CN106471076B

CN106471076B - 光学功能性层制作用组合物、包含光学功能性层的光学薄膜的制造方法及光学薄膜

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Publication number: CN106471076B
Application number: CN201580035178.2A
Authority: CN
Inventors: 武田淳; 芥川畅之; 星野涉; 田村显夫; 西川秀幸
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2014-07-04
Filing date: 2015-07-03
Publication date: 2019-01-22
Anticipated expiration: 2035-07-03
Also published as: CN106471076A; KR101956568B1; JP6335294B2; JPWO2016002946A1; WO2016002946A1; KR20170010317A

Abstract

本发明提供一种光学功能性层制作用组合物、使用上述光学功能性层制作用组合物的光学薄膜的制造方法及使用上述光学功能性层制作用组合物制造的光学薄膜。本发明的光学功能性层制作用组合物的粘度为0.3～30.0mPa·s，且含有溶剂和光学功能性成分，所述光学功能性成分含有选自由聚合性化合物及聚合物构成的组中的1种以上的化合物，上述溶剂为表面张力10～22mN/m的低表面张力溶剂与表面张力大于22mN/m的标准表面张力溶剂的混合溶剂，低表面张力溶剂相对于溶剂总量的含量为5质量％～40质量％。本发明的光学功能性层制作用组合物即使在涂布成膜时粘度较低也不易产生凹陷，且形成上层时也不易产生凹陷。

Description

光学功能性层制作用组合物、包含光学功能性层的光学薄膜的制造方法及光学薄膜

技术领域

本发明涉及一种光学功能性层制作用组合物、包含光学功能性层的光学薄膜的制造方法及光学薄膜的制造方法。

背景技术

作为聚合物薄膜的制造方法，除了通过聚合物的拉伸进行制作的方法以外，还有基于涂布成膜的方法。在涂布成膜中，涂布面质的均匀性对薄膜品质的影响较大。尤其，若产生涂布液在涂布面以月牙状弹溅的“凹陷”，则难以形成良好的薄膜。

涂布液的表面张力越高，使涂布液的表面积最小化的力量的作用则越强，因此容易产生凹陷。为了降低涂布液的表面张力而抑制凹陷，在涂布液中添加表面活性剂并调整与气体接触的表面的状态是有效的。为了该目的，广泛使用氟类表面活性剂或硅酮类的表面活性剂等，其降低刚形成新的表面之后的动态表面张力的能力较高，并且向涂布液中的溶解性也良好(专利文献1及2)。

另一方面，近年来要求薄膜的多功能化，多制作将功能不同的层层叠而成的结构的层叠膜(例如专利文献3)。

以往技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利2841611号

专利文献2：日本特开2005-272560号公报

专利文献3：日本特开2011-191582号公报

发明的概要

发明要解决的技术课题

上述氟类表面活性剂或硅酮类的表面活性剂利用疏水性基团而偏在于涂膜表面从而降低涂膜的表面张力，且还残存于所制作的薄膜上。因此，若欲在其之上进一步涂布成膜上层而制作层叠膜，则相对于薄膜的疏水表面，涂布液的表面张力不足而产生凹陷。

作为解决手段之一，专利文献3中尝试了使下层的表面活性剂扩散至上层。但是，在该方法中，需要适当选择下层的膜硬度和用于形成上层的涂布液的溶剂的种类。

此外，作为凹陷的防止方法，可以想到通过提高粘度来抑制流动性。但是，一般而言，若粘度较高，则难以形成均匀的涂膜。

鉴于上述内容，本发明的课题在于提供一种用于涂布成膜时即使粘度较低也不易产生凹陷的光学功能性层制作用组合物。并且，本发明的课题在于还提供一种当将制作后的光学功能性层作为下层且在其表面涂布成膜上层时不易产生上层形成用涂布液的凹陷的光学功能性层制作用组合物。并且，本发明的课题在于提供一种能够用作用于制作层叠膜的支撑体薄膜等的具有不易产生上层形成用涂布液的凹陷的光学功能性层的光学薄膜。

用于解决技术课题的手段

为了解决上述课题，本发明人等对作为光学功能性层制作用组合物的涂布液的组成进行了深入研究，发现涂布成膜时的凹陷的程度根据涂布液的溶剂而发生变化。并且，惊奇地发现，即使在通过干燥去除了溶剂之后的薄膜中，根据所使用的涂布液的溶剂，进一步形成上层时的涂布液的凹陷程度也会发生变化。本发明人等根据这些见解进一步重复进行了研究，并完成了本发明。

即，本发明提供下述[1]～[16]。

[1]一种光学功能性层制作用组合物，其粘度为0.3～30.0mPa·s，

且含有光学功能性成分，所述光学功能性成分含有溶剂和选自由聚合性化合物及聚合物构成的组中的1种以上的化合物，

上述溶剂为表面张力为10～22mN/m的低表面张力溶剂与表面张力大于22mN/m的标准表面张力溶剂的混合溶剂，低表面张力溶剂相对于上述溶剂总量的含量为5质量％～40质量％。

[2]根据[1]所述的光学功能性层制作用组合物，其中上述标准表面张力溶剂的沸点低于上述低表面张力溶剂的沸点。

[3]根据[1]或[2]所述的光学功能性层制作用组合物，其中上述低表面张力溶剂为叔丁醇。

[4]根据[1]至[3]中任一项所述的光学功能性层制作用组合物，其中，上述光学功能性成分含有聚合性化合物。

[5]根据[4]所述的光学功能性层制作用组合物，其中，上述光学功能性成分含有聚合性液晶化合物。

[6]一种光学薄膜的制造方法，其包含如下步骤：在支撑体上涂布[1]至[5]中任一项所述的光学功能性层制作用组合物而得到涂膜；及干燥上述涂膜而在上述支撑体上形成光学功能性层1。

[7]一种光学薄膜的制造方法，其包含如下步骤：在支撑体上涂布[4]或[5]所述的光学功能性层制作用组合物而得到涂膜；干燥上述涂膜；及对已干燥的上述涂膜实施固化反应而在上述支撑体上形成光学功能性层1。

[8]根据[6]或[7]所述的制造方法，其包含如下步骤：在光学功能性层1的表面涂布含有光学功能性成分和溶剂的组合物2而得到涂膜，所述光学功能性成分含有选自由聚合性化合物及聚合物构成的组中的1种以上的化合物；及通过包含干燥上述涂膜的步骤的方法来形成层2。

