CN106977098A - 一种低温无铅彩釉 - Google Patents

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    • C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels

Abstract

本发明主要涉及陶瓷釉加工技术领域，公开了一种低温无铅彩釉，由以下原料制成：二氧化硅、氧化钒、五氧化二铌、氧化硼、氧化镧、氧化锆、二氧化铈、莫来石、鱼眼石、食盐、颜料；烤烧温度低，节约能源，无铅溶出，安全无毒，绿色环保，使生产成本节约11.3%；原料经球磨后混匀，经过多次熔融、淬冷和球磨，使熔块无气泡，釉质细腻，结构致密，性质稳定，耐腐蚀性强，颜料在熔融时加入，使色泽艳丽纯正，光亮匀润，不褪色；加入少量食盐，便于加水研磨，使用方便，流动性好，便于施釉，膨胀系数匹配，使釉面平整光滑。

Description

一种低温无铅彩釉
技术领域
本发明主要涉及陶瓷釉加工技术领域，尤其涉及一种低温无铅彩釉。
背景技术
釉是一种硅酸盐，陶瓷器上所施的釉一般以石英、长石、粘土为原料，经研磨、加水调制后，涂敷于坯体表面，经一定温度的焙烧而熔融，温度下降时，形成陶瓷表面的玻璃质薄层，可使陶瓷器增加机械强度、热稳定性、介电强度和防止液体、气体的侵蚀，还能增加瓷器美观，便于洗拭，不被尘土粘染等作用。
但是目前陶瓷釉在烧制时普遍采用高温烧制，温度高于1250℃，有的甚至在1400℃以上，烧成的能源费用所占生产成本的比例相当大，国外占20~30%，而我国则占到了30%以上，而且陶瓷釉大多都加铅，在制备和使用过程中都会对人体产生很大的危害，然而目前低温无铅釉的制备技术还不成熟。
发明内容
为了弥补已有技术的缺陷，本发明的目的是提供一种低温无铅彩釉。
一种低温无铅彩釉，由以下重量百分比的原料制成：二氧化硅42~44%、氧化钒11~13%、五氧化二铌6.7~8.4%、氧化硼5.8~7.2%、氧化镧5.2~6.6%、氧化锆5.2~6.6%、二氧化铈4.6~6.1%、莫来石4.3~5.2%、鱼眼石3.7~4.9%、食盐0.6~1.8%、颜料4.2~5.7%。
所述的颜料，为氧化钕、氧化锰、氧化镱、氧化铜中的一种或几种的任意比。
所述的食盐，为碘盐，含水量为0~0.2%。
一种低温无铅彩釉的制备方法，包括以下步骤：
（1）将除食盐和颜料以外的所有原料球磨至160~200目，混合均匀，得一次粉碎料；
（2）将一次粉碎料加入熔炉中，升高温度至1260~1280℃保温25~30分钟，关闭熔炉，以3~5℃/分钟降温至400~500℃，将一次熔融料置于0~15℃的流水中淬冷，得一次淬冷料；
（3）将食盐加入一次淬冷料，球磨至240~280目，得二次粉碎料；
（4）将二次粉碎料加入熔炉中，升高温度至1230~1250℃保温12~14分钟，关闭熔炉，以3~5℃/分钟降温至400~500℃，加入颜料，以4~6℃/分钟升温至900~950℃继续保温8~10分钟，将二次熔融料置于3~10℃的流水中淬冷，得二次淬冷料；
（5）将二次淬冷料球磨至360~400目，得低温无铅彩釉；
（6）真空包装，得成品。
所述步骤（2）的升高温度，速率为6~8℃/分钟，保持20~25分钟，之后持续以4~6℃/分钟的速率升温。
所述步骤（4）的升高温度，速率为8~10℃/分钟，保持25~30分钟，之后持续以5~7℃/分钟的速率升温。
所述的低温无铅彩釉的使用方法，称取所需量的低温无铅彩釉，加入低温无铅彩釉重量2~10倍量的水，研磨均匀，施釉后逐渐升高温度至850~900℃，烧制11~13分钟。
所述的逐渐升高温度，从室温以6~7℃/分钟提高至260℃，保温25分钟；从260℃以3~4℃/分钟提高至600℃，保温15分钟；从600℃以5~7℃/分钟提高至850~900℃。
本发明的优点是：本发明提供的一种低温无铅彩釉，烤烧温度低，节约能源，无铅溶出，安全无毒，绿色环保，使生产成本节约11.3%；原料经球磨后混匀，经过多次熔融、淬冷和球磨，使熔块无气泡，釉质细腻，结构致密，性质稳定，耐腐蚀性强，颜料在熔融时加入，使色泽艳丽纯正，光亮匀润，不褪色；加入少量食盐，便于加水研磨，使用方便，流动性好，便于施釉，膨胀系数匹配，使釉面平整光滑。
具体实施方式
下面用具体实施例说明本发明。
本发明所述的低温无铅彩釉实施例为1~3，对比例为4~7，其配方（重量百分比）及制备方法见表1。
表1：实施例和对比例的低温无铅彩釉的配方（重量百分比）及制备方法
项目 1 2 3 4 5 6 7
二氧化硅（%） 42 43 44 44 45 44 27
氧化钒（%） 13 12 11 15 13 11 43
五氧化二铌（%） 7.7 7.4 8.4 7.7 7.6 8.4 —
氧化硼（%） 6.2 6.5 5.8 6.2 6.5 5.8 1.9
氧化镧（%） 5.7 5.5 5.2 5.7 5.7 5.2 3.4
二氧化铈（%） 5.1 4.6 6.1 5.1 4.8 6.1 8.1
氧化锆（%） 5.6 5.8 5.2 5.6 5.8 5.2 2.6
莫来石（%） 4.9 4.6 4.3 — 4.8 4.3 4.3
鱼眼石（%） 3.8 4.3 3.7 3.8 — 4.3 3.6
食盐（%） 1.3 1.4 0.6 1.8 1.4 — 1.8
颜料（%） 4.7 4.9 5.7 5.1 5.4 5.7 4.3
一次熔融温度（℃） 1260 1270 1280 1260 1230 1180 1165
二次熔融温度（℃） 1230 1240 1250 — — — —
烤烧温度（℃） 850 880 900 1300 1320 1230 1300
注：“—”表示无。
用实施例和对比例的彩釉施釉于陶器后检测涂敷效果，检测结果见表2。
表2：实施例和对比例的彩釉施釉于陶器后检测涂敷效果
项目 1 2 3 4 5 6 7
铅溶出量（mg/dm2） 0 0 0 0 0 0 0
镉溶出量（mg/dm2） 0 0 0 0 0 0 0
光泽度（%） 81.4 82.1 81.6 73.2 72.4 72.8 69.6
膨胀系数（10-6/℃） 5.74 5.68 5.71 6.28 6.32 6.31 6.36
表2的结果表明，实施例的低温无铅彩釉，无铅溶出，无镉溶出，光泽度明显较对比例高，膨胀系数小，保持表面光滑，说明本发明提供的低温无铅彩釉具有很好的使用效果。

