CN107722982A - 荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉及其制备方法 - Google Patents

Abstract

荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉及其制备方法，属于发光材料技术领域。解决了现有技术中BaSi₂O₂N₂:Eu²⁺氮氧化物荧光亮度不高的问题。本发明的荧光粉，化学式为(Ba_{1‑x‑y‑z‑m}M_xR_yA_z)O·0.5SiO₂·0.5Si₃N₄:mEu²⁺，0.01≤m≤0.05，0≤x≤0.2，0.005≤y≤0.2，0.5≤y/z≤1，0<x+y+z<0.5，R为La、Y、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Bi、Pr、Mn中的至少一种；M为Ca、Sr、Mg中的至少一种；A为K、Na、Li中的至少一种。该荧光粉荧光强度高，且在蓝光激发下激发峰值稳定在490‑500nm内。

Description

荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉及其制备方法

技术领域

本发明属于发光材料技术领域，具体涉及一种荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉及其制备方法。

背景技术

LED由于其寿命长、发光效率高、节能、环保等特点，广泛应用于多种照明领域。迄今为止，商业化的白光LED主要通过In-GaN蓝光LED芯片和具有石榴石结构的(YAG:Ce³⁺)黄色荧光粉相互结合而实现，但是由于缺乏红光和青色光成分导致这种白光LED显色指数很低(Ra<80)，限制了白光LED的应用领域。虽然蓝光芯片加黄色荧光粉的方法还不够完善，但基于其制备简单，能耗小等特点，仍然是目前市场上的主要商业化方式。

目前，能够被蓝光激发且发射红光的荧光材料的研究已经取得一定的进展，例如国际申请06/301595，Eu²⁺激活的CaAlSiN₃材料目前已经广泛的应用于封装LED，效果明显。大大提高了白光LED的性能，扩大了其应用范围，但是在显色指数较高的领域依旧存在问题。因此，青色光的缺失成为现阶段的重要问题，青色光的补充，能够明显提高LED的显色性，降低色温，尤其在健康照明领域和高品质显示器等领域有极大应用需求。在显示效果的提高及自然光谱的模拟方面有着重要的意义。

硅基氮氧化物是由Si(O、N)₄的四面体构成的网状结构组成，这种稳定的四面体结构引起的斯托克斯位移较小，使硅基氮氧化物荧光粉具有较高的光转换效率和光色稳定性。起初，BaSi₂O₂N₂:Eu²⁺被作为氮氧化物材料，由于拥有较好的热稳定性和化学稳定性的性能被人们所关注。在随后的研究中发现，BaSi₂O₂N₂:Eu²⁺具有的光谱峰位恰好能够满足白光LED对青色荧光粉的需求，同时又能够被蓝光激发。恰好可以作为蓝光芯片激发的白光LED中青光的补充。而BaSi₂O₂N₂:Eu²⁺氮氧化物材料存在的主要问题在于其荧光亮度不高，导致其封装的白光LED效率降低，严重影响了其商业化的进程。

因此，本发明基于上述问题，通过对荧光材料组分的调控以及离子的变量掺杂，利用M，R，A离子调控Eu²⁺晶体场强度，改变Eu²⁺的5d能级劈裂程度以及质心位移来改变Eu²⁺的激发的强度，使得该荧光粉在450nm-460nm附近的蓝光激发增强，从而发射光的强度得到提高。

发明内容

有鉴于此，本发明的目的是提供一种荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉，实现在450nm-460nm的蓝光区域激发下，发射波长为490nm-500nm的青色光并通过改变发光格位的晶体场强度，改变发光中心的能级劈裂或者发光中心的能级位置来增强发光。

荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉，该青色荧光粉的化学式为：(Ba_{1-x-y-z- m}M_xR_yA_z)O·0.5SiO₂·0.5Si₃N₄:mEu²⁺，且发光中心为正二价的Eu离子；

式中，m、x、y和z均为摩尔分数，取值范围分别为0.01≤m≤0.05，0≤x≤0.2，0.005≤y≤0.2，0.5≤y/z≤1，0<x+y+z<0.5；

R为La、Y、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Bi、Pr、Mn中的一种或多种按任意比例的混合；

M为Ca、Sr、Mg中一种或多种按任意比例的混合；

A为K、Na、Li中一种或多种按任意比例的混合；

该荧光粉属于正交晶系，其物相的X射线衍射峰强度前八强峰位于的布拉格角2θ为12.415°、24.869°、25.728°、31.256°、33.564°、37.322°、40.381°、51.073°。

