CN107336556A - 一种晶质透光瓷板画展示结构及其制备工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种晶质透光瓷板画展示结构及其制备工艺，该展示结构包括一上方开口的灯箱，灯箱内部设置光源，灯箱外侧设置电源开关，所述的灯箱开口上固定设置封闭用的玻璃板层，玻璃板层通过透光的无影胶层粘接有瓷板画，且在玻璃板层下表面经过蚀刻及多角度抛光形成曲率不同的曲面和斜面相互结合的折光面，以使光线打到折光面上形成不同的折射路线，进而光源通过玻璃板层、无影胶层多角度投射到瓷板画上实现不同的透光效果；本发明所述的晶质透光瓷板画展示结构及其制备工艺，通过设置灯箱，灯箱上方采用无影胶将瓷板画粘结在玻璃板上，使得该展示结构的瓷质细腻，骨瓷板胚体薄，重量轻，有较好的透光性，有朦胧感，具有很强的艺术性。

Description

一种晶质透光瓷板画展示结构及其制备工艺
技术领域
本发明属于瓷板画工艺品设计技术领域，尤其涉及一种晶质透光瓷板画展示结构及其制备工艺。
背景技术
瓷板画是瓷器文化与绘画艺术的完美结合，在一整块瓷板胚体上上釉绘出图案，经过烧制等一系列的工艺最终成为在瓷板上呈现色彩丰富图案的陶瓷板，具有很高的艺术及收藏价值。近年来，随着建筑装饰行业的兴起，透明瓷板画越来越受到广大消费者的欢迎，传统的透明瓷板画多是在瓷板上施加透明釉，达到透明的效果，但是传统的瓷板画胚体较厚，瓷质不够细腻，重量重，通透性不足，瓷板画的意境不能完全呈现出来。
传统的瓷板画在装饰时，多采用环氧树脂胶或者不饱和树脂胶等来粘结，强度低，粘附性差，固化时需要高温，易产生毒性气体，时间长了易变黄、白化，瓷板画容易脱落，影响其艺术性。
发明内容
为了解决上述问题，本发明的目的是提出一种晶质透光瓷板画展示结构及其制备工艺，通过用骨瓷板胚做瓷板画胚体，设置灯箱及玻璃板层，且玻璃板层添加了具有荧光效果的添加剂，并通过蚀刻等处理使玻璃板下表面形成折光面，通过无影胶将瓷板画粘结在玻璃板上，使得该瓷板画展示结构的瓷质细腻，骨瓷板胚体薄，重量轻，有较好的透光性，有朦胧感，具有很强的艺术性。
本发明为了解决上述问题所采取的技术方案为：一种晶质透光瓷板画展示结构，包括一上方开口的灯箱，灯箱内部设置光源，灯箱外侧设置电源开关，所述的灯箱开口上固定设置封闭用的玻璃板层，玻璃板层通过透光的无影胶层粘接有瓷板画，且在玻璃板层下表面经过蚀刻及多角度抛光形成曲率不同的曲面和斜面相互结合的折光面，以使光线打到折光面上形成不同的折射路线，进而光源通过玻璃板层、无影胶层多角度投射到瓷板画上实现不同的透光效果；所述的玻璃板的制备原料由主料和添加剂构成，其中，按照质量分数主料由30-40份二氧化锂、40-60份三氧化二铝、90-100份二氧化硅、1-5份氧化镁、0.1-2.0份氧化钾、0.5-2份氧化钠和0.5-5份三氧化二锑构成，添加剂由10-20份三氧化二铝、10-20份纳米二氧化钛、0.05-0.2份碳酸锶和0.05-0.2份氧化铕微波制备而成；所述的玻璃板在制备时首先将上述添加剂原料混合粉碎后加入其混合物重量5-8倍的75%的乙醇溶液混合后，微波反应3-5h，再经过850-900摄氏度烧制8-10h即制得液体添加剂；该玻璃板的制备过程依次经主料混合、烧制、倒模、加入添加剂、蚀刻、抛光制备而成，具体操作如下：将上述质量分数的主料通过球磨机粉碎混合后进行烧制，烧制时以250℃/h的升温速率升温至1380摄氏度，之后1380-1450℃煅烧5-8h成液体后倒入模具中，在倾倒的过程中，用喷枪向液体内喷射添加剂，之后震荡除泡，冷却至室温后脱模，之后根据瓷板画的厚度及其图案的意境运用强酸单面蚀刻1-2h以实现不同程度的透光度，然后用流水以冲洗的方式洗涤干净后，将蚀刻面进行多角度抛光形成曲率不同的曲面和斜面相互结合的折光面，即可制得该玻璃板；
所述的强酸为氢氟酸、硝酸、硫酸中的一种或几种任一比例的混合物；所述的瓷板画的原料包括骨瓷板胚料和釉料，骨瓷板胚料按照重量份数由30-40份骨粉，15-25份高岭土，25-35份钾长石，6-15份硼砂和烧结助剂组成，烧结助剂由6-15份硅酸锆，1-5份氧化锂、1-5份纳米二氧化钛和10-15份氧化铝经过300-350℃煅烧4-5h制备而成；釉料按照重量份数由25-40份钾长石，38-53份石英，8-15份硼砂，6-15份硅酸锆，2-8份氧化锌，5-16份碳酸钡，3-6份氧化锂和2-8份氧化钠组成；
