CN106455898A - 具有自动化除渣系统的器皿清洗机 - Google Patents

Abstract

一种器皿清洗机(10)包含位于清洗区内以捕获朝向水箱(30)向下掉落的残渣碎屑的残渣减少装置(100)。残渣减少装置被配置成当清洗区内的液体喷洒停止时自动地将所捕获的残渣碎屑远离水箱传送。

Description

具有自动化除渣系统的器皿清洗机

技术领域

本申请总的来说涉及在诸如自助餐厅和餐馆的商业应用中使用的器皿清洗机系统，并且更具体地涉及一种有助于从这样一种器皿清洗机中的清洗区移除碎屑的自动化除渣系统(scrapping system)。

背景技术

商用器皿清洗机通常包含壳体区域，该壳体区域限定用于碗碟、罐子、平底锅和其它器皿的清洗区和漂洗区。在直通(pass through)或连续式机器的预清洗区、清洗区和后清洗区中，水通常是从水箱通过泵入口被泵送、经由喷洒操作而被传送到器皿并被收集在水箱以便再用。类似的再循环系统也被用于间歇式(batch-type)机器中。在任一情况中，来自器皿的食物碎屑通常向下掉落到水箱中，并且可在水箱中堆积到不期望的水平。其它类型的残渣也可落到水箱中。碎屑捕捉筐已被并入到水箱中以便降低水箱中的残渣碎屑水平，但对于先前的筐装置来说，整个机器必须停机以便能够手动移除并清空筐。

希望提供一种自动地移除残渣碎屑的装置。

发明内容

一种残渣减少装置可被配置成当清洗区内的液体喷洒停止时，自动地将所捕获的食物碎屑或其它残渣碎屑或物质(餐巾纸、吸管等)远离水箱传送。

在一个方面中，一种用于清洗器皿的器皿清洗机包含用于接收器皿的腔室，所述腔室具有至少一个清洗区，所述至少一个清洗区包含用于收集清洗区的喷洒的液体的水箱以及用于将液体从水箱移动到清洗区的喷洒装置的液体再循环系统。残渣减少装置位于清洗区内以捕获朝向水箱向下掉落的残渣碎屑。残渣减少装置被配置成当清洗区内的液体喷洒停止时自动地将所捕获的残渣碎屑远离水箱传送。

在一个实施方案中，器皿清洗机是连续式器皿清洗机，其中清洗区位于最终漂洗区的上游，并且器皿清洗机包含用于在输送方向上将器皿从清洗区到最终漂洗区移动穿过腔室的输送机。

在一个实施方案中，当清洗区中的液体喷洒停止时，清洗区中的水条件引起所捕获的残渣碎屑沿着清除流动通道远离水箱的冲洗。

在一个实施方案中，残渣减少装置包含处于清洗区中的残渣收集空间以及从残渣收集空间远离清洗区延伸的清除流动通道。当清洗区内的液体喷洒停止时，悬水返回到水箱引起水箱的水位的上升从而在残渣收集空间中产生引起从残渣收集空间沿着清除流动通道进行的冲洗操作的水头压力。

在一个实施方案中，清除流动通道通往清洗区外部的隔室。隔室包含用于捕获所冲洗的残渣碎屑的过滤器以及允许所冲洗的液体被排出的排出出口。

在一个实施方案中，残渣收集空间包含冲洗出口，其中清除流动通道从所述冲洗出口延伸。清除流动通道的至少一部分向上延伸以使得清除流动通道的部分高于冲洗出口。

在一个实施方案中，残渣减少装置包含：残渣收集桶，其中残渣碎屑由向下掉落到水箱中的水流引导到残渣收集桶，所述残渣收集桶包含与水箱流体连通的筛选部分。流动通道从残渣收集桶的下部部分远离水箱延伸，所述流动通道被配置成使得(i)在清洗区内的液体再循环和喷洒期间，水箱中的水位低于迫使所捕获的残渣碎屑沿着流动通道行进的水平；并且(ii)在清洗区内的液体再循环和喷洒停止时，水箱中的水位上升到产生水头压力以迫使捕获残渣碎屑和水沿着流动通道移动的水平。

