CN106707385B - 一种镀银型反射膜及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及反射膜技术领域,尤其涉及一种应用于小尺寸的镀银型反射膜及其制备方法。为了解决现有镀银型反射膜中聚酯薄膜的表面粗糙度高,镀银层与聚酯薄膜层的附着力低的问题,本发明提供一种含有钛过渡层的镀银型反射膜。所述镀银型反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。该反射膜反射率较高,能够到达99%以上,且钛过渡层和镀银层与聚酯薄膜的附着力较高。
Description
技术领域
本发明涉及反射膜技术领域,尤其涉及一种应用于小尺寸的镀银型反射膜及其制备方法。
背景技术
背光模组主要由反射膜、扩散膜和增亮膜构成,其发展趋势在提高其性能的基础上更趋于轻薄。目前反射膜一般为多孔的白色聚酯薄膜,通过控制薄膜中心泡孔的大小和密度来提高反射率。通常,白色反射膜反射率到达97%后即难以继续提高,且在使用过程中易出先白点。用镀银型反射膜代替小尺寸设备中的聚酯反射膜可以解决这一问题。
在镀银型反射膜中,由于聚酯薄膜表面的粗糙度较高,使镀银层与聚酯薄膜之间的附着力较低,在反射膜使用过程中,易出现镀银层表面不平整以及镀银层和聚酯薄膜层分离的现象,导致反射膜的反射率降低。
发明内容
为了解决现有镀银型反射膜中聚酯薄膜的表面粗糙度高,镀银层与聚酯薄膜层的附着力低的问题,本发明提供一种含有钛过渡层的镀银型反射膜及其制备方法。该反射膜反射率较高,能够到达99%以上,且钛过渡层和镀银层与聚酯薄膜的附着力较高。
为了解决上述技术问题,本发明提供下述技术方案:
本发明提供一种镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层(也称银镀层)和树脂保护层(简称保护层)。
进一步的,所述镀银反射膜由聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层组成。
进一步的,所述的镀银型反射膜中,所述钛过渡层位于聚酯薄膜层的上表面;所述镀银层位于钛过渡层的上表面;所述树脂保护层位于镀银层的上表面。
所述聚酯薄膜层经过真空溅射刻蚀,表面粗糙度低。
进一步的,所述聚酯薄膜层是透明基材层。进一步的,所述聚酯薄膜层不具有反射功能。
进一步的,所述聚酯薄膜层选自现有的透明聚酯薄膜。
进一步的,所述聚酯薄膜层为长阳科技OS系列透明聚酯薄膜。
进一步的,所述树脂保护层是透明树脂薄膜。进一步的,所述树脂保护层是聚乙烯薄膜。
进一步的,所述聚酯薄膜层的厚度为50-200μm。
进一步的,所述聚酯薄膜层的厚度为75-200μm。
进一步的,所述聚酯薄膜层的厚度为75-100μm。
进一步的,所述的镀银型反射膜中,所述钛过渡层厚度为0.2-2μm,所述镀银层的厚度为0.5-2μm,所述保护层厚度为1-10μm。
进一步的,所述的镀银型反射膜中,所述钛过渡层采用真空溅射的方法,将钛溅镀在聚酯薄膜层的一个表面上。
进一步的,所述的镀银型反射膜中,所述镀银层采用真空溅射的方法,将银溅镀在钛过渡层的表面上。
进一步的,所述的镀银型反射膜中,所述钛过渡层厚度为0.8-1.4μm,所述镀银层的厚度为1.5-1.8μm。
进一步的,所述保护层厚度为1-2μm。
本发明还提供一种所述的镀银型反射膜的制备方法,所述制备方法包括下述步骤:
(1)准备聚酯薄膜层;
(2)在聚酯薄膜层的上表面进行真空溅射刻蚀处理;
(3)在步骤(2)得到的聚酯薄膜层的上表面溅射金属钛,形成钛过渡层;
(4)在钛过渡层的上表面溅射金属银,形成镀银层;
(5)将树脂薄膜复合到镀银层的表面,形成树脂保护层,得到所述的镀银型反射膜。
进一步的,所述的镀银型反射膜的制备方法中,所述步骤(2)中的真空溅射刻蚀方法如下:
在真空溅射室的靶材中安放99.99%的钛靶,保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa,使用Ar气作为溅射气体,Ar气气压为0.3-0.7Pa,使用射频电源,将聚脂薄膜上的偏压加到-200V,对聚酯薄膜刻蚀20-120s。上述真空溅射刻蚀步骤降低了聚酯薄膜的表面粗糙度。优选的,Ar气气压为0.5Pa,对聚酯薄膜刻蚀30s。