所述的瓷板画在烧制时包括以下步骤：
步骤一、制备骨瓷板胚
1）按照上述重量份数称取骨瓷板胚料，将骨粉，高岭土，钾长石和硼砂混合均匀后加入其混合物重量3-5倍的水湿磨至300-350目，然后加入烧结助剂搅拌混合均匀，再倒入模具中压制成型后进行烧制，烧制时温度从室温均匀上升至1200-1250℃，升温速率为100-150℃/h，温度达到1200-1250℃时保温2-3小时，自然冷却至室温即得骨瓷板胚；
2）按照上述重量份数称取釉料，而后将钾长石，石英，硼砂，硅酸锆，氧化锌，碳酸钡，氧化锂和氧化钠混合后加入混合物重量3-5倍的水湿磨至300-350目即得釉浆；
3）将2）中制得的釉浆按照瓷板画图案均匀喷涂到1）中烧制好的骨瓷板胚上，然后进行烧制，烧制时温度从室温均匀上升至1100-1150℃，升温速率为100-150℃/h，温度达到1100-1150℃时保温3-5小时，自然冷却至室温后即得瓷板画；
一种晶质透光瓷板画展示结构的制备工艺，包括以下步骤：
步骤一、在灯箱上方均匀涂抹无影胶，涂层厚度为0.05-0.2mm，然后将玻璃板放置在灯箱上粘接封闭，且其未蚀刻面位于上表面；
步骤二、取烧制好的瓷板画，将瓷板画背面进行清洁后进行打磨，并除去打磨产生的粉尘；
步骤三、在玻璃板层上表面均匀涂抹无影胶，之后将瓷板画背面一侧的边与玻璃板层侧边对齐，倾斜45°角慢慢将瓷板画放置在玻璃板层上，用滚柱滚压至瓷板画与玻璃板层贴合紧密，之后除去瓷板画四周多余的无影胶，用紫外光照射10-30min至无影胶完全固化，即可制得该晶质透光瓷板画展示结构；
所述的无影胶的原料按照重量份数由40-60份甲基丙烯酸树脂，20-30份丙烯酸，1-5份1-羟基环己基苯基甲酮和1-2份消泡剂组成；
所述的无影胶制备时取上述重量的甲基丙烯酸树脂，丙烯酸和消泡剂混合顺时针搅拌均匀，然后加入1-羟基环己基苯基甲酮继续顺时针快速搅拌均匀，即可制得无影胶；
所述光源的波长设置为370-500nm。
本发明的有益效果：
1、本发明通过在瓷板画下方设置玻璃板层和灯箱，瓷板画与玻璃板层等粘接时采用无影胶，无影胶固化后完全透明，定型快，粘附性强，产品长期不变黄，不白化，灯光通过玻璃板层折射在瓷板画上，且玻璃板层内通过喷射添加剂，且该添加剂在微波作用下进行反应，添加纳米二氧化钛增大碳酸锶与氧化铕的分散性，反应更彻底，经过微波处理后，碳酸锶与氧化铕进行反应使得氧化铕的晶格凹陷增大，减少能量跃迁的难度，减少荧光激发难度，荧光发光时间长，再结合蚀刻及多角度抛光形成曲率不同的曲面和斜面相互结合的折光面，光源打到不同的折光面上形成不同的折射路线折射到瓷板画上，通过折射及干涉等效果改变其局部的透光率，营造多折射的荧光效果，增大瓷板画的透光性，荧光在瓷釉的折射下具有朦胧感，色彩斑斓，增加瓷板画的装饰效果，具有很强的艺术性；
2、本发明采用骨瓷板胚作为瓷板画的胚体，骨粉中的磷酸钙和钾长石、硼砂等共融，同时加入了烧结助剂，二氧化钛等可以增大物料的分散性，防止粉料团聚，使得烧制出来的成品玻璃相均匀且含量增高，降低烧结的温度，防止由于骨粉的加入胚体容易开裂的现象，且二氧化锂等金属的加入还能抑制晶格的异常生长，减少晶格间的间隙，减少气泡含量，增大瓷板画的致密性，同时骨粉的加入，使得瓷板画瓷质细腻、胚体薄、重量轻、有较好的透光性；
3、本发明所述的透明的瓷板画由于加入了灯箱的元素，可以更加多元化，不仅可以用于装饰，透光性强，也可用于特殊场景的照明，且灯光与玻璃板合用，即可多角度折射，还能有荧光效果，打造朦胧，似梦似幻的效果，具有很强的实用性，同时是艺术与建筑设计的巧妙结合，具有很高的艺术价值。
附图说明
图1为本发明一种透明瓷板的示意图；
图中标号：1、灯箱，2、光源，3、电源开关，4、玻璃板层，5、无影胶层，6、瓷板画。
具体实施方式
结合以下具体实施例，对本发明作进一步的详细说明，本发明的保护范围不局限于以下实施例。实施本发明的过程、条件、试剂、实验方法等，除以下专门提及的内容之外，均为本领域的普遍知识和公知常识，本发明没有特别限制内容。
实施例1