[9]根据[8]所述的制造方法，其中组合物2含有聚合性化合物，

所述制造方法包含在形成层2时对已干燥的上述涂膜实施固化反应的步骤。

[10]根据[8]或[9]所述的制造方法，其中组合物2为[1]至[5]中任一项所述的光学功能性层制作用组合物。

[11]一种光学薄膜，其包含由[1]至[5]中任一项所述的光学功能性层制作用组合物的涂膜形成的光学功能性层1。

[12]一种光学薄膜，其通过[6]或[7]所述的方法而得到，且包含支撑体及光学功能性层1。

[13]根据[11]或[12]所述的光学薄膜，其中光学功能性层1为将胆甾醇型液晶相固定而成的层。

[14]一种光学薄膜，其为通过[8]至[10]中任一项所述的方法而得到的光学薄膜，且依次包含支撑体、光学功能性层1及层2。

[15]根据[14]所述的光学薄膜，其中选自由光学功能性层1及层2构成的组中的1层以上为将胆甾醇型液晶相固定而成的层。

[16]根据[14]或[15]所述的光学薄膜，其中光学功能性层1及层2中的任一个为通过含有聚合性的棒状液晶化合物的组合物的固化而形成的层，另一个为通过含有聚合性的圆盘状液晶化合物的组合物的固化而形成的层。

发明效果

通过本发明，提供一种即使粘度较低也不易产生凹陷的光学功能性层制作用组合物。本发明还提供一种当将制作后的光学功能性层作为下层并在其表面涂布成膜上层时，在上层形成用涂布液中也不易产生凹陷的光学功能性层制作用组合物。通过本发明的光学功能性层制作用组合物，能够制造可用作用于制作层叠膜的支撑体薄膜的、具有在上层形成用涂布液中不易产生凹陷的光学功能性层的光学薄膜。因此，使用本发明的光学功能性层制作用组合物能够制造具有各种功能的层叠膜。

具体实施方式

以下，对本发明进行详细说明。

另外，本说明书中“～”是以将其前后所记载的数值作为下限值及上限值而包含的含义来使用。

本说明书中，“(甲基)丙烯酸基”是以“丙烯酸基及甲基丙烯酸基中的任一个或两个”的含义来使用。

[光学功能性层制作用组合物]

光学功能性层制作用组合物为含有光学功能性成分和溶剂的组合物。即，光学功能性层制作用组合物只要是溶液或分散液即可。本发明的光学功能性层制作用组合物只要是能够用作在光学薄膜的制作过程中进行涂布成膜时的涂布液的组合物即可。光学功能性层制作用组合物为尤其能够由所涂布的涂膜形成光学功能性层的组合物，例如可以是通过干燥被进行涂布而成为涂膜状态的组合物而去除溶剂来得到光学功能性层的组合物，也可以是干燥涂膜状态的组合物使干燥后的涂膜固化而得到光学功能性的组合物。

由光学功能性层制作用组合物可以形成光学薄膜整体，也可以形成光学薄膜的一部分。例如，光学功能性层制作用组合物可以形成构成光学薄膜的多个层中的一部分或一层。

作为光学功能性层，可以举出λ/4层等光学各向异性层、偏光层、将胆甾醇型液晶相固定而成的层等光反射层、光吸收层、透明层等。

本发明的光学功能性层制作用组合物即使粘度较低，也不易产生凹陷。光学功能性层制作用组合物的粘度为0.3～30.0mPa·s，优选为0.4～20mPa·s，更优选为0.5～15mPa·s。光学功能性层制作用组合物优选不含有在流延法中使用的组合物。这是因为在流延法中使用的组合物通常为高粘度。

另外，本说明书中，粘度是指在25℃的条件下使用振动式粘度计测定而得到的值。作为振动式粘度计，例如可以使用SEKONIC CORPORATION制的Vm-100。

粘度主要能够通过溶剂的含量或添加聚合物型分子来进行调整。

＜溶剂＞

本发明的光学功能性层制作用组合物含有溶剂。光学功能性层制作用组合物中所含的溶剂为低表面张力溶剂与标准表面张力溶剂的混合溶剂。并且，光学功能性层制作用组合物中所含的低表面张力溶剂总量相对于溶剂总量的含量为5质量％～40质量％，优选为7质量％～36质量％，更优选为10质量％～30质量％，进一步优选为10质量％～25质量％。

本发明人等发现，如上所述，以一定的比例含有低表面张力溶剂的光学功能性层制作用组合物不易产生涂布时的凹陷，并且能够制作膜面均匀且无不均匀的光学功能性层。惊奇的是，即使未加入现有技术中所使用的氟类表面活性剂或硅酮类表面活性剂，也并没有产生凹陷或光学不均匀。不局限于任何理论，认为涂布时，低表面张力溶剂与上述现有技术中的表面活性剂同样地显出面状平滑化(流平)功能，对周边环境的风的耐性得到提高，不易产生光学不均匀，进而能够抑制凹陷。

同时，本发明人等发现，将使用本发明的光学功能性层制作用组合物制作的光学功能性层作为下层(本说明书中，有时称为“光学功能性层1”。)，并在其表面进一步涂布成膜上层(本说明书中，有时对应于设为“层2”的层。)时，也不易产生涂布时的凹陷，并且能够制作膜面均匀且无不均匀的上层。不局限于任何理论，认为如上所述，涂布时显出面状平滑化(流平)功能的低表面张力溶剂在形成薄膜时的干燥阶段挥发而消失，不会残留于所形成的薄膜中，因此不会如现有技术的表面活性剂那样使表面疏水化，不易产生形成上层时的凹陷。根据如上所述的特殊性质，作为将由本发明的光学功能性层制作用组合物形成的层作为下层并在其表面通过涂布成膜而形成上层时的上层形成用涂布液的溶剂，可以使用较广范围的溶剂。

低表面张力溶剂的表面张力为10～22mN/m(10～22dyn/cm)，优选为15～21mN/m，更优选为18～20mN/m。标准表面张力溶剂的表面张力大于22mN/m，优选为23～50mN/m，更优选为23～40mN/m。

并且，低表面张力溶剂的表面张力与标准表面张力溶剂的表面张力之差优选为2mN/m以上，更优选为3mN/m以上，进一步优选为4～20mN/m以上，尤其优选为0.005～0.015mN/m。

另外，本说明书中，溶剂的表面张力为溶剂手册(Kodansha Ltd.，1976年发行)中所记载的值。溶剂的表面张力为例如能够通过Kyowa Interface Science Co.,LTD.制自动表面张力计CBVP-A3测定的物性值。测定只要在25℃的条件下进行即可。

低表面张力溶剂及标准表面张力溶剂可以分别为混合溶剂。此时，只要构成作为混合溶剂的低表面张力溶剂的各溶剂的表面张力、及构成作为混合溶剂的标准表面张力溶剂的各溶剂的表面张力在上述范围内即可。

优选低表面张力溶剂的沸点高于标准表面张力溶剂的沸点。并且，优选光学功能性成分对低表面张力溶剂的溶解性低于光学功能性成分对标准表面张力溶剂的溶解性。在此，关于光学功能性成分的溶解性，只要比较光学功能性成分中选自由聚合性化合物及聚合物构成的组中的1种以上的化合物的溶解性即可。并且，更优选低表面张力溶剂的沸点高于标准表面张力溶剂的沸点，同时光学功能性成分对低表面张力溶剂的溶解性低于光学功能性成分对标准表面张力溶剂的溶解性。这是因为成为能够进一步抑制涂布时的凹陷的光学功能性层制作用组合物。不局限于任何理论，认为在形成薄膜时的干燥工序中，光学功能性成分的溶解性更高且沸点更低的标准表面张力溶剂先挥发，而低表面张力溶剂会残留，由此能够通过由低表面张力溶剂产生的流平功能来提高防止凹陷或不均匀的效果。

