CN107952530B - 搅拌器式球磨机 - Google Patents

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Abstract

本申请涉及一种搅拌器式球磨机。该搅拌器式球磨机包括位于可沿回旋方向(38)驱动的搅拌轴上的搅拌盘(18)，搅拌盘设置有夹带轮廓(35)。这些夹带轮廓(35)由通道(36)形成，这些具有相对于所述回旋方向(38)的后壁(39)的通道均包括相对于所述中央纵轴线(15)径向地笔直延伸并且具有长度f的内通道部分(40)，并且包括在下一阶段中逆着所述回旋方向(38)弯曲的弯曲外通道部分(41)。所述外通道部分(41)被所述搅拌盘(18)的具有径向宽度e的外周部(42)从外部径向地封闭。

Description

搅拌器式球磨机
技术领域
本发明涉及根据搅拌器式球磨机，并且涉及用于搅拌器式球磨机的搅拌盘。
背景技术
在从DE 1 632 424已知的具有水平布置的研磨室的搅拌器式球磨机中，公知具有圆形夹带轮廓的搅拌盘，夹带轮廓可由开口或者沟槽或者由平坦槽形成。夹带轮廓是圆形的并且具有盘的半径的50％至100％的曲率半径。倾斜角从盘的边缘开始沿朝盘的中心的方向增大30％至50％。因此，要实现实质性增大分散的效率而不损坏研磨体。由于大的曲率半径，相应成形的夹带轮廓以距离搅拌轴的大的径向距离在内部终止，并且实际在搅拌轴的横向侧终止。在径向内端处，夹带轮廓基本切向于搅拌轴的中央纵轴线(并因此切向于力矩矢量)延伸。总的来说，位于搅拌盘的内部中的研磨体的夹带(对应位于研磨室内的搅拌盘的表面的内部边界与外周边界之间的50％的径向延伸量)不尽如人意。设置有这样的搅拌盘的搅拌器式球磨机仅适于相当小程度地以研磨室的容积的40％至60％的研磨体填充研磨室。在搅拌盘的外周中，研磨体借助夹带轮廓的后壁在搅拌盘的平面中径向向外并且垂直于搅拌轴移动。在这样的搅拌器式球磨机中仅能实现低效率，此外，这样的搅拌器式球磨机在研磨室内分布不均匀。因此，对于这样的研磨过程而言，以对能量的相当高的特定需求能实现关于空间与时间消耗的低产量。
发明内容
因此，本发明的目标是以搅拌盘的较低的圆周速度实现较高效的研磨过程，并且此外实现用于加工的研磨材料的较窄的颗粒尺寸分布的生产的研磨过程的改进的能量效率，并且获得较高的产量。
就搅拌器式球磨机而言根据第一方面并且就搅拌盘而言根据第二方面实现此目标。对于研磨单元中对研磨体的更有效的夹带的特别强烈的循环流的形成而言，本发明的基本解决途径是形成夹带轮廓的加速后壁，夹带轮廓已经在其内部中以关于中央纵轴线成直角在搅拌轴处开始并且以向回弯曲的方式进一步向外并且不使夹带轮廓连续至盘外周(即，搅拌盘的外边缘)。惊人地，被证实：在其他传统搅拌器式球磨机的可比条件下，在夹带轮廓在达到搅拌盘的外边缘之前终止的情况下在加工的研磨材料内的较窄的颗粒分布方面，研磨质量提高。因此，一种解释是：借助夹带轮廓在夹带轮廓的径向外部中向外加速的研磨体相对于通过搅拌器式球磨机的流的总方向借助相应搅拌盘的前表面朝上游研磨单元重定向并且借助相应搅拌盘的后表面朝下游研磨单元重定向。因此，结果是向外加速的研磨体受搅拌盘的两侧限定地扇出(fan-out)，而不像现有技术中那样仅在搅拌盘的外边缘与研磨室的壁之间的区域中压缩研磨体。搅拌盘的外边缘附近(即，在搅拌盘的外边缘与研磨容器的壁之间的环形部分或者间隙中)不产生二次旋涡。这提供了搅拌器式球磨机的显著改进的平稳运行，连同提供搅拌盘以及外部研磨单元的壁的显著减小的磨损。由于根据本发明形成的搅拌盘的夹带轮廓，能够以研磨过程所需的大幅减小的特定能量来设置能用以实现预定研磨质量的那些参数。这些参数特别是研磨体的高填充度以及同时搅拌机的较低的旋转速度。
其它方面指定了根据本发明的搅拌器式球磨机的有利方面以及相应适用于根据本发明的搅拌盘。
附图说明
根据进一步的从属权利要求并且根据本发明的实施方式的借助附图的以下描述，本发明的另外的优势以及细节变得显而易见。这些附图示出：
图1是局部的剖面侧视图中的示意性表示中根据本发明的搅拌器式球磨机的实施方式；
图2是根据本发明的搅拌盘的第一实施方式的俯视图；
图3是根据图2的搅拌盘的局部剖面图；
图4是图1的具有根据图2以及图3的搅拌盘的相对于图1放大了尺寸的细节；
图5是俯视图中根据本发明的搅拌盘的第二实施方式；
图6是根据图5的搅拌盘的局部剖面图；
