的甲胺溶液混匀后，20K-25KHz超声10-15s混匀呈胶体化，间隔5s，再加入N,N-二甲基丙酰胺20K-25KHz超声10-15s混匀后加入N,N-二甲基丙酰胺重量0.5%的过硫酸铵作为引发剂，而后升温至68-75℃聚合反应1-2h后，75℃恒温烘干后粉碎即可制得防流釉助剂。
一种二次凸面瓷板画的烧制工艺，所述的二次凸面瓷板画在烧制时首先称取各釉浆原料湿磨生成料浆，然后将亚光釉喷涂于瓷板基板表面烘干后进行一次烧制得亚光基板，之后将凸面釉用毛笔点涂于亚光基板上形成一个水滴状凸起，再进行二次烧制即可制得二次凸面瓷板画。
所述的亚光釉的喷涂厚度为1.5-2.5mm，然后烘干进行烧制，烧制时，先用氧化火将烧制温度从室温均匀上升至1100-1150℃，升温速率为150-200℃/h，之后减少通风量，用还原火保温40-50min，再次升温至1250-1265℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温30-40min，停火，降至室温即完成一次烧制。
所述的凸面釉的点涂厚度为1.5-2.0cm。
所述的凸面釉烧制时全程使用氧化火，烧制温度从室温均匀上升至500-700℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温4h，再次升温至850-900℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温3h，停火，降至室温即完成烧制。
所述的亚光釉浆的含水量为48-53%，所述的凸面釉浆的含水量为20-25%。
实施例3
一种二次凸面瓷板画，该瓷板画包括一瓷板基板和设置在瓷板基板表面的底釉层，在底釉层的表面点涂有凸面釉烧结而成的凸点，所述的底釉选用亚光釉，按照重量份数由35份云母石、13份钾长石、30份高岭土、0.75份骨粉、7份钠长石、9份碳酸钡、10份霰石、4份石灰石、10份硼砂、13份泻利盐和12份氧化铝组成；
所述的凸面釉按照重量份数由35份石英、30份钾长石、9份硼砂、10份硅酸锆、4份氧化镁、5份氧化锌、4份氧化钠、11份碳酸钡、6份碳酸钙和4份氧化锂和2份防流釉助剂组成，防流釉助剂由0.3份N,N-二甲基丙酰胺和1.1份α磷酸锆组成，该防流釉助剂在使用前先进行预处理，具体操作如下：首先向α磷酸锆中加入其重量8-10倍的水混匀，之后加入其干粉重量2-3倍的质量分数为30%的甲胺溶液混匀后，20K-25KHz超声10-15s混匀呈胶体化，间隔5s，再加入N,N-二甲基丙酰胺20K-25KHz超声10-15s混匀后加入N,N-二甲基丙酰胺重量0.5%的过硫酸铵作为引发剂，而后升温至68-75℃聚合反应1-2h后，75℃恒温烘干后粉碎即可制得防流釉助剂。
一种二次凸面瓷板画的烧制工艺，所述的二次凸面瓷板画在烧制时首先称取各釉浆原料湿磨生成料浆，然后将亚光釉喷涂于瓷板基板表面烘干后进行一次烧制得亚光基板，之后将凸面釉用毛笔点涂于亚光基板上形成一个水滴状凸起，再进行二次烧制即可制得二次凸面瓷板画。
所述的亚光釉的喷涂厚度为1.5-2.5mm，然后烘干进行烧制，烧制时，先用氧化火将烧制温度从室温均匀上升至1100-1150℃，升温速率为150-200℃/h，之后减少通风量，用还原火保温40-50min，再次升温至1250-1265℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温30-40min，停火，降至室温即完成一次烧制。
所述的凸面釉的点涂厚度为1.5-2.0cm。
所述的凸面釉烧制时全程使用氧化火，烧制温度从室温均匀上升至500-700℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温4h，再次升温至850-900℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温3h，停火，降至室温即完成烧制。