优选的是，所述x、y和z的取值范围为：0≤x≤0.1，0.005≤y≤0.1，0.5≤y/z≤1，0<x+y+z<0.3；

更优选的是，所述x、y和z的取值范围为：0≤x≤0.03，0.005≤y≤0.05，y＝z。

优选的是，所述R为La、Y、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Bi、Pr或Mn；M为Sr；A为Na或Li。

上述荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉的制备方法，包括以下步骤：

步骤一、按待制备前驱体中各元素的化学计量比称取Ba、Si、Eu、M、R、A元素的固体化合物或单质，混合均匀后，得到的混合物在1100℃-1300℃下通气氛烧结2-6h，冷却至室温后研磨，得到前驱体(Ba_{1-x'-y'-z'-m'}M_x'R_y'A_z')₂SiO₄:m'Eu²⁺，其中，x'、y'、z'和m'均为摩尔分数，取值范围为x'≤x，y'≤y，z'≤z，m'≤m；

步骤二、按照(Ba_1-x-y-z-mM_xR_yA_z)O·0.5SiO₂·0.5Si₃N₄:mEu²⁺的化学计量比称取前驱体和Ba、Si、Eu、M、R、A元素的固体化合物或单质，研磨混合均匀，得到的混合物粉体放置于气压炉中，升温到1000℃-1400℃，并在0.01-10MPa的气氛下烧结4-10h，冷却至室温，研磨，得到荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉。

优选的是，所述步骤二中，Si以硅粉形式添加。

优选的是，所述步骤一和步骤二中，M以M元素的碳酸盐、硝酸盐、卤化物中的至少一种作为添加。

优选的是，所述步骤一和步骤二中，R以R元素的氧化物或氮化物中的至少一种作为添加。

优选的是，所述步骤一和步骤二中，A以A元素的碳酸盐、硝酸盐、卤化物中的至少一种作为添加，并过量10％-20％。

优选的是，所述步骤一和步骤二中，气氛为氮氢混合气、氨气或高纯氮气。

与现有技术相比，本发明的有益效果为：

1、本发明的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉通过引入M、R和A离子调控Eu²⁺晶体场强度，改变Eu²⁺的5d能级劈裂程度以及质心位移来改变Eu²⁺的激发的强度，有规律的提高了硅基氮氧化物青色荧光粉的发光强度，并将发射峰稳定在490nm-500nm，为高显色指数的白光LED提供了有效的材料；

2、本发明的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉可以采用硅粉直接氮化法合成硅基氮氧化物青色荧光粉，反应活性高，制备过程简单，利于大规模连续生产。

3、本发明的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉在合成过程中添加M、R和A离子后，该荧光粉仍能够保持晶相的稳定，同时荧光粉的化学稳定性和热稳定性也有所提高。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1为本发明实施例1的荧光粉的XRD衍射图像；

图2为实施例1-4、实施例9、实施例14和实施例29的荧光粉的XRD衍射谱对比图；

图3为本发明对比例1、实施例1和实施例9的荧光粉在460nm的激发光下得到的发射光谱图；

图4为本发明对比例1、实施例1和实施例9的荧光粉的激发光谱图；

图5为本发明实施例14、实施例20、实施例21、实施例22、实施例23的荧光粉的发射光谱图。

具体实施方式

为了进一步了解本发明，下面结合具体实施方式对本发明的优选实施方案进行描述，但是应当理解，这些描述只是为了进一步说明本发明的特征和优点而不是对本发明专利要求的限制。

本发明的发明原理为：BaSi₂O₂N₂:Eu²⁺材料的发光是由于Eu²⁺的4f⁷-4f⁶5d能级的电子跃迁产生的，激发光的范围涵盖了近紫外到蓝光范围。并且Eu²⁺的外层5d电子处于裸露状态，这就导致其极易受晶格环境的影响，主要体现在5d能级的劈裂及质心位移这两个方面。能级的劈裂取决于配位多面体的大小与形状，即受晶体场的影响；质心的位置受周围环境和配位体的影响，取决于化学键的性质和配位体的极化率。本发明提供的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉通过在基质材料中引入与Ba离子半径不同的稀土离子、碱土金属离子、与Ba离子同主族的离子以及Mn离子等来协调基质材料的晶格环境，利用掺杂离子对晶体场的作用，改变Eu²⁺的5d能级质心位置或者能级的劈裂来增强荧光材料的发光性能，同时引入离子补偿和半径补偿填补晶格中的缺陷。使得Eu²⁺在400nm-460nm的激发强度得到增强，增加荧光粉对蓝光的吸收，从而增强荧光粉的发射光强度。

