CN113457951A - 膜片的制备方法、壳体及电子设备 - Google Patents

膜片的制备方法、壳体及电子设备 Download PDF

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Abstract

本公开是关于一种膜片的制备方法、壳体及电子设备，所述方法包括：在膜片基材表面涂色形成颜色涂布层；在所述颜色涂布层上涂布具有纹理的光敏胶；固化所述光敏胶形成纹理层；在所述纹理层表面进行物理气相沉积PVD镀膜，形成具有孔隙结构的光学镀膜层；在所述光学镀膜层表面形成油墨层，得到所述膜片。通过该方法，能减轻壳体中膜片损坏的现象发生。

Description

膜片的制备方法、壳体及电子设备
技术领域
本公开涉及电子设备技术领域，尤其涉及一种膜片的制备方法、壳体及电子设备。
背景技术
各种电子设备(例如，手机)的三维(three dimensional，3D)壳体(例如，玻璃电池盖)多采用膜片装饰，且需采用物理气相沉积(Physical Vapor Deposition，PVD)镀膜方法形成的膜层提升膜片的外观效果。
然而，在膜片贴合到3D玻璃电池盖上时，膜片容易产生皱褶或破裂的现象。为解决皱褶或破裂的问题，可采用膜片面积比玻璃电池盖面积略小，即在玻璃电池盖边缘露出部分不贴膜的方式。
在采用膜片面积比玻璃电池盖面积略小的方式时，需要通过喷涂颜色来填补露白区域，一是增加制造成本和周期，二是喷涂效果与膜片效果差别明显。
发明内容
本公开提供一种膜片的制备方法、壳体及电子设备。
根据本公开实施例的第一方面，提供一种膜片的制备方法，所述方法包括：
在膜片基材表面涂色形成颜色涂布层；
在所述颜色涂布层上涂布具有纹理的光敏胶；
固化所述光敏胶形成纹理层；
在所述纹理层表面进行物理气相沉积PVD镀膜，形成具有孔隙结构的光学镀膜层；
在所述光学镀膜层表面形成油墨层，得到所述膜片。
可选的，所述在所述纹理层表面进行物理气相沉积PVD，形成具有孔隙结构的光学镀膜层，包括：
在包括预设气体的沉积环境中，在所述纹理层表面沉积电镀材料得到沉积层；其中，所述沉积层包括：金属化合物的电镀材料与所述预设气体反应得到的化合物；
加热分解所述化合物，形成具有孔隙结构的所述光学镀膜层。
可选的，所述预设气体包括：氢气和/或水蒸气。
可选的，所述在包括预设气体的沉积环境中，在所述纹理层表面沉积电镀材料得到沉积层，包括：
在包括所述预设气体的沉积环境中，在所述纹理层表面沉积包括金属氟化物和硫化锌的电镀材料得到所述沉积层。
可选的，所述在包括所述预设气体的沉积环境中，在所述纹理层表面沉积包括金属氟化物和硫化锌的电镀材料得到所述沉积层，包括：
在包括所述预设气体的沉积环境中，在所述纹理层表面交替沉积包括第一折射率的所述金属氟化物和包括第二折射率的所述硫化锌，得到多层沉积层；其中，所述第一折射率小于所述第二折射率。
可选的，所述多层沉积层中的第一层为由包括所述金属氟化物的第一混合物沉积而成，所述多层沉积层中的第二层为由包括所述硫化锌的第二混合物沉积而成。
可选的，所述第一混合物中还包括二氧化硅，所述金属氟化物在所述第一混合物中的质量百分比不低于3％。
可选的，所述第二混合物中还包括金属氧化物，所述硫化锌在所述第二混合物中的质量百分比不低于5％。
可选的，所述在所述颜色涂布层上涂布具有纹理的光敏胶，包括：
在所述颜色涂布层上涂布预定厚度的所述光敏胶，形成所述具有纹理的光敏胶；
所述固化所述光敏胶形成纹理层，包括：
利用预定照射能量的紫外线固化所述具有纹理的光敏胶；其中，所述预定照射能量的范围在500至1100毫焦每平米之间；
利用红外线对所述具有纹理的光敏胶进行加热，形成硬度大于预定硬度阈值的所述纹理层；其中，所述加热温度在55至75摄氏度之间。
根据本公开实施例的第二方面，提供一种壳体，所述壳体包括基片和膜片，所述膜片包括：
膜片基材层，第一表面与所述基片粘合；
颜色涂布层，位于所述膜片基材层的第二表面，所述第二表面为所述第一表面的相反面；
基于光敏胶形成的纹理层，位于所述颜色涂布层上；
光学镀膜层，位于所述纹理层上；所述光学镀膜层为具有孔隙结构的光学镀膜层；
油墨层，位于所述光学镀膜层上。
可选的，所述具有孔隙结构的光学镀膜层，为在包括预设气体的沉积环境中沉积电镀材料，并对沉积得到的化合物加热分解后形成；其中，所述电镀材料包括：金属化合物的电镀材料。
可选的，所述光敏胶的厚度在10微米至15微米之间。