在一个实施方案中，流动通道被配置成使得在清洗区内的液体再循环和喷洒停止时，水箱中的水位上升到引起沿着流动通道的冲洗操作的水平。

在一个实施方案中，流动通道延伸到残渣收集容器。残渣收集容器挡住残渣碎屑但允许液体移动到排出路径。残渣收集容器包含可移除的过滤器。

在一个实施方案中，控制器被配置成基于以下各种情况中的一种或更多种来至少暂时停止清洗区中的液体再循环和喷洒：(i)定时基础和/或(ii)在腔室中不存在器皿的检测和/或(iii)在残渣收集桶内碎屑的检测。

在另一方面中，一种用于清洗器皿的器皿清洗机包含用于接收器皿的腔室，所述腔室包含用于收集清洗区的喷洒的液体的水箱以及用于将液体从水箱移动到清洗区的喷洒装置的液体再循环系统。残渣减少装置位于清洗区内以捕获朝向水箱向下掉落的残渣碎屑。残渣减少装置包含残渣收集空间，其中所述残渣收集空间定位在水箱中并且掉落的残渣碎屑被引导到所述残渣收集空间中。残渣收集空间包含出口开口，其中清除流动通道从出口开口延伸到清洗区外部的位置。清除流动通道的至少一部分向上延伸以使得清除流动通道的一部分高于出口开口。

在一个实施方案中，出口开口位于水箱在清洗区中的液体再循环和喷洒期间存在的正常水位之下，并且清除流动通道的所述一部分高于正常水位。

在又一方面中，一种捕获并清除来自器皿清洗机的清洗区的残渣碎屑的方法包括：使清洗液体从清洗区的水箱再循环到清洗区的喷洒喷嘴，以便朝向清洗区中的器皿喷洒清洗液体；将从器皿掉落的残渣碎屑朝向水箱内的残渣收集空间引导并引导到残渣收集空间中，所述残渣收集空间包含至少一些筛选材料以保持与水箱流体连通，所述残渣收集空间包含残渣清除流动通道；至少暂时停止清洗液体的再循环，使清洗区中的水条件改变以便沿着残渣清除流动通道移动残渣收集空间中的残渣碎屑。

在所述方法的一个实施方案中，在停止清洗液体的再循环时，水箱中的水位上升到产生水头压力以迫使残渣收集空间中的残渣碎屑和水沿着残渣清除流动通道移动的水平。

在所述方法的一个实施方案中，引导步骤利用被配置成捕捉残渣碎屑并将残渣碎屑朝向残渣收集空间的上开口引导的上部筛选材料。

在所述方法的一个实施方案中，残渣清除流动通道被配置成使得在停止清洗液体的再循环时，水箱中的水位上升到引起沿着残渣清除流动通道的冲洗操作水平，所述冲洗操作包括沿着残渣清除流动通道的暂时虹吸流，直到水箱中的水位下降到中断虹吸效应的水平为止。

在所述方法的一个实施方案中，残渣清除流动通道包含指向上的部分并且延伸到清洗区外部的残渣收集容器。

在所述方法的一个实施方案中，外部残渣收集容器挡住残渣碎屑但允许液体移动到排出路径。

在所述方法的一个实施方案中，外部残渣收集容器包含可被移除以用于处理所收集的残渣碎屑的过滤器。

一个或更多个实施例的细节阐述在附图和下文描述中。其它特征、目标和优点将从描述和附图以及权利要求书变得明显。

附图说明

图1是器皿清洗机的一个实施例的示意性立视图；

图2是器皿清洗机的残渣减少装置的一个实施例的部分示意图；

图3是包含残渣减少装置的清洗室的部分透视图；

图4是残渣收集桶的透视图；以及

图5是残渣减少装置的组件的透视图。

具体实施方式

参照图1，示出大体上表示为10的示例性输送机式的器皿清洗系统。器皿清洗系统10可从输入侧16接收脏器皿14的支架12，其中支架12通过合适的输送机机构20而从输入侧朝向器皿清洗系统的相反端处的烘干机单元18(任选的)移动穿过隧道状腔室。根据例如器皿清洗系统10的式样、型号和大小可使用连续或间歇移动的输送机机构或其组合。其中不使用支架的长龙式(flight-type)输送机也是可能的。在示出的实例中，脏器皿14的支架12通过柔性挡帘22进入器皿清洗系统10而到预清洗室或预清洗区24中，其中来自分别位于支架的上方和下方的上预清洗歧管26和下预清洗歧管28的液体喷剂作用于冲洗来自器皿的较重的污物。用于此目的液体经由泵32和供应导管34而来自水箱30。排出系统36提供液体使用泵32而从水箱30被泵送的单个位置。液体可经由排出路径36而从水箱排出，例如用于进行水箱清洁操作。