图7是图1的具有根据图5以及图6的搅拌盘的相对于图1放大了尺寸的细节；
图8是俯视图中根据本发明的搅拌盘的第三实施方式；
图9是根据图8的搅拌盘的局部剖面图；
图10是俯视图中根据本发明的搅拌盘的第四实施方式；以及
图11是根据图10的搅拌盘的局部剖面图。
具体实施方式
图1示出了水平的搅拌器式球磨机。搅拌器式球磨机一般包括支撑在地面2上的支架1。具有可控制的旋转速度的驱动马达3布置在支架1内并且配备有V形带轮4，搅拌器式球磨机的驱动轴7借助此V形带轮4经由V形带以及另外的V形带轮6可被驱动。在支架1的上部中，驱动轴7被多个轴承9支撑。
基本为圆筒形的研磨容器10可释放地安装至支架1的上部8。圆筒形的研磨容器10包括内壁11，并且由位于面向上部8的端部处的第一盖12封闭并由位于相反的端部处的第二盖13封闭。研磨容器包封研磨室14。因此，内壁11形成研磨室外边界。
搅拌轴16与研磨容器1和驱动轴7的公共中央纵轴线15同心地布置在研磨室14内，并且以对抗相对于纵轴线15的旋转而固定的方式连接至驱动轴7。研磨室14被位于第一盖12与驱动轴7之间的衬垫17密封。驱动轴7与搅拌轴16的组合以悬臂的方式被支撑，并因此在第二盖13的区域中不被支撑。搅拌轴16配备有位于研磨室14中的遍布搅拌轴16的整个长度的搅拌工具，搅拌工具具体化为圆形搅拌盘18。
搅拌盘18安装在搅拌轴16上并且一般例如借助键与槽连接以对抗相对于搅拌轴16的旋转而固定的方式保持在搅拌轴16上，并且借助间隔套筒19保持为轴向间隔开。搅拌轴16与间隔套筒19和搅拌盘18一起形成搅拌机20。间隔套筒19在内部界定大体圆筒形的研磨室14并且因此形成研磨室内部边界。
研磨材料供给口21在第一盖12的区域中通入到研磨室14中。研磨材料出口22在研磨容器10的与研磨材料供给口21的端部相反的那端处通向第二盖13之外。
在邻近第二盖13的最后一个搅拌盘18的外圆周处形成圆筒形保持架23。保持架包括分布在其整个圆周上的开口24。安装至第二盖13并且连接至研磨材料出口22的筛体26布置在由最后一个搅拌盘18以及保持架23界定的分离器空间25中。这些部分形成从EP 2 178642A1已知的研磨材料/研磨体分离器单元27，研磨材料(例如，研磨悬浮物)与研磨体33通过开口28进入研磨材料/研磨体分离器单元27中。
相邻的搅拌盘18彼此具有相同的轴向距离。而且，相邻的搅拌盘18限定分离角α，此分离角α由搅拌盘18的外边缘30与相邻搅拌盘18的位于搅拌轴16上(即，位于相应的间隔套筒19上)的基部之间的线29以及平行于轴线15的线31形成。以下情况适用：30°≤α≤60°。
外边缘30与壁11之间的环形间隙32的宽度b不超过研磨室14的在其内边缘与其外边界之间的自由半径R14的20％，也就是说，b≤0.2·R14。
研磨室14主要填充有研磨体33，优选填充由具有高密度的材料制成的研磨体33(例如，由具有6.0g/cm3的固体密度的ZrO2(二氧化锆)制成的高性能陶瓷)。研磨体的填充度在50％至90％的范围内，特别在80％至90％的范围内。对于期望的效果(即，以相当低的搅拌器旋转速度将各个搅拌盘18的表面的区域中的研磨体33向外运送到已经累积有研磨材料的地带中)而言，研磨体33的相对于研磨悬浮物的密度的高固体密度是重要的。研磨单元34(参见例如图4)形成在各个相邻的搅拌盘18之间。
搅拌盘18包括用于研磨体33的夹带轮廓35(参见例如图2)，这些夹带轮廓集成在各个搅拌盘18中并因此不从搅拌盘18的表面伸出，所述轮廓正好开始于研磨室的内壁处(即，在间隔套筒19处)。为了以最佳方式发生以下描述的作用，夹带轮廓35的宽度c优选相当于搅拌盘18的厚度d的0.5至1.5倍。这意思是0.5·d≤c≤1.5·d。
在根据图2与图3的实施方式中，夹带轮廓35形成平坦槽状通道36，这些通道以一致的方式形成在各个搅拌盘18的两侧上，从而如能在图3中看到的，在通道之间保留薄壁部37。各个通道36包括相对于搅拌盘18的回旋方向38的后壁39，后壁39平行于中央纵轴线15延伸，此中央纵轴线15也是各个搅拌盘18的中央纵轴线15。如能在图2中看到的，此通道36包括相对于中央纵轴线15以直角径向向外延伸的笔直内通道部分40，并且包括联接内通道部分40且径向朝外的外通道部分41，外通道部分41逆着回旋方向38弯曲并且在距离搅拌盘18的外边缘30距离e处终止。因此外通道部分41终止于搅拌盘18的环形外周部42处。包封环形外周部42的距离e或者径向跨度e优选是搅拌盘18的厚度d的0.5至1.5倍。这意思是0.5·d≤e≤1.5·d。
