CN106707385A - 一种镀银型反射膜及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及反射膜技术领域，尤其涉及一种应用于小尺寸的镀银型反射膜及其制备方法。为了解决现有镀银型反射膜中聚酯薄膜的表面粗糙度高，镀银层与聚酯薄膜层的附着力低的问题，本发明提供一种含有钛过渡层的镀银型反射膜。所述镀银型反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。该反射膜反射率较高，能够到达99％以上，且钛过渡层和镀银层与聚酯薄膜的附着力较高。

Description

一种镀银型反射膜及其制备方法
技术领域
本发明涉及反射膜技术领域，尤其涉及一种应用于小尺寸的镀银型反射膜及其制备方法。
背景技术
背光模组主要由反射膜、扩散膜和增亮膜构成，其发展趋势在提高其性能的基础上更趋于轻薄。目前反射膜一般为多孔的白色聚酯薄膜，通过控制薄膜中心泡孔的大小和密度来提高反射率。通常，白色反射膜反射率到达97％后即难以继续提高，且在使用过程中易出先白点。用镀银型反射膜代替小尺寸设备中的聚酯反射膜可以解决这一问题。
在镀银型反射膜中，由于聚酯薄膜表面的粗糙度较高，使镀银层与聚酯薄膜之间的附着力较低，在反射膜使用过程中，易出现镀银层表面不平整以及镀银层和聚酯薄膜层分离的现象，导致反射膜的反射率降低。
发明内容
为了解决现有镀银型反射膜中聚酯薄膜的表面粗糙度高，镀银层与聚酯薄膜层的附着力低的问题，本发明提供一种含有钛过渡层的镀银型反射膜及其制备方法。该反射膜反射率较高，能够到达99％以上，且钛过渡层和镀银层与聚酯薄膜的附着力较高。
为了解决上述技术问题，本发明提供下述技术方案：
本发明提供一种镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层(也称银镀层)和树脂保护层(简称保护层)。
进一步的，所述镀银反射膜由聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层组成。
进一步的，所述的镀银型反射膜中，所述钛过渡层位于聚酯薄膜层的上表面；所述镀银层位于钛过渡层的上表面；所述树脂保护层位于镀银层的上表面。
所述聚酯薄膜层经过真空溅射刻蚀，表面粗糙度低。
进一步的，所述聚酯薄膜层是透明基材层。进一步的，所述聚酯薄膜层不具有反射功能。
进一步的，所述聚酯薄膜层选自现有的透明聚酯薄膜。
进一步的，所述聚酯薄膜层为长阳科技OS系列透明聚酯薄膜。
进一步的，所述树脂保护层是透明树脂薄膜。进一步的，所述树脂保护层是聚乙烯薄膜。
进一步的，所述聚酯薄膜层的厚度为50-200μm。
进一步的，所述聚酯薄膜层的厚度为75-200μm。
进一步的，所述聚酯薄膜层的厚度为75-100μm。
进一步的，所述的镀银型反射膜中，所述钛过渡层厚度为0.2-2μm，所述镀银层的厚度为0.5-2μm，所述保护层厚度为1-10μm。
进一步的，所述的镀银型反射膜中，所述钛过渡层采用真空溅射的方法，将钛溅镀在聚酯薄膜层的一个表面上。
进一步的，所述的镀银型反射膜中，所述镀银层采用真空溅射的方法，将银溅镀在钛过渡层的表面上。
进一步的，所述的镀银型反射膜中，所述钛过渡层厚度为0.8-1.4μm，所述镀银层的厚度为1.5-1.8μm。
进一步的，所述保护层厚度为1-2μm。
本发明还提供一种所述的镀银型反射膜的制备方法，所述制备方法包括下述步骤：
(1)准备聚酯薄膜层；
(2)在聚酯薄膜层的上表面进行真空溅射刻蚀处理；
(3)在步骤(2)得到的聚酯薄膜层的上表面溅射金属钛，形成钛过渡层；
(4)在钛过渡层的上表面溅射金属银，形成镀银层；
(5)将树脂薄膜复合到镀银层的表面，形成树脂保护层，得到所述的镀银型反射膜。
进一步的，所述的镀银型反射膜的制备方法中，所述步骤(2)中的真空溅射刻蚀方法如下：
在真空溅射室的靶材中安放99.99％的钛靶，保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar气作为溅射气体，Ar气气压为0.3-0.7Pa，使用射频电源，将聚脂薄膜上的偏压加到-200V，对聚酯薄膜刻蚀20-120s。上述真空溅射刻蚀步骤降低了聚酯薄膜的表面粗糙度。优选的，Ar气气压为0.5Pa，对聚酯薄膜刻蚀30s。
进一步的，所述的镀银型反射膜的制备方法中，所述步骤(3)中的溅射金属钛的方法如下：
在真空溅射室的靶材中安放99.99％的钛靶，保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar气作为溅射气体，Ar气气压为0.3-0.7Pa，使用中频电源，将聚酯薄膜上的偏压设置为-30V，在刻蚀后的聚酯薄膜上沉积金属钛，形成钛过渡层。优选的，Ar气气压为0.5Pa。
进一步的，所述的镀银型反射膜的制备方法中，所述步骤(4)中的溅射金属银的方法如下：
在真空溅射室的靶材中安放99.99％的银靶，保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar气作为溅射气体，Ar气气压为0.3-0.7Pa，使用中频电源，将聚酯薄膜上的偏压设置为-30V，在上述钛过渡层上沉积金属银，形成镀银层。优选的，Ar气气压为0.5Pa。
进一步的，采用干式覆膜方式，将保护层树脂薄膜，通过90℃加热通道和热压，复合到上述方法制备出的镀银层上，收卷。
本发明提供的镀银型反射膜中，钛过渡层降低了聚酯薄膜层表面的粗糙度，提高了银镀层与聚酯薄膜层的附着力，从而提高了反射膜的反射率。反射膜在使用一段时间后，不会出现镀银层表面不平整以及镀银层和聚酯薄膜层分离的现象，反射率不会下降。
与现有镀银反射膜相比，本发明提供的镀银型反射膜反射率较高，钛过渡层和镀银层与聚酯薄膜的附着力较高。而且，该反射膜保护层的表面粗糙度低于100nm。
附图说明
图1为本发明提供的一种镀银型反射膜的结构示意图。
其中1是保护层，2是镀银层，3是钛过渡层，4是聚酯薄膜层。
具体实施方式
为了更易理解本发明的结构及所能达成的功能特征和优点，下文将本发明的较佳的实施例，并配合图式做详细说明如下：
如图1所示，本发明提供的镀银型反射膜包括聚酯薄膜层1，钛过渡层2，镀银层3和保护层4。
本发明提供的镀银型反射膜的制备方法包括以下步骤：
(1)准备聚酯薄膜层；
(2)在真空溅射室的靶材中安放99.99％的钛靶，保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar气作为溅射气体，Ar气气压为0.5Pa，使用射频电源，将聚脂薄膜上的偏压加到-200V，将聚酯薄膜进行刻蚀30s处理，降低表面粗糙度。
(3)在真空溅射室的靶材中安放99.99％的钛靶，保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar气作为溅射气体，Ar气气压为0.5Pa，使用中频电源，将聚酯薄膜上的偏压设置为-30V，在刻蚀后的聚酯薄膜上沉积钛过渡层。
(4)在真空溅射室的靶材中安放99.99％的银靶，保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar气作为溅射气体，Ar气气压为0.5Pa，使用中频或直流电源，将聚酯薄膜上的偏压设置为-30V，在上述钛过渡层上沉积镀银层。
(5)采用干式覆膜方式，将保护层薄膜，通过90℃加热通道和热压，复合到上述方法制备出的镀银层上，收卷。
按照上述方法制备得到镀银型反射膜，其各项性能测试方法如下：
