CN106534418A - 壳体、制造方法及移动终端 - Google Patents

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CN106534418A CN201611190161.7A CN201611190161A CN106534418A CN 106534418 A CN106534418 A CN 106534418A CN 201611190161 A CN201611190161 A CN 201611190161A CN 106534418 A CN106534418 A CN 106534418A
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Abstract

本发明公开一种壳体、制造方法及移动终端。所述壳体包括基体及形成在所述基体上光学膜层，所述光学膜层烧结在所述基体上以调整所述基体的外观表现色。本发明实施方式的壳体，光学膜层形成在基体上后再经烧结工艺以加强附着在基体上，光学膜层不易从基体上脱落，避免因光学膜层脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。

Description

壳体、制造方法及移动终端
技术领域
本发明涉及材料工程技术领域，特别涉及一种壳体、制造方法及移动终端。
背景技术
目前，手机使用的壳体上面通常会镀上膜层来控制反射特定波长的光线以给使用者带来视觉上不同颜色的感观。然而，由于壳体上的膜层耐磨性有限，手机长时间使用后，膜层容易局部脱落，导致使用者感观到的颜色不均匀。
发明内容
本发明实施方式旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本发明实施方式提供一种壳体、制造方法及移动终端。
本发明实施方式的壳体包括基体及形成在所述基体上的光学膜层，所述光学膜层烧结在所述基体上以调整所述基体的外观表现色。
在某些实施方式中，所述光学膜层由高折射率膜层及低折射率膜层堆叠形成，或由所述光学膜层由高折射率膜层及低折射率膜层融合形成。
在某些实施方式中，所述基体包括陶瓷、玻璃、不锈钢、钛合金、锆合金中的任意一种。
在某些实施方式中，所述壳体还包括颜色层，所述颜色层形成在所述基体上，所述颜色层位于所述基体与所述高折射率膜层/所述低折射率膜层之间。
在某些实施方式中，所述颜色层包括白色层、黑色层、金色层、玫瑰金层、蓝色层中的任意一种。
在某些实施方式中，所述高折射率膜层的材料包括硫化锌、二氧化钛、氧化锆、及氧化钽中的任意一种。
在某些实施方式中，所述低折射率膜层的材料包括氟化镁、一氧化硅及二氧化硅中的任意一种。
在某些实施方式中，在远离所述基体的方向上，所述高折射率膜层与所述低折射率膜层依序设置在所述基体上。
在某些实施方式中，所述基体为陶瓷，所述高折射率膜层的材料为二氧化锆，所述高折射率膜层的厚度为20nm～40nm，所述低折射率膜层的材料为二氧化硅，所述低折射率膜层的厚度为50nm～100nm。
在某些实施方式中，在远离所述基体的方向上，所述低折射率膜层与所述高折射率膜层依序设置在所述基体上。
在某些实施方式中，所述低折射率膜层为多层，所述高折射率膜层为多层，多层所述高折射率膜层与多层所述低折射率膜层交替堆叠形成在所述基体上。
在某些实施方式中，多层所述高折射率膜层的材料包括硫化锌、二氧化钛、氧化锆、及氧化钽中的任意两种，多层所述低折射率膜层包括氟化镁、一氧化硅及二氧化硅中的任意两种。
在某些实施方式中，多层所述高折射率膜层的材料相同，多层所述低折射率膜层的材料相同。
在某些实施方式中，所述高折射率膜层与所述低折射率膜层形成后采用200摄氏度～1000摄氏度的温度进行烧结以加强附着在所述基体上。
本发明实施方式的壳体，光学膜层形成在基体上后再经烧结工艺以加强附着在基体上，光学膜层不易从基体上脱落，避免因光学膜层脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
本发明实施方式的壳体包括基体及形成在所述基体上的膜堆，所述膜堆形成后进行烧结以加强附着在所述基体上，所述膜堆用于控制反射特定波长的光线以给使用者带来视觉上不同颜色的感观。
本发明实施方式的壳体，光学膜层形成在基体上后再经烧结工艺以加强附着在基体上，光学膜层不易从基体上脱落，避免因光学膜层脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