进一步的,所述的镀银型反射膜的制备方法中,所述步骤(3)中的溅射金属钛的方法如下:
在真空溅射室的靶材中安放99.99%的钛靶,保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa,使用Ar气作为溅射气体,Ar气气压为0.3-0.7Pa,使用中频电源,将聚酯薄膜上的偏压设置为-30V,在刻蚀后的聚酯薄膜上沉积金属钛,形成钛过渡层。优选的,Ar气气压为0.5Pa。
进一步的,所述的镀银型反射膜的制备方法中,所述步骤(4)中的溅射金属银的方法如下:
在真空溅射室的靶材中安放99.99%的银靶,保证溅射室的真空度小于1×10-2Pa,使用Ar气作为溅射气体,Ar气气压为0.3-0.7Pa,使用中频电源,将聚酯薄膜上的偏压设置为-30V,在上述钛过渡层上沉积金属银,形成镀银层。优选的,Ar气气压为0.5Pa。
进一步的,采用干式覆膜方式,将保护层树脂薄膜,通过90℃加热通道和热压,复合到上述方法制备出的镀银层上,收卷。
本发明提供的镀银型反射膜中,钛过渡层降低了聚酯薄膜层表面的粗糙度,提高了银镀层与聚酯薄膜层的附着力,从而提高了反射膜的反射率。反射膜在使用一段时间后,不会出现镀银层表面不平整以及镀银层和聚酯薄膜层分离的现象,反射率不会下降。
与现有镀银反射膜相比,本发明提供的镀银型反射膜反射率较高,钛过渡层和镀银层与聚酯薄膜的附着力较高。而且,该反射膜保护层的表面粗糙度低于100nm。
附图说明
图1为本发明提供的一种镀银型反射膜的结构示意图。
其中1是保护层,2是镀银层,3是钛过渡层,4是聚酯薄膜层。
具体实施方式
为了更易理解本发明的结构及所能达成的功能特征和优点,下文将本发明的较佳的实施例,并配合图式做详细说明如下:
如图1所示,本发明提供的镀银型反射膜包括聚酯薄膜层1,钛过渡层2,镀银层3和保护层4。
本发明提供的镀银型反射膜的制备方法包括以下步骤:
(1)准备聚酯薄膜层;
(2)在真空溅射室的靶材中安放99.99%的钛靶,保证溅射室的真空度小于1×10- 2Pa,使用Ar气作为溅射气体,Ar气气压为0.5Pa,使用射频电源,将聚脂薄膜上的偏压加到-200V,将聚酯薄膜进行刻蚀30s处理,降低表面粗糙度。
(3)在真空溅射室的靶材中安放99.99%的钛靶,保证溅射室的真空度小于1×10- 2Pa,使用Ar气作为溅射气体,Ar气气压为0.5Pa,使用中频电源,将聚酯薄膜上的偏压设置为-30V,在刻蚀后的聚酯薄膜上沉积钛过渡层。
(4)在真空溅射室的靶材中安放99.99%的银靶,保证溅射室的真空度小于1×10- 2Pa,使用Ar气作为溅射气体,Ar气气压为0.5Pa,使用中频或直流电源,将聚酯薄膜上的偏压设置为-30V,在上述钛过渡层上沉积镀银层。
(5)采用干式覆膜方式,将保护层薄膜,通过90℃加热通道和热压,复合到上述方法制备出的镀银层上,收卷。
按照上述方法制备得到镀银型反射膜,其各项性能测试方法如下:
反射率:按照GB/T3979-2008标准,采用Hunterlab公司制造的ColorQuest XE分光测色仪,在D65光源条件下,通过积分球d/8°结构测试其反射率,反射率数据为400-700nm每隔10nm的波长的反射率的加权平均值,权值对应D65光源的能量分布曲线。
附着力:按照ASTM D3359标准,采用百格刀,用于均匀划出一定规格尺寸的方格,使用3M思高系列测试胶带,通过评定方格内涂膜的完整程度来评定涂膜对基材附着程度,以‘级’表示。通过胶带测试后切口的边缘完全光滑,格子边缘没有任何剥落,ASTM等级为5B;在切口的相交处有小片剥落,划格区内实际破损不超过5%,ASTM等级为4B;切口的边缘和/或相交处有被剥落,其面积大于5%,但不到15%,ASTM等级为3B;沿切口边缘有部分剥落或整大片剥落,及/或者部分格子被整片剥落。被剥落的面积超过15%,但不到35%,ASTM等级为2B;切口边缘大片剥落/或者一些方格部分或全部剥落,其面积大于划格区的35%,但不超过65%,ASTM等级为1B;超过65%的ASTM等级为0B.