一种晶质透光瓷板画展示结构，包括一上方开口的灯箱1，灯箱1内部设置光源2，灯箱1外侧设置电源开关3，所述的灯箱1开口上固定设置封闭用的玻璃板层4，玻璃板层4通过透光的无影胶层5粘接有瓷板画6，且在玻璃板层4下表面经过蚀刻及多角度抛光形成曲率不同的曲面和斜面相互结合的折光面，以使光线打到折光面上形成不同的折射路线，进而光源2通过玻璃板层4、无影胶层5多角度投射到瓷板画6上实现不同的透光效果。
所述的玻璃板的制备原料由主料和添加剂构成，其中，按照质量分数主料由30份二氧化锂、40份三氧化二铝、90份二氧化硅、1份氧化镁、0.1份氧化钾、0.5份氧化钠和0.5份三氧化二锑构成，添加剂由10份三氧化二铝、10份纳米二氧化钛、0.05份碳酸锶和0.05份氧化铕微波制备而成。
所述的玻璃板在制备时首先将上述添加剂原料混合粉碎后加入其混合物重量5-8倍的75%的乙醇溶液混合后，微波反应3-5h，再经过850-900摄氏度烧制8-10h即制得液体添加剂；该玻璃板的制备过程依次经主料混合、烧制、倒模、加入添加剂、蚀刻、抛光制备而成，具体操作如下：将上述质量分数的主料通过球磨机粉碎混合后进行烧制，烧制时以250℃/h的升温速率升温至1380摄氏度，之后1380-1450℃煅烧5-8h成液体后倒入模具中，在倾倒的过程中，用喷枪向液体内喷射添加剂，之后震荡除泡，冷却至室温后脱模，之后根据瓷板画6的厚度及其图案的意境运用强酸单面蚀刻1-2h以实现不同程度的透光度，然后用流水以冲洗的方式洗涤干净后，将蚀刻面进行多角度抛光形成曲率不同的曲面和斜面相互结合的折光面，即可制得该玻璃板。
所述的强酸为氢氟酸、硝酸、硫酸中的一种或几种任一比例的混合物。
所述的瓷板画6的原料包括骨瓷板胚料和釉料，骨瓷板胚料按照重量份数由30份骨粉，15份高岭土，25份钾长石，6份硼砂和烧结助剂组成，烧结助剂由6份硅酸锆，1份氧化锂、1份纳米二氧化钛和10份氧化铝经过300-350℃煅烧4-5h制备而成；釉料按照重量份数由25份钾长石，38份石英，8份硼砂，6份硅酸锆，2份氧化锌，5份碳酸钡，3份氧化锂和2份氧化钠组成。
所述的瓷板画6在烧制时包括以下步骤：
步骤一、制备骨瓷板胚
1）按照上述重量份数称取骨瓷板胚料，将骨粉，高岭土，钾长石和硼砂混合均匀后加入其混合物重量3-5倍的水湿磨至300-350目，然后加入烧结助剂搅拌混合均匀，再倒入模具中压制成型后进行烧制，烧制时温度从室温均匀上升至1200-1250℃，升温速率为100-150℃/h，温度达到1200-1250℃时保温2-3小时，自然冷却至室温即得骨瓷板胚；
2）按照上述重量份数称取釉料，而后将钾长石，石英，硼砂，硅酸锆，氧化锌，碳酸钡，氧化锂和氧化钠混合后加入混合物重量3-5倍的水湿磨至300-350目即得釉浆；
3）将2）中制得的釉浆按照瓷板画图案均匀喷涂到1）中烧制好的骨瓷板胚上，然后进行烧制，烧制时温度从室温均匀上升至1100-1150℃，升温速率为100-150℃/h，温度达到1100-1150℃时保温3-5小时，自然冷却至室温后即得瓷板画。
一种晶质透光瓷板画展示结构的制备工艺，包括以下步骤：
步骤一、在灯箱1上方均匀涂抹无影胶，涂层厚度为0.05-0.2mm，然后将玻璃板放置在灯箱1上粘接封闭，且其未蚀刻面位于上表面；
步骤二、取烧制好的瓷板画6，将瓷板画6背面进行清洁后进行打磨，并除去打磨产生的粉尘；
步骤三、在玻璃板层4上表面均匀涂抹无影胶，之后将瓷板画6背面一侧的边与玻璃板层4侧边对齐，倾斜45°角慢慢将瓷板画6放置在玻璃板层4上，用滚柱滚压至瓷板画6与玻璃板层4贴合紧密，之后除去瓷板画6四周多余的无影胶，用紫外光照射10-30min至无影胶完全固化，即可制得该晶质透光瓷板画展示结构。
所述的无影胶的原料按照重量份数由40份甲基丙烯酸树脂，20份丙烯酸，1份1-羟基环己基苯基甲酮和1份消泡剂组成。
所述的无影胶制备时取上述重量的甲基丙烯酸树脂，丙烯酸和消泡剂混合顺时针搅拌均匀，然后加入1-羟基环己基苯基甲酮继续顺时针快速搅拌均匀，即可制得无影胶。
所述光源的波长设置为370-500nm。
实施例2
一种晶质透光瓷板画展示结构，包括一上方开口的灯箱1，灯箱1内部设置光源2，灯箱1外侧设置电源开关3，所述的灯箱1开口上固定设置封闭用的玻璃板层4，玻璃板层4通过透光的无影胶层5粘接有瓷板画6，且在玻璃板层4下表面经过蚀刻及多角度抛光形成曲率不同的曲面和斜面相互结合的折光面，以使光线打到折光面上形成不同的折射路线，进而光源2通过玻璃板层4、无影胶层5多角度投射到瓷板画6上实现不同的透光效果。