本发明实施方式的制造方法，用于制造上述任一实施方式所述的壳体，其特征在于，所述制造方法包括以下步骤：
提供一个基体；
在所述基体上形成光学膜层；及
加热所述光学膜层以及所述基体以使所述光学膜层结合至所述基体上。
在某些实施方式中，所述加热所述光学膜层以及所述基体以使所述光学膜层结合至所述基体上的步骤包括：加热所述光学膜层以及所述基体以使所述光学膜层烧结至所述基体上。
在某些实施方式中，所述在所述基体上形成光学膜层的步骤包括：
对所述基体进行表面预处理；将二氧化锆膜层形成在所述基体表面；
将二氧化硅膜层形成在所述二氧化锆膜层表面。
在某些实施方式中，将二氧化锆膜层形成在所述基体的表面，包括：将所述二氧化锆膜层印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式形成在所属基体的表面；和/或
将二氧化硅膜层形成在所述二氧化锆膜层表面，包括：将所述二氧化锆膜层印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式形成在所属基体的表面。
在某些实施方式中，所述在所述基体上形成光学膜层的步骤包括：
对所述基体进行表面预处理；
将二氧化硅膜层形成在所述基体表面；
将二氧化锆膜层形成在所述二氧化硅膜层表面。
在某些实施方式中，将二氧化硅膜层形成在所述基体表面，包括：将所述二氧化锆膜层印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式形成在所属基体的表面；和/或
将二氧化锆膜层形成在所述二氧化硅膜层表面，包括：将所述二氧化锆膜层印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式形成在所属基体的表面。
在某些实施方式中，在所述放置所述基体于真空炉内之后，所述在所述基体上形成高折射率膜层与低折射率膜层的步骤还包括：
预热所述真空炉。
在某些实施方式中，所述烧结所述高折射率膜层与所述低折射率膜层的步骤是采用200摄氏度～1000摄氏度的温度来烧结实现的。
本发明实施方式的制造方法，光学膜层形成在基体上后再经烧结工艺以加强附着在基体上，光学膜层不易从基体上脱落，避免因光学膜层脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
本发明实施方式的制造方法，用于制造上述任一实施方式所述的壳体，其特征在于，所述制造方法包括以下步骤：
提供一个基体；
形成一种包含高折射率膜层与低折射率膜层的膜堆；
固定所述膜堆在所述基体的表面上；及
烧结所述高折射率膜层与所述低折射率膜层。
本发明实施方式的制造方法，光学膜层形成在基体上后再经烧结工艺以加强附着在基体上，光学膜层不易从基体上脱落，避免因光学膜层脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
一种制造方法，用于制造壳体，所述制造方法包括以下步骤：
提供一个陶瓷基体；
将二氧化锆镀至所述陶瓷表面形成二氧化锆膜层；
将二氧化硅镀至所述二氧化锆膜层表面形成二氧化硅膜层；
烧结所述陶瓷基体、所述二氧化锆膜层及所述二氧化硅膜层。
本发明实施方式的制造方法，光学膜层形成在基体上后再经烧结工艺以加强附着在基体上，光学膜层不易从基体上脱落，避免因光学膜层脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
一种移动终端，包括上述任一实施方式所述的壳体。
本发明实施方式的移动终端，壳体的光学膜层形成在基体上后再经烧结工艺以加强附着在基体上，光学膜层不易从基体上脱落，避免因光学膜层脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
本发明实施方式的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本发明的实践了解到。
附图说明
本发明实施方式的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施方式的描述中将变得明显和容易理解，其中：
图1是本发明第一实施方式提供的壳体的截面示意图。
图2是本发明第二实施方式提供的壳体的截面示意图。
图3是本发明第三实施方式提供的壳体的截面示意图。
图4是本发明第四实施方式提供的壳体的截面示意图。
图5是本发明第五实施方式提供的壳体的截面示意图。
图6是本发明第六实施方式提供的壳体的截面示意图。