可选的，所述光学镀膜层为由不同折射率的电镀材料交替沉积后形成的多层结构。
可选的，所述膜片基材层包括PC膜片基材层或PET膜片基材层。
可选的，所述基片包括玻璃基片或玻纤复合材料基片。
根据本公开实施例的第三方面，提供一种电子设备，所述电子设备包括所述第二方面中所述的壳体。
本公开的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果：
在本公开的实施例中，在纹理层表面进行PVD镀膜时，形成的是具有孔隙结构的光学镀膜层，并在光学镀膜层表面形成油墨层而制备成膜片。该方法中，通过孔隙结构使得膜片受环境影响发生内部结构变化时能有预留的空间，因而膜片会具有更好的韧性，能减轻膜片损坏(破裂和皱褶)现象的发生。此外，相对于采用膜片的尺寸比基片(如3D玻璃)尺寸小的方式，本公开在膜片的制备过程中，基于孔隙结构的光学镀膜层而形成纹理，因不用在膜片和基片贴合形成壳体后额外喷涂颜色补边，因此能降低制造成本和周期，也能减轻对壳体外观一致性的影响。
应当理解的是，以上的一般描述和后文的细节描述仅是示例性和解释性的，并不能限制本公开。
附图说明
此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。
图1是一种壳体的部分结构示例图。
图2A为一种膜片皱褶的示例图。
图2B为一种膜片破裂的示例图。
图3是本公开实施例示出的一种膜片的制备方法流程图。
图4A是一种壳体的结构示意图一。
图4B是一种壳体的结构示意图二。
图5是本公开实施例示出的一种壳体的结构图。
具体实施方式
这里将详细地对示例性实施例进行说明，其示例表示在附图中。下面的描述涉及附图时，除非另有表示，不同附图中的相同数字表示相同或相似的要素。以下示例性实施例中所描述的实施方式并不代表与本公开相一致的所有实施方式。相反，它们仅是与如所附权利要求书中所详述的、本公开的一些方面相一致的装置和方法的例子。
3D壳体为立体壳体，并非整个壳体位于一个平面内的平面(2D)壳体。例如，3D壳体的不同部分位于两个相互垂直的平面内，或者位于两个相互交叉的平面内。
图1是一种壳体的部分结构示例图，该壳体是3D壳体，通过在3D玻璃电池盖上利用膜片装饰加工而成，如图1所示，3D玻璃电池盖的弯折度在60°左右浮动，例如55.5°或60.5°；3D玻璃电池盖和膜片贴合后的高度在4.16毫米左右浮动，例如4.26毫米或4.06毫米。
然而，将膜片和3D玻璃电池盖设计成同样大小时，容易出现图2A或图2B中膜片受损的现象。图2A为一种膜片皱褶的示例图，图2B为一种膜片破裂的示例图。且，在膜片的尺寸小于3D玻璃电池盖的尺寸时，因需要额外喷涂颜色来填补露白区域，会增加制作成本和延长周期，且外观效果不佳的问题。
对此，本公开提出一种膜片的制备方法，在不影响制造成本和周期、以及壳体外观一致性的基础上，能减轻壳体中膜片损坏现象的发生。
图3是本公开实施例示出的一种膜片的制备方法流程图，如图1所示，膜片的制备方法包括以下步骤：
S11、在膜片基材表面涂色形成颜色涂布层。
S12、在所述颜色涂布层上涂布具有纹理的光敏胶。
S13、固化所述光敏胶形成纹理层。
S14、在所述纹理层表面进行物理气相沉积PVD镀膜，形成具有孔隙结构的光学镀膜层。
S15、在所述光学镀膜层表面形成油墨层，得到所述膜片。
在本公开的实施例中，膜片可用于保护或装饰壳体，壳体包括前述的电池盖或手表表盘的外壳等。在制备壳体的过程中，需分别制作基片和膜片，将制作好的膜片和基片相互贴合形成壳体。其中，膜片覆盖在基片上，基片作为膜片的载体。
在本公开的实施例中，制作好的基片包括塑胶基片、玻璃基片、或玻纤复合材料基片等。通过执行基于图3中S11至S14的步骤，以及步骤S15中在光学镀膜层表面形成油墨层后制成膜片，将膜片贴合在基片表面即可完成壳体的制备。制备膜片时，在膜片基材上进行加工，膜片基材包括聚碳酸酯(Polycarbonate，PC)膜片基材或聚对苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene terephthalate，PET)膜片基材等。
在本公开的实施例中，可采用OCA光学胶(Optically Clear Adhesive Glue)将膜片和基片相互贴合。
