CN106391358A - 涂布装置及涂布方法 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种涂布装置及涂布方法，抑制在输送至喷嘴的涂布液中含有异物及气体成分而将涂布液良好地涂布于基板上。涂布装置是将涂布液涂布于基板上，包括：蓄积部，蓄积涂布液；喷嘴，向基板喷出涂布液；配管，使涂布液从蓄积部流通至喷嘴；泵，插设于配管而将涂布液输送至喷嘴；过滤器，插设于蓄积部与泵之间的配管而去除从蓄积部供给的涂布液中存在的异物；以及第1脱气部，插设于过滤器与泵之间的配管而从已穿过过滤器的涂布液中去除气泡。

Description

涂布装置及涂布方法

技术领域

本发明涉及一种涂布装置及涂布方法，将涂布液，特别是高粘度溶液，涂布于液晶显示装置用玻璃基板、半导体晶片、等离子显示面板(plasmadisplay panel，PDP)用玻璃基板、光掩模(photomask)用玻璃基板、彩色滤光片用基板、记录磁盘用基板、太阳能电池用基板、电子纸(electronic paper)用基板等精密电子装置用基板(以下，简称作“基板”)上。

背景技术

以前，在所述精密电子装置用基板的制造步骤中，是使用将涂布液涂布于基板的表面上的涂布装置。例如在专利文献1所述的涂布装置中，是将蓄积于蓄积槽中的涂布液经由过滤器(filter)输送至泵(pump)，利用过滤器将涂布液中存在的颗粒(particle)、杂质、凝胶(是涂布液中的分散质粒子的胶体(colloid)，是失去流动性而成为固体状的物质)等异物加以去除(过滤处理)。并且，利用泵将已穿过过滤器的涂布液输送至狭缝喷嘴。由此，从狭缝喷嘴的喷出口将涂布液向基板的表面喷出，而涂布于基板的表面上。由此，在基板的表面上形成涂布液的膜。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2015-66482号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

然而，当涂布液穿过过滤器时，会产生过滤器成为阻力而使过滤器入口的压力与过滤器出口的压力之间产生差的所谓过滤器压力损失。所述过滤器压力损失的值伴随着涂布液的粘度上升而升高。因此，为了使高粘度的涂布液从狭缝喷嘴的喷出口以所需的流量喷出，需要以高于使低粘度的涂布液喷出时的压力将涂布液输送至过滤器。其结果使得空气等气体成分容易溶解于涂布液中，这成为所谓“起泡”的主要因素。如果产生所述“起泡”，则难以从狭缝喷嘴的喷出口均匀地喷出涂布液，从而存在使涂布膜的均匀性下降的情况。

本发明是鉴于所述问题而完成，目的在于提供一种涂布装置及涂布方法，可抑制输送至喷嘴的涂布液中含有异物及气体成分而将涂布液良好地涂布于基板上。

[解决问题的技术手段]

本发明的一形态是一种涂布装置，将涂布液涂布于基板上，所述涂布装置包括：蓄积部，蓄积涂布液；喷嘴，向基板喷出涂布液；配管，使涂布液从蓄积部流通至喷嘴；泵，插设于配管而将涂布液输送至喷嘴；过滤器，插设于蓄积部与泵之间的配管而去除从蓄积部供给的涂布液中存在的异物；以及第1脱气部，插设于过滤器与泵之间的配管而从已穿过过滤器的涂布液中去除气泡。

并且，本发明的另一形态是一种涂布方法，包括如下步骤：使从蓄积部供给的涂布液穿过过滤器而去除涂布液中存在的异物；从已穿过过滤器的涂布液中去除气泡；以及将经过滤器去除气泡的涂布液输送至喷嘴，并将涂布液从喷嘴喷出并涂布于基板上。

[发明的效果]

如以上所述，根据本发明，从已穿过过滤器的涂布液中去除气泡之后，利用泵将所述涂布液输送至喷嘴，因此可抑制输送至喷嘴的涂布液中含有异物及气体成分。其结果为，可将涂布液良好地涂布于基板上。

附图说明

图1是表示本发明的涂布装置的第1实施方式的立体图。

图2A是狭缝喷嘴的立体图。

图2B是表示图2A所示的狭缝喷嘴的内部的流路的图。

图3是表示将涂布液供给至图2A所示的狭缝喷嘴的供给机构的构成的图。

图4是表示用于对图1所示的涂布装置的供给机构进行控制的电气构成的框图。

图5是示意性地表示图1所示的涂布装置中的供给机构的动作的图。

图6是示意性地表示本发明的涂布装置的第2实施方式中的供给机构的动作的图。

图7是示意性地表示本发明的涂布装置的第3实施方式中的供给机构的动作的图。

图8是示意性地表示本发明的涂布装置的第4实施方式中的供给机构的动作的图。

附图标记：

1：涂布装置

2：狭缝喷嘴

3：基板

4：平台

5：涂布处理部

8：控制部

9：供给机构

21：喷嘴主体

22：供给口

23：喷出口

24：排出口

31：(基板3的)表面

41：保持面

51：喷嘴支撑体

51a：固定构件

51b：升降机构

52：导轨

53：狭缝喷嘴移动部

54：线性马达

54a：定子

54b：动子

55：线性编码器

55a：刻度部

55b：检测部

81：CPU

82：ROM

83：RAM

84：固定磁盘

91：供给储槽(蓄积部)

