CN108218192A - 耐低铁玻璃侵蚀的电熔azs砖 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种耐低铁玻璃侵蚀的电熔AZS砖,属于耐火材料领域。所述的耐低铁玻璃侵蚀的电熔AZS砖,由下列质量分数的物质组成:ZrO2:31‑45%;SiO2:9‑14%;Na2O:0.6‑1.9%;掺杂氧化物:0.5‑16.5%,余量为氧化铝。所述的掺杂氧化物为Y2O3、Ta2O5、Nb2O5或SrO中的一种或几种。制得的电熔AZS砖具有良好的耐侵蚀性、较低的气孔率和较高的承受斜锆石相变应力的能力,较普通AZS砖,耐侵蚀性提高30%以上,玻璃相渗出率降低30%。
Description
技术领域
本发明涉及一种耐低铁玻璃侵蚀的电熔AZS砖,属于耐火材料领域。
背景技术
低铁玻璃在高档建筑、家具及太阳能技术领域具有广泛的应用,因此近年来得到极快的发展,生产该品种玻璃的窑炉与普通浮法玻璃窑炉结构基本相同。通常浮法玻璃窑炉中对电熔AZS池壁砖的侵蚀以液面线处最为严重,液面线下侵蚀逐渐减弱,但在低铁玻璃窑炉中因玻璃的铁含量低,玻璃液透热性强,玻璃液上下温差小,对池壁砖的侵蚀呈现出整体性,对池壁砖上下两端侵蚀都极为严重,此外因为低铁玻璃粘度低,对池壁砖缝处的侵蚀也非常严重。电熔AZS砖制造过程中遵循由外向内,由下向上的逐层冷却顺序,池壁砖上端液面线部位组织致密,耐侵蚀性强,而下端的致密性则较上端差。电熔AZS砖的这种结构特点,导致在低铁玻璃窑炉运行中容易发生中下部的漏料问题,不得不进行热修或停炉,导致严重的经济损失,并且存在人员安全问题。所以对于低铁玻璃窑炉而言,需要提高现有电熔AZS砖的耐侵蚀性。
作为现有的技术方案,国外公司推出了ER2010RIC产品,该产品中通过添加3wt.%的Y2O3来减少电熔AZS砖的膨胀率,使得高温下砖缝减小,以此减小低铁玻璃对砖缝的侵蚀。国内专利CN106588057A中同样采取了添加Y2O3降低膨胀量来增强砖材稳定性的技术方案。但以上方案都是针对砖缝处的侵蚀而采取的措施,对于如何提高电熔AZS砖的整体侵蚀,并没有提出相应的解决方法。
发明内容
针对现有技术的不足,本发明的目的是提供一种耐低铁玻璃侵蚀的电熔AZS砖,具有良好的耐侵蚀性、较低的气孔率和较高的承受斜锆石相变应力的能力。
为了全面提高电熔AZS砖的耐低铁玻璃的侵蚀性,需要采取更有效的技术方案。一方面通过配方改善,提高电熔AZS砖材质的耐侵蚀性;另一方面通过工艺改善,降低电熔AZS砖的气孔率,从而达到提高整体耐侵蚀性的目的。
常见电熔AZS砖中含有31-45wt.%的ZrO2,0.6-1.9wt.%的Na2O,9-14wt.%的SiO2,Al2O3用来补足余量,在这些成分中,ZrO2形成斜锆石相,Al2O3形成刚玉相,SiO2、Na2O形成玻璃相,其中斜锆石相与刚玉相形成交织的结构,玻璃相填充其中。在电熔AZS砖的使用过程中,熔融的玻璃液首先与电熔AZS砖中的玻璃相发生置换反应,将玻璃相替换掉后,玻璃液填充到空隙中,然后玻璃液再逐渐溶解掉电熔砖中的刚玉相,最后溶解掉斜锆石相。在低铁玻璃中置换反应的速度较普通浮法玻璃中的速度要快很多,因此要提高电熔AZS砖整体的耐侵蚀性只有减慢置换反应才能实现。对于特定成分的玻璃来说,其溶解玻璃相、刚玉相与斜锆石相的速度是一定的,要改变刚玉相、斜锆石相在玻璃液中的溶解速度难度非常大,而玻璃相的置换反应速度则可以通过引入不同的物质,调节高温下玻璃液的粘度来达到。
本发明在电熔AZS砖中引入高熔点的氧化物,提高玻璃相的粘度,从而减缓玻璃相的置换反应速度,达到提高电熔AZS砖耐侵蚀性的目的,同时确保电熔砖的裂纹发生率在可接受的范围内。