反射率：按照GB/T3979-2008标准，采用Hunterlab公司制造的ColorQuestXE分光测色仪，在D65光源条件下，通过积分球d/8°结构测试其反射率，反射率数据为400-700nm每隔10nm的波长的反射率的加权平均值，权值对应D65光源的能量分布曲线。
附着力：按照ASTM D3359标准，采用百格刀，用于均匀划出一定规格尺寸的方格，使用3M思高系列测试胶带，通过评定方格内涂膜的完整程度来评定涂膜对基材附着程度，以‘级’表示。通过胶带测试后切口的边缘完全光滑，格子边缘没有任何剥落，ASTM等级为5B；在切口的相交处有小片剥落，划格区内实际破损不超过5％，ASTM等级为4B；切口的边缘和/或相交处有被剥落，其面积大于5％，但不到15％，ASTM等级为3B；沿切口边缘有部分剥落或整大片剥落，及/或者部分格子被整片剥落。被剥落的面积超过15％，但不到35％，ASTM等级为2B；切口边缘大片剥落/或者一些方格部分或全部剥落，其面积大于划格区的35％，但不超过65％，ASTM等级为1B；超过65％的ASTM等级为0B.
实施例中使用的聚酯薄膜层为长阳科技OS系列透明聚酯薄膜。
实施例1
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为0.2μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例2
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为0.4μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例3
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为0.6μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例4
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为0.8μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例5
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为1.0μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为2μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例6
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为1.2μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1.5μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例7
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为1.4μm，镀银层的厚度为1.6μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例8
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为1.6μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例9
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为1.8μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例10
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为2.0μm，镀银层的厚度为1.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例11
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为0.8μm，镀银层的厚度为0.5μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例12
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为0.8μm，镀银层的厚度为0.75μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例13
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为0.8μm，镀银层的厚度为1μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例14
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为75μm，钛过渡层的厚度为0.8μm，镀银层的厚度为1.25μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例15
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为100μm，钛过渡层的厚度为0.8μm，镀银层的厚度为1.8μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例16
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为200μm，钛过渡层的厚度为0.8μm，镀银层的厚度为2μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为10μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例17
本发明提供的镀银型反射膜，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中，聚酯薄膜层的厚度为150μm，钛过渡层的厚度为0.8μm，镀银层的厚度为2μm，保护层为聚乙烯薄膜，厚度为5μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
表1实施例1-17所得镀银型反射膜的保护层表面的粗糙度测试结果
实施例 1 2 3 4 5 6 7 8 9
粗糙度(nm) 46 34 36 15 14 6 10 9 29
实施例 10 11 12 13 14 15 16 17
粗糙度(nm) 22 36 28 40 37 16 78 80
表2实施例1-17所得镀银型反射膜的附着力测试表
表3实施例1-17所得镀银型反射膜的反射率测试结果。
由上述实施例的测试结果可以得出，本发明提供的镀银型反射膜具有较高的反射率，较高的附着力，反射膜的表面粗糙度较低。其中，实施例4、5、6、7和实施例15提供的镀银型反射膜具有更高的反射率(高于99.5％)。
以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。凡是根据本发明内容所做的均等变化与修饰，均涵盖在本发明的专利范围内。