支架向下一个挡帘38行进而进入主清洗室或主清洗区40中，其中器皿分别通过喷洒喷嘴47和49经受来自上清洗歧管42和下清洗歧管44的清洁液体的喷剂，这些喷剂是由从主水箱50抽吸的泵48通过供应导管46被供应的。加热器58，比如设有适当恒温控制装置(未示出)的浸没式电加热器，将水箱50中的清洁液体的温度维持在适当水平。未示出但可被包括的是用于将清洁洗涤剂添加到主水箱50中的液体的装置。在正常操作期间，一旦器皿清洗系统10被启动了一段时间，泵32和48就通常由单独的电机连续地驱动。

器皿清洗系统10可选地包含基本上与主清洗室40相同的强力漂洗(也被称为后清洗)室或强力漂洗区(未示出)。在此情形下，器皿的支架从清洗室40行进到强力漂洗室中，在强力漂洗室内，加热的漂洗水从上歧管和下歧管喷洒到器皿上。

器皿14的支架12通过挡帘52离开主洗室40而进入最终漂洗室或最终漂洗区54中。最终漂洗室54设有上喷洒头56和下喷洒头57，其中上喷洒头56和下喷洒头57在螺线管阀62的控制下经由管60而被供应热清水流。当器皿14的支架12定位在最终漂洗室54中时，支架检测器64被致动，并且通过适当的电气控制装置，检测器使得螺线管阀62的致动打开并且准许热漂洗水进入喷洒头56、57。然后，水从器皿排出到水箱50中。器皿14的已漂洗的支架12随后通过挡帘66离开最终漂洗室54，移动进入到烘干机单元18中。

如图1所示，器皿清洗机包含与清洗区24和水箱30相关联的残渣减少装置100。虽然残渣减少装置预期主要用于所示的预清洗区中，但其也可并入到机器的主清洗区中，或者如果需要可用于机器的其它区中。

现参照图2到图5，示出残渣减少装置100的示例性实施方案。残渣减少装置100包含残渣收集空间80，其中食物和其它残渣碎屑由向下落入水箱30中的水流引导到该残渣收集空间80中(例如，根据箭头82)。出于此目的(例如，在令水进入水箱的同时捕获碎屑，并且使碎屑能够流动到残渣收集空间80的上开口104中)，可使用具有或不具有一些过滤器部分的环绕盘102。残渣收集空间80可由残渣收集桶80a限定，其中残渣收集桶的上部部分84包含由筛选材料形成的侧面，该筛选材料使得实现了在空间80与水箱30之间的流体流通，从而允许水从空间80移动到水箱。桶的下部部分86包含实心壁，因为那是食物和其它残渣碎屑主要集中的地方。

桶80a在下部部分86中包含出口开口106，并且出口开口106与水箱30的侧壁中的开口108对准。清除流动通道88(例如，部分由管/管子88a形成)从残渣收集桶的开口106延伸到远离水箱并离开清洗区的位置。在此状况下，管子88a延伸到器皿清洗机的主壳体110外部的到该壳体内的腔室外部的残渣收集容器90中的位置。外部残渣收集容器90挡住食物碎屑，但允许液体移动到排出路径(例如，经由排出管子92)。外部残渣收集容器90可包含可移除过滤器94，以使得人员可偶尔移除滤网并将所收集的食物碎屑清空到垃圾或其它处理单元中。值得注意的是，这可在不将器皿清洗机停机的情况下进行。

从残渣收集空间80起始的清除流动通道88被配置成使得在液体在清洗区内再循环和喷洒期间，水箱30中的正常操作水位112低于迫使所收集的食物碎屑沿着流动通道88的水平。具体来说，清除流动通道的至少一部分如图所示向上延伸，以使得清除流动通道的部分(例如，部分88b)高于出口开口106与正常操作水位112这两者。然而，在清洗区内的液体再循环和喷洒停止时，下落的悬液(例如，其可以是约3到6加仑或更多)不仅将盘102上的碎屑推到开口104中，而且使水箱30中的水位上升到较高的水平，该较高的水平产生足够的水头压力以迫使所收集的食物和其它残渣碎屑以及水沿着流动通道88移动。具体来说，水箱中的水位上升到高于最高流动通道部分88b的水平114。因此，水箱中的水位上升到使冲洗操作沿着清除流动通道88发生的水平。