所述的玻璃板的制备原料由主料和添加剂构成，其中，按照质量分数主料由32份二氧化锂、45份三氧化二铝、92份二氧化硅、2份氧化镁、0.5份氧化钾、0.75份氧化钠和1.5份三氧化二锑构成，添加剂由13份三氧化二铝、13份纳米二氧化钛、0.08份碳酸锶和0.08份氧化铕微波制备而成。
所述的玻璃板在制备时首先将上述添加剂原料混合粉碎后加入其混合物重量5-8倍的75%的乙醇溶液混合后，微波反应3-5h，再经过850-900摄氏度烧制8-10h即制得液体添加剂；该玻璃板的制备过程依次经主料混合、烧制、倒模、加入添加剂、蚀刻、抛光制备而成，具体操作如下：将上述质量分数的主料通过球磨机粉碎混合后进行烧制，烧制时以250℃/h的升温速率升温至1380摄氏度，之后1380-1450℃煅烧5-8h成液体后倒入模具中，在倾倒的过程中，用喷枪向液体内喷射添加剂，之后震荡除泡，冷却至室温后脱模，之后根据瓷板画6的厚度及其图案的意境运用强酸单面蚀刻1-2h以实现不同程度的透光度，然后用流水以冲洗的方式洗涤干净后，将蚀刻面进行多角度抛光形成曲率不同的曲面和斜面相互结合的折光面，即可制得该玻璃板。
所述的强酸为氢氟酸、硝酸、硫酸中的一种或几种任一比例的混合物。
所述的瓷板画6的原料包括骨瓷板胚料和釉料，骨瓷板胚料按照重量份数由33份骨粉，18份高岭土，28份钾长石，8份硼砂和烧结助剂组成，烧结助剂由8份硅酸锆，2份氧化锂、2份纳米二氧化钛和11份氧化铝经过300-350℃煅烧4-5h制备而成；釉料按照重量份数由28份钾长石，40份石英，9份硼砂，8份硅酸锆，4份氧化锌，7份碳酸钡，3.5份氧化锂和4份氧化钠组成。
所述的瓷板画6在烧制时包括以下步骤：
步骤一、制备骨瓷板胚
1）按照上述重量份数称取骨瓷板胚料，将骨粉，高岭土，钾长石和硼砂混合均匀后加入其混合物重量3-5倍的水湿磨至300-350目，然后加入烧结助剂搅拌混合均匀，再倒入模具中压制成型后进行烧制，烧制时温度从室温均匀上升至1200-1250℃，升温速率为100-150℃/h，温度达到1200-1250℃时保温2-3小时，自然冷却至室温即得骨瓷板胚；
2）按照上述重量份数称取釉料，而后将钾长石，石英，硼砂，硅酸锆，氧化锌，碳酸钡，氧化锂和氧化钠混合后加入混合物重量3-5倍的水湿磨至300-350目即得釉浆；
3）将2）中制得的釉浆按照瓷板画图案均匀喷涂到1）中烧制好的骨瓷板胚上，然后进行烧制，烧制时温度从室温均匀上升至1100-1150℃，升温速率为100-150℃/h，温度达到1100-1150℃时保温3-5小时，自然冷却至室温后即得瓷板画。
一种晶质透光瓷板画展示结构的制备工艺，包括以下步骤：
步骤一、在灯箱1上方均匀涂抹无影胶，涂层厚度为0.05-0.2mm，然后将玻璃板放置在灯箱1上粘接封闭，且其未蚀刻面位于上表面；
步骤二、取烧制好的瓷板画6，将瓷板画6背面进行清洁后进行打磨，并除去打磨产生的粉尘；
步骤三、在玻璃板层4上表面均匀涂抹无影胶，之后将瓷板画6背面一侧的边与玻璃板层4侧边对齐，倾斜45°角慢慢将瓷板画6放置在玻璃板层4上，用滚柱滚压至瓷板画6与玻璃板层4贴合紧密，之后除去瓷板画6四周多余的无影胶，用紫外光照射10-30min至无影胶完全固化，即可制得该晶质透光瓷板画展示结构。
所述的无影胶的原料按照重量份数由45份甲基丙烯酸树脂，220份丙烯酸，2份1-羟基环己基苯基甲酮和1.25份消泡剂组成。
所述的无影胶制备时取上述重量的甲基丙烯酸树脂，丙烯酸和消泡剂混合顺时针搅拌均匀，然后加入1-羟基环己基苯基甲酮继续顺时针快速搅拌均匀，即可制得无影胶。
所述光源的波长设置为370-500nm。
实施例3
一种晶质透光瓷板画展示结构，包括一上方开口的灯箱1，灯箱1内部设置光源2，灯箱1外侧设置电源开关3，所述的灯箱1开口上固定设置封闭用的玻璃板层4，玻璃板层4通过透光的无影胶层5粘接有瓷板画6，且在玻璃板层4下表面经过蚀刻及多角度抛光形成曲率不同的曲面和斜面相互结合的折光面，以使光线打到折光面上形成不同的折射路线，进而光源2通过玻璃板层4、无影胶层5多角度投射到瓷板画6上实现不同的透光效果。