如能在图2中进一步看到的，研磨体33被后壁39沿回旋方向38切向地夹带并因此在各个通道36中离心地加速。切向速度以及因此指向外的合成离心加速度径向地向外增大(如由速度箭头43的径向向外增大的长度表示的)。由于搅拌轴16或者各个间隔套筒19附近的相对低的切向速度，结果表明，如果使研磨体33加速至局部圆周速度的壁39垂直于力矩矢量(即，垂直于中央纵轴线15)取向则对于输入到研磨室14中的功率而言效率高。这是因笔直、径向布置的内通道部分40而实现的。由研磨体33的圆周速度产生相应的离心加速度。
根据本发明，笔直内通道部分40具有这样的长度f，此长度是搅拌盘18的从间隔套筒19到外边缘30的自由半径R18的25％至60％，优选30％至50％。这意思是R18≤f≤0.6·R18，并且优选0.3·R18≤f≤0.5·R18。结果表明，夹带轮廓35的大大超过搅拌盘18的自由半径R18的60％的径向部分40导致研磨体33的不合意的湍流，这样的研磨体不能用于研磨过程。
由于逆着回旋方向38向后弯曲的通道部分41并且尤其由于其作为夹带表面的后壁39，由局部圆周速度产生与壁39接合的研磨体33的切向-径向夹带，并且除离心加速之外发生此研磨体33的切向-径向夹带。研磨体主动地向外运送。径向夹带分量有利地向外连续增大。为了达到积极有益的研磨过程，证明，小于搅拌盘18的半径r18的40％的曲率半径r41是有利的。必须考虑到通道36以及尤其位于外端处的通道部分41延伸出其整个宽度c。后壁39合并到通道部分41的外边界中，通道部分41的外边界关于搅拌盘18的外边缘30同心地延伸并且由环形外周部42以非常小的合并半径r41/42(即，以锐角)形成。合并半径r41/42应优选小于夹带轮廓35的宽度c的20％。这意思是r41/42≤0.2·c。根据本发明具体化的后壁39因此一直到其最外端在研磨体33上施加仅指向外的加速度。已经证明本实施方式对于形成畅通无阻的循环流(即，交织流44(参见例如图4))尤其有益同时避免研磨单元34内的二次旋涡，这转而是研磨体高填充度时有效操作的先决条件。
如能在图4中看到的，双循环流(所谓的交织流44)形成在单独的研磨单元34内。在搅拌盘18的区域中，研磨体33与待处理的研磨材料、研磨悬浮物由于由搅拌盘18引起的切向加速度分别沿朝在外侧界定研磨室14的内壁11的方向向外流，并且然后在研磨单元34的轴向中央区域中朝搅拌轴16向内返回。在成形成槽状通道36的夹带轮廓35的径向外部，搅拌盘18实际上用作双侧偏转装置。在搅拌盘18的外周部42中，搅拌盘18的厚度与在间隔套筒19的区域中的厚度相同，搅拌盘18的此外周部42确保研磨体33与向外加速的研磨材料的混合物的方向的扇出及改变。各个搅拌盘18的外周部42的相对于通过搅拌器式球磨机的流45的总方向的上游侧使研磨体与研磨材料的混合物向上游重定向。这对与流45的总方向相反的研磨体33的影响造成甚至在研磨体的较高填充度并且在一般的研磨悬浮物流速度时这些研磨体不能由于研磨悬浮物流速度被一起带到下一个下游研磨单元34。因此，这使得研磨体在整个研磨室14平稳分布。然而，搅拌盘18的界定研磨单元34的外周部42的下游侧沿下游方向造成相应的偏转。研磨悬浮物由于根据本发明具体化的搅拌盘18而流经间隙32的仅存在减少量的研磨体的环形部分，并且被吸入到研磨单元34中的位于下游的循环流44中。如能在图4中看到的，外通道部分41可在过渡至外周部42的位置处设置有引导斜面46以便支持相应的偏转。
对于根据图5至图7的实施方式的描述而言，以下适用：就相同的部分而言，使用相同附图标记；就类似的部分而言，使用具有接续的a的相同附图标记，没必要重复详细描述。根据图5以及图6的搅拌盘18a与根据图2以及图3的搅拌盘18不同之处在于，通道36a不实施为具有使通道相互隔开的壁部37的槽，而相反形成为贯通沟槽作为夹带轮廓，此贯通沟槽包括从搅拌盘18a的这面延伸至那面的壁39。作用的机理大体相当于根据图2至图4的实施方式中的一者。使研磨体33加速的壁39的由于省略壁部37而显著增大的表面导致进一步增大搅拌器式球磨机的效率或者以降低的搅拌机速度允许之前的恒定输出。当然，研磨材料能通过实施为连续的贯通沟槽的具有相应的通道部分40a与41a的通道36a而从研磨单元34直接转移至位于相邻研磨单元34的下游。此总体不合意的效果发生的程度取决于所选的操作参数，尤其取决于每单位时间研磨悬浮物的体积通过量以及研磨体的填充度。能在图7(类似于图4)中看到，研磨体的密度朝搅拌轴16急剧减小并且朝壁11急剧增加。