Claims (10)

1.一种镀银型反射膜，其特征在于，所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。
2.根据权利要求1所述的镀银型反射膜，其特征在于，所述钛过渡层位于聚酯薄膜层的上表面；所述镀银层位于钛过渡层的上表面；所述树脂保护层位于镀银层的上表面。
3.根据权利要求1所述的镀银型反射膜，其特征在于，所述钛过渡层厚度为0.2-2μm，所述镀银层的厚度为0.5-2μm，所述保护层厚度为1-10μm。
4.根据权利要求1所述的镀银型反射膜，其特征在于，所述钛过渡层采用真空溅射的方法，将钛溅镀在聚酯薄膜层的一个表面上。
5.根据权利要求1所述的镀银型反射膜，其特征在于，所述镀银层采用真空溅射的方法，将银溅镀在钛过渡层的表面上。
6.根据权利要求1所述的镀银型反射膜，其特征在于，所述钛过渡层厚度为0.8-1.4μm，所述镀银层的厚度为1.5-1.8μm。
7.一种根据权利要求1所述的镀银型反射膜的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括下述步骤：
(1)准备聚酯薄膜层；
(2)在聚酯薄膜层的上表面进行真空溅射刻蚀处理；
(3)在步骤(2)得到的聚酯薄膜层的上表面溅射金属钛，形成钛过渡层；
(4)在钛过渡层的上表面溅射金属银，形成镀银层；
(5)将树脂薄膜复合到镀银层的表面，形成树脂保护层，得到所述的镀银型反射膜。
8.根据权利要求7所述的镀银型反射膜的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)中的真空溅射刻蚀方法如下：
在真空溅射室的靶材中安放99.99％的钛靶，保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar气作为溅射气体，Ar气气压为0.3-0.7Pa，使用射频电源，将聚脂薄膜上的偏压加到-200V，对聚酯薄膜刻蚀20-120s。
9.根据权利要求7所述的镀银型反射膜的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)中的溅射金属钛的方法如下：
在真空溅射室的靶材中安放99.99％的钛靶，保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar气作为溅射气体，Ar气气压为0.3-0.7Pa，使用中频电源，将聚酯薄膜上的偏压设置为-30V，在刻蚀后的聚酯薄膜上沉积金属钛，形成钛过渡层。
10.根据权利要求7所述的镀银型反射膜的制备方法，其特征在于，所述步骤(4)中的溅射金属银的方法如下：
在真空溅射室的靶材中安放99.99％的银靶，保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa，使用Ar气作为溅射气体，Ar气气压为0.3-0.7Pa，使用中频电源，将聚酯薄膜上的偏压设置为-30V，在上述钛过渡层上沉积金属银，形成镀银层。
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Application publication date: 20170524

Assignee: Ningbo Changlong New Material Co.,Ltd.

Assignor: NINGBO SOLARTRON TECHNOLOGY Co.,Ltd.

Contract record no.: X2021330000199

Denomination of invention: The invention relates to a silver plated reflective film and a preparation method thereof

Granted publication date: 20190524

License type: Common License

Record date: 20210831