所述的玻璃板的制备原料由主料和添加剂构成，其中，按照质量分数主料由35份二氧化锂、50份三氧化二铝、95份二氧化硅、3份氧化镁、1份氧化钾、1.25份氧化钠和2.75份三氧化二锑构成，添加剂由15份三氧化二铝、15份纳米二氧化钛、0.13份碳酸锶和0.13份氧化铕微波制备而成。
所述的玻璃板在制备时首先将上述添加剂原料混合粉碎后加入其混合物重量5-8倍的75%的乙醇溶液混合后，微波反应3-5h，再经过850-900摄氏度烧制8-10h即制得液体添加剂；该玻璃板的制备过程依次经主料混合、烧制、倒模、加入添加剂、蚀刻、抛光制备而成，具体操作如下：将上述质量分数的主料通过球磨机粉碎混合后进行烧制，烧制时以250℃/h的升温速率升温至1380摄氏度，之后1380-1450℃煅烧5-8h成液体后倒入模具中，在倾倒的过程中，用喷枪向液体内喷射添加剂，之后震荡除泡，冷却至室温后脱模，之后根据瓷板画6的厚度及其图案的意境运用强酸单面蚀刻1-2h以实现不同程度的透光度，然后用流水以冲洗的方式洗涤干净后，将蚀刻面进行多角度抛光形成曲率不同的曲面和斜面相互结合的折光面，即可制得该玻璃板。
所述的强酸为氢氟酸、硝酸、硫酸中的一种或几种任一比例的混合物。
所述的瓷板画6的原料包括骨瓷板胚料和釉料，骨瓷板胚料按照重量份数由35份骨粉，20份高岭土，30份钾长石，10份硼砂和烧结助剂组成，烧结助剂由10份硅酸锆，3份氧化锂、3份纳米二氧化钛和12份氧化铝经过300-350℃煅烧4-5h制备而成；釉料按照重量份数由32份钾长石，43份石英，11份硼砂，10份硅酸锆，5份氧化锌，9份碳酸钡，4.5份氧化锂和6份氧化钠组成。
所述的瓷板画6在烧制时包括以下步骤：
步骤一、制备骨瓷板胚
1）按照上述重量份数称取骨瓷板胚料，将骨粉，高岭土，钾长石和硼砂混合均匀后加入其混合物重量3-5倍的水湿磨至300-350目，然后加入烧结助剂搅拌混合均匀，再倒入模具中压制成型后进行烧制，烧制时温度从室温均匀上升至1200-1250℃，升温速率为100-150℃/h，温度达到1200-1250℃时保温2-3小时，自然冷却至室温即得骨瓷板胚；
2）按照上述重量份数称取釉料，而后将钾长石，石英，硼砂，硅酸锆，氧化锌，碳酸钡，氧化锂和氧化钠混合后加入混合物重量3-5倍的水湿磨至300-350目即得釉浆；
3）将2）中制得的釉浆按照瓷板画图案均匀喷涂到1）中烧制好的骨瓷板胚上，然后进行烧制，烧制时温度从室温均匀上升至1100-1150℃，升温速率为100-150℃/h，温度达到1100-1150℃时保温3-5小时，自然冷却至室温后即得瓷板画。
一种晶质透光瓷板画展示结构的制备工艺，包括以下步骤：
步骤一、在灯箱1上方均匀涂抹无影胶，涂层厚度为0.05-0.2mm，然后将玻璃板放置在灯箱1上粘接封闭，且其未蚀刻面位于上表面；
步骤二、取烧制好的瓷板画6，将瓷板画6背面进行清洁后进行打磨，并除去打磨产生的粉尘；
步骤三、在玻璃板层4上表面均匀涂抹无影胶，之后将瓷板画6背面一侧的边与玻璃板层4侧边对齐，倾斜45°角慢慢将瓷板画6放置在玻璃板层4上，用滚柱滚压至瓷板画6与玻璃板层4贴合紧密，之后除去瓷板画6四周多余的无影胶，用紫外光照射10-30min至无影胶完全固化，即可制得该晶质透光瓷板画展示结构。
所述的无影胶的原料按照重量份数由50份甲基丙烯酸树脂，25份丙烯酸，3份1-羟基环己基苯基甲酮和1.5份消泡剂组成。
所述的无影胶制备时取上述重量的甲基丙烯酸树脂，丙烯酸和消泡剂混合顺时针搅拌均匀，然后加入1-羟基环己基苯基甲酮继续顺时针快速搅拌均匀，即可制得无影胶。
所述光源的波长设置为370-500nm。
实施例4
一种晶质透光瓷板画展示结构，包括一上方开口的灯箱1，灯箱1内部设置光源2，灯箱1外侧设置电源开关3，所述的灯箱1开口上固定设置封闭用的玻璃板层4，玻璃板层4通过透光的无影胶层5粘接有瓷板画6，且在玻璃板层4下表面经过蚀刻及多角度抛光形成曲率不同的曲面和斜面相互结合的折光面，以使光线打到折光面上形成不同的折射路线，进而光源2通过玻璃板层4、无影胶层5多角度投射到瓷板画6上实现不同的透光效果。