图7是本发明第七实施方式提供的壳体的截面示意图。
图8是本发明第七实施方式提供的壳体的截面示意图。
图9是本发明实施方式提供的制造方法的流程示意图。
图10是本发明实施方式提供的制造方法的流程示意图。
图11是本发明实施方式提供的制造方法的流程示意图。
图12是本发明实施方式提供的制造方法的流程示意图。
图13是本发明实施方式提供的制造方法的流程示意图。
图14是本发明实施方式提供的制造方法的流程示意图。
图15是本发明实施方式提供的制造方法的流程示意图。
图16是本发明实施方式提供的移动终端的平面示意图。
图17是本发明实施方式提供的移动终端的平面示意图。
主要元件符号说明：
壳体10，膜堆11，基体12，光学膜层13，高折射率膜层14，低折射率膜层16，颜色层18。
具体实施方式
下面详细描述本发明的实施方式，所述实施方式的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施方式是示例性的，仅用于解释本发明，而不能理解为对本发明的限制。
在本发明的描述中，需要理解的是，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个所述特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。
在本发明的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接或可以相互通信；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
下文的公开提供了许多不同的实施方式或例子用来实现本发明的不同结构。为了简化本发明的公开，下文中对特定例子的部件和设定进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本发明。此外，本发明可以在不同例子中重复参考数字和/或参考字母，这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施方式和/或设定之间的关系。此外，本发明提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的应用和/或其他材料的使用。
请参阅图1，本发明第一实施方式的壳体10，包括基体12及形成在基体12上的光学膜层13。壳体10可以是指纹识别模组的盖板、手机的后壳、平板电脑的后壳中的任意一种。
基体12可以是陶瓷、玻璃、不锈钢、钛合金、锆合金中的任意一种。当然，在其他实施方式中，基体12不限于上述材料，可根据实际情况选择合适的材料。
光学膜层13烧结在所述基体12上以调整所述基体12的外观表现色，光学膜层13包括高折射率膜层14及低折射率膜层16堆叠形成。高折射率膜层14的材料可以是硫化锌、二氧化钛、氧化锆、及氧化钽中的任意一种。低折射率膜层16的材料可以是氟化镁、一氧化硅或二氧化硅中的任意一种。当然，在其他实施方式中，高折射率膜层14和低折射率膜层16不限于上述材料，可根据实际情况选择合适的材料。具体地，高折射率膜层14是指折射率为2～2.8的材料制成的膜层，低折射率膜层16是指折射率为1.3～1.7的材料制成的膜层。在远离基体12的方向上，高折射率膜层14与低折射率膜层16依序设置在基体12上。也即是说，高折射率膜层14设置在基体12上，低折射率膜层16设置在高折射膜层14上。
高折射率膜层14与低折射率膜层16形成后采用200摄氏度～1000摄氏度的温度进行烧结以加强附着在基体12上。
具体地，在一个例子中，基体12为陶瓷；高折射率膜层14的材料为二氧化锆，高折射率膜层14的厚度为20nm～40nm；低折射率膜层16的材料为二氧化硅，低折射率膜层16的厚度为50nm～100nm。最佳烧结温度范围在600摄氏度～800摄氏度之间。
本发明第一实施方式的壳体10，在基体12上形成高折射率膜层14和低折射率膜层16，根据基体12的材料选择合适的高折射率膜层14和低折射率膜层16以便于高折射率膜层14和低折射率膜层16形成在壳体10上，然后根据高折射率膜层14的折射率和低折射率膜层16的折射率设计高折射率膜层14和低折射率膜层16的厚度，增强特定波长的光的反射率，以给使用者带来视觉上特定波长的光的颜色的感观。高折射率膜层14和低折射率膜层16形成在基体12上后，再经烧结工艺，使高折射率膜层14和低折射率膜层16加强附着在基体12上。