作为溶剂，可以优选使用有机溶剂，可以从中选择低表面张力溶剂和标准表面张力溶剂。有机溶剂的例子可以举出醇(例如，乙醇、叔丁醇)、酰胺(例如，N,N-二甲基甲酰胺)、亚砜(例如，二甲基亚砜)、杂环化合物(例如，吡啶)、烃(例如，庚烷、环戊烷、苯、己烷、四氟乙烯)、卤代烷(例如，氯仿、二氯甲烷)、酯(例如，乙酸甲酯、乙酸丁酯、乙酸异丙酯)、酮(例如，丙酮、甲乙酮、环己酮)、醚(例如，四氢呋喃、1,2-二甲氧基乙烷)、胺(例如，三乙胺)。可以并用两种以上的有机溶剂。

作为低表面张力溶剂的例子，可以举出叔丁醇(19.5mN/m)、四氟乙烯(TFE，20.6mN/m)、三乙胺(20.7mN/m)、环戊烷(21.8mN/m)、庚烷(19.6mN/m)及由这些溶剂中的任意2种以上的组合构成的混合溶剂等。数值表示表面张力。在这些之中，从安全性的观点考虑，优选叔丁醇、四氟乙烯、三乙胺、环戊烷，更优选叔丁醇或四氟乙烯，进一步优选叔丁醇。

作为标准表面张力溶剂的例子，可以举出甲乙酮(MEK，23.9mN/m)、乙酸甲酯(24.8mN/m)、甲基异丁基酮(MIBK，25.4mN/m)、环己酮(34.5mN/m)、丙酮(23.7mN/m)、乙酸异丙酯(0.022.1mN/m)及由这些溶剂中的任意2种以上的组合构成的混合溶剂等。数值表示表面张力。在这些之中，优选甲乙酮、环己酮与其他1种溶剂的混合溶剂、乙酸甲酯与甲基异丁基酮的混合溶剂等。

溶剂相对于光学功能性层制作用组合物总质量的浓度优选为95～50质量％，更优选为93～60质量％，进一步优选为90～75质量％。

在形成光学功能性层时的干燥工序中，光学功能性层制作用组合物的溶剂相对于溶剂总量，优选去除95质量％以上，更优选去除98质量％以上，进一步优选去除99质量％以上，尤其优选实质上去除100质量％。

＜光学功能性成分＞

光学功能性成分为构成光学功能性层的成分或成为所构成的成分的原料的成分。光学功能性成分只要是从光学功能性层制作用组合物中去除溶剂后的成分即可。光学功能性成分含有选自由聚合性化合物及聚合物构成的组中的1种以上的化合物。光学功能性成分含有能够通过聚合反应形成聚合物的聚合性化合物(单体)、聚合物、或它们的混合物。优选光学功能性成分含有聚合性化合物或聚合性化合物与聚合物的混合物，更优选含有聚合性化合物。

光学功能性成分只要是能够通过包含光学功能性层制作用组合物的涂布工序的成膜法形成光学功能性层的成分，则并没有特别限定。优选光学功能性成分为能够通过不包含拉伸工序的成膜法形成光学功能性层的成分。光学功能性成分除了选自由聚合性化合物及聚合物构成的组中的1种以上的化合物以外，还可以含有聚合引发剂、手性试剂等其他添加剂。

也优选光学功能性成分为含有液晶化合物的液晶组合物。

(聚合性化合物)

聚合性化合物为具有能够进行加成聚合反应或缩聚反应的官能团即聚合性基团的化合物。聚合性化合物可以具有1个聚合性基团，也可以具有2个以上。作为聚合性基团，可以举出自由基聚合性基团和阳离子聚合性基团等。也可以是两者的组合。作为自由基聚合性基团，可以举出乙烯基及(甲基)丙烯酸基等。作为阳离子聚合性基团，可以举出环氧基、氧杂环丁基及乙烯醚基等。在上述之中，作为优选的聚合性基团，可以举出丙烯酸基、甲基丙烯酸基。

(液晶化合物)

液晶化合物中包含高分子液晶化合物(聚合物)及低分子液晶化合物。所谓高分子，一般是指聚合度为100以上的化合物(高分子物理·相转移动力学，土井正男著，第2页，岩波书店，1992)。并且，作为液晶化合物，包含棒状液晶化合物及圆盘状液晶化合物。

作为高分子液晶化合物，例如可以举出在聚合物的主链或侧链上导入了赋予液晶取向性的共轭性的直线状原子団(介晶(mesogene))的主链型或侧链型的各种高分子液晶化合物等。作为主链型高分子液晶化合物的例子，可以举出在赋予弯曲性的间隔部键合了介晶基团的结构的聚酯类高分子液晶化合物、圆盘状液晶化合物或胆甾醇型液晶化合物等。作为侧链型高分子液晶化合物的例子，可以举出以聚硅氧烷、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸酯或聚丙二酸酯为主链骨架，并含有由赋予向列取向性的对位取代环状化合物单元构成的介晶部作为侧链，这些主链骨架和侧链经由由共轭性的原子団构成的间隔部键合的高分子化合物等。作为高分子液晶化合物的例子，可以举出日本特开2004-285174号公报、日本特开2004-285169号公报、或日本特开2005-139375号公报等中所记载的液晶聚合物、及2011-237513号公报中所记载的热致液晶性高分子等。

优选光学功能性成分中所含的低分子液晶化合物为能够通过聚合反应形成聚合物的聚合性化合物(聚合性液晶化合物)。

作为棒状液晶化合物，可以优选使用偶氮甲碱类、氧化偶氮类、氰基联苯类、氰基苯酯类、苯甲酸酯类、环己烷羧酸苯基酯类、氰基苯基环己烷类、氰基取代的苯基嘧啶类、烷氧基取代的苯基嘧啶类、苯基二噁烷类、二苯乙炔类及链烯基环己基苄腈类。作为聚合性液晶化合物的棒状液晶化合物，可以使用Makromol.Chem.，190卷、第2255页(1989年)、Advanced Materials 5卷、第107页(1993年)、美国专利4683327号、美国专利5622648号、美国专利5770107号、WO95/22586号、WO95/24455号、WO97/00600号、WO98/23580号、WO98/52905号、日本特开平1-272551号、日本特开平6-16616号、日本特开平7-110469号、日本特开平11-80081号及日本专利申请2001-64627号的各公报等中所记载的化合物。另外，作为棒状液晶化合物，例如也可以优选使用日本特表平11-513019号公报或日本特开2007-279688号公报中所记载的棒状液晶化合物。