本发明所述的耐低铁玻璃侵蚀的电熔AZS砖,由下列质量分数的物质组成:
ZrO2:31-45%;
SiO2:9-14%;
Na2O:0.6-1.9%;
掺杂氧化物:0.5-16.5%,余量为氧化铝。
所述的掺杂氧化物为Y2O3、Ta2O5、Nb2O5或SrO中的一种或几种。
最佳耐侵蚀考虑,优选Nb2O5与Y2O3的混合物或者SrO与Y2O3的混合物,从成本考虑,优选Nb2O5或SrO。
所述的Y2O3添加量为2.5-6.5wt%。
优选的,所述的Y2O3添加量为3-6wt.%。
更优选的,所述的Y2O3添加量为3.5-4.5wt.%。
Y2O3在氧化锆增韧方面具有良好的效果,通常含量在2-3mol%之间,当其含量在3mol%时,氧化锆陶瓷材料力学性能达到最优。但对于电熔AZS砖来说,Y2O3大部分会溶解在玻璃相中,导致与氧化锆形成固溶体的比例降低,因此增大其含量。
所述的Nb2O5添加量为1.5-5.5wt.%。
优选的,所述的Nb2O5添加量为2.5-4.5wt.%。
更优选的,所述的Nb2O5添加量为3.0-4.0wt.%。
所述的Ta2O5添加量为0.5-1.5wt.%;SrO添加量为0.5-3wt.%。
优选的,所述的Ta2O5添加量为0.8-1.0wt.%;SrO添加量为1.0-2.5wt.%。
更优选的,所述的SrO添加量为1.0-2.0wt.%。
Ta2O5、Nb2O5和SrO在AZS电熔砖中同样会溶解在玻璃相中,但能够促进斜锆石相与刚玉相的共晶结构,提高氧化锆、氧化铝在玻璃相中的溶解度,提高玻璃相的高温粘度,从而减缓在低铁玻璃中的置换反应速度,达到增强耐侵蚀性的目的。但其含量过低时效果不显著,过高时则产品裂纹严重,难以制造。
本发明电熔AZS砖的制造方法,包括以下步骤:
1)将各种原料及掺杂氧化物按照配比混合后,加入电弧炉中;
2)采用三相电极进行熔化,熔化完成后吹氧澄清,然后浇铸到事先打制好的模型中;
3)通过可控的冷却退火后得到所需要的素材,并通过金刚石磨具加工后得到最终形状;
4)适用于低铁玻璃窑炉的应用。
与现有技术相比,本发明具有如下有益效果:
1、1500℃下耐低铁玻璃静态侵蚀量低于1.0mm/24hr,耐侵蚀性较普通AZS提高30%以上;
2、1500℃*20hr条件下玻璃相渗出量小于2.5%,较普通AZS降低30%;
3、1600℃*72hr条件下玻璃相渗出量低于5.0%,较普通AZS降低30%;
4、裂纹率低于5%,通常情况下,玻璃相粘度提高后,产品的裂纹率会增加,但本发明产品的合格率在90%以上,是因为玻璃相粘度提高后,能承受更大的斜锆石相变应力。
具体实施方式
下面结合实施例对本发明做进一步的说明。
将配方中含有31-45wt%的ZrO2,9-14wt%的SiO2,0.6-1.9wt%的Na2O组分的原料投入到三相电弧炉中,再至少投入一种质量范围如下的掺杂氧化物组分,其余用氧化铝补足;Y2O3:2.5-6.5%;Ta2O5:0.5-1.5%;Nb2O5:1.5-5.5%;SrO:0.5-3.0%。
浇铸成300*300*300的AZS砖块,每个配方浇铸数量20-70块,冷却加工后进行测试,分析项目参考JC/T493-2015的标准,耐侵蚀、玻璃相渗出量测试条件根据低铁玻璃窑炉的实际情况进行调整,裂纹规格按照JC/T493-2015执行,并认为裂纹率在≤10%以下属于允许范围,测试结果如表1所示。
上述实施例表明:添加高熔点掺杂氧化物能够有效提高电熔AZS砖的耐低铁玻璃侵蚀性。本发明产品的侵蚀量均远低于JC/T493-2015中的侵蚀标准,是非常适合低铁玻璃窑炉使用的,如果应用于普通浮法玻璃窑炉,使用寿命会更长。