Claims (8)

1.一种低温无铅彩釉，其特征在于，由以下重量份的原料制成：二氧化硅42~44%、氧化钒11~13%、五氧化二铌6.7~8.4%、氧化硼5.8~7.2%、氧化镧5.2~6.6%、氧化锆5.2~6.6%、二氧化铈4.6~6.1%、莫来石4.3~5.2%、鱼眼石3.7~4.9%、食盐0.6~1.8%、颜料4.2~5.7%。
2.根据权利要求1所述低温无铅彩釉，其特征在于，所述的颜料，为氧化钕、氧化锰、氧化镱、氧化铜中的一种或几种的任意比。
3.根据权利要求1所述低温无铅彩釉，其特征在于，所述的食盐，为碘盐，含水量为0~0.2%。
4.一种根据权利要求1所述低温无铅彩釉的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：
（1）将除食盐和颜料以外的所有原料球磨至160~200目，混合均匀，得一次粉碎料；
（2）将一次粉碎料加入熔炉中，升高温度至1260~1280℃保温25~30分钟，关闭熔炉，以3~5℃/分钟降温至400~500℃，将一次熔融料置于0~15℃的流水中淬冷，得一次淬冷料；
（3）将食盐加入一次淬冷料，球磨至240~280目，得二次粉碎料；
（4）将二次粉碎料加入熔炉中，升高温度至1230~1250℃保温12~14分钟，关闭熔炉，以3~5℃/分钟降温至400~500℃，加入颜料，以4~6℃/分钟升温至900~950℃继续保温8~10分钟，将二次熔融料置于3~10℃的流水中淬冷，得二次淬冷料；
（5）将二次淬冷料球磨至360~400目，得低温无铅彩釉；
（6）真空包装，得成品。
5.根据权利要求4所述低温无铅彩釉的制备方法，其特征在于，所述步骤（2）的升高温度，速率为6~8℃/分钟，保持20~25分钟，之后持续以4~6℃/分钟的速率升温。
6.根据权利要求4所述低温无铅彩釉的制备方法，其特征在于，所述步骤（4）的升高温度，速率为8~10℃/分钟，保持25~30分钟，之后持续以5~7℃/分钟的速率升温。
7.根据权利要求1~6任一项所述的低温无铅彩釉的使用方法，其特征在于，称取所需量的低温无铅彩釉，加入低温无铅彩釉重量2~10倍量的水，研磨均匀，施釉后逐渐升高温度至850~900℃，烧制11~13分钟。
8.根据权利要求7所述的低温无铅彩釉的使用方法，其特征在于，所述的逐渐升高温度，从室温以6~7℃/分钟提高至260℃，保温25分钟；从260℃以3~4℃/分钟提高至600℃，保温15分钟；从600℃以5~7℃/分钟提高至850~900℃。
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