封闭的槽状通道与实施为连续的贯通沟槽的通道的混合型实施方式是可行的，从本发明的教导的意义上说这可引致另外的优势。
对于根据图8与图9的实施方式的描述而言，以下适用：就相同的部分而言，使用相同附图标记；就类似的部分而言，使用具有接续的b的相同附图标记，没必要重复详细描述。在根据图8与图9的搅拌盘18b中，分隔两个一致的通道36b的壁部37b在笔直通道部分40b的大致整个长度部分上被破坏，同时径向外部的逆着回旋方向38弯曲的槽状通道部分41中的壁部37b仍存在。此实施方式具有优势：由于省去分隔壁，在低圆周速度的区域中(即，精确地说在特别需要的位置处)对研磨体33的夹带作用增强。在弯曲的通道部分41的区域中具有更多研磨体的外周部中，分隔壁部37b防止研磨悬浮物与研磨体33从一个研磨单元34不受控制地迁移至相邻的研磨单元。此措施有助于使颗粒尺寸分布变窄并因此增加研磨质量或者研磨效率。在其他方面，关于以上描述的作用机理的解释也适用于此。
而且对于根据图10与图11的实施方式的描述而言，以下适用：就相同的部分而言，使用图2与图3的附图标记。就类似的部分而言，使用图2与图3的具有接续的c的相同附图标记。在此情况下，没必要进一步详细描述。在根据图10与图11的搅拌盘18中，研磨材料通道开口47紧邻搅拌轴16(并因此紧邻间隔套筒19)形成在槽状通道36c的壁部37c中，由于邻近搅拌轴16的研磨体33的低密度，基本上仅研磨材料能通过研磨材料通道开口47从一个研磨单元34转移至在流45的总方向上的相邻的研磨单元34。径向延伸量R47(即，研磨材料通道开口47从研磨室内边界沿搅拌盘18c的径向方向的延伸量)与搅拌盘18c的从研磨室内边界(即，间隔套筒19)到外边缘30的径向延伸量R18之间的比率是：0.05·R18≤R47≤0.25·R18。优选地，应用条件R47≤0.20·R18，并且尤其优选地R47≤0.15·R18。
研磨材料通道开口47紧邻间隔套筒19(研磨室内边界)布置。术语“紧邻”意思是：或者研磨材料通道开口47的径向内边界界定至间隔套筒19；或者研磨材料通道开口的径向内边界以距离间隔套筒19短的径向距离布置，从而大体上此距离或者是零(边界)或者能接近于搅拌盘18c或者18b的径向延伸量R18的十分之一(≤0.1·R18)。
由于在对比邻近搅拌盘18c的外边缘30的区域中累积研磨体的区域中的条件时的非常低的穿过阻力，此实施方式也适用于最高的研磨体填充度以及特别高的总流速同时维持沿研磨室14的均匀的研磨体分布。已经能够以减小的搅拌机速度达到高效率。由于研磨单元34相互良好限定的边界，完全消除了研磨悬浮物不受控制地从一个研磨单元34迁移至相邻的研磨单元34的情况。由此实施方式产生了就同质而言的特别高的研磨质量，这能由加工的研磨悬浮物的窄的颗粒尺寸分布验证。除此之外，此处的作用机理也与以上描述的作用机理一样。

Claims (18)

1.一种搅拌器式球磨机
所述搅拌器式球磨机具有水平布置的研磨容器(10)，
所述研磨容器(10)包封具有自由半径R14的圆筒形研磨室(14)，所述研磨室由研磨容器壁(11)以及由研磨室内边界界定，所述研磨室在操作中包含有研磨体和研磨材料；
一研磨材料供给口(21)在所述研磨容器(10)的一端处通入所述研磨容器中，并且
一研磨材料出口(22)在所述研磨容器(10)的另一端处从所述研磨容器通向外部，其中用于分离所述研磨材料与所述研磨体的分离器单元(27)布置在所述研磨材料出口的上游；
所述搅拌器式球磨机具有搅拌机(20)，所述搅拌机布置在所述研磨室(14)内部，所述搅拌机具有：
具有中央纵轴线(15)的搅拌轴(16)，所述搅拌轴(16)能沿回旋方向(38)被旋转地驱动；以及
搅拌盘(18、18a、18b、18c)，这些搅拌盘以不能相对于所述搅拌轴(16)旋转的方式安装至所述搅拌轴(16)并且这些搅拌盘以彼此相距轴向距离a布置，
其中，所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)具有外边缘(30)以及厚度d，
其中，所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)具有位于所述研磨室内边界与所述外边缘(30)之间的自由半径R18，