图4A是一种壳体的结构示意图一，如图4A所示，玻璃基片s1通过OCA光学胶s2和膜片部分贴合。其中，膜片部分的膜片基材s3可以是PET膜片基材，厚度可以在30微米至200微米之间，例如50微米；膜片还包括颜色涂布层s4，厚度可以是2微米至3微米之间；膜片还包括基于UV胶(Ultraviolet Rays Glue)形成的UV纹理层s5，厚度可以在10微米在15微米之间，例如10微米；膜片还包括光学镀膜层s6，厚度可以在60纳米至1000纳米之间，例如90纳米；此外，膜片还包括油墨层s7，厚度可以是18微米至21微米之间。
需要说明的是，颜色涂布层s4可理解为光学镀膜层的底色层，该底色层的颜色称为底色，底色例如是灰色或白色，为镀膜后呈现色彩时的底色。UV纹理层s5覆盖在颜色涂布层s4上，在涂布的底色上形成纹理，该纹理即为壳体所展现图案的纹理样式；光学镀膜层s6的作用在于呈现颜色，且增加玻璃表面耐磨性，以及防止指纹及油污的粘附等；油墨层s7即为丝印的产品标识(LOGO)等。
图4B是一种壳体的结构示意图二，如图4B所示，在图4A结构的基础上，在OCA光学胶s2和PET膜片基材间增加了一个镜面层s8，该镜面层s8可是通过在OCA光学胶s2表面进行光学镀膜形成的光学增透膜。增透膜的厚度可以在60纳米至200纳米之间，例如65纳米。在OCA光学胶s2表面增加一个光学镀膜层s8的作用在于提升涂抹OCA光学胶后的玻璃的亮度。
基于图4A和图4B的结构，本公开在步骤S14中，在纹理层s5表面进行PVD镀膜时，形成的是具有孔隙结构的光学镀膜层。
光学镀膜层，可用于改变或优化膜片和基片贴合后形成的壳体的光学效果。例如，光学镀膜层的作用在于减少或增加光的反射、分色或透射等，例如，可通过增加光的反射可提升壳体中纹理的清晰度；通过光的分色可实现不同的颜色呈现；通过增加光的透射可增强壳体的透光性。
在该实施例中，进行PVD镀膜时，可采用电子束蒸发镀或溅射镀膜等真空镀膜方式形成具有孔隙结构的光学镀膜层。孔隙结构的光学镀膜层中，沉积的电镀材料的分子间形成有空隙，空隙使得壳体受环境影响发生内部结构变化时能有预留的空间，因而孔隙结构的光学镀膜层会使得膜片具有较好的韧性。
需要说明的是，在本公开的实施例中，在形成具有孔隙结构的光学镀膜层时，可采用特殊材料的电镀材料形成孔隙，例如该材料本身就是具有孔隙结构的；还可以通过在沉积电镀材料时，通过工艺控制电镀材料松散的沉积来形成孔隙；当然，还可以在常规电镀材料中利用特殊的气体环境，基于化学反应的方式进行光学镀膜以形成孔隙，对此本公开实施例中不做限制。
可以理解的是，在纹理层表面进行PVD镀膜时，形成的是具有孔隙结构的光学镀膜层，并在光学镀膜层表面形成油墨层而制备成到膜片。该方法中，通过孔隙结构使得膜片具有更好的韧性，因此在面对水煮、常温(例如，25摄氏度至37摄氏度)以上的高温或高湿环境时，能减轻皱褶和破裂现象的产生。特别是当膜片尺寸和基片尺寸一致时，在弯折处(例如四个角落)，基于更好韧性的孔隙结构，弯折处损坏的现象会减轻。膜片尺寸和基片尺寸一致可包括：膜片尺寸和基片尺寸相同，或者，膜片尺寸和基片尺寸的差值在预设范围内，该预设范围可为：不借助工具人眼较为难分辨的尺寸，或者，无需额外进行喷漆的尺寸范围。
此外，相对于采用膜片的尺寸比基片(如3D玻璃)尺寸小来减少膜片受损现象发生的方式，本公开因形成的是具有孔隙结构的光学镀膜层，因而在制备膜片过程中可使得膜片尺寸和基片尺寸一致，通过膜片中的光学镀膜层呈现颜色，而不用在壳体制备完成后在露白区域额外喷涂颜色补边，因此能降低制造成本和周期，且也能减轻对壳体外观一致性的影响。
在一种实施例中，所述在所述纹理层表面进行PVD镀膜，形成具有孔隙结构的光学镀膜层，包括：
在包括预设气体的沉积环境中，在所述纹理层表面沉积电镀材料得到沉积层；其中，所述沉积层包括：金属化合物的电镀材料与所述预设气体反应得到的化合物；
加热分解所述化合物，形成具有孔隙结构的所述光学镀膜层。
如前所述的，在进行PVD镀膜过程中，可通过多种方式形成孔隙结构。在该实施例中，在纹理层表面沉积电镀材料形成光学镀膜层时，添加预设气体和金属化合物的电镀材料反应，以使光学镀膜层内部形成孔隙结构，即通过化学反应的方式来形成孔隙。
需要说明的是，添加预设气体能使光学镀膜层内部形成孔隙结构的原因在于，该预设气体和金属化合物的电镀材料发生化学反应得到沉积层时，沉积层中的金属化合物可与预设气体反应得到不稳定的化合物，因此在纹理层表面沉积电镀材料后，能通过加热的方式，分解不稳定的化合物，还原出预设气体，并释放出预设气体，从而形成孔隙结构。
本公开实施例中，可与金属化合物的电镀材料发生化学反应后形成不稳定的化合物的预设气体可以是包括由氢原子形成的气体。