在一些实施例中，冲洗操作可沿着清除流动通道88产生暂时虹吸效应(例如，由下落的液体柱在管子88a的远端引起的抽吸)。在其它实施例中，仅仅是进入残渣收集的悬水的大量急流沿着通道冲洗碎屑直到残渣收集空间内的水位降低到最高流动通道部分88b以下，其中会产生极小虹吸效应或不产生虹吸效应。

当清洗区中的再循环再次开始时，水箱水位将再次下降到该水位以下的水平并保持在该水平，该水平引起冲洗。水箱中的水位的补充(replenishing)可通过在喷洒之后被引导到水箱的最终漂洗水流和/或通过单独的补充路径来实现。

各种技术可用于开始冲洗操作。例如，控制器可被配置成基于以下各种情况中的一种或更多种来至少暂时停止清洗区中的液体再循环和喷洒：(i)定时基础(a timedbasis)(例如，每3到10分钟)和/或(ii)器皿在腔室中不存在的检测(例如，基于机器的一个或更多个支架检测器)和/或(iii)在残渣收集桶内的碎屑的检测。

应清楚地理解，上文的描述仅预期通过说明和示例的方式作出，而不被视为限制性的，并且改变和修改是可能的。因此，预期到其它实施例，并且在不偏离本申请的范围的情况下可进行修改和改变。例如，虽然在图1中示出输送机式机器，但残渣减少装置可实施在其它机器上。器皿清洗机基于操作模式而被分类为两种类型(即，间歇式或连续式)，并且此概念适用于两种机器类型。在间歇式机器的状况下，机器的清洗室形成清洗区，并且清洗室的底部处的贮槽形成水箱，而残渣减少装置将位于此处。

Claims (20)

1.一种用于清洗器皿的器皿清洗机，包括：

用于接收器皿的腔室，所述腔室具有至少一个清洗区，所述至少一个清洗区包含水箱和液体再循环系统，所述水箱用于收集所述清洗区的被喷洒的液体，所述液体再循环系统用于将液体从所述水箱移动到所述清洗区的喷洒装置；

位于所述清洗区内的残渣减少装置，用于捕获朝向所述水箱向下掉落的残渣碎屑，所述残渣减少装置被配置成当在所述清洗区内的液体喷洒停止时，自动地将所捕获的残渣碎屑远离所述水箱传送。

2.根据权利要求1所述的器皿清洗机，其中所述清洗区位于最终漂洗区的上游，所述器皿清洗机包含用于在输送方向上将器皿从所述清洗区到所述最终漂洗区移动穿过所述腔室的输送机。

3.根据权利要求1所述的器皿清洗机，其中当所述清洗区中的液体喷洒停止时，所述清洗区中的水条件引起所捕获的残渣碎屑沿着清除流动通道远离所述水箱的冲洗。

4.根据权利要求1所述的器皿清洗机，其中所述残渣减少装置包含处于所述清洗区中的残渣收集空间以及从所述残渣收集空间远离所述清洗区延伸的清除流动通道，并且当所述清洗区内的液体喷洒停止时，悬水返回到所述水箱引起所述水箱的水位的上升从而在所述残渣收集空间中产生引起从所述残渣收集空间沿着所述清除流动通道进行的冲洗操作的水头压力。

5.根据权利要求4所述的器皿清洗机，其中所述清除流动通道通往所述清洗区外部的隔室，所述隔室包含用于捕获所冲洗的残渣碎屑的过滤器以及允许所冲洗的液体被排出的排出出口。

6.根据权利要求4所述的器皿清洗机，其中所述残渣收集空间包含冲洗出口，所述清除流动通道从所述冲洗出口延伸，并且所述清除流动通道的至少一部分向上延伸以使得所述清除流动通道的部分高于所述冲洗出口。