作为圆盘状液晶化合物，例如可以举出日本特开2007-108732号公报或日本特开2010-244038号公报中所记载的化合物。

以下示出聚合性圆盘状液晶化合物的优选例。

[化学式1]

化合物1

化合物2

化合物101

化合物102

(聚合引发剂)

在通过基于聚合性化合物的聚合的组合物的固化来形成光学功能性层的情况等，光学功能性成分可以含有聚合引发剂。

聚合引发剂的例子可以举出α-羰基化合物(记载于美国专利第2367661号、美国专利2367670号的各说明书)、偶姻醚(记载于美国专利第2448828号说明书)、α-烃取代的芳香族偶姻化合物(记载于美国专利第2722512号说明书)、多核醌化合物(记载于美国专利第3046127号、美国专利2951758号的各说明书)、三芳基咪唑二聚物与对氨基苯基酮的组合(记载于美国专利第3549367号说明书)、吖啶和吩嗪化合物(记载于日本特开昭60-105667号公报、美国专利第4239850号说明书)及噁二唑化合物(记载于美国专利第4212970号说明书)、酰基氧化膦化合物(记载于日本特公昭63-40799号公报、日本特公平5-29234号公报、日本特开平10-95788号公报、日本特开平10-29997号公报)等。

(手性试剂)

由光学功能性层制作用组合物形成的光学功能性层可以是将胆甾醇型液晶相固定而得到的层。在该情况下，优选光学功能性成分含有手性试剂。

手性试剂可以从公知的各种手性试剂(例如，记载于液晶器件手册、第3章4-3项、TN、STN用手性试剂、第199页、日本学术振兴会第一42委员会编、1989)中选择。手性试剂一般含有不对称碳原子，不含不对称碳原子的轴性不对称化合物或面性不对称化合物也可以用作手性试剂。轴性不对称化合物或面性不对称化合物的例子包括联萘、螺烯、对环芳烷及它们的衍生物。手性试剂可以具有聚合性基团。当手性试剂具有聚合性基团并且并用的棒状液晶化合物也具有聚合性基团时，通过具有聚合性基团的手性试剂与聚合性棒状液晶化合物的聚合反应，能够形成具有由棒状液晶化合物衍生的重复单元和由手性试剂衍生的重复单元的聚合物。在该方式中，具有聚合性基团的手性试剂所具有的聚合性基团优选为与聚合性棒状液晶化合物所具有的聚合性基团相同种类的基团。因此，手性试剂的聚合性基团也优选为不饱和聚合性基团、环氧基或吖丙啶基，进一步优选为不饱和聚合性基团，尤其优选为烯属不饱和聚合性基团。

并且，手性试剂也可以是液晶化合物。

作为显出较强的扭曲力的手性试剂，例如可以举出日本特开2010-181852号公报、日本特开2003-287623号公报、日本特开2002-80851号公报、日本特开2002-80478号公报、日本特开2002-302487号公报中所记载的手性试剂，且可以优选使用。另外，关于这些公开公报中所记载的异山梨醇化合物类，也可以使用对应结构的异甘露醇化合物类，关于这些公报中所记载的异甘露醇化合物类，也可以使用对应结构的异山梨醇化合物类。

(氟类表面活性剂及硅酮类表面活性剂)

优选光学功能性成分实质上不含氟类表面活性剂及硅酮类表面活性剂。即，优选光学功能性层制作用组合物实质上不含氟类表面活性剂及硅酮类表面活性剂。通过不含这种表面活性剂，低表面张力溶剂如上述那样容易发挥功能。并且，所形成的光学功能性层的表面不易成为疏水性，在形成上层时不易产生凹陷。

具体而言，光学功能性层制作用组合物的氟类表面活性剂及硅酮类表面活性剂的含量相对于光学功能性层制作用组合物的总质量为0.5质量％以下，优选为0.3质量％以下即可。例如，可以是0.1质量％以下、0.05质量％以下、0.01质量％以下、0.001质量％以下。

氟类表面活性剂为含有氟的化合物，是在光学功能性层制作用组合物中所使用的溶剂中偏在于表面的化合物。作为具有疏水性部分的氟类表面活性剂的例子，可以举出日本特开2011-191582号公报的0028～0034段中所记载的作为取向控制剂而记载的化合物中含有氟的氟类表面活性剂、日本专利2841611号中所记载的氟类表面活性剂、日本特开2005-272560号公报的0017～0019段中所记载的氟类表面活性剂等。

作为市售品的氟类表面活性剂，可以举出AGC SEIMI CHEMICAL CO.,LTD.制的Surflon、或DIC Corporation制的Megafac。

硅酮类表面活性剂为含有硅酮的化合物，是在光学功能性层制作用组合物中所使用的溶剂中偏在于表面的化合物。

作为硅酮类表面活性剂，例如可以举出聚甲基苯基硅氧烷、聚醚改性硅油、聚醚改性二甲基聚硅氧烷、二甲基硅酮、二苯基硅酮、氢改性聚硅氧烷、乙烯基改性聚硅氧烷、羟基改性聚硅氧烷、氨基改性聚硅氧烷、羧基改性聚硅氧烷、氯改性聚硅氧烷、环氧基改性聚硅氧烷、甲基丙烯酰氧基改性聚硅氧烷、巯基改性聚硅氧烷、氟改性聚硅氧烷、长链烷基改性聚硅氧烷、苯基改性聚硅氧烷、硅酮改性共聚物等含有硅原子的低分子化合物。

作为硅酮类表面活性剂的市售品，可以举出Shin-Etsu Chemical Co.，Ltd.制的KF-96、X-22-945、Toray Silicone DC3PA、Toray Silicone DC7PA、Toray SiliconeSH11PA、Toray Silicone SH21PA、Toray Silicone SH28PA、Toray Silicone SH29PA、Toray Silicone SH30PA、Toray Silicone FS-1265-300(以上为Dow Corning ToraySilicone Co.,Ltd.制)、TSF-4300、TSF-4440、TSF-4445、TSF-4446、TSF-4452、TSF-4460(以上为GE Toshiba Silicones Co.,Ltd.制)、聚硅氧烷聚合物KP341(Shin-Etsu ChemicalCo.，Ltd.制)、BYK-301、BYK-302、BYK-307、BYK-325、BYK-331、BYK-333、BYK-341、BYK-345、BYK-346、BYK-348、BYK-375(BYK Japan KK.制)、ARON GS-30(TOAGOSEI CO.,LTD.制)、Silicone L-75、Silicone L-76、Silicone L-77、Silicone L-78、Silicone L-79、Silicone L-520及Silicone L-530(UNICA Corporation制)等。

＜光学功能性层的形成＞

光学功能性层由涂膜形成，所述涂膜由光学功能性层制作用组合物构成。光学功能性层例如可以是通过在支撑体上涂布光学功能性层制作用组合物并干燥所得到的涂膜而形成的层，也可以是进一步实施基于光照射或加热等的固化工序而形成的层。