此外，需要说明的是，PVD镀膜的沉积环境中，还包括可让光学镀膜层形成某一颜色的其它气体，例如，镀膜的气体环境中不仅包括预设气体，还包括氧气和/或氩气等。
在一种实施例中，所述预设气体包括：氢气和/或水蒸气。
在该实施例中，预设气体包括氢气和/或水蒸气。由于氢气和/或水蒸气中均含有氢原子，通常和大部分的金属化合物的电镀材料发生化学反应后形成的金属氢化物是不稳定的化合物，因此，在后续加热时，不稳定的金属氢化物会分解，转化为氢气或水蒸气排出，从而形成孔隙。
可以理解的是，本公开选取预设气体为氢气和/或水蒸气，由于金属化合物的电镀材料比较多，例如铜、镍或锌等，因而，采用氢气和/或水蒸气，配合金属化合物的电镀材料，能提升形成具有孔隙结构的光学镀膜层的可能性。
在一种实施例中，当沉积环境中有氧气时，可设置氢气与氧气的体积百分比在10％至30％之间；或，水蒸气与氧气的体积百分比在10％至30％之间；或，氢气和水蒸气的体积与氧气的体积的百分比在10％至30％之间。
示例性的，在光学镀膜获得沉积层时，可设置空间内预设气体的真空度(本底真空)为1×10-5～5×10-5帕(Pa)，基底温度(基片的加热温度)为20℃～200℃，镀膜时间为1～60min，工作气氛(气体环境)为含氧气、氩气和氢气(或水蒸气)气氛，工作气压为0.5～5Pa，溅射功率密度为1～300瓦/平方米(W/cm2)。在沉积层之后，在真空室内加热去除沉积层中的水蒸汽或氢气，真空度设定在1×10-5～5×10-5Pa，加热温度设定在80～150℃，时间10～30min。
在一种实施例中，所述在包括预设气体的沉积环境中，在所述纹理层表面沉积电镀材料得到沉积层，包括：
在包括所述预设气体的沉积环境中，在所述纹理层表面沉积包括金属氟化物和硫化锌的电镀材料得到所述沉积层。
在该实施例中，在包括所述预设气体的沉积环境中，在纹理层表面上镀膜形成光学镀膜层时，选用包括金属氟化物和硫化锌(ZnS)的电镀材料，其原因在于，包括金属氟化物和硫化锌的电镀材料的韧性会更好。基于韧性更好的材料，在面对水煮、高温或高湿环境时，材料热胀冷缩时的容忍范围会相对更大，因此镀膜层因热胀冷缩造成的破损会相对降低。需要说明的是，在本公开的实施例中，金属氟化物可以是能提升透光率的氟化镁(MgF2)或者氟化铝(AlF3)等。
可以理解的是，在该实施例中，在形成具有孔隙结构的光学镀膜层时，利用韧性更好的电镀材料，能进一步减轻膜片损坏现象的发生。
在一种实施例中，所述在包括所述预设气体的沉积环境中，在所述纹理层表面沉积包括金属氟化物和硫化锌的电镀材料得到所述沉积层，包括：
在包括所述预设气体的沉积环境中，在所述纹理层表面交替沉积包括第一折射率的所述金属氟化物和包括第二折射率的所述硫化锌，得到多层沉积层；其中，所述第一折射率小于所述第二折射率。
在该实施例中，金属氟化物属于低折射率材料，硫化锌属于高折射率材料。在形成多层沉积层时，可以将具备不同折射率的电镀材料交替层叠。
例如，一层使用第一折射率的金属氟化物，另一层则使用第二折射率的硫化锌。
需要说明的是，在形成多层沉积层时，可以改变不同折射率的电镀材料交替层叠的层叠次序，或设置不同的层叠层数，以实现对壳体不同的颜色饱和度需求，以及纹理的清晰度需求。
例如，可利用第一折射率的金属氟化物沉积得到第一层，再在第一层之上利用第二折射率的硫化锌形成第二层，以形成高反射率的镀膜层。高反射率的镀膜层有助于提升壳体的颜色饱和度以及纹理的清晰度。而对于低反射率的镀膜层，则采用相反的层叠顺序，低反射率的镀膜层有助于保户用户的眼睛。
再例如，为了增强镀膜层的反射率，在采用先第一折射率电镀材料镀膜再第二折射率电镀材料镀膜时，可反复交替层叠多次，以提升反射率。
需要说明的是，在镀膜时，沉积层的总层数可以为1至100层。当沉积层只有1层时，例如可以是利用第一折射率的金属氟化物沉积得到的一层，或者是利用第二折射率的硫化锌沉积得到的一层。通常，采用3层以上的多层结构可进一步提高可见光增透效果或增反效果并使产品外观效果更加精致。然而考虑到大规模生产的工艺可行性，多层沉积层的层数可优选为1至9层，更优选1至5层。
在一种实施例中，光学镀膜层的厚度在60纳米至1000纳米之间。
在该实施例中，光学镀膜层的厚度越厚，则制备形成的壳体的硬度也会更优。然而光学镀膜层的厚度越薄，在满足颜色呈现需求的基础上也较少了工艺制造成本。
在一种实施例中，所述多层沉积层中的第一层为由包括所述金属氟化物的第一混合物沉积而成，所述多层沉积层中的第二层为由包括所述硫化锌的第二混合物沉积而成。