本发明的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉，化学式为：(Ba_1-x-y-z-mM_xR_yA_z)O·0.5SiO₂·0.5Si₃N₄:mEu²⁺；式中，m、x、y和z均为摩尔分数，取值范围分别为：0.01≤m≤0.05，0≤x≤0.2，0.005≤y≤0.2，0.5≤y/z≤1，0<x+y+z<0.5；优选为，0≤x≤0.1，0.005≤y≤0.1，0.5≤y/z≤1，0<x+y+z<0.3；更优选为，0≤x≤0.03，0.005≤y≤0.05，y＝z；R为La、Y、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Bi、Pr、Mn中的一种或多种按任意比例的混合；M为Ca、Sr、Mg中一种或多种按任意比例的混合；A为K、Na、Li中一种或多种按任意比例的混合。该荧光粉具有较宽的激发范围，激发光谱的范围涵盖紫外、近紫外、蓝光及部分绿光，尤其在450nm-460nm的蓝光范围具有有效的激发，与商业化的蓝光芯片匹配。

本发明的荧光粉，以正二价Eu离子为发光中心，其发射峰为宽带，发射峰的半高宽在30nm-35nm之间，峰值位置位于490nm-500nm；

(Ba_1-x-y-z-mM_xR_yA_z)O·0.5SiO₂·0.5Si₃N₄为基质材料，其中，M、R和A离子对基质的晶体场和/或电负性进行调控，不作为发光中心，即通过引入电荷或者半径与基质中的Ba离子不同的R和A离子取代Ba离子，改变发光中心Eu²⁺的5d能级的劈裂大小或者5d能级的质心位置，使得Eu²⁺在400nm-460nm的激发强度得到增强，增加荧光粉对蓝光的吸收，克服其与蓝光LED芯片不匹配的问题；同时R和A离子互为电荷补偿，减少电荷失配及半径失配导致的缺陷；通过引入半径与Ba离子不同但属于第二主族的M元素来提供半径补偿，进一步减少基质材料中由于R与A元素的引入导致的缺陷；即便M、R和A离子有发光行为，但是其发光过程中的吸收或发射，对材料作为青色荧光粉的性能没有影响；引入的M、R和A离子也不会明显改变青色荧光粉的发射峰位置，其会影响的峰值移动范围不超过±5nm，半高宽的值随发射峰峰值的移动不超过±2nm。当R为La、Y、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Bi、Pr或Mn，M为Sr，A为Na或Li进行组合时，效果更佳；当A为Na时，效果最好。

本发明的荧光粉属于正交晶系，其物相的X射线衍射峰强度前八强峰位于布拉格角(2θ)12.415°、24.869°、25.728°、31.256°、33.564°、37.322°、40.381°、51.073°，由于仪器或者制样等影响，其峰位整体在2°范围内移动。

本发明的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉的制备方法，包括以下步骤：

步骤一、按照待制备的前驱体的化学计量比称取Ba的固体化合物和/或Ba单质、Si的固体化合物和/或Si单质、Eu的固体化合物和/或Eu单质、M的固体化合物和/或M单质、R的固体化合物和/或R单质、A的固体化合物和/或A单质，将上述材料混合均匀后，得到的混合物在1100℃-1300℃下通气氛烧结2-6h，冷却至室温后，研磨，得到前驱体(Ba_{1-x'-y'-z'-m'}M_x'R_y'A_z')₂SiO₄:m'Eu²⁺，式中，x'、y'、z'和m'为摩尔分数，取值范围为x'≤x，y'≤y，z'≤z，m'≤m；

步骤一中，当Ba、Si、Eu、M、R、A元素采用固体化合物和单质混合物作为添加时，混合配比没有特殊限制；烧结气氛没有限制，可以为还原气氛和非还原气氛，还原气体优选为CO或H₂；

步骤二、按照(Ba_1-x-y-z-mM_xR_yA_z)O·0.5SiO₂·0.5Si₃N₄的化学计量比称取前驱体，及Ba的固体化合物和/或Ba单质、Si的固体化合物和/或Si单质、Eu的固体化合物和/或Eu单质、M的固体化合物和/或M单质、R的固体化合物和/或R单质、含A的固体化合物和/或A单质，研磨混合均匀后，得到混合物粉体，将混合物粉体放置于气压炉中，升温到1000℃-1400℃并在0.01-10MPa的气氛下烧结4-10h，冷却至室温后，研磨，得到荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉；