光学功能性层制作用组合物的涂布能够通过利用辊涂方式或凹版印刷方式、旋涂方式等适当的方式展开的方法等来进行。另外，能够通过线棒涂布法、挤出涂布法、直接凹版涂布法、反向凹版涂布法、模涂法等各种方法来进行。并且，还能够使用喷墨装置从喷嘴喷出光学功能性层制作用组合物来形成涂布膜。

干燥可以通过放置来进行，也可以加热来进行。在干燥工序中，可以显现源自光学功能性成分的光学功能。例如，当光学功能性成分含有液晶化合物时，可以在通过干燥来去除溶剂的过程中形成液晶相。液晶相的形成可以通过由加热而设为转变为液晶相的温度来进行。例如，通过一经加热至各向同性相的温度之后冷却至液晶相转变温度等，由此能够稳定地设为液晶相的状态。从制造适应性等方面考虑，液晶相转变温度优选在10～250℃的范围内，更优选在10～150℃的范围内。若小于10℃，则有时为了将温度降低至呈现液晶相的温度范围而需要冷却工序等。并且，若超过200℃，则为了设为比一经呈现液晶相的温度范围更高温的各向同性液体状态而需要高温，从热能的浪费、基板的变形、变质等来看也不利。

例如，当光学功能性成分含有聚合性化合物时，优选使上述干燥后的膜固化。当光学功能性成分含有聚合性液晶化合物时，能够通过固化来维持并固定液晶化合物的分子的取向状态。固化能够通过聚合性化合物中的聚合性基团的聚合反应来实施。

聚合反应包含使用热聚合引发剂的热聚合反应和使用光聚合引发剂的光聚合反应。优选光聚合反应。用于聚合性化合物、尤其是聚合性液晶化合物的聚合的光照射优选使用紫外线。照射能量优选为50mJ/cm²～1000J/cm²，进一步优选为100～800mJ/cm²。为了促进光聚合反应，可以在加热条件下实施光照射。

为了促进固化反应，可以在加热条件下实施紫外线照射。

并且，由于气氛的氧浓度与聚合度有关，因此在空气中达不到所希望的聚合度、膜强度不充分的情况下，优选通过氮置换等方法降低气氛中的氧浓度。作为优选的氧浓度，优选10％以下，进一步优选7％以下，最优选3％以下。从保持层的机械强度等或抑制未反应物从层中流出等观点考虑，通过紫外线照射而进行的固化反应(例如聚合反应)的反应率优选为60％以上，更优选为70％以上，进一步优选为80％以上。为了提高反应率，增大所照射的紫外线的照射量的方法或在氮气氛下或加热条件下的聚合是有效的。并且，也可以使用一经聚合之后，保持在比聚合温度更高的高温状态下通过热聚合反应进一步推进反应的方法、或再次照射紫外线的方法。反应率的测定能够通过在进行反应前后比较反应性基团(例如聚合性基团)的红外振动光谱的吸收强度来进行。

基于使用液晶化合物作为光学功能性成分的光学功能性层的液晶化合物分子的取向的光学性质、例如胆甾醇型液晶相的光学性质只要在层中得以保持就充分，固化后的光学功能性层的液晶组合物已无需显出液晶性。例如，液晶化合物分子可以通过固化反应高分子量化而已经失去液晶性。

也优选光学功能性层为将胆甾醇型液晶相固定而成的胆甾醇型液晶层。作为胆甾醇型液晶层及胆甾醇型液晶层的制造方法，例如可以参考日本特开平1-133003号公报、日本专利3416302号、日本专利3363565号、日本特开平8-271731号公报的记载。

＜光学薄膜的制造方法＞

光学薄膜能够通过在支撑体上如上述那样形成光学功能性层而制造。支撑体可以在形成光学功能性层之后剥离。

本说明书中，称为“支撑体上”时，表示“直接在支撑体表面”或“经由形成于支撑体表面的其他层”的含义。

光学功能性层可以形成于预先形成的其他层的表面。本发明的光学功能性层制作用组合物在涂布成膜时不易产生凹陷，尤其在涂布于后述的支撑体、取向层、或液晶层的表面时不易产生凹陷。

也优选在光学功能性层的表面进一步如上述那样形成光学功能性层。由本发明的光学功能性层制作用组合物形成的光学功能性层不易产生凹陷，因此能够制作各种层叠型的光学薄膜。

＜光学薄膜＞

光学薄膜包含如上述那样形成的光学功能性层。光学薄膜可以包含1层光学功能性层，也可以包含2层。光学薄膜可以仅由光学功能性层构成，也可以除了光学功能性层以外还包含其他层。作为其他层，可以举出支撑体、取向层、表面保护层等。并且，可以具有由本发明的光学功能性层制作用组合物形成的光学功能性层以外的液晶层等具有光学功能性的层。

优选光学薄膜包含通过含有液晶化合物的组合物的固化而形成的层(以下，有时也称为“液晶层”)，也优选包含液晶层作为由本发明的光学功能性层制作用组合物形成的层。

并且，优选光学薄膜包含将胆甾醇型液晶相固定而成的层，也优选包含将胆甾醇型液晶相固定而成的层作为由本发明的光学功能性层制作用组合物形成的层。

光学薄膜优选具有2层液晶层层叠而成的结构，上述2层优选彼此直接接触。尤其优选具有如下结构，即，将由本发明的光学功能性层制作用组合物形成的层即液晶层作为下层(光学功能性层1)，并在其表面具有涂布组合物2而形成的液晶层(层2)作为上层，所述组合物2含有光学功能性成分和溶剂，所述光学功能性成分含有选自由聚合性化合物及聚合物构成的组中的1种以上的化合物。此时的组合物2的溶剂可以从上述中例示的有机溶剂中选择。组合物2也可以是本发明的光学功能性层制作用组合物。也优选在层2的表面进一步同样地形成有层的结构，光学薄膜也可以是同样地形成的液晶层的3～10层的层叠膜。

本发明的光学功能性层制作用组合物不需要添加氟类表面活性剂或硅酮类表面活性剂，由此如上所述那样用于制作层叠有液晶层的层叠膜时，具有额外的效果。若将由含有一定量以上的氟类表面活性剂或硅酮类表面活性剂的组合物形成的液晶层作为下层而形成上层，则有可能在下层与上层的界面发生取向混乱。本发明人等发现，在使用含有低表面张力溶剂的混合溶剂时，还抑制这种取向混乱。不局限于任何理论，认为如上所述，低表面张力溶剂不会残留于下层的液晶表面，因此对上层与下层的液晶相互作用不带来影响。

当使用本发明的光学功能性层制作用组合物制作的光学薄膜包含彼此直接接触的2个液晶层时，也优选光学功能性层1及层2中的任一个为由含有棒状液晶化合物的组合物形成的层，且另一个为由含有圆盘状液晶化合物的组合物形成的层。另外，也优选光学功能性层1及层2中的任一个为通过含有聚合性的棒状液晶化合物的组合物的固化而形成的层，且另一个为通过含有聚合性的圆盘状液晶化合物的组合物的固化而形成的层。