在该实施例中，以高反射率的镀膜层为例，沉积层中的第一层利用的是包括金属氟化物的第一混合物沉积而成，沉积层中的第二层是包括硫化锌的第二混合物沉积而成。
采用包括金属氟化物的第一混合物或包括硫化锌的第二混合物沉积的原因在于提升膜片性能，例如散热性、防菌效果或抗紫外线的性能等。
在一种实施例中，所述第一混合物中还包括二氧化硅，所述金属氟化物在所述第一混合物中的质量百分比不低于3％。
在该实施例中，在韧性相对较好的低折射率金属氟化物材料基础上还加入了适当比例的二氧化硅(SiO2)，可提升制备好的壳体的散热性，以及提升防尘防菌效果。
在一种实施例中，所述第二混合物中还包括金属氧化物，所述硫化锌在所述第二混合物中的质量百分比不低于5％。
在该实施例中，在韧性相对较好的高折射率材料硫化锌中还加入了适当比例的金属氧化物，可提升镀膜的稳定性或实现壳体不同颜色的呈现等。
在一种实施例中，所述金属氧化物包括以下至少之一：
二氧化锆；
五氧化二钛；
二氧化钛；
三氧化二铌；
氮化硅。
在该实施例中，例如，二氧化锆(ZrO2)是一种稳定性较好高折射率材料。在硫化锌中加入ZrO2，能提升镀膜的稳定性。
例如，五氧化二钛(Ti2O5)和二氧化钛(TiO2)都是能过滤紫外线的材料，但不影响颜色呈现的材料。因此，在镀膜时，在硫化锌中加入适当比例的Ti2O5和/或TiO2，能使得最终制备而成的壳体具备抗紫外线的功能。
再例如，三氧化二铌(Nb2O3)和氮化硅(SiNx)均是一种可以呈现颜色的材料。在镀膜时，在硫化锌中加入适当比例的Nb2O3和/或SiNx使得最终制备而成的壳体能呈现不同的颜色。需要说明的是，SiNx中，x的是指Si原子和N原子的比例，不同的比例下，壳体呈现的颜色可不一致。
在一种实施例中，步骤S12包括：
在所述颜色涂布层上涂布预定厚度的所述光敏胶，形成所述具有纹理的光敏胶；
步骤S13包括：
利用预定照射能量的紫外线固化所述具有纹理的光敏胶；其中，所述预定照射能量的范围在500至1100毫焦每平米之间；
利用红外线对所述具有纹理的光敏胶进行加热，形成硬度大于预定硬度阈值的所述纹理层；其中，所述加热温度在55至75摄氏度之间。
在该实施例中，在颜色涂布层上涂预定厚度的光敏胶，例如在颜色涂布层上涂10微米至15微米之间厚度的UV胶。在涂布了预定厚度的光敏胶后，即可利用模具在固化前尚处于软化状态的光敏胶上压制形成具有纹理的光敏胶。该软化状态可包括：液态向固态转换过程中的中间态。
通过模具压制成纹理，即完成转印后，可将具有纹理的光敏胶固化在颜色涂布层上形成硬度大于预定硬度阈值的纹理层。例如，光敏胶是UV胶时，可利用紫外线固化。需要说明的是，紫外线的照射能量会影响纹理层的硬度，在本公开的实施例中，可设定紫外线的照射能量在500至1100毫焦每平方米来提升UV纹理层的硬度。
基于图4A和图4B的结构，本公开在步骤S12和S13中，在颜色涂布层上涂布具有纹理的光敏胶，并固化光敏胶形成纹理层时，使得纹理层的硬度大于预定硬度阈值。纹理层的硬度可通过能够使纹理层从固态转化到液态的最低温度来体现。纹理层从固态转化到液态所需要的最低温度越高，也说明光敏胶形成的纹理层的分子链的刚性越大，即纹理层的硬度越大。
示例性的，当基片是玻璃基片，光敏胶包括但不限于UV光敏胶。当光敏胶是UV胶时，纹理层的硬度可通过玻璃转化温度来体现。玻璃转化温度越大，则说明纹理层的硬度越大。在本公开的实施例中，例如UV胶的玻璃转化温度是130°至180°。
可以理解的是，在该实施例中，基于形成的硬度较大(分子链的刚性越大)的纹理层，使得形成的膜片的硬度相对提升，也能进一步减轻皱褶和破裂现象的产生。
需要说明的是，在本公开的实施例中，在形成硬度大于预定硬度阈值的纹理层时，还可采用硬度相对较高的光敏胶材料，或通过制备工艺使基于光敏胶形成的纹理层的硬度较高。
此外，光敏胶中可能还包括一些助剂，例如，UV胶中可包括起固定作用的助剂，助剂需要用红外线加热，以起到固定作用。助剂的烘烤温度也可能影响纹理层的硬度，在本公开的实施例中，可设定红外线的加热温度在55度至75度之间。
图5是本公开实施例示出的一种壳体的结构图，如图5所示，所述壳体包括基片101和膜片102，所述膜片102包括：
膜片基材层102a，第一表面与所述基片101粘合；
颜色涂布层102b，位于所述膜片基材层102a的第二表面，所述第二表面为所述第一表面的相反面；
基于光敏胶形成的纹理层102c，位于所述颜色涂布层102b上；
光学镀膜层102d，位于所述纹理层102c上；所述光学镀膜层102d为具有孔隙结构的光学镀膜层。