具体地，在工艺上，选择高折射率膜层14或低折射率膜层16时，需根据基体12的材质选择合适的材料形成高折射率膜层14或低折射率膜层16在基体12表面，最佳烧结温度范围，也与基体12的材质、高折射率膜层14和低折射率膜层16的所采用的材料有关，在某一温度范围内，烧结后两种材料界面处融为一体，就可达到膜层加强附着在基体12上不易脱落的效果。
本发明第一实施方式的壳体10，光学膜层13形成在基体12上后再经烧结工艺以加强附着在基体12上，光学膜层13不易从基体12上脱落，避免因光学膜层13脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
请参阅图2，本发明第二实施方式的壳体10与第一实施方式中的壳体10结构基本相同，不同之处在于：在远离基体12的方向上，低折射率膜层16与高折射率膜层14依序设置在基体12上。也即是说，高折射率膜层14和低折射率膜层16的位置可交换，不影响本发明任一实施方式的壳体10的实现。
本发明第二实施方式的壳体10，光学膜层13形成在基体12上后再经烧结工艺以加强附着在基体12上，光学膜层13不易从基体12上脱落，避免因光学膜层13脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
请参阅图3，本发明第三实施方式的壳体10与第一实施方式中的壳体10的结构基本相同，不同之处在于：壳体10还包括颜色层18，颜色层18形成在基体12上，颜色层18位于基体12与高折射率膜层14之间。颜色层18可以是白色层、黑色层、金色层、玫瑰金层、蓝色层中的任意一种。
也即是说，颜色层18的颜色可以是任意的，可以与需实现的给使用者带来视觉上的感观的颜色一致，也可以不一致，只需设计合理的高折射率膜层14和低折射率膜层16，即可给使用者带来视觉上不同颜色的感观。较佳的，颜色层18的颜色与需实现的给使用者带来视觉上的感观的颜色一致。
进一步地，在其他实施方式中，颜色层18可以为基体12的颜色，例如，基体12可以为白色、黑色，金色、蓝色中的任意一种。
本发明第三实施方式的壳体10，光学膜层13形成在基体12上后再经烧结工艺以加强附着在基体12上，光学膜层13不易从基体12上脱落，避免因光学膜层13脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
请参阅图4，本发明第四实施方式的壳体10与第二实施方式中的壳体10的结构基本相同，不同之处在于：壳体10还包括颜色层18，颜色层18形成在基体12上，颜色层18位于基体12与低折射率膜层16之间。颜色层18可以是白色层、黑色层、金色层、玫瑰金层、蓝色层中的任意一种。
也即是说，颜色层18的颜色可以是任意的，可以与需实现的给使用者带来视觉上的感观的颜色一致，也可以不一致，只需设计合理的高折射率膜层14和低折射率膜层16，即可给使用者带来视觉上不同颜色的感观。较佳的，颜色层18的颜色与需实现的给使用者带来视觉上的感观的颜色一致。
本发明第四实施方式的壳体10，光学膜层13形成在基体12上后再经烧结工艺以加强附着在基体12上，光学膜层13不易从基体12上脱落，避免因光学膜层13脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
请参阅图5，本发明第五实施方式的壳体10与第一实施方式中的壳体10结构基本相同，不同之处在于：低折射率膜层16为多层，高折射率膜层14为多层，多层高折射率膜层14与多层低折射率膜层16交替堆叠形成在基体12上。
其中，多层高折射率膜层14的材料相同，多层低折射率膜层16的材料相同。换句话说，每层高折射率膜层14的材料均为硫化锌、二氧化钛、二氧化锆、及氧化钽中的任意一种，每层低折射率膜层16的材料均为氟化镁、一氧化硅及二氧化硅中的任意一种。举例来说：若每层高折射率膜层14的材料均为硫化锌，每层低折射率膜层16的材料均为氟化镁，高折射率膜层14与低折射率膜层16的层数均为3层，则沿着远离基体12的方向，依次为：硫化锌层14、氟化镁层16、硫化锌层14、氟化镁层16、硫化锌层14与氟化镁层16。
低折射率膜层16的层数与高折射率膜层14的层数可以是大于等于两层的任意层数，具体的层数与需达到的视觉效果相关，可根据实际需求，合理设计高折射率膜层14和低折射率膜层16的数量，同时要满足二者交替堆叠。
可以理解，第二至第四实施方式中的壳体10的低折射率膜层16与高折射率膜层14也可与本实施方式的低折射率膜层16与高折射率膜层14的结构一样，设计为多层，且多层高折射率膜层14与多层低折射率膜层16交替堆叠形成在基体12上，且多层高折射率膜层14的材料相同，多层低折射率膜层16的材料相同。