7.根据权利要求1所述的器皿清洗机，其中所述残渣减少装置包含：

残渣收集桶，其中残渣碎屑被下落到所述水箱中的水流引导到所述残渣收集桶，所述残渣收集桶包含与所述水箱流体连通的筛选部分；

流动通道，所述流动通道从所述残渣收集桶的下部部分远离所述水箱延伸，所述流动通道被配置成使得(i)在所述清洗区内的液体再循环和喷洒期间，所述水箱中的水位低于迫使所捕获的残渣碎屑沿着所述流动通道的水平；并且(ii)在所述清洗区内的液体再循环和喷洒的停止时，所述水箱中的所述水位上升到产生水头压力以迫使捕获残渣碎屑和水沿着所述流动通道移动的水平。

8.根据权利要求7所述的器皿清洗机，其中所述流动通道被配置成使得在所述清洗区内的液体再循环和喷洒停止时，所述水箱中的所述水位上升到引起沿着所述流动通道的冲洗操作的水平。

9.根据权利要求7所述的器皿清洗机，其中所述流动通道延伸到挡住残渣碎屑但允许液体移动到排出路径的残渣收集容器。

10.根据权利要求9所述的器皿清洗机，其中所述残渣收集容器包含可移除的过滤器。

11.根据权利要求1所述的器皿清洗机，还包括：

控制器，被配置成基于以下各种情况中的一种或更多种来至少暂时停止所述清洗区中的液体再循环和喷洒：(i)定时基础和/或(ii)在所述腔室中不存在器皿的检测和/或(iii)在所述残渣收集桶内碎屑的检测。

12.一种用于清洗器皿的器皿清洗机，包括：

用于接收器皿的腔室，所述腔室具有至少一个清洗区，所述至少一个清洗区包含用于收集所述清洗区的喷洒的液体的水箱以及用于将液体从所述水箱移动到所述清洗区的喷洒装置的液体再循环系统；

位于所述清洗区内的残渣减少装置，用于捕获朝向所述水箱向下掉落的残渣碎屑，所述残渣减少装置包含残渣收集空间和清除流动通道，所述残渣收集空间定位在所述水箱中并且掉落的残渣碎屑被引导到所述残渣收集空间中，所述残渣收集空间包含出口开口，所述清除流动通道从所述出口开口延伸到所述清洗区外部的位置，其中所述清除流动通道的至少一部分向上延伸以使得所述清除流动通道的一部分高于所述出口开口。

13.根据权利要求12所述的器皿清洗机，其中所述出口开口位于所述水箱在所述清洗区中的液体再循环和喷洒期间存在的正常水位之下，并且所述清除流动通道的所述一部分高于所述正常水位。

14.一种捕获并清除来自器皿清洗机的清洗区的残渣碎屑的方法，所述方法包括：

使清洗液体从所述清洗区的水箱再循环到所述清洗区的喷洒喷嘴，以便朝向所述清洗区中的器皿喷洒所述清洗液体；

将从器皿掉落的残渣碎屑朝向所述水箱内的残渣收集空间引导并引导到所述残渣收集空间中，所述残渣收集空间包含至少一些筛选材料以保持与所述水箱流体连通，所述残渣收集空间包含残渣清除流动通道；

至少暂时停止清洗液体的所述再循环，使所述清洗区中的水条件改变以便沿着所述残渣清除流动通道移动所述残渣收集空间中的残渣碎屑。

15.根据权利要求14所述的方法，其中在停止清洗液体的所述再循环时，所述水箱中的水位上升到产生水头压力以迫使所述残渣收集空间中的残渣碎屑和水沿着所述残渣清除流动通道移动的水平。

16.根据权利要求15所述的方法，其中引导步骤利用上部筛选材料，所述上部筛选材料被配置成捕捉残渣碎屑并朝向所述残渣收集空间的上开口引导残渣碎屑。

17.根据权利要求15所述的方法，其中所述残渣清除流动通道被配置成使得在停止清洗液体的所述再循环时，所述水箱中的所述水位上升到引起沿着所述残渣清除流动通道的冲洗操作的水平，所述冲洗操作包括沿着所述清除流动通道的暂时虹吸流，直到所述水箱中的所述水位下降到中断虹吸效应的水平为止。

18.根据权利要求14所述的方法，其中所述残渣清除流动通道包含指向上的部分并且延伸到所述清洗区外部的残渣收集容器。

19.根据权利要求18所述的方法，其中所述外部残渣收集容器挡住残渣碎屑但允许液体移动到排出路径。

20.根据权利要求19所述的方法，其中外部的残渣收集容器包含过滤器，所述过滤器可被移除以处理所收集的残渣碎屑。