油墨层102e，位于所述光学镀膜层102d上。
在本公开的实施例中，膜片基材层102a的第一表面与基片101粘合时，可通过OCA光学胶粘合。图5中，101和102a之间的部分即为OCA光学胶。
在该实施例中，在纹理层102c表面进行PVD镀膜时，形成的是具有孔隙结构的光学镀膜层102d，并在光学镀膜层102d表面形成油墨层102e而制备成到膜片102。该方法中，通过孔隙结构使得膜片具有更好的韧性，因此使得壳体在面对水煮、常温(例如，25摄氏度或37摄氏度)以上的高温或高湿环境时，能减轻皱褶和破裂现象的产生。特别是当膜片尺寸和基片尺寸一致时，在弯折处(例如四个角落)，基于更好韧性的孔隙结构，弯折处损坏的现象会减轻。膜片尺寸和基片尺寸一致可包括：膜片尺寸和基片尺寸相同，或者，膜片尺寸和基片尺寸的差值在预设范围内，该预设范围可为：不借助工具人眼较为难分辨的尺寸，或者，无需额外进行喷漆的尺寸范围。
此外，相对于采用膜片的尺寸比基片(如3D玻璃)尺寸小的方式，因不用在壳体制备完成后在露白区域额外喷涂颜色补边，因此能降低制造成本和周期，且也能减轻对壳体外观一致性的影响。
在一种实施例中，所述具有孔隙结构的光学镀膜层102d，为在包括预设气体的沉积环境中沉积，并对沉积得到的化合物加热分解后形成；其中，所述电镀材料包括：金属化合物的电镀材料。
在该实施例中，添加预设气体能使光学镀膜层102d内部形成孔隙结构的原因在于，该预设气体和金属化合物的电镀材料发生化学反应时，形成的是不稳定的化合物，因此在纹理层表面沉积电镀材料后，能通过加热的方式将预设气体去除，通过气体的去除从而形成孔隙结构。
此外，预设气体包括：氢气和/或水蒸气。由于氢气和/或水蒸气中均含有氢原子，通常和大部分的金属化合物的电镀材料发生化学反应后形成的是不稳定的组合物，因而能减轻对电镀材料的限制，提升形成具有孔隙结构的光学镀膜层的可能性。
在一种实施例中，所述光学镀膜层102d为由不同折射率的电镀材料交替沉积后形成的多层结构。
在该实施例中，可通过不同折射率的电镀材料交替层叠来形成多层结构。通过不同折射率的电镀材料的不同层叠次序，或不同层叠层数，可实现对壳体不同的颜色饱和度需求，以及纹理的清晰度需求。
在一种实施例中，光敏胶的厚度在10微米至15微米之间。
在一种实施例中，所述光学镀膜层102d的厚度在60纳米至1000纳米之间。
在该实施例中，光学镀膜层102d的厚度越厚，则制备形成的膜片的硬度也会更优。然而光学镀膜层102d的厚度越薄，在满足颜色呈现需求的基础上也较少了工艺制造成本。
在一种实施例中，所述膜片基材层102a包括PC膜片基材层或PET膜片基材层。
在一种实施例中，所述基片101包括玻璃基片或玻纤复合材料基片。
在本公开的实施例中，还提供一种包括上述各实施例中壳体的电子设备，该电子设备可以是手机、平板电脑或手表等。本公开采用上述壳体的电子设备，可具有较长的使用寿命。
本领域技术人员在考虑说明书及实践这里公开的发明后，将容易想到本公开的其它实施方案。本公开旨在涵盖本公开的任何变型、用途或者适应性变化，这些变型、用途或者适应性变化遵循本公开的一般性原理并包括本公开未公开的本技术领域中的公知常识或惯用技术手段。说明书和实施例仅被视为示例性的，本公开的真正范围和精神由下面的权利要求指出。
应当理解的是，本公开并不局限于上面已经描述并在附图中示出的精确结构，并且可以在不脱离其范围进行各种修改和改变。本公开的范围仅由所附的权利要求来限制。

Claims (16)

1.一种膜片的制备方法，其特征在于，所述方法包括：
在膜片基材表面涂色形成颜色涂布层；
在所述颜色涂布层上涂布具有纹理的光敏胶；
固化所述光敏胶形成纹理层；
在所述纹理层表面进行物理气相沉积PVD镀膜，形成具有孔隙结构的光学镀膜层；
在所述光学镀膜层表面形成油墨层，得到所述膜片。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述纹理层表面进行PVD镀膜，形成具有孔隙结构的光学镀膜层，包括：
在包括预设气体的沉积环境中，在所述纹理层表面沉积电镀材料得到沉积层；其中，所述沉积层包括：金属化合物的电镀材料与所述预设气体反应得到的化合物；
加热分解所述化合物，形成具有孔隙结构的所述光学镀膜层。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述预设气体包括：氢气和/或水蒸气。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述在包括预设气体的沉积环境中，在所述纹理层表面沉积电镀材料得到沉积层，包括：