本发明第五实施方式的壳体10，光学膜层13形成在基体12上后再经烧结工艺以加强附着在基体12上，光学膜层13不易从基体12上脱落，避免因光学膜层13脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
请参阅图6，本发明第六实施方式的壳体10与第一实施方式中的壳体10结构基本相同，不同之处在于：低折射率膜层16为多层，高折射率膜层14为多层，多层高折射率膜层14与多层低折射率膜层16交替堆叠形成在基体12上。
其中，多层高折射率膜层14的材料至少包括硫化锌、二氧化钛、二氧化锆、及氧化钽中的任意两种，多层低折射率膜层16包括氟化镁、一氧化硅及二氧化硅中的任意两种。也即是说，高折射率膜层14的材料可以包括硫化锌、二氧化钛、二氧化锆、及氧化钽中的任意两种，也可以包括硫化锌、二氧化钛、氧化锆、及氧化钽中的任意三种，多层低折射率膜层16可包括氟化镁、一氧化硅及二氧化硅中的任意两种，也可以包括氟化镁、一氧化硅及二氧化硅三种。
举例来说：若高折射率膜层14的材料为硫化锌和二氧化钛，低折射率膜层16的材料为氟化镁和二氧化硅，高折射率膜层14与低折射率膜层16的层数均为3层，则沿着远离基体12的方向，可以依次为：硫化锌层14、氟化镁层16、硫化锌层14、二氧化硅层16、二氧化锆层14与氟化镁层16，也可以依次为：二氧化锆层14、二氧化硅层16、硫化锌层14、二氧化硅层16、二氧化锆层14与氟化镁层16；若高折射率膜层14的材料为硫化锌、二氧化钛和氧化锆，低折射率磨成16的材料为氟化镁、一氧化硅和二氧化硅，则沿着远离基体12的方向，可以依次为：硫化锌层14、一氧化硅层16、二氧化锆层14、二氧化硅层16、二氧化钛层14与氟化镁层16，也可以依次为层二氧化锆层14、氟化镁层16、硫化锌14、二氧化硅层16、二氧化钛层14与一氧化硅层16。
低折射率膜层16的层数与高折射率膜层14的层数可以是大于等于两层的任意层数，具体的层数与需达到的视觉效果相关，可根据实际需求，合理设计高折射率膜层14和低折射率膜层16的数量，同时要满足二者交替堆叠。
可以理解，第二至第四实施方式中的壳体10的低折射率膜层16与高折射率膜层14也可与本实施方式的低折射率膜层16与高折射率膜层14的结构一样，设计为多层，且多层高折射率膜层14与多层低折射率膜层16交替堆叠形成在基体12上，且多层高折射率膜层14的至少包括硫化锌、二氧化钛、二氧化锆、及氧化钽中的任意两种，多层低折射率膜层16包括氟化镁、一氧化硅及二氧化硅中的任意两种。
本发明第六实施方式的壳体10，光学膜层13形成在基体12上后再经烧结工艺以加强附着在基体12上，光学膜层13不易从基体12上脱落，避免因光学膜层13脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
请参阅图7，本发明第七实施方式的壳体10包括基体12及形成在基体12上的膜堆11，膜堆11形成后进行烧结以加强附着在基体12上，膜堆11用于控制反射特定波长的光线以给使用者带来视觉上不同颜色的感观。
本发明第七实施方式的壳体10，膜堆11形成在基体12上后再经烧结工艺以加强附着在基体12上，膜堆11不易从基体12上脱落，延长使用寿命。
请参阅图8，本发明第八实施方式的壳体10与第一实施方式中的壳体10结构基本相同，不同之处在于：光学膜层13由高折射率膜层及低折射率膜层融合形成。
本发明第八实施方式的壳体10，光学膜层13形成在基体12上后再经烧结工艺以加强附着在基体12上，光学膜层13不易从基体12上脱落，延长使用寿命。
请参阅图9，本发明某些实施方式的制造方法，用于制造如上任一实施方式所述的壳体10，壳体10可以是指纹识别模组的盖板、手机的后壳、平板电脑的后壳中的任意一种。制造方法包括以下步骤：
S12：提供一个基体12；
S14：在基体12上形成光学膜层13；及
S16：加热光学膜层13以及基体12以使光学膜层13结合至基体12上。
步骤S12提供的基体12，基体12包括陶瓷、玻璃、不锈钢、钛合金、锆合金中的任意一种。当然，在其他实施方式中，基体12不限于上述材料，可根据实际情况选择合适的材料。