实施例中使用的聚酯薄膜层为长阳科技OS系列透明聚酯薄膜。
实施例1
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为75μm,钛过渡层的厚度为0.2μm,镀银层的厚度为1.5μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例2
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为75μm,钛过渡层的厚度为0.4μm,镀银层的厚度为1.5μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例3
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为75μm,钛过渡层的厚度为0.6μm,镀银层的厚度为1.5μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例4
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为75μm,钛过渡层的厚度为0.8μm,镀银层的厚度为1.5μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例5
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为75μm,钛过渡层的厚度为1.0μm,镀银层的厚度为1.5μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为2μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例6
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为75μm,钛过渡层的厚度为1.2μm,镀银层的厚度为1.5μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为1.5μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例7
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为75μm,钛过渡层的厚度为1.4μm,镀银层的厚度为1.6μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例8
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为75μm,钛过渡层的厚度为1.6μm,镀银层的厚度为1.5μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例9
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为75μm,钛过渡层的厚度为1.8μm,镀银层的厚度为1.5μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例10
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为75μm,钛过渡层的厚度为2.0μm,镀银层的厚度为1.5μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例11
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为75μm,钛过渡层的厚度为0.8μm,镀银层的厚度为0.5μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例12
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为75μm,钛过渡层的厚度为0.8μm,镀银层的厚度为0.75μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例13
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为75μm,钛过渡层的厚度为0.8μm,镀银层的厚度为1μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例14
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为75μm,钛过渡层的厚度为0.8μm,镀银层的厚度为1.25μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例15
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为100μm,钛过渡层的厚度为0.8μm,镀银层的厚度为1.8μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为1μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例16
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为200μm,钛过渡层的厚度为0.8μm,镀银层的厚度为2μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为10μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
实施例17
本发明提供的镀银型反射膜,所述反射膜依次包括聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层。其中,聚酯薄膜层的厚度为150μm,钛过渡层的厚度为0.8μm,镀银层的厚度为2μm,保护层为聚乙烯薄膜,厚度为5μm。所得镀银型反射膜相关性能见表1、表2和表3。
表1实施例1-17所得镀银型反射膜的保护层表面的粗糙度测试结果
实施例 | 1 | 2 | 3 | 4 | 5 | 6 | 7 | 8 | 9 |
粗糙度(nm) | 46 | 34 | 36 | 15 | 14 | 6 | 10 | 9 | 29 |
实施例 | 10 | 11 | 12 | 13 | 14 | 15 | 16 | 17 | |
粗糙度(nm) | 22 | 36 | 28 | 40 | 37 | 16 | 78 | 80 |
表2实施例1-17所得镀银型反射膜的附着力测试表
表3实施例1-17所得镀银型反射膜的反射率测试结果。
由上述实施例的测试结果可以得出,本发明提供的镀银型反射膜具有较高的反射率,较高的附着力,反射膜的表面粗糙度较低。其中,实施例4、5、6、7和实施例15提供的镀银型反射膜具有更高的反射率(高于99.5%)。
以上所述,仅为本发明的较佳实施例而已,并非用于限定本发明的保护范围。凡是根据本发明内容所做的均等变化与修饰,均涵盖在本发明的专利范围内。
Claims (5)
1.一种镀银型反射膜,其特征在于,所述反射膜由聚酯薄膜层、钛过渡层、镀银层和树脂保护层组成;所述钛过渡层为金属钛,所述钛过渡层厚度为0.8-1.4μm,所述镀银层的厚度为1.5-1.8μm;所述聚酯薄膜层的厚度为75-100μm,所述保护层厚度为1-2μm。
2.根据权利要求1所述的镀银型反射膜,其特征在于,所述钛过渡层位于聚酯薄膜层的上表面;所述镀银层位于钛过渡层的上表面;所述树脂保护层位于镀银层的上表面。
3.根据权利要求1所述的镀银型反射膜,其特征在于,所述钛过渡层采用真空溅射的方法,将钛溅镀在聚酯薄膜层的一个表面上。
4.根据权利要求1所述的镀银型反射膜,其特征在于,所述镀银层采用真空溅射的方法,将银溅镀在钛过渡层的表面上。
5.一种根据权利要求1所述的镀银型反射膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括下述步骤:
(1)准备聚酯薄膜层;
(2)在聚酯薄膜层的上表面进行真空溅射刻蚀处理;
(3)在步骤(2)得到的聚酯薄膜层的上表面溅射金属钛,形成钛过渡层;
(4)在钛过渡层的上表面溅射金属银,形成镀银层;
(5)将树脂薄膜复合到镀银层的表面,形成树脂保护层,得到所述的镀银型反射膜。
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Date | Code | Title | Description |
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GR01 | Patent grant | ||
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EE01 | Entry into force of recordation of patent licensing contract |
Application publication date: 20170524 Assignee: Ningbo Changlong New Material Co.,Ltd. Assignor: NINGBO SOLARTRON TECHNOLOGY Co.,Ltd. Contract record no.: X2021330000199 Denomination of invention: The invention relates to a silver plated reflective film and a preparation method thereof Granted publication date: 20190524 License type: Common License Record date: 20210831 |
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