在包括所述预设气体的沉积环境中，在所述纹理层表面沉积包括金属氟化物和硫化锌的电镀材料得到所述沉积层。
5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述在包括所述预设气体的沉积环境中，在所述纹理层表面沉积包括金属氟化物和硫化锌的电镀材料得到所述沉积层，包括：
在包括所述预设气体的沉积环境中，在所述纹理层表面交替沉积包括第一折射率的所述金属氟化物和包括第二折射率的所述硫化锌，得到多层沉积层；其中，所述第一折射率小于所述第二折射率。
6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述多层沉积层中的第一层为由包括所述金属氟化物的第一混合物沉积而成，所述多层沉积层中的第二层为由包括所述硫化锌的第二混合物沉积而成。
7.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述第一混合物中还包括二氧化硅，所述金属氟化物在所述第一混合物中的质量百分比不低于3％。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述第二混合物中还包括金属氧化物，所述硫化锌在所述第二混合物中的质量百分比不低于5％。
9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述在所述颜色涂布层上涂布具有纹理的光敏胶，包括：
在所述颜色涂布层上涂布预定厚度的所述光敏胶，形成所述具有纹理的光敏胶；
所述固化所述光敏胶形成纹理层，包括：
利用预定照射能量的紫外线固化所述具有纹理的光敏胶；其中，所述预定照射能量的范围在500至1100毫焦每平米之间；
利用红外线对所述具有纹理的光敏胶进行加热，形成硬度大于预定硬度阈值的所述纹理层；其中，所述加热温度在55至75摄氏度之间。
10.一种壳体，其特征在于，所述壳体包括基片和膜片，所述膜片包括：
膜片基材层，第一表面与所述基片粘合；
颜色涂布层，位于所述膜片基材层的第二表面，所述第二表面为所述第一表面的相反面；
基于光敏胶形成的纹理层，位于所述颜色涂布层上；
光学镀膜层，位于所述纹理层上；所述光学镀膜层为具有孔隙结构的光学镀膜层；
油墨层，位于所述光学镀膜层上。
11.根据权利要求10所述的壳体，其特征在于，所述具有孔隙结构的光学镀膜层，为在包括预设气体的沉积环境中沉积电镀材料，并对沉积得到的化合物加热分解后形成；其中，所述电镀材料包括：金属化合物的电镀材料。
12.根据权利要求11所述的壳体，其特征在于，所述光学镀膜层为由不同折射率的电镀材料交替沉积后形成的多层结构。
13.根据权利要求10所述的壳体，其特征在于，所述光敏胶的厚度在10微米至15微米之间。
14.根据权利要求10所述的壳体，其特征在于，所述膜片基材层包括PC膜片基材层或PET膜片基材层。
15.根据权利要求10所述的壳体，其特征在于，所述基片包括玻璃基片或玻纤复合材料基片。
16.一种电子设备，其特征在于，包括权利要求10至15中任一项所述的壳体。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115209656A (zh) * 2022-07-04 2022-10-18 Oppo广东移动通信有限公司 壳体组件及其制备方法和电子设备

Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101219386A (zh) * 2008-01-16 2008-07-16 西安近代化学研究所 氟化铝基氟化催化剂及制备方法和用途
CN101299446A (zh) * 2008-05-30 2008-11-05 南开大学 硒化物前驱薄膜与快速硒硫化热处理制备薄膜电池方法
US20100092125A1 (en) * 2007-01-09 2010-04-15 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Optical structure on an optical fiber and method of fabrication