步骤S14通过蒸镀、溅射镀膜、喷涂、电镀、电泳、印刷工艺中的任意一种方式实现。光学膜层13包括高折射率膜层14和低折射率膜层16。高折射率膜层14的材料包括硫化锌、二氧化钛、氧化锆、及氧化钽中的任意一种。低折射率膜层16的材料包括氟化镁、一氧化硅或二氧化硅中的任意一种。当然，在其他实施方式中，高折射率膜层14和低折射率膜层16不限于上述材料，可根据实际情况选择合适的材料。具体地，高折射率膜层14是指折射率为2～2.8的材料制成的膜层，低折射率膜层16是指折射率为1.3～1.7的材料制成的膜层。具体地，需根据基体12的材料选择合适的高折射率膜层14和低折射率膜层16以便于高折射率膜层14和低折射率膜层16形成在壳体10上，然后根据高折射率膜层14的折射率和低折射率膜层16的折射率设计高折射率膜层14和低折射率膜层16的厚度，增强特定波长的光的反射率，以给使用者带来视觉上特定波长的光的颜色的感观。
步骤S16包括：加热所述光学膜层13以及所述基体以使所述光学膜层13烧结至所述基体上。烧结温度范围为200摄氏度～1000摄氏度。具体地，在工艺上，选择高折射率膜层14或低折射率膜层16时，需根据基体12的材质选择合适的材料形成高折射率膜层14或低折射率膜层16在基体12表面，最佳烧结温度范围，也与基体12的材质和膜层的具体的材质有关，在某一温度范围内，烧结后两种材料界面处融为一体，就可达到膜层加强附着在基体12上不易脱落的效果。
本发明实施方式的制造方法，光学膜层13形成在基体12上后再经烧结工艺以加强附着在基体12上，光学膜层13不易从基体12上脱落，避免因光学膜层13脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
请参阅图9及图10，在某些实施方式中，步骤S12之前还可以包括以下步骤：
S11：初清洁基体12。具体地其中，初清洁方式可以是手动擦拭，也可以是超声波清洁。
本发明实施方式的制造方法，光学膜层13形成在基体12上后再经烧结工艺以加强附着在基体12上，光学膜层13不易从基体12上脱落，避免因光学膜层13脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
请参阅图9及图11，在某些实施方式中，步骤S14包括以下子步骤：
S141：对基体12进行表面预处理；
S143：将二氧化锆膜层14形成在基体12表面；
S145：将二氧化硅膜层16形成在二氧化锆膜层14表面。
步骤S141包括对基体12进行初清洁，初清洁的方式可以是超声波清洁，也可以是人工手动擦拭。步骤S141离子束清洁，离子束对固体冲击的可能进入固体表面层改变固体表面的结构和性质，可使二氧化锆膜层14更容易镀至基体12表面。
步骤S143可通过印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式实现；和/或步骤S145可通过印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式实现。
具体地，在一个例子中，基体12为陶瓷，二氧化锆膜层14的厚度为20nm～40nm，二氧化硅膜层16的厚度为50nm～100nm，步骤S143和步骤S145的实现方式为蒸镀，用两个坩埚分别装入足量的高纯度的二氧化锆和二氧化硅并和陶瓷一同放置于真空炉内，抽真空至一定负压，离子束轰击陶瓷表面，进行离子活化和清洗陶瓷表面，然后抽真空至较大负压，用电子枪先蒸发二氧化锆，以在陶瓷的表面形成二氧化锆膜层14，再蒸发二氧化硅以在二氧化锆膜14层上形成二氧化硅膜层16，最后进行烧结，最佳烧结温度范围为600摄氏度～800摄氏度。
本发明实施方式的制造方法，光学膜层13形成在基体12上后再经烧结工艺以加强附着在基体12上，光学膜层13不易从基体12上脱落，避免因光学膜层13脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
请参阅图9及图12，在某些实施方式中，步骤S14还可以包括以下子步骤：
S141：对基体12表面进行预处理；
S144：将二氧化硅膜层16形成在基体12表面；
S146：将二氧化锆膜层14形成在所述二氧化硅膜层16表面。
步骤S144可通过印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式实现；和/或步骤S146可通过印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式实现。
也即是说，形成二氧化硅膜层16和二氧化锆膜层14的顺序是可交换的。