所述的玻璃板的制备原料由主料和添加剂构成，其中，按照质量分数主料由38份二氧化锂、55份三氧化二铝、98份二氧化硅、4份氧化镁、1.5份氧化钾、1.5份氧化钠和4份三氧化二锑构成，添加剂由18份三氧化二铝、18份纳米二氧化钛、0.16份碳酸锶和0.16份氧化铕微波制备而成。
所述的玻璃板在制备时首先将上述添加剂原料混合粉碎后加入其混合物重量5-8倍的75%的乙醇溶液混合后，微波反应3-5h，再经过850-900摄氏度烧制8-10h即制得液体添加剂；该玻璃板的制备过程依次经主料混合、烧制、倒模、加入添加剂、蚀刻、抛光制备而成，具体操作如下：将上述质量分数的主料通过球磨机粉碎混合后进行烧制，烧制时以250℃/h的升温速率升温至1380摄氏度，之后1380-1450℃煅烧5-8h成液体后倒入模具中，在倾倒的过程中，用喷枪向液体内喷射添加剂，之后震荡除泡，冷却至室温后脱模，之后根据瓷板画6的厚度及其图案的意境运用强酸单面蚀刻1-2h以实现不同程度的透光度，然后用流水以冲洗的方式洗涤干净后，将蚀刻面进行多角度抛光形成曲率不同的曲面和斜面相互结合的折光面，即可制得该玻璃板。
所述的强酸为氢氟酸、硝酸、硫酸中的一种或几种任一比例的混合物。
所述的瓷板画6的原料包括骨瓷板胚料和釉料，骨瓷板胚料按照重量份数由38份骨粉，23份高岭土，33份钾长石，12份硼砂和烧结助剂组成，烧结助剂由12份硅酸锆，4份氧化锂、4份纳米二氧化钛和13份氧化铝经过300-350℃煅烧4-5h制备而成；釉料按照重量份数由38份钾长石，48份石英，13份硼砂，12份硅酸锆，7份氧化锌，12份碳酸钡，5份氧化锂和7份氧化钠组成。
所述的瓷板画6在烧制时包括以下步骤：
步骤一、制备骨瓷板胚
1）按照上述重量份数称取骨瓷板胚料，将骨粉，高岭土，钾长石和硼砂混合均匀后加入其混合物重量3-5倍的水湿磨至300-350目，然后加入烧结助剂搅拌混合均匀，再倒入模具中压制成型后进行烧制，烧制时温度从室温均匀上升至1200-1250℃，升温速率为100-150℃/h，温度达到1200-1250℃时保温2-3小时，自然冷却至室温即得骨瓷板胚；
2）按照上述重量份数称取釉料，而后将钾长石，石英，硼砂，硅酸锆，氧化锌，碳酸钡，氧化锂和氧化钠混合后加入混合物重量3-5倍的水湿磨至300-350目即得釉浆；
3）将2）中制得的釉浆按照瓷板画图案均匀喷涂到1）中烧制好的骨瓷板胚上，然后进行烧制，烧制时温度从室温均匀上升至1100-1150℃，升温速率为100-150℃/h，温度达到1100-1150℃时保温3-5小时，自然冷却至室温后即得瓷板画。
一种晶质透光瓷板画展示结构的制备工艺，包括以下步骤：
步骤一、在灯箱1上方均匀涂抹无影胶，涂层厚度为0.05-0.2mm，然后将玻璃板放置在灯箱1上粘接封闭，且其未蚀刻面位于上表面；
步骤二、取烧制好的瓷板画6，将瓷板画6背面进行清洁后进行打磨，并除去打磨产生的粉尘；
步骤三、在玻璃板层4上表面均匀涂抹无影胶，之后将瓷板画6背面一侧的边与玻璃板层4侧边对齐，倾斜45°角慢慢将瓷板画6放置在玻璃板层4上，用滚柱滚压至瓷板画6与玻璃板层4贴合紧密，之后除去瓷板画6四周多余的无影胶，用紫外光照射10-30min至无影胶完全固化，即可制得该晶质透光瓷板画展示结构。
所述的无影胶的原料按照重量份数由55份甲基丙烯酸树脂，28份丙烯酸，4份1-羟基环己基苯基甲酮和1.75份消泡剂组成。
所述的无影胶制备时取上述重量的甲基丙烯酸树脂，丙烯酸和消泡剂混合顺时针搅拌均匀，然后加入1-羟基环己基苯基甲酮继续顺时针快速搅拌均匀，即可制得无影胶。
所述光源的波长设置为370-500nm。
实施例5
一种晶质透光瓷板画展示结构，包括一上方开口的灯箱1，灯箱1内部设置光源2，灯箱1外侧设置电源开关3，所述的灯箱1开口上固定设置封闭用的玻璃板层4，玻璃板层4通过透光的无影胶层5粘接有瓷板画6，且在玻璃板层4下表面经过蚀刻及多角度抛光形成曲率不同的曲面和斜面相互结合的折光面，以使光线打到折光面上形成不同的折射路线，进而光源2通过玻璃板层4、无影胶层5多角度投射到瓷板画6上实现不同的透光效果。
所述的玻璃板的制备原料由主料和添加剂构成，其中，按照质量分数主料由40份二氧化锂、60份三氧化二铝、100份二氧化硅、5份氧化镁、2.0份氧化钾、2份氧化钠和5份三氧化二锑构成，添加剂由20份三氧化二铝、20份纳米二氧化钛、0.2份碳酸锶和0.2份氧化铕微波制备而成。
