CN108127540B - 一种电解铜箔生产用阴极辊的抛光工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明属于电解铜箔生产技术领域，尤其涉及一种电解铜箔生产用阴极辊的抛光工艺，步骤如下：采用抛光刷，对表面洁净干燥的阴极辊进行直接抛光，其中，抛光刷转速为120‑360r/min，抛光摆动频率为15‑80次/min，电解抛光电流为1.5‑6.0A。现有的抛光工艺多采用纯水等液体介质作为抛光液，采用这种湿法抛光工艺容易导致电解生箔针孔的产生。本发明可以在阴极辊表面直接抛光，避免了上述问题，简化工艺，同时能够有效改善阴极辊表面的形貌，利于铜结晶在阴极辊表面的有序电沉积，使电解出的铜箔表现出优异的性能。

Description

一种电解铜箔生产用阴极辊的抛光工艺
技术领域
本发明属于电解铜箔生产技术领域，尤其涉及一种电解铜箔生产用阴极辊的抛光工艺。
背景技术
铜箔是PCB行业和新能源行业的主要原料之一，高性能的电解铜箔是一种缺陷少、表面峰值均匀的铜箔。阴极辊是电解铜箔生产的关键设备，电解液中的铜离子在外电场的作用下电沉积到阴极辊的表面，随着阴极辊的匀速旋转，沉积在阴极辊表面上的铜不断被剥离下来，从而生产出电解铜箔，阴极辊对电解铜箔而言就好比人的心脏。由于电解铜箔是在阴极辊表面电沉积生成，是阴极辊表面形貌及晶体结构的延续，因此阴极辊表面形貌--包括晶粒大小、几何形状、平整度、粗糙度等直接影响了铜箔亮面的形态。同时，阴极辊的表面形貌对铜箔的毛面亦会有非常大的影响，包括表面的粗糙度、峰值的均匀性和一致性。当阴极辊表面形貌变差时，沉积的铜箔晶粒会大小不一，排列杂乱，导致渗透点或者针孔的出现。因此，一套成熟稳定的抛光工艺对电解铜箔生产具有非常重要的意义。
发明内容
本发明针对上述现有技术存在的不足，提供一种电解铜箔生产用阴极辊的抛光工艺。
本发明解决上述技术问题的技术方案如下：一种电解铜箔生产用阴极辊的抛光工艺，包括如下步骤：采用抛光刷，对表面洁净干燥的阴极辊进行直接抛光，其中，抛光刷转速为120-360r/min，抛光摆动频率为15-80次/min，电解抛光电流为1.5-6.0A。
进一步，所述的阴极辊为钛制阴极辊或不锈钢制阴极辊。
进一步，所述抛光刷的目数为1000#-2000#，抛光刷添加磨料为SiC或Al2O3。
进一步，抛光刷转速为180-300r/min，抛光摆动频率为20-60次/min，电解抛光电流为2.0-4.0A。
进一步，抛光时间为10-60min。
本发明的有益效果是：
现有的抛光工艺多采用纯水等液体介质作为抛光液，采用这种湿法抛光工艺容易导致电解生箔针孔的产生。本发明在阴极辊表面直接抛光，无需采用任何液体介质，简化工艺，且能够有效改善阴极辊表面的形貌，利于铜结晶在阴极辊表面的有序电沉积，使电解出的铜箔表现出优异的性能，同时采用该工艺避免了生箔针孔的产生。
附图说明
图1为本发明实施例1的电解铜箔光面×2000倍SEM照片；
图2为本发明实施例2的电解铜箔光面×2000倍SEM照片；
图3为本发明实施例3的电解铜箔光面×2000倍SEM照片；
图4为本发明实施例4的电解铜箔光面×2000倍SEM照片。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的原理和特征进行描述，所举实例只用于解释本发明，并非用于限定本发明的范围。
实施例1
选取1200#磨料为Al2O3的抛光刷，对表面洁净且干燥的钛制阴极辊进行抛光，抛光刷转速为260r/min，抛光摆动为60次/min,电解抛光电流为2.0A；阴极辊直径为2700mm，阴极辊转速为1.50m/min,抛光时间为12min。
所得毛箔试样光面的SEM照片如图1所示。
实施例2
选取1200#磨料为SiC的抛光刷，对表面洁净且干燥的钛制阴极辊进行抛光，抛光刷转速为200r/min，抛光摆动为30次/min,电解抛光电流为3.8A；阴极辊直径为2700mm，阴极辊转速为1.20m/min,抛光时间为21min。
所得毛箔试样光面的SEM照片如图2所示。
实施例3
选取1500#磨料为Al2O3的抛光刷，对表面洁净且干燥的钛制阴极辊进行抛光，抛光刷转速为120r/min，抛光摆动为76次/min,电解抛光电流为5.6A；阴极辊直径为2700mm，阴极辊转速为1.20m/min,抛光时间为35min。
所得毛箔试样光面的SEM照片如图3所示。
实施例4
选取1500#磨料为SiC的抛光刷，对表面洁净且干燥的钛制阴极辊进行抛光，抛光刷转速为160r/min，抛光摆动为16次/min,电解抛光电流为1.5A；阴极辊直径为2700mm，阴极辊转速为1.20m/min,抛光时间为28min。
所得毛箔试样光面的SEM照片如图4所示。
对比例1
选取1000#磨料为Al2O3的抛光刷，将表面洁净的阴极辊放在25℃纯水中进行抛光，抛光刷转速为380r/min，抛光摆动为300次/min，电解抛光电流为3.6A；阴极辊直径为2700mm，阴极辊转速为1.20m/min,抛光时间为35min。
对比例2
选取1200#磨料为SiC的抛光刷，将表面洁净的阴极辊放在25℃纯水中进行抛光，抛光刷转速为420r/min，抛光摆动为380次/min，电解抛光电流为5.2A；阴极辊直径为2700mm，阴极辊转速为1.20m/min,抛光时间为28min。
表1实施例1-4所得毛箔试样光面粗糙度测试数据
编号 粗糙度Ra/μm
实施例1 0.296
实施例2 0.306
实施例3 0.286
实施例4 0.282
表2实施例1-4和对比例1-2所得毛箔试样针孔测试情况
编号 35μm厚铜箔针孔情况
实施例1 无
实施例2 无
实施例3 无
实施例4 无
对比例1 有
对比例2 有
由图1-4和表1看出，使用本发明的抛光工艺，抛光效果良好，可有效改善阴极辊表面的形貌。同时，由表2可以看出，采用本发明的抛光工艺，制备出的铜箔无针孔，而采用湿法抛光制备出的铜箔含有大量针孔。
以上所述仅为本发明的较佳实施例，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (2)