本发明实施方式的制造方法，光学膜层13形成在基体12上后再经烧结工艺以加强附着在基体12上，光学膜层13不易从基体12上脱落，避免因光学膜层13脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
请参阅图13，在某些实施方式中，步骤S141之后还包括步骤：
S142：预热真空炉。
本发明实施方式的制造方法，光学膜层13形成在基体12上后再经烧结工艺以加强附着在基体12上，光学膜层13不易从基体12上脱落，避免因光学膜层13脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
请参阅图14，本发明实施方式的制造方法，用于制造上述任一实施方式的壳体10，制造方法包括步骤：
S22：提供一个基体12；
S24：形成一种包含高折射率膜层14与低折射率膜层16的膜堆11；
S26：固定膜堆11在基体12的表面上；及
S28：烧结高折射率膜层14与低折射率膜层16。
先将高折射率膜层14和低折射率膜层16堆叠形成膜堆11，再将形成好的膜堆11形成在基体12上，再经烧结工艺加固。
本发明实施方式的制造方法，光学膜层13形成在基体12上后再经烧结工艺以加强附着在基体12上，光学膜层13不易从基体12上脱落，避免因光学膜层13脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
请参阅图15，一种制造方法，用于制造壳体10，制造方法包括以下步骤：
S32：提供一个陶瓷基体12；
S34：将二氧化锆镀至陶瓷表面形成二氧化锆膜层14；
S36：将二氧化硅镀至二氧化锆膜层14表面形成二氧化硅膜层16；
S38：烧结陶瓷基体12、二氧化锆膜层14及二氧化硅膜层16。
本发明实施方式的制造方法，光学膜层13形成在陶瓷基体12上后再经烧结工艺以加强附着在基体12上，光学膜层13不易从基体12上脱落，避免因光学膜层13脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
请参阅图16，一种移动终端100，包括上述任一实施方式所述的壳体10。壳体10可应用于移动终端100的后壳(请参图16)或者指纹识别模组(请参图17)。
本发明实施方式的移动终端100，壳体10的光学膜层13形成在陶瓷基体12上后再经烧结工艺以加强附着在基体12上，光学膜层13不易从基体12上脱落，避免因光学膜层13脱落而导致感观到的颜色不均匀的问题。
在本说明书的描述中，参考术语“一个实施方式”、“某些实施方式”、“示意性实施方式”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合实施方式或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本发明的至少一个实施方式或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施方式或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施方式或示例中以合适的方式结合。
此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本发明的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。
尽管上面已经示出和描述了本发明的实施方式，可以理解的是，上述实施方式是示例性的，不能理解为对本发明的限制，本领域的普通技术人员在本发明的范围内可以对上述实施方式进行变化、修改、替换和变型。

Claims (25)

1.一种壳体，其特征在于，所述壳体包括：
基体；及
形成在所述基体上的光学膜层，所述光学膜层烧结在所述基体上以调整所述基体的外观表现色。
2.如权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述光学膜层由高折射率膜层及低折射率膜层堆叠形成，或由所述光学膜层由高折射率膜层及低折射率膜层融合形成。
3.如权利要求1所述的壳体，其特征在于，所述基体包括陶瓷、玻璃、不锈钢、钛合金、锆合金中的任意一种。
4.如权利要求2所述的壳体，其特征在于，所述壳体还包括颜色层，所述颜色层形成在所述基体上，所述颜色层位于所述基体与所述高折射率膜层/所述低折射率膜层之间。
5.如权利要求4所述的壳体，其特征在于，所述颜色层包括白色层、黑色层、金色层、玫瑰金层、蓝色层中的任意一种。