光学薄膜的用途并没有特别限定。作为光学薄膜的例子，可以举出相位差膜、反射膜、光吸收膜等。更具体而言，可以举出液晶显示装置等中所使用的光学补偿膜、偏振膜及增亮膜、隔热膜、投影用薄膜等。

使用本发明的光学功能性层制作用组合物制作的光学薄膜可以是用于制作层叠膜的支撑体薄膜。支撑体薄膜包含上述下层(光学功能性层1)。支撑体薄膜优选包含光学功能性层1作为最外层、或者在光学功能性层1的外侧仅包含层压薄膜等能够容易剥离的薄膜。支撑体薄膜中的光学功能性层1优选为液晶层。支撑体薄膜中的光学功能性层1进一步优选为通过含有聚合性的圆盘状液晶化合物的组合物的固化而形成的层。支撑体薄膜可以除了光学功能性层1以外，还包含支撑体、取向层、其他液晶层等层。

(支撑体)

作为支撑体，可以使用玻璃或聚合物薄膜。用作支撑体的聚合物薄膜的材料的例子可以举出纤维素酰化物薄膜(例如，三醋酸纤维素薄膜(折射率1.48)、二醋酸纤维素薄膜、醋酸丁酸纤维素薄膜、醋酸丙酸纤维素薄膜)、聚乙烯、聚丙烯等聚烯烃、聚对苯二甲酸乙二酯或聚萘二甲酸乙二酯等聚酯类树脂薄膜、聚醚砜薄膜、聚甲基丙烯酸甲酯等聚丙烯酸类树脂薄膜、聚氨酯类树脂薄膜、聚酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚砜薄膜、聚醚薄膜、聚甲基戊烯薄膜、聚醚酮薄膜、(甲基)丙烯腈薄膜、聚烯烃、具有脂环式结构的聚合物(降冰片烯类树脂(ARTON：商品名，JSR Corporation制)，无定形聚烯烃(ZEONEX：商品名，ZeonCorporation制))等。其中，优选三乙酰纤维素、聚对苯二甲酸乙二酯、具有脂环式结构的聚合物，尤其优选三乙酰纤维素。

支撑体可以是形成光学功能性层之后被剥离而不包含于光学薄膜的伪支撑体。

作为支撑体的膜厚，只要是5μm～1000μm左右即可，优选为10μm～250μm，更优选为15μm～90μm。

(取向层)

光学薄膜可以包含取向层。取向层是在形成含有液晶化合物的层时为了使层制作用组合物中的液晶化合物的分子取向而使用的。

取向层是在形成光学功能性层等层时使用的，在光学薄膜中可以不包含取向层。

取向层能够通过有机化合物(优选聚合物)的摩擦处理、SiO等无机化合物的斜方蒸镀、形成具有微槽的层等方法来设置。进而，还已知通过赋予电场、赋予磁场、或光照射而产生取向功能的取向层。

根据支撑体、光学功能性层等下层的材料，即使不设置取向层，也能够通过对下层直接进行取向处理(例如，摩擦处理)来发挥作为取向层的功能。作为成为这种下层的支撑体的一例，可以举出PET。

并且，当在光学功能性层上直接层叠层时，有时下层的光学功能性层作为取向层起作用，能够使用于制作上层的液晶化合物取向。在这种情况下，即使不设置取向层，并且即使不实施特别的取向处理(例如，摩擦处理)，也能够使上层的液晶化合物取向。

以下，作为优选例，对摩擦处理表面后进行使用的摩擦处理取向层及光取向层进行说明。

-摩擦处理取向层-

摩擦处理取向层中可使用的聚合物的例子例如包括日本特开平8-338913号公报说明书中[0022]段中所记载的甲基丙烯酸酯类共聚物、苯乙烯类共聚物、聚烯烃、聚乙烯醇及改性聚乙烯醇、聚(N-羟甲基丙烯酰胺)、聚酯、聚酰亚胺、乙酸乙烯酯共聚物、羧甲基纤维素、聚碳酸酯等。可以将硅烷偶联剂用作聚合物。优选水溶性聚合物(例如，聚(N-羟甲基丙烯酰胺)、羧甲基纤维素、明胶、聚乙烯醇、改性聚乙烯醇)，进一步优选明胶、聚乙烯醇及改性聚乙烯醇，最优选聚乙烯醇及改性聚乙烯醇。

在取向层的摩擦处理面涂布前述组合物而使液晶化合物的分子取向。然后，根据需要，使取向层聚合物与光学各向异性层中所含的多官能单体进行反应、或者使用交联剂使取向层聚合物交联，由此能够形成前述光学各向异性层。

取向层的膜厚优选在0.1～10μm的范围。

-摩擦处理-

涂布光学功能性层制作用组合物的取向层、支撑体、或其他层的表面根据需要可以进行摩擦处理。摩擦处理一般能够通过用纸或布沿一定方向摩擦以聚合物为主成分的膜的表面而实施。关于摩擦处理的一般方法，例如记载于“液晶便览”(MARUZEN PUBLISHINGCo.,Ltd.发行，平成12年10月30日)。

作为改变摩擦密度的方法，可以使用“液晶便览”(MARUZEN PUBLISHING Co.,Ltd.发行)中所记载的方法。摩擦密度(L)由下述式(A)定量化。

式(A)L＝Nl(1+2πrn/60v)

式(A)中，N为摩擦次数，l为摩擦辊的接触长度，r为辊的半径，n为辊的转速(rpm)，v为工作台移动速度(秒速)。

为了提高摩擦密度，只要增加摩擦次数、加长摩擦辊的接触长度、加大辊的半径、加大辊的转速、减慢工作台移动速度即可，另一方面，为了降低摩擦密度，与其相反地设定即可。并且，作为进行摩擦处理时的条件，还可以参考日本专利4052558号的记载。

-光取向层-

作为通过光照射而形成的光取向层中所使用的光取向材料，在多数文献等中有记载。例如，可以举出日本特开2006-285197号公报、日本特开2007-76839号公报、日本特开2007-138138号公报、日本特开2007-94071号公报、日本特开2007-121721号公报、日本特开2007-140465号公报、日本特开2007-156439号公报、日本特开2007-133184号公报、日本特开2009-109831号公报、日本专利第3883848号、日本专利第4151746号中所记载的偶氮化合物、日本特开2002-229039号公报中所记载的芳香族酯化合物、日本特开2002-265541号公报、日本特开2002-317013号公报中所记载的具有光取向性单元的马来酰亚胺和/或烯基取代的纳迪克酰亚胺(nadimide)化合物、日本专利第4205195号、日本专利第4205198号中所记载的光交联性硅烷衍生物、日本特表2003-520878号公报、日本特表2004-529220号公报、日本专利第4162850号中所记载的光交联性聚酰亚胺、聚酰胺、或酯作为优选例。尤其优选为偶氮化合物、光交联性聚酰亚胺、聚酰胺、或酯。