其中，具有径向宽度b的间隙(32)形成在所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的所述外边缘(30)与所述研磨容器壁(11)之间，
其中，两个相邻的搅拌盘(18、18a、18b、18c)分别界定研磨单元(34)，并且
其中，所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)包括用于所述研磨体(33)的夹带轮廓(35、35a、35b、35c)，所述夹带轮廓形成在所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)中，所述夹带轮廓均由形成在所述搅拌盘中的通道(36、36a、36b、36c)的相对于所述回旋方向(38)来说的后壁(39)形成，所述后壁平行于所述中央纵轴线(15)延伸，所述后壁由在所述通道的径向外部中相对于所述中央纵轴线(15)弯曲的弯曲通道部分(41、41a、41b、41c)形成，所述弯曲通道部分(41、41a、41b、41c)逆着所述回旋方向(38)弯曲，
其中，具有相对于所述回旋方向(38)来说的后壁(39)的所述通道(36、36a、36b、36c)均包括相对于所述中央纵轴线(15)径向地笔直延伸并且具有长度f的内通道部分(40、40a、40b、40c)，并且包括在下一阶段中逆着所述回旋方向(38)弯曲的弯曲通道部分(41、41a、41b、41c)，
并且其中，所述弯曲通道部分(41、41a、41b、41c)被所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的具有径向宽度e的外周部(42)相对于外部径向地封闭。
2.根据权利要求1所述的搅拌器式球磨机，其中，所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)包括形成在所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的两侧上的通道(36、36a、36b、36c)，其中，在每种情况下，所述通道(36、36a、36b、36c)中的形成在所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的不同侧上的两个通道成对地一致布置。
3.根据权利要求2所述的搅拌器式球磨机，其中，成对地一致布置的所述通道(36、36b、36c)以槽的形式形成并且被所述搅拌盘(18、18b、18c)的壁部(37、37b、37c)分开。
4.根据权利要求3所述的搅拌器式球磨机，其中，所述壁部(37b、37c)在所述内通道部分(40a、40b)的区域中借助于在所述搅拌盘(18b、18c)的径向方向上具有径向延伸量R47的研磨材料通孔(47)而开口。
5.根据权利要求2所述的搅拌器式球磨机，其中，成对地一致布置的所述通道(36、36a)以沟槽的方式连接。
6.根据权利要求1至5中任一项所述的搅拌器式球磨机，其中，所述通道(36、36a)在它们过渡至所述搅拌盘(18、18a)的所述外周部(42)的位置处设置有引导斜面(46、46a)，所述引导斜面(46、46a)使所述研磨体(33)重定向至所述通道(36、36a)所面对的研磨单元(34)。
7.根据权利要求1至5中任一项所述的搅拌器式球磨机，其中，所述间隙(32)的所述径向宽度b与所述研磨室(14)的所述自由半径R14的比率是：b≤0.2·R14。
8.根据权利要求1至5中任一项所述的搅拌器式球磨机，其中，所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的所述厚度d与所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的所述外周部(42)的所述径向宽度e的比率是：0.5·d≤e≤1.5·d。
9.根据权利要求1至5中任一项所述的搅拌器式球磨机，其中，所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的所述自由半径R18与笔直延伸的所述内通道部分(40、40a、40b、40c)的所述长度f的比率是：0.25·R18≤f≤0.6·R18。