所述的玻璃板在制备时首先将上述添加剂原料混合粉碎后加入其混合物重量5-8倍的75%的乙醇溶液混合后，微波反应3-5h，再经过850-900摄氏度烧制8-10h即制得液体添加剂；该玻璃板的制备过程依次经主料混合、烧制、倒模、加入添加剂、蚀刻、抛光制备而成，具体操作如下：将上述质量分数的主料通过球磨机粉碎混合后进行烧制，烧制时以250℃/h的升温速率升温至1380摄氏度，之后1380-1450℃煅烧5-8h成液体后倒入模具中，在倾倒的过程中，用喷枪向液体内喷射添加剂，之后震荡除泡，冷却至室温后脱模，之后根据瓷板画6的厚度及其图案的意境运用强酸单面蚀刻1-2h以实现不同程度的透光度，然后用流水以冲洗的方式洗涤干净后，将蚀刻面进行多角度抛光形成曲率不同的曲面和斜面相互结合的折光面，即可制得该玻璃板。
所述的强酸为氢氟酸、硝酸、硫酸中的一种或几种任一比例的混合物。
所述的瓷板画6的原料包括骨瓷板胚料和釉料，骨瓷板胚料按照重量份数由40份骨粉， 25份高岭土， 35份钾长石， 15份硼砂和烧结助剂组成，烧结助剂由15份硅酸锆， 5份氧化锂、5份纳米二氧化钛和15份氧化铝经过300-350℃煅烧4-5h制备而成；釉料按照重量份数由40份钾长石， 53份石英， 15份硼砂， 15份硅酸锆， 8份氧化锌， 16份碳酸钡， 6份氧化锂和8份氧化钠组成。
所述的瓷板画6在烧制时包括以下步骤：
步骤一、制备骨瓷板胚
1）按照上述重量份数称取骨瓷板胚料，将骨粉，高岭土，钾长石和硼砂混合均匀后加入其混合物重量3-5倍的水湿磨至300-350目，然后加入烧结助剂搅拌混合均匀，再倒入模具中压制成型后进行烧制，烧制时温度从室温均匀上升至1200-1250℃，升温速率为100-150℃/h，温度达到1200-1250℃时保温2-3小时，自然冷却至室温即得骨瓷板胚；
2）按照上述重量份数称取釉料，而后将钾长石，石英，硼砂，硅酸锆，氧化锌，碳酸钡，氧化锂和氧化钠混合后加入混合物重量3-5倍的水湿磨至300-350目即得釉浆；
3）将2）中制得的釉浆按照瓷板画图案均匀喷涂到1）中烧制好的骨瓷板胚上，然后进行烧制，烧制时温度从室温均匀上升至1100-1150℃，升温速率为100-150℃/h，温度达到1100-1150℃时保温3-5小时，自然冷却至室温后即得瓷板画。
一种晶质透光瓷板画展示结构的制备工艺，包括以下步骤：
步骤一、在灯箱1上方均匀涂抹无影胶，涂层厚度为0.05-0.2mm，然后将玻璃板放置在灯箱1上粘接封闭，且其未蚀刻面位于上表面；
步骤二、取烧制好的瓷板画6，将瓷板画6背面进行清洁后进行打磨，并除去打磨产生的粉尘；
步骤三、在玻璃板层4上表面均匀涂抹无影胶，之后将瓷板画6背面一侧的边与玻璃板层4侧边对齐，倾斜45°角慢慢将瓷板画6放置在玻璃板层4上，用滚柱滚压至瓷板画6与玻璃板层4贴合紧密，之后除去瓷板画6四周多余的无影胶，用紫外光照射10-30min至无影胶完全固化，即可制得该晶质透光瓷板画展示结构。
所述的无影胶的原料按照重量份数由60份甲基丙烯酸树脂， 30份丙烯酸， 5份1-羟基环己基苯基甲酮和2份消泡剂组成。
所述的无影胶制备时取上述重量的甲基丙烯酸树脂，丙烯酸和消泡剂混合顺时针搅拌均匀，然后加入1-羟基环己基苯基甲酮继续顺时针快速搅拌均匀，即可制得无影胶。
所述光源的波长设置为370-500nm。

Claims (10)

1.一种晶质透光瓷板画展示结构，包括一上方开口的灯箱（1），灯箱（1）内部设置光源（2），灯箱（1）外侧设置电源开关（3），其特征在于：所述的灯箱（1）开口上固定设置封闭用的玻璃板层（4），玻璃板层（4）通过透光的无影胶层（5）粘接有瓷板画（6），且在玻璃板层（4）下表面经过蚀刻及多角度抛光形成曲率不同的曲面和斜面相互结合的折光面，以使光线打到折光面上形成不同的折射路线，进而光源（2）通过玻璃板层（4）、无影胶层（5）多角度投射到瓷板画（6）上实现不同的透光效果。
2.如权利要求1所述的一种晶质透光瓷板画展示结构，其特征在于：所述的玻璃板的制备原料由主料和添加剂构成，其中，按照质量分数主料由30-40份二氧化锂、40-60份三氧化二铝、90-100份二氧化硅、1-5份氧化镁、0.1-2.0份氧化钾、0.5-2份氧化钠和0.5-5份三氧化二锑构成，添加剂由10-20份三氧化二铝、10-20份纳米二氧化钛、0.05-0.2份碳酸锶和0.05-0.2份氧化铕微波制备而成。