所述的亚光釉浆的含水量为48-53%，所述的凸面釉浆的含水量为20-25%。
实施例4
一种二次凸面瓷板画，该瓷板画包括一瓷板基板和设置在瓷板基板表面的底釉层，在底釉层的表面点涂有凸面釉烧结而成的凸点，所述的底釉选用亚光釉，按照重量份数由38份云母石、16份钾长石、33份高岭土、1.6份骨粉、9份钠长石、15份碳酸钡、15份霰石、6份石灰石、12份硼砂、18份泻利盐和13份氧化铝组成；
所述的凸面釉按照重量份数由45份石英、35份钾长石、13份硼砂、12份硅酸锆、7份氧化镁、6份氧化锌、6份氧化钠、14份碳酸钡、15份碳酸钙和4.5份氧化锂和4份防流釉助剂组成，防流釉助剂由0.4份N,N-二甲基丙酰胺和1.3份α磷酸锆组成，该防流釉助剂在使用前先进行预处理，具体操作如下：首先向α磷酸锆中加入其重量8-10倍的水混匀，之后加入其干粉重量2-3倍的质量分数为30%的甲胺溶液混匀后，20K-25KHz超声10-15s混匀呈胶体化，间隔5s，再加入N,N-二甲基丙酰胺20K-25KHz超声10-15s混匀后加入N,N-二甲基丙酰胺重量0.5%的过硫酸铵作为引发剂，而后升温至68-75℃聚合反应1-2h后，75℃恒温烘干后粉碎即可制得防流釉助剂。
一种二次凸面瓷板画的烧制工艺，所述的二次凸面瓷板画在烧制时首先称取各釉浆原料湿磨生成料浆，然后将亚光釉喷涂于瓷板基板表面烘干后进行一次烧制得亚光基板，之后将凸面釉用毛笔点涂于亚光基板上形成一个水滴状凸起，再进行二次烧制即可制得二次凸面瓷板画。
所述的亚光釉的喷涂厚度为1.5-2.5mm，然后烘干进行烧制，烧制时，先用氧化火将烧制温度从室温均匀上升至1100-1150℃，升温速率为150-200℃/h，之后减少通风量，用还原火保温40-50min，再次升温至1250-1265℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温30-40min，停火，降至室温即完成一次烧制。
所述的凸面釉的点涂厚度为1.5-2.0cm。
所述的凸面釉烧制时全程使用氧化火，烧制温度从室温均匀上升至500-700℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温4h，再次升温至850-900℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温3h，停火，降至室温即完成烧制。
所述的亚光釉浆的含水量为48-53%，所述的凸面釉浆的含水量为20-25%。
实施例5
一种二次凸面瓷板画，该瓷板画包括一瓷板基板和设置在瓷板基板表面的底釉层，在底釉层的表面点涂有凸面釉烧结而成的凸点，所述的底釉选用亚光釉，按照重量份数由40份云母石、20份钾长石、35份高岭土、2份骨粉、10份钠长石、18份碳酸钡、18份霰石、8份石灰石、15份硼砂、20份泻利盐和15份氧化铝组成；
所述的凸面釉按照重量份数由50份石英、40份钾长石、15份硼砂、15份硅酸锆、8份氧化镁、8份氧化锌、8份氧化钠、16份碳酸钡、18份碳酸钙和5份氧化锂和5份防流釉助剂组成，防流釉助剂由0.5份N,N-二甲基丙酰胺和1.5份α磷酸锆组成，该防流釉助剂在使用前先进行预处理，具体操作如下：首先向α磷酸锆中加入其重量8-10倍的水混匀，之后加入其干粉重量2-3倍的质量分数为30%的甲胺溶液混匀后，20K-25KHz超声10-15s混匀呈胶体化，间隔5s，再加入N,N-二甲基丙酰胺20K-25KHz超声10-15s混匀后加入N,N-二甲基丙酰胺重量0.5%的过硫酸铵作为引发剂，而后升温至68-75℃聚合反应1-2h后，75℃恒温烘干后粉碎即可制得防流釉助剂。
一种二次凸面瓷板画的烧制工艺，所述的二次凸面瓷板画在烧制时首先称取各釉浆原料湿磨生成料浆，然后将亚光釉喷涂于瓷板基板表面烘干后进行一次烧制得亚光基板，之后将凸面釉用毛笔点涂于亚光基板上形成一个水滴状凸起，再进行二次烧制即可制得二次凸面瓷板画。