10.根据权利要求1至5中任一项所述的搅拌器式球磨机，其中，所述弯曲通道部分(41、41a、41b、41c)以半径r41/42合并到所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的所述外周部中，所述半径r41/42与所述通道(36)的宽度c的关系是：r41/42≤0.2·c。
11.根据权利要求4所述的搅拌器式球磨机，其中，所述研磨材料通孔(47)仅布置成紧邻所述研磨室的所述内边界。
12.根据权利要求4所述的搅拌器式球磨机，其中，均从所述研磨室内边界计算，各个研磨材料通孔(47)的所述径向延伸量R47与所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的所述径向延伸量R18的比率是：0.05·R18≤R47≤0.25·R18。
13.根据权利要求9所述的搅拌器式球磨机，其中，所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的所述自由半径R18与笔直延伸的所述内通道部分(40、40a、40b、40c)的所述长度f的比率是：0.3·R18≤f≤0.5·R18。
14.根据权利要求12所述的搅拌器式球磨机，其中，各个研磨材料通孔(47)的所述径向延伸量R47与所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的所述径向延伸量R18的比率是：R47≤0.20·R18。
15.根据权利要求14所述的搅拌器式球磨机，其中，各个研磨材料通孔(47)的所述径向延伸量R47与所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的所述径向延伸量R18的比率是：R47≤0.15·R18。
16.用于根据前述权利要求中任一项所述的搅拌器式球磨机的搅拌盘，所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)包括外边缘(30)以及厚度d，并且所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)包括用于研磨体(33)的夹带轮廓(35、35a、35b、35c)，所述夹带轮廓均由形成在所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)中的通道(36、36a、36b、36c)的相对于所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的回旋方向(38)来说的后壁(39)形成，所述后壁(39)平行于所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的所述中央纵轴线延伸，所述后壁由在所述通道的径向外部中的相对于所述中央纵轴线(15)弯曲的弯曲通道部分(41、41a、41b、41c)形成，所述弯曲通道部分(41、41a、41b、41c)逆着所述回旋方向(38)弯曲，
其中，具有相对于所述回旋方向(38)来说的后壁(39)的所述通道(36、36a、36b、36c)均包括相对于所述中央纵轴线(15)径向地笔直延伸的内通道部分(40、40a、40b、40c)，并且包括在下一阶段中逆着所述回旋方向(38)弯曲的弯曲通道部分(41、41a、41b、41c)，
并且其中，所述弯曲通道部分(41、41a、41b、41c)被所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的外周部(42)相对于外部径向地封闭。
17.根据权利要求16所述的搅拌盘，其中，所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)包括形成在所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的两侧上的通道(36、36a、36b、36c)，其中，在每种情况下，所述通道(36、36a、36b、36c)中的形成在所述搅拌盘(18、18a、18b、18c)的不同侧上的两个通道成对地一致布置。
18.根据权利要求16或17所述的搅拌盘，其中，所述通道(36、36a)在它们过渡至所述外周部(42)的位置处设置有引导斜面(46、46a)。
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