步骤二中，前驱体为必须称取物质，Ba、Si、Eu、M、R、A中添加哪种元素、不添加哪种元素以及添加物质的添加量由待制备的荧光粉的化学计量比结合实际制备的前驱体确定，该确定方法为本领域常用方法；当Ba、Si、Eu、M、R、A元素采用固体化合物和单质混合物作为添加时，混合配比没有特殊限制；气氛包括但不限于氮氢混合气、高纯氮气、氨气。

本发明中，Si优选以硅粉作为添加，能够增加反应活性；M以M元素的碳酸盐、硝酸盐、卤化物中的至少一种作为添加；R以R元素的氧化物或氮化物中的至少一种作为添加；A以A元素的碳酸盐、硝酸盐、卤化物中的至少一种作为添加。

本发明上述提供的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉的制备方法为高温固相烧结法，但是本发明的荧光粉的合成方法并不局限于此，如溶胶凝胶法、燃烧法、乳液法等湿化学法均可合成该荧光粉。

下面结合附图和具体的实施例对本发明进行详细说明。

实施例中用分析纯BaCO₃、分析纯Eu₂O₃、光谱纯SiO₂、分析纯Si粉、光谱纯Li₂CO₃、光谱纯Na₂CO₃、光谱纯K₂CO₃作原料，制备本发明各实施例荧光粉，其余原料均为分析纯。

对比例1

BaSi₂O₂N₂:Eu²⁺的制备：

步骤一、按照化学式Ba_1.92SiO₄:0.08Eu²⁺的化学计量比称取BaCO₃、SiO₂和Eu₂O₃，混合均匀后，得到的混合物在1200℃还原气氛氢气下烧结6h，冷却至室温后，研磨，得到前驱体Ba_1.92SiO₄:0.08Eu²⁺；

步骤二、按照BaSi₂O₂N₂:Eu²⁺的化学计量比称取前驱体0.5226g，Si粉0.1264g，将称取的原料放入研钵中研磨混合，得到均匀的混合物粉体，将混合物粉体放置于气压炉中，升温至1400℃并在1MPa的高纯氮气压氛围下烧结6h，冷却至室温后，研磨，得到BaSi₂O₂N₂:Eu²⁺荧光粉。

实施例1

(Ba_0.94Dy_0.01Li_0.01)O·0.5SiO₂·0.5Si₃N₄:0.04Eu²⁺的制备：

步骤一、按照化学式Ba_1.92SiO₄:0.08Eu²⁺的化学计量比称取BaCO₃、SiO₂和Eu₂O₃，将上述材料混合均匀后，得到的混合物在1200℃还原气氛氢气下烧结6h，冷却至室温后研磨，得到前驱体Ba_1.92SiO₄:0.08Eu²⁺；

步骤二、按照(Ba_0.94Dy_0.01Li_0.01)O·0.5SiO₂·0.5Si₃N₄:0.04Eu²⁺的化学计量比，称取前驱体0.5171g、Si粉0.1264g、Eu₂O₃0.0013g、Li₂CO₃0.0011g、Dy₂O₃0.0056g，将称取的材料放入研钵中研磨混合，得到均匀的混合物粉体，将混合物粉体放置于气压炉中，升温至1400℃并在1MPa的高纯氮气压氛围下烧结6h，冷却至室温后，研磨，得到硅基氮氧化物青色荧光粉(Ba_0.94Dy_0.01Li_0.01)O·0.5SiO₂·0.5Si₃N₄:0.04Eu²⁺。

实施例2-39

制备过程与实施例1相同，各实施例的青色荧光粉的化学式、前驱体的化学式、采用的原料、制备工艺条件如表1所示。

对实施例2-39制备的荧光粉进行检测，其发射峰峰值及半高宽值也如表1所示。

表1实施例2-39的青色荧光粉的化学式、前驱体的化学式、采用的原料、制备工艺条件

从表1可以看出，在改变掺杂离子的含量的过程中该荧光粉的峰值和半高宽分别稳定在495nm和31nm附近。

对实施例1-39的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉进行XRD分析，图1为实施例1的荧光粉的XRD衍射谱，从图1可以看出，本发明的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉，为正交晶系。

图2为实施例1-4、实施例9、实施例14和实施例29的荧光粉的XRD衍射谱对比图，可见在变换M、R和A离子的过程中其晶体结构未发生改变；其他实施例的荧光粉的衍射图像的主要峰值与实施例1相同，其XRD衍射图像整体在2°范围内移动。