1.一种电解铜箔生产用阴极辊的抛光工艺，其特征在于，包括如下步骤：采用抛光刷，对表面洁净干燥的阴极辊进行直接抛光，其中，抛光刷转速为120-260r/min，抛光摆动频率为16-76次/min，电解抛光电流为1.5-5.6A；
所述的阴极辊为钛制阴极辊或不锈钢制阴极辊；
所述抛光刷的目数为1200#-1500#，抛光刷添加磨料为SiC或Al2O3；
抛光时间为12-35min；
阴极辊在抛光过程中的转速为1.2-1.5m/min。
2.根据权利要求1所述的抛光工艺，其特征在于，抛光刷转速为200-260r/min，抛光摆动频率为30-60次/min，电解抛光电流为2.0-3.8A。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN109097779B (zh) * 2018-08-28 2020-10-30 常州大学 一种电解铜箔用钛阴极辊化学抛光液及抛光方法
CN110565158A (zh) * 2019-10-08 2019-12-13 陕西汉和新材料科技有限公司 一种新式阴极钛辊在线抛光方法及在线抛光装置
CN111235606B (zh) * 2020-03-02 2020-09-18 广东嘉元科技股份有限公司 阴极辊在线抛光防擦伤的方法及防擦伤阴极辊的生箔机
CN111775024A (zh) * 2020-05-19 2020-10-16 金川集团股份有限公司 一种钛阴极辊的在线抛光方法
CN111761418A (zh) * 2020-05-20 2020-10-13 金川集团股份有限公司 一种阴极辊精密研磨抛光方法
CN113478358A (zh) * 2021-06-25 2021-10-08 铜陵市华创新材料有限公司 用于减少4.5μm铜箔缺陷的阴极辊抛光工艺
CN113560964A (zh) * 2021-09-24 2021-10-29 江东电子材料有限公司 一种抛光方法和装置
CN115157018B (zh) * 2022-07-28 2023-12-12 九江德福科技股份有限公司 一种锂电铜箔解决箔面纹理不良的方法

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998028101A1 (en) * 1996-12-20 1998-07-02 Unique Technology International Private Limited Texturing and electro-deburring of magnetic disk substrate
CN1600499A (zh) * 2004-10-01 2005-03-30 梅县金象铜箔有限公司 电解铜箔阴极辊砂带抛磨的方法
CN1854348A (zh) * 2005-04-25 2006-11-01 联合铜箔(惠州)有限公司 210～400μm超厚电解铜箔及其复合工艺方法和设备
CN201863111U (zh) * 2010-11-12 2011-06-15 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 Pva阴极辊抛光机
CN203266297U (zh) * 2012-12-03 2013-11-06 赣州逸豪实业有限公司 一种电解铜箔阴极辊抛磨机
CN203779296U (zh) * 2014-03-03 2014-08-20 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 一种用于阴极辊在线抛光的抛光刷
CN104002204A (zh) * 2014-06-12 2014-08-27 广东嘉元科技股份有限公司 电解铜箔生产甚低轮廓铜箔用阴极辊的研磨方法
CN204108762U (zh) * 2014-09-27 2015-01-21 湖北中一科技有限公司 一种阴极辊抛磨装置
CN105177695A (zh) * 2015-08-10 2015-12-23 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 一种阴极辊pva抛光的工艺

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1998028101A1 (en) * 1996-12-20 1998-07-02 Unique Technology International Private Limited Texturing and electro-deburring of magnetic disk substrate
CN1600499A (zh) * 2004-10-01 2005-03-30 梅县金象铜箔有限公司 电解铜箔阴极辊砂带抛磨的方法
CN1854348A (zh) * 2005-04-25 2006-11-01 联合铜箔(惠州)有限公司 210～400μm超厚电解铜箔及其复合工艺方法和设备
CN201863111U (zh) * 2010-11-12 2011-06-15 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 Pva阴极辊抛光机
CN203266297U (zh) * 2012-12-03 2013-11-06 赣州逸豪实业有限公司 一种电解铜箔阴极辊抛磨机
CN203779296U (zh) * 2014-03-03 2014-08-20 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 一种用于阴极辊在线抛光的抛光刷
CN104002204A (zh) * 2014-06-12 2014-08-27 广东嘉元科技股份有限公司 电解铜箔生产甚低轮廓铜箔用阴极辊的研磨方法
CN204108762U (zh) * 2014-09-27 2015-01-21 湖北中一科技有限公司 一种阴极辊抛磨装置
CN105177695A (zh) * 2015-08-10 2015-12-23 灵宝华鑫铜箔有限责任公司 一种阴极辊pva抛光的工艺

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
电解铜箔用阴极辊的腐蚀与维护;黄友明;《第九届中国覆铜板市场•技术研讨会论文集》;20080701;第256-260页 *

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