对由上述材料形成的光取向层实施直线偏振光或非偏振光照射来制造光取向层。

本说明书中，所谓“直线偏振光照射”，是用于使光取向材料产生光反应的操作。所使用的光的波长根据所使用的光取向材料的不同而不同，只要是该光反应所需的波长，则并没有特别限定。优选光照射中所使用的光的峰值波长为200nm～700nm、更优选光的峰值波长为400nm以下的紫外光。

光照射中所使用的光源可以举出通常使用的光源、例如钨灯、卤素灯、氙气灯、氙气闪光灯、汞灯、汞氙气灯、碳弧灯等灯、各种激光(例如，半导体激光、氦氖激光、氩离子激光、氦镉激光、YAG激光)、发光二极管、阴极射线管等。

作为得到直线偏振光的方法，可以采用使用偏振片(例如，碘偏振片、二色色素偏振片、线栅偏振片)的方法、使用棱镜类元件(例如，格兰汤姆森棱镜)或利用了布儒斯特角的反射型偏振器的方法、或使用从具有偏振光的激光光源射出的光的方法。并且，可以使用滤波器或波长转换元件等来仅选择性照射所需的波长的光。

在所照射的光为直线偏振光的情况下，可以采用相对于取向层从上表面或背面且从相对于取向层表面为垂直或斜方向照射光的方法。光的入射角度根据光取向材料的不同而不同，例如为0～90°(垂直)，优选为40～90。

在利用非偏振光的情况下，从斜方向照射非偏振光。其入射角度为10～80°，优选为20～60，尤其优选为30～50°。

照射时间优选为1分钟～60分钟，进一步优选为1分钟～10分钟。

[实施例]

以下，举出实施例对本发明进行进一步具体的说明。以下实施例所示的材料、试剂、物质量及其比例、操作等只要不脱离本发明的宗旨，则可以适当地进行变更。因此，本发明的范围并不限定于以下实施例。

以表1所示的层结构制作出各实施例及比较例的光学薄膜。各层的材料如下所示。

(TD40UL)

使用了市售的纤维素酰化物薄膜“TD40UL”(FUJIFILM Corporation制)。

(带取向层的TD40UL)

使TD40UL通过温度60℃的介电式加热辊而使薄膜表面温度升温至40℃之后，使用棒式涂布机将下述所示的组成的碱溶液以涂布量14ml/m²涂布于薄膜的一面，并在加热为110℃的NORITAKE CO.,LIMITED制的蒸汽式远红外加热器下输送了10秒钟。接着，同样使用棒式涂布机以3ml/m²涂布了纯水。接着，反复进行3次利用喷注式涂布机的水洗和利用气刀的水分去除之后，在70℃的干燥区中输送10秒钟以进行干燥，从而制作出经碱皂化处理的纤维素酰化物薄膜。

取向层的形成

利用#14的绕线棒，将下述组成的取向层涂布液连续涂布于如上述那样经皂化处理的长条状的醋酸纤维素薄膜。利用60℃的温风干燥了60秒，进而利用100℃的温风干燥了120秒。对所得到的涂膜连续实施摩擦处理而制作出取向层。此时，长条状薄膜的长度方向与输送方向平行，相对于薄膜长度方向，摩擦辊的旋转轴设为顺时针45°方向。

[化学式2]

下述结构式中，比例为摩尔比。

(TD40UL+λ/4)

利用#3.6的绕线棒，将下述组成的含有圆盘状液晶化合物的涂布液A1连续涂布于上述中制作出的取向层上。薄膜的输送速度(V)设为20m/min。为了涂布液的溶剂的干燥及圆盘状液晶化合物的取向熟化，利用130℃的温风加热了90秒钟。接着，在80℃下进行UV照射，将液晶化合物的取向固定化来形成了λ/4层。

此时，UV照射量设为300mJ/cm²。

[化学式3]

化合物101

化合物102

取向助剂1

取向助剂2

聚合引发剂1

上述取向助剂1及2分别为三甲基取代的苯环中的甲基的取代位置不同的2种化合物的混合物(2种化合物的混合比为50:50(质量比))。并且，表面活性剂1的“a/b＝98/2”的记载表示a为98质量％，b为2质量％。

(TD40UL+λ/4(带取向层))

在λ/4层的表面上与上述同样地制作出取向层。

(B1～B10、B12、B13、B15～B18)

在形成于上述TD40UL表面上的取向层的表面或形成于TD40UL+λ/4的λ/4层表面上的取向层的表面上以膜厚成为3μm的方式调整并连续涂布涂布液(B1～B10、B12、B13、B15～B18中的任一个)。

接着，在70℃下将溶剂干燥2分钟而使溶剂气化之后，在115℃下进行3分钟加热熟化，从而得到了均匀的取向状态。

然后，将该涂布膜保持为45℃，在氮气氛下使用高压汞灯对该涂布膜照射紫外线而形成了胆甾醇型液晶层。

此时，UV照射量设为300mJ/cm²。

B1

[化学式4]

聚合性单体1

表面活性剂1

手性试剂1

B2

B3

B4

B5

B6

B7

B8

B9

B10

B12

B13

B15

B16

B17

B18

(HC1)

利用棒式涂布机，将下述组成的硬涂层涂布液涂布于上述TD40UL的表面，并进行干燥、紫外线照射而形成了膜厚10μm的硬涂层。

HC1

(HC2)

(HC4)

利用绕线棒涂布机#1.6，将下述组成的混合物以成为20质量％的方式加入到乙酸甲酯/环己酮＝50/50(质量(％))的混合液中而制作的硬涂层涂布液涂布于形成于TD40UL表面上的取向层的表面，并在60℃下将涂膜干燥0.5分钟之后，使用高压汞灯，在氮气吹扫下且在约0.1％的氧浓度下，于30℃下照射30秒钟照度40mW/cm²、照射量120mJ/cm²的紫外线，从而形成了膜厚0.6μm的硬涂层。

[化学式5]

ACR1：BLEMMER GLM，NOF CORPORATION制

ACR2：KAYARAD PET30，Nippon Kayaku Co.,Ltd.制

空气界面侧垂直取向剂

(HC5)

利用绕线棒涂布机#1.6，将下述组成的混合物以成为20质量％的方式加入到乙酸甲酯/环己酮/叔丁醇＝50/30/20(质量(％))的混合液中而制作的硬涂层涂布液涂布于形成于TD40UL表面上的取向层的表面，并在60℃下将涂膜干燥0.5分钟之后，使用高压汞灯，在氮气吹扫下且在约0.1％的氧浓度下，于30℃下照射30秒钟照度40mW/cm²、照射量120mJ/cm²的紫外线，从而形成了膜厚0.6μm的硬涂层。

(HC6)