所述的亚光釉的喷涂厚度为1.5-2.5mm，然后烘干进行烧制，烧制时，先用氧化火将烧制温度从室温均匀上升至1100-1150℃，升温速率为150-200℃/h，之后减少通风量，用还原火保温40-50min，再次升温至1250-1265℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温30-40min，停火，降至室温即完成一次烧制。
所述的凸面釉的点涂厚度为1.5-2.0cm。
所述的凸面釉烧制时全程使用氧化火，烧制温度从室温均匀上升至500-700℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温4h，再次升温至850-900℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温3h，停火，降至室温即完成烧制。
所述的亚光釉浆的含水量为48-53%，所述的凸面釉浆的含水量为20-25%。

Claims (6)

1.一种二次凸面瓷板画，该瓷板画包括一瓷板基板和设置在瓷板基板表面的底釉层，在底釉层的表面点涂有凸面釉烧结而成的凸点，其特征在于：所述的底釉选用亚光釉，按照重量份数由30-40份云母石、10-20份钾长石、25-35份高岭土、0.5-2份骨粉、4-10份钠长石、6-18份碳酸钡、3-18份霰石、2-8份石灰石、6-15份硼砂、10-20份泻利盐和10-15份氧化铝组成；
所述的凸面釉按照重量份数由30-50份石英、20-40份钾长石、8-15份硼砂、6-15份硅酸锆、3-8份氧化镁、2-8份氧化锌、2-8份氧化钠、6-16份碳酸钡、3-18份碳酸钙和3-5份氧化锂和1-5份防流釉助剂组成，防流釉助剂由0.1-0.5份N,N-二甲基丙酰胺和1-1.5份α磷酸锆组成，该防流釉助剂在使用前先进行预处理，具体操作如下：首先向α磷酸锆中加入其重量8-10倍的水混匀，之后加入其干粉重量2-3倍的质量分数为30%的甲胺溶液混匀后，20K-25KHz超声10-15s混匀呈胶体化，然后加入N,N-二甲基丙酰胺20K-25KHz超声10-15s混匀后加入N,N-二甲基丙酰胺重量0.5%的过硫酸铵作为引发剂，升温至68-75℃聚合1-2h后，75℃恒温烘干即可制得防流釉助剂。
2.如权利要求1所述的一种二次凸面瓷板画的烧制工艺，其特征在于：所述的二次凸面瓷板画在烧制时首先称取各釉浆原料湿磨生成料浆，然后将亚光釉喷涂于瓷板基板表面烘干后进行一次烧制得亚光基板，之后将凸面釉点涂于亚光基板上形成一个水滴状凸起，再进行二次烧制即可制得二次凸面瓷板画。
3.如权利要求2所述的一种二次凸面瓷板画的烧制工艺，其特征在于：所述的亚光釉的喷涂厚度为1.5-2.5mm，然后烘干进行烧制，烧制时，先用氧化火将烧制温度从室温均匀上升至1100-1150℃，升温速率为150-200℃/h，之后减少通风量，用还原火保温40-50min，再次升温至1250-1265℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温30-40min，停火，降至室温即完成一次烧制。
4.如权利要求2所述的一种二次凸面瓷板画的烧制工艺，其特征在于：所述的凸面釉的点涂厚度为1.5-2.0cm。
5.如权利要求2所述的一种二次凸面瓷板画的烧制工艺，其特征在于：所述的凸面釉烧制时全程使用氧化火，烧制温度从室温均匀上升至500-700℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温4h，再次升温至850-900℃，升温速率为150-200℃/h，之后保温3h，停火，降至室温即完成烧制。
6.如权利要求1所述的一种二次凸面瓷板画的烧制工艺，其特征在于：所述的亚光釉浆的含水量为48-53%，所述的凸面釉浆的含水量为20-25%。
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