3.如权利要求2所述的一种晶质透光瓷板画展示结构，其特征在于：所述的玻璃板在制备时首先将上述添加剂原料混合粉碎后加入其混合物重量5-8倍的75%的乙醇溶液混合后，微波反应3-5h，再经过850-900摄氏度烧制8-10h即制得液体添加剂；该玻璃板的制备过程依次经主料混合、烧制、倒模、加入添加剂、蚀刻、抛光制备而成，具体操作如下：将上述质量分数的主料粉碎混合后进行烧制，烧制时以250℃/h的升温速率升温至1380摄氏度，之后1380-1450℃煅烧5-8h成液体后倒入模具中，在倒入过程中，向液体内喷射添加剂，冷却至室温后脱模，之后根据瓷板画（6）的厚度运用强酸单面蚀刻1-2h以实现不同程度的透光度，然后用水洗涤干净后，将蚀刻面多角度抛光即可制得该玻璃板。
4.如权利要求3所述的一种晶质透光瓷板画展示结构，其特征在于：所述的强酸为氢氟酸、硝酸、硫酸中的一种或几种的混合物。
5.如权利要求1所述的一种晶质透光瓷板画展示结构，其特征在于：所述的瓷板画（6）的原料包括骨瓷板胚料和釉料，骨瓷板胚料按照重量份数由30-40份骨粉，15-25份高岭土，25-35份钾长石，6-15份硼砂和烧结助剂组成，烧结助剂由6-15份硅酸锆，1-5份氧化锂、1-5份纳米二氧化钛和10-15份氧化铝经过300-350℃煅烧4-5h制备而成；釉料按照重量份数由25-40份钾长石，38-53份石英，8-15份硼砂，6-15份硅酸锆，2-8份氧化锌，5-16份碳酸钡，3-6份氧化锂和2-8份氧化钠组成。
6.如权利要求5所述的一种晶质透光瓷板画展示结构，其特征在于：所述的瓷板画（6）在烧制时包括以下步骤：
步骤一、制备骨瓷板胚
1）按照上述重量份数称取骨瓷板胚料，将骨粉，高岭土，钾长石和硼砂混合均匀后湿磨至300-350目，然后加入烧结助剂搅拌混合均匀，再倒入模具中成型后进行烧制，烧制时温度从室温均匀上升至1200-1250℃，升温速率为100-150℃/h，温度达到1200-1250℃时保温2-3小时，自然冷却至室温即得骨瓷板胚（6）；
2）按照上述重量份数称取釉料，而后将钾长石，石英，硼砂，硅酸锆，氧化锌，碳酸钡，氧化锂和氧化钠混合湿磨至300-350目即得釉浆；
3）将2）中制得的釉浆按照瓷板画（6）图案均匀喷涂到1）中烧制好的骨瓷板胚上，然后进行烧制，烧制时温度从室温均匀上升至1100-1150℃，升温速率为100-150℃/h，温度达到1100-1150℃时保温3-5小时，自然冷却至室温后即得瓷板画（6）。
7.如权利要求1所述的一种晶质透光瓷板画展示结构的制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：
步骤一、在灯箱（1）上方均匀涂抹无影胶，涂层厚度为0.05-0.2mm，然后将玻璃板放置在灯箱（1）上粘接封闭，且其未蚀刻面位于上表面；
步骤二、取烧制好的瓷板画（6），将瓷板画（6）背面进行清洁后进行打磨，并除去打磨产生的粉尘；
步骤三、在玻璃板层（4）上表面均匀涂抹无影胶，之后将瓷板画（6）背面一侧的边与玻璃板层（4）侧边对齐，倾斜45°角慢慢将瓷板画（6）放置在玻璃板层（4）上，滚压至瓷板画（6）与玻璃板层（4）贴合紧密，之后除去瓷板画（6）四周多余的无影胶，用紫外光照射10-30min至无影胶完全固化，即可制得该晶质透光瓷板画展示结构。
8.如权利要求1或7所述的一种晶质透光瓷板画展示结构的制备工艺，其特征在于：所述的无影胶的原料按照重量份数由40-60份甲基丙烯酸树脂，20-30份丙烯酸，1-5份1-羟基环己基苯基甲酮和1-2份消泡剂组成。
9.如权利要求8所述的一种晶质透光瓷板画展示结构的制备工艺，其特征在于：所述的无影胶制备时取上述重量的甲基丙烯酸树脂，丙烯酸和消泡剂混合顺时针搅拌均匀，然后加入1-羟基环己基苯基甲酮继续顺时针搅拌均匀，即可制得无影胶。
10.如权利要求1所述的一种晶质透光瓷板画展示结构的制备工艺，其特征在于：所述光源（2）的波长设置为370-500nm。
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