6.如权利要求2所述的壳体，其特征在于，所述高折射率膜层的材料包括硫化锌、二氧化钛、氧化锆、及氧化钽中的任意一种。
7.如权利要求2所述的壳体，其特征在于，所述低折射率膜层的材料包括氟化镁、一氧化硅及二氧化硅中的任意一种。
8.如权利要求2所述的壳体，其特征在于，在远离所述基体的方向上，所述高折射率膜层与所述低折射率膜层依序设置在所述基体上。
9.如权利要求2所述的制造方法，其特征在于，所述基体为陶瓷，所述高折射率膜层的材料为二氧化锆，所述高折射率膜层的厚度为20nm～40nm，所述低折射率膜层的材料为二氧化硅，所述低折射率膜层的厚度为50nm～100nm。
10.如权利要求2所述的壳体，其特征在于，在远离所述基体的方向上，所述低折射率膜层与所述高折射率膜层依序设置在所述基体上。
11.如权利要求2所述的壳体，其特征在于，所述低折射率膜层为多层，所述高折射率膜层为多层，多层所述高折射率膜层与多层所述低折射率膜层交替堆叠形成在所述基体上。
12.如权利要求11所述的壳体，其特征在于，多层所述高折射率膜层的材料包括硫化锌、二氧化钛、氧化锆、及氧化钽中的任意两种，多层所述低折射率膜层包括氟化镁、一氧化硅及二氧化硅中的任意两种。
13.如权利要求11所述的壳体，其特征在于，多层所述高折射率膜层的材料相同，多层所述低折射率膜层的材料相同。
14.如权利要求2所述的壳体，其特征在于，所述高折射率膜层与所述低折射率膜层形成后采用200摄氏度～1000摄氏度的温度进行烧结以加强附着在所述基体上。
15.一种壳体，其特征在于，所述壳体包括：
基体；及
形成在所述基体上的膜堆，所述膜堆形成后进行烧结以加强附着在所述基体上，所述膜堆用于控制反射特定波长的光线以给使用者带来视觉上不同颜色的感观。
16.一种制造方法，用于制造如权利要求1-15任意一项所述的壳体，其特征在于，所述制造方法包括以下步骤：
提供一个基体；
在所述基体上形成光学膜层；及
加热所述光学膜层以及所述基体以使所述光学膜层结合至所述基体上。
17.如权利要求16所述的制造方法，其特征在于，所述加热所述光学膜层以及所述基体以使所述光学膜层结合至所述基体上的步骤包括：
加热所述光学膜层以及所述基体以使所述光学膜层烧结至所述基体上。
18.如权利要求17所述的制造方法，其特征在于，所述在所述基体上形成光学膜层的步骤包括：
对所述基体进行表面预处理；
将二氧化锆膜层形成在所述基体表面；和
将二氧化硅膜层形成在所述二氧化锆膜层表面。
19.如权利要求18所述的制造方法，其特征在于，将所述二氧化锆膜层形成在所述基体的表面，包括：将所述二氧化锆膜层印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式形成在所属基体的表面；和/或
将二氧化硅膜层形成在所述二氧化锆膜层表面，包括：将所述二氧化锆膜层印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式形成在所属基体的表面。
20.如权利要求17所述的制造方法，其特征在于，所述在所述基体上形成光学膜层的步骤包括：
对所述基体进行表面预处理；
将二氧化硅膜层形成在所述基体表面；和
将二氧化锆膜层形成在所述二氧化硅膜层表面。
21.如权利要求20所述的制造方法，其特征在于，将二氧化硅膜层形成在所述基体表面，包括：将所述二氧化锆膜层印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式形成在所属基体的表面；和/或
将二氧化锆膜层形成在所述二氧化硅膜层表面，包括：将所述二氧化锆膜层印刷、喷涂、蒸镀或者电泳的方式形成在所属基体的表面。
22.如权利要求17所述的制造方法，其特征在于，所述烧结所温度范围为200摄氏度～1000摄氏度。
23.一种制造方法，用于制造如权利要求1-15任意一项所述的壳体，其特征在于，所述制造方法包括以下步骤：
提供一个基体；
形成一种包含高折射率膜层与低折射率膜层的膜堆；
固定所述膜堆在所述基体的表面上；及
烧结所述高折射率膜层与所述低折射率膜层。
24.一种制造方法，用于制造壳体，其特征在于，所述制造方法包括以下步骤：
提供一个陶瓷基体；
将二氧化锆镀至所述陶瓷表面形成二氧化锆膜层；
将二氧化硅镀至所述二氧化锆膜层表面形成二氧化硅膜层；
烧结所述陶瓷基体、所述二氧化锆膜层及所述二氧化硅膜层。
25.一种移动终端，其特征在于，包括如权利要求1-15任一项所述的壳体。
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