图3给出对比例1、实施例1和实施例9的荧光粉的发射光谱，从图3可以看出，在蓝光460nm的激发下，本发明的荧光粉的发光强度明显增加。

图4给出对比例1、实施例1和实施例9的荧光粉的激发光谱，从图4可以看出，荧光粉在400nm-460nm范围内的激发光有明显的翘曲增强。说明由于添加离子对发光中心Eu²⁺的5d能级产生了影响，导致其所处的晶体场发生劈裂并且伴有质心位移的改变，从而使得在蓝光范围的激发增强，同样对应的发射光增强。

图5为实施例14、实施例20、实施例21、实施例22、实施例23的荧光粉的发射光谱图。从图5可以看出，掺杂Sr离子可以提高该荧光粉的荧光强度，其中实施例20的发光强度最高，可以解释为Sr离子的加入进一步减少了Dy、Li离子进入晶格所产生的缺陷，从而使荧光粉的发光亮度提升，当加入大量Sr离子后，晶格畸变增加缺陷增多，阻碍了其发光的性能。

显然，上述实施例仅仅是为了清楚的说明所作的举例，在上述说明的基础上还可以做出其他形式的变动或变化。因此，由此所引申出的显而易见的变化或变动仍属于本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉，其特征在于，

该青色荧光粉的化学式为：(Ba_1-x-y-z-mM_xR_yA_z)O·0.5SiO₂·0.5Si₃N₄:mEu²⁺，且发光中心为正二价的Eu离子；

式中，m、x、y和z均为摩尔分数，取值范围分别为0.01≤m≤0.05，0≤x≤0.2，0.005≤y≤0.2，0.5≤y/z≤1，0<x+y+z<0.5；

R为La、Y、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Bi、Pr、Mn中的一种或多种按任意比例的混合；

M为Ca、Sr、Mg中一种或多种按任意比例的混合；

A为K、Na、Li中一种或多种按任意比例的混合；

该荧光粉属于正交晶系，其物相的X射线衍射峰强度前八强峰位于的布拉格角2θ为12.415°、24.869°、25.728°、31.256°、33.564°、37.322°、40.381°、51.073°。

2.根据权利要求1所述的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉，其特征在于，所述x、y和z的取值范围为：0≤x≤0.1，0.005≤y≤0.1，0.5≤y/z≤1，0<x+y+z<0.3。

3.根据权利要求2所述的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉，其特征在于，所述x、y和z的取值范围为：0≤x≤0.03，0.005≤y≤0.05，y＝z。

4.根据权利要求1所述的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉，其特征在于，所述R为La、Y、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Bi、Pr或者Mn；M为Sr；A为Na或者Li。

5.权利要求1-4任何一项所述的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、按待制备前驱体中各元素的化学计量比称取Ba、Si、Eu、M、R、A元素的固体化合物或单质，混合均匀后，得到的混合物在1100℃-1300℃下通气氛烧结2-6h，冷却至室温后研磨，得到前驱体(Ba_{1-x'-y'-z'-m'}M_x'R_y'A_z')₂SiO₄:m'Eu²⁺，其中，x'、y'、z'和m'均为摩尔分数，取值范围为x'≤x，y'≤y，z'≤z，m'≤m；

步骤二、按照(Ba_1-x-y-z-mM_xR_yA_z)O·0.5SiO₂·0.5Si₃N₄:mEu²⁺的化学计量比称取前驱体和Ba、Si、Eu、M、R、A元素的固体化合物或单质，研磨混合均匀，得到的混合物粉体放置于气压炉中，升温到1000℃-1400℃，并在0.01-10MPa的气氛下烧结4-10h，冷却至室温，研磨，得到荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉。

6.根据权利要求5所述的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉的制备方法，其特征在于，所述步骤二中，Si以硅粉形式添加。

7.根据权利要求5所述的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉的制备方法，其特征在于，所述步骤一和步骤二中，M以M元素的碳酸盐、硝酸盐、卤化物中的至少一种作为添加。

8.根据权利要求5所述的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉的方法，其特征在于，所述步骤一和步骤二中，R以R元素的氧化物或氮化物中的至少一种作为添加。

9.根据权利要求5所述的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉的制备方法，其特征在于，所述步骤一和步骤二中，A以A元素的碳酸盐、硝酸盐、卤化物中的至少一种作为添加，并过量10％-20％。

10.根据权利要求5所述的荧光增强的硅基氮氧化物青色荧光粉的制备方法，其特征在于，所述步骤一和步骤二中，气氛为氮氢混合气、氨气或高纯氮气。