CN205103425U - 一种触摸屏用减反射和自清洁一体化膜系 - Google Patents

一种触摸屏用减反射和自清洁一体化膜系 Download PDF

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Abstract

本实用新型公开了一种触摸屏用减反射和自清洁一体化膜系。本实用新型是自基片向外依次设置高折射率膜层和低折射率膜层相间排列，并且最外层的膜层为高折射率材料（TiO2），总膜层数量为奇数层，如：高折射率介质层/低折射率介质层……高折射率介质层/低折射率介质/高折射率介质层，其具体需要叠加的膜层数量可根据产品对反射率的具体要求进行相应调整，但膜层的最外层一定为高折射率材料TiO2膜。其中高折射率介质层材料为TiO2，低折射率介质层材料为SiO2。本实用新型能够达到较好的减反射效果，TP盖板表面的可见光反射率可以降低至1%。

Description

一种触摸屏用减反射和自清洁一体化膜系
技术领域
本实用新型涉及一种触摸屏用的同时具备减反射和自清洁功能的镀膜。
背景技术
传统的触摸屏用TP盖板均镀有功能膜层，分别为AG膜（防眩光）、AR膜（减反射）、AF膜（防指纹），TP盖板产品必须经过三道镀膜工艺处理，并且三道镀膜工艺差异较大，AG膜一般采用喷涂生产工艺，AR膜一般采用真空镀膜的生产工艺，AF膜采用喷涂的生产工艺，目前国内尚未有一家厂商能够同时具备三种膜层的镀膜生产技术，只能分开多个厂家进行联合镀膜生产，这样的生产模式不但生产成本较高，而且良品率和生产效率都较低。
发明内容
本实用新型针对现有技术的不足，简化镀膜工艺，提供了一种新型的同时具备减反射和自清洁功能的镀膜设计。
本实用新型位于触摸屏基片上，包括自基片依次向外设置的防眩膜层和减反自清洁膜层，所述的减反自清洁膜层包括多层间隔排列的高折射率膜层和低折射率膜层，减反自清洁膜层的最外层为高折射率膜层，高折射率膜层和低折射率膜层共有奇数层，其中高折射率膜层的材料为TiO2，低折射率膜层的材料为SiO2。
与现有技术相比，本实用新型可以达到以下效果：
1.能够达到较好的减反射效果，TP盖板表面的可见光反射率可以降低至1%；
2.膜系不但具有减反射效果，还具备自清洁功能；
3.本膜系抗耐磨性能强；
4.触摸屏TP盖板使用本实用新型的镀膜设计，则可以省去AF镀膜，直接降低生产成本，提高生产效率和良品率。
附图说明
图1传统的触摸屏TP盖板的膜层设计。
图2本实用新型的触摸屏TP盖板的膜层设计。
具体实施方式
以下结合附图对本实用新型作进一步说明。
如图1所示，传统的触摸屏用TP盖板1均镀有功能膜层，分别为AG膜2（防眩光）、AR膜3（减反射）、AF膜4（防指纹）。
如图2所示，本实施例将AR膜和AF膜进行二合一，TP盖板上的膜层数量由原先的三种减少到两种，只需要镀上AG膜和减反自清洁膜层5。其中减反自清洁膜层是自基片向外依次设置高折射率膜层和低折射率膜层相间排列，并且最外层的膜层为高折射率，总膜层数量为奇数层，如：高折射率介质层/低折射率介质层……高折射率介质层/低折射率介质/高折射率介质层。其中高折射率介质层材料为TiO2，低折射率介质层材料为SiO2，
本实用新型的膜系设计采用高低折射率介质层相间排列，并调整相应的膜层厚度来达到减反射的效果，表面可见光反射率可低至1%。在考虑减反射效果的同时，本膜系最外层的材料使用纳米级厚度的TiO2膜层，纳米TiO2膜层具备自清洁效果，在阳光或者日光灯的照射下，TiO2吸收光能量后，光生电子-空穴对，以其特有的强氧化能力，将表面几乎所有的有机污染物、细菌等完全氧化并降解，表面的TiO2膜层为光致两亲性（亲水性和亲油性）的共同作用下，使表面具有超亲水性，从而使表面具有自洁、防雾、和不易再污染的功能。而两亲特性在黑暗中仍能保持一段时间，也就是夜晚也可以起到作用。同时TiO2膜层机械性能强，耐磨性能优秀。

Claims (1)

1.一种触摸屏用减反射和自清洁一体化膜系，该膜系位于触摸屏基片上，其特征在于：包括自基片依次向外设置的防眩膜层和减反自清洁膜层，所述的减反自清洁膜层包括多层间隔排列的高折射率膜层和低折射率膜层，减反自清洁膜层的最外层为高折射率膜层，高折射率膜层和低折射率膜层共有奇数层，其中高折射率膜层的材料为TiO2，低折射率膜层的材料为SiO2。
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