实施例4-14表明采用Y2O3时,随着比例的增加,耐侵蚀性增强,但比例>6.5wt.%时,裂纹率明显增加,含量在3.5-4.5wt.%之间时裂纹率低,侵蚀量与玻璃相渗出量较低。
实施例16-25表明Nb2O5≥5.5wt.%时,裂纹率有增加的趋势,含量在3-4wt.%时各项指标处于最佳范围。
实施例26,28-31表明Ta2O5≥1.5wt.%时,裂纹率急剧上升,含量在1wt.%时各项指标处于最佳范围。
实施例33-42表明,加入SrO对增强耐侵蚀性及降低1500℃下玻璃相渗出量有明显作用,但加入量在3wt.%以上时裂纹率激增。
通过分析表明本发明的产品特别适用于低铁玻璃窑炉,如常见的光伏压延玻璃窑炉、超白玻璃窑炉等;当然在普通浮法玻璃窑炉中使用会具有更长的使用寿命。
Claims (8)
1.一种耐低铁玻璃侵蚀的电熔AZS砖,其特征在于:由下列质量分数的物质组成:
ZrO2:31-45%;
SiO2:9-14%;
Na2O:0.6-1.9%;
掺杂氧化物:0.5-16.5%,余量为氧化铝。
2.根据权利要求1所述的耐低铁玻璃侵蚀的电熔AZS砖,其特征在于:掺杂氧化物为Y2O3、Ta2O5、Nb2O5或SrO中的一种或几种。
3.根据权利要求2所述的耐低铁玻璃侵蚀的电熔AZS砖,其特征在于:Y2O3添加量为2.5-6.5wt.%。
4.根据权利要求3所述的耐低铁玻璃侵蚀的电熔AZS砖,其特征在于:Y2O3添加量为3-6wt.%。
5.根据权利要求2所述的耐低铁玻璃侵蚀的电熔AZS砖,其特征在于:Nb2O5添加量为1.5-5.5wt.%。
6.根据权利要求5所述的耐低铁玻璃侵蚀的电熔AZS砖,其特征在于:Nb2O5添加量为2.5-4.5wt.%。
7.根据权利要求2所述的耐低铁玻璃侵蚀的电熔AZS砖,其特征在于:Ta2O5添加量为0.5-1.5wt.%;SrO的添加量为0.5-3wt.%。
8.根据权利要求7所述的耐低铁玻璃侵蚀的电熔AZS砖,其特征在于:Ta2O5添加量为0.8-1.0wt.%;SrO添加量为1.0-2.5wt.%。
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PB01 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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CB02 | Change of applicant information | ||
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Address after: 255200 Shandong Province, Zibo city Boshan District Five Road No. 60 Applicant after: Zibo Aijiexu Corundum Material Co., Ltd. Address before: 255200 Shandong Province, Zibo city Boshan District Five Road No. 60 Applicant before: Zibo Xuxiaozi Corundum Material Co., Ltd. |
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GR01 | Patent grant | ||
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