利用绕线棒涂布机#1.6，将下述组成的混合物以成为20质量％的方式加入到乙酸甲酯/环己酮＝50/50(质量(％))的混合液中而制作的硬涂层涂布液涂布于形成于TD40UL表面上的取向层的表面，并在60℃下将涂膜干燥0.5分钟之后，使用高压汞灯，在氮气吹扫下且在约0.1％的氧浓度下，于30℃下照射30秒钟照度40mW/cm²、照射量120mJ/cm²的紫外线而使中间层固化。所得到的中间层的膜厚为0.6μm。

(HC3)

通过凹版涂布法，将下述组成的硬涂层涂布液涂布于上述中制作出的硬涂层(HC1、HC2)的表面，并在120℃下加热5分钟而去除溶剂之后，使用高压汞灯以350mJ/cm²照射紫外线，从而形成了厚度4μm的硬涂层。

(LC1)

利用#3.2的绕线棒，将下述组成的混合物以成为30质量％的方式加入到MEK/环己酮(＝90/10(质量(％))的混合液中而制作的涂布液涂布于上述中制作出的硬涂层(HC4～6)的表面。将其贴附于金属框，并在100℃的恒温槽中加热2分钟而使棒状液晶化合物取向。接着，冷却至50℃之后，在氮气吹扫下且在约0.1％的氧浓度下，使用气冷金属卤化物灯(EYE GRAPHICS Co.,Ltd.制)照射照度190mW/cm²、照射量300mJ/cm²的紫外线而使涂布层固化。然后，放冷至室温而形成了垂直取向液晶层。

[化学式6]

(LC11)

将含有下述组成的棒状液晶化合物的涂布液在制作出的B1上调整为膜厚成为5μm并连续涂布于上述中制作出的液晶层(B1～B10、B12、B13、B15～B18)的表面。薄膜的输送速度(V)设为20m/min。为了涂布液的溶剂的干燥及棒状液晶化合物的取向熟化，利用85℃的温风加热了120秒钟。接着，在30℃下进行UV照射，将液晶化合物的取向固定化而形成了光学各向异性层。

此时，UV照射量设为300mJ/cm²。

[化学式7]

棒状液晶化合物201

棒状液晶化合物202

棒状液晶化合物203

表面活性剂2

表面活性剂3

涂布液的粘度测定

对于上述中制作出的B1～B10、B12、B13、B15～B18及HC1、HC2、HC4～6制作用涂布液，使用SEKONIC CORPORATION制的Vm-100(振动式粘度计)测定了粘度。B12用涂布液中为31mPa·s的测定值，B13用涂布液中为28mPa·s的测定值。其他涂布液全部都在1.5～10mPa·s的范围内。

对于制作出的光学薄膜，按以下基准进行了评价。将结果示于表1。

＜凹陷＞

计数在各实施例及比较例的薄膜15cm×20cm中使用各组合物形成的层的凹陷的个数。在此，在下层的表面中未形成有上层的区域作为凹陷。根据其结果，按以下基准进行了评价。

A：凹陷为1个以下

B：凹陷超过1个且5个以下

C：凹陷超过5个

若评价基准为A或B，则生产效率优异，可以优选使用，更优选评价基准为A。

＜面状＞

关于涂布后的层，用肉眼确认了面状。将使用B18的比较例作为“基准”并评价为D而进行了评价。

A：为不存在干燥不均匀或褶皱的面状

B：稍微观察到干燥不均匀，但可以没有问题地进行使用

C：与B相比干燥不均匀或凹凸较多，但可以没有问题地进行使用

D：观察到由干燥不均匀而引起的明显的凹凸，不适合使用

＜取向＞

关于液晶取向性的优劣，根据通过偏振显微镜观察膜时的取向缺陷的有无，按照以下基准来确定优劣。优选为评价基准A～C中的任一评价。若评价基准为A或B，则生产效率优异，可以优选使用，评价基准更优选为A。

A：不存在取向不良

B：几乎不存在取向不良

C：一部分观察到稍微的取向不良

D：在整个面上存在取向不良

Claims

1.一种光学功能性层制作用组合物，其粘度为0.3～30.0mPa·s，

且含有溶剂和光学功能性成分，所述光学功能性成分含有选自由聚合性化合物及聚合物构成的组中的1种以上的化合物，

所述溶剂为表面张力为10～22mN/m的低表面张力溶剂与表面张力大于22mN/m的标准表面张力溶剂的混合溶剂，低表面张力溶剂相对于所述溶剂总量的含量为5质量％～40质量％，

所述标准表面张力溶剂的沸点低于所述低表面张力溶剂的沸点。

2.根据权利要求1所述的光学功能性层制作用组合物，其中，

所述低表面张力溶剂为叔丁醇。

3.根据权利要求1或2所述的光学功能性层制作用组合物，其中，

所述光学功能性成分含有聚合性化合物。

4.根据权利要求3所述的光学功能性层制作用组合物，其中，

所述光学功能性成分含有聚合性液晶化合物。

5.一种光学薄膜的制造方法，其包含如下步骤：

在支撑体上涂布权利要求1至4中任一项所述的光学功能性层制作用组合物而得到涂膜；及干燥所述涂膜而在所述支撑体上形成光学功能性层1。

6.一种光学薄膜的制造方法，其包含如下步骤：

在支撑体上涂布权利要求3或4所述的光学功能性层制作用组合物而得到涂膜；干燥所述涂膜；及对已干燥的所述涂膜实施固化反应而在所述支撑体上形成光学功能性层1。

7.根据权利要求5或6所述的制造方法，其包含如下步骤：

在光学功能性层1的表面涂布含有光学功能性成分和溶剂的组合物2而得到涂膜，所述光学功能性成分含有选自由聚合性化合物及聚合物构成的组中的1种以上的化合物；及通过包含干燥所述涂膜的步骤的方法来形成层2。

8.根据权利要求7所述的制造方法，其中，

组合物2含有聚合性化合物，

所述制造方法包含在形成层2时对已干燥的所述涂膜实施固化反应的步骤。

9.根据权利要求7所述的制造方法，其中，

组合物2为权利要求1至4中任一项所述的光学功能性层制作用组合物。

10.一种光学薄膜，其包含由权利要求1至4中任一项所述的光学功能性层制作用组合物的涂膜形成的光学功能性层1。

11.一种光学薄膜，其通过权利要求5或6所述的方法而得到，且包含支撑体及光学功能性层1。

12.根据权利要求10或11所述的光学薄膜，其中，

光学功能性层1为将胆甾醇型液晶相固定而成的层。

13.一种光学薄膜，其为通过权利要求7至9中任一项所述的方法而得到的光学薄膜，且依次包含支撑体、光学功能性层1及层2。

14.根据权利要求13所述的光学薄膜，其中，

选自由光学功能性层1及层2构成的组中的1层以上为将胆甾醇型液晶相固定而成的层。

15.根据权利要求13或14所述的光学薄膜，其中，

光学功能性层1及层2中的任一个为通过含有聚合性的棒状液晶化合物的组合物的固化而形成的层，另一个为通过含有聚合性的圆盘状液晶化合物的组合物的固化而形成的层。