CN104183537A (zh) * 2013-05-21 2014-12-03 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 一种制作半导体器件的方法
CN105369200A (zh) * 2015-10-13 2016-03-02 西安交通大学 一种多晶多孔vo2薄膜的制备方法
CN106534418A (zh) * 2016-12-21 2017-03-22 广东欧珀移动通信有限公司 壳体、制造方法及移动终端
CN107517552A (zh) * 2017-08-04 2017-12-26 捷开通讯(深圳)有限公司 一种用于盖板的膜片及其制作方法
CN108265272A (zh) * 2016-12-30 2018-07-10 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 纳米多层氮化硅陶瓷涂层、其制备方法与应用
CN110158032A (zh) * 2019-05-09 2019-08-23 成都超纯应用材料有限责任公司 一种耐腐蚀涂层及其制备方法
CN110868819A (zh) * 2018-08-28 2020-03-06 北京小米移动软件有限公司 壳体的制备方法、壳体和电子设备
KR102212314B1 (ko) * 2020-01-21 2021-02-04 (주) 씨엠에스 Pvd 코팅판을 이용한 차량용 스피커그릴의 제조방법

Patent Citations (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100092125A1 (en) * 2007-01-09 2010-04-15 The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University Optical structure on an optical fiber and method of fabrication
CN101219386A (zh) * 2008-01-16 2008-07-16 西安近代化学研究所 氟化铝基氟化催化剂及制备方法和用途
CN101299446A (zh) * 2008-05-30 2008-11-05 南开大学 硒化物前驱薄膜与快速硒硫化热处理制备薄膜电池方法
CN104183537A (zh) * 2013-05-21 2014-12-03 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 一种制作半导体器件的方法
CN105369200A (zh) * 2015-10-13 2016-03-02 西安交通大学 一种多晶多孔vo2薄膜的制备方法
CN106534418A (zh) * 2016-12-21 2017-03-22 广东欧珀移动通信有限公司 壳体、制造方法及移动终端
CN108265272A (zh) * 2016-12-30 2018-07-10 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 纳米多层氮化硅陶瓷涂层、其制备方法与应用
CN107517552A (zh) * 2017-08-04 2017-12-26 捷开通讯(深圳)有限公司 一种用于盖板的膜片及其制作方法
CN110868819A (zh) * 2018-08-28 2020-03-06 北京小米移动软件有限公司 壳体的制备方法、壳体和电子设备
CN110158032A (zh) * 2019-05-09 2019-08-23 成都超纯应用材料有限责任公司 一种耐腐蚀涂层及其制备方法
KR102212314B1 (ko) * 2020-01-21 2021-02-04 (주) 씨엠에스 Pvd 코팅판을 이용한 차량용 스피커그릴의 제조방법

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
张跃飞等: "电子束蒸发镀铬制备凹印版材耐磨层的研究", 《表面技术》 *

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN115209656A (zh) * 2022-07-04 2022-10-18 Oppo广东移动通信有限公司 壳体组件及其制备方法和电子设备

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