92、92a、92b：缓冲储槽(第1脱气部)

93、93a、93b：捕集储槽(第2脱气部)

94：送液泵

95：供给配管系统

96：压缩空气供给源

97：过滤器

98：排放储槽

99：真空泵

111～114：送液用阀

121：三通阀

122、123：手动阀

124～127：供给用阀

131～133：减压用阀

210：流路

211、212：喷嘴构件

213、214：侧板

911：腔室

921：搅拌器

922：搅拌器驱动马达

951～958：配管

AR1：喷嘴调整区

具体实施方式

图1是表示本发明的涂布装置的第1实施方式的立体图。再者，在图1及后续的各图中为了使它们的方向关系明确，适当地标注有将Z方向设为垂直方向，将XY平面设为水平面的XYZ正交坐标系。并且，为了容易理解，根据需要将各部的尺寸或数量加以夸张或简化而描述。

涂布装置1是使用狭缝喷嘴2将涂布液涂布于基板3的表面上的被称作狭缝涂布机(slit coater)的涂布装置。涂布装置1可使用抗蚀液(resist liquid)、彩色滤光片用液、包含聚酰亚胺、硅、纳米金属油墨、导电性材料的浆料(slurry)等各种涂布液作为其涂布液。并且，关于成为涂布对象的基板3，也可以应用矩形玻璃基板、半导体基板、薄膜液晶用柔性基板、光掩模用基板、彩色滤光片用基板、太阳能电池用基板、有机电致发光(electroluminescence，EL)用基板等各种基板。涂布装置1特别适合将高粘度的液体用作涂布液。再者，本说明书中的所谓“高粘度”，是指0.5[Pa·s]～30[Pa·s]，以下对将高粘度的涂布液涂布于矩形的玻璃基板(以下，称作“基板3”)上的涂布装置1进行说明。并且，在本说明书中，所谓“基板3的表面31”，是指基板3的两主面之中涂布了涂布液一侧的主面。

涂布装置1包括：平台4，能够以水平姿态吸附保持基板3；涂布处理部5，在保持于平台4上的基板3上使用狭缝喷嘴2来实施涂布处理；喷嘴洗涤装置(省略图示)，在涂布处理之前对狭缝喷嘴2实施洗涤处理；预分配(predispense)装置(省略图示)，在涂布处理之前对狭缝喷嘴2实施预分配处理；以及控制部8，对所述各部进行控制。

狭缝喷嘴2包含沿X方向延伸的长条状的开口部即喷出口。并且，狭缝喷嘴2能够从喷出口向保持于平台4上的基板3的表面31喷出涂布液。再者，关于狭缝喷嘴2的构成将在后文中详细说明。

平台4包含具有大致长方体的形状的花岗岩等石材，在其上表面(+Z侧)之中-Y侧，包含加工成大致水平的平坦面而保持基板3的保持面41。在保持面41上分散地形成有未图示的多个真空吸附口。通过利用这些真空吸附口吸附基板3，而在涂布处理时使基板3以大致水平状态保持于规定的位置上。再者，基板3的保持形态并不限定于此，例如还可以构成为以机械方式保持基板3。

并且，在平台4上在比保持面41所占的区域更靠+Y侧的位置，设置有喷嘴调整区AR1，在喷嘴调整区AR1中，在+Y侧配置有喷嘴洗涤装置，在-Y侧配置有预分配装置。

在本实施方式的涂布装置1中，在涂布处理部5上设置有使狭缝喷嘴2沿Y方向移动的移动机构，使狭缝喷嘴2在保持面41的上方与喷嘴调整区AR1的上方之间进行往返移动。并且，在使狭缝喷嘴2移动至喷嘴调整区AR1的上方的期间，即，在平台4上在保持面41所占的区域的上方没有狭缝喷嘴2的期间，在平台4上进行在涂布处理后搬出先行基板3以及在涂布处理前搬入后续基板3的操作。另一方面，在狭缝喷嘴2在保持面41的上方移动的期间将涂布液涂布于所述保持面41上的基板3的表面31上。

涂布处理部5的移动机构主要包括：桥梁(bridge)构造的喷嘴支撑体51，沿X方向横越平台4的上方而对狭缝喷嘴2进行支撑；以及狭缝喷嘴移动部53，使喷嘴支撑体51及支撑于所述喷嘴支撑体51上的狭缝喷嘴2沿在Y方向上延伸的一对导轨(guide rail)52进行水平移动。所述喷嘴支撑体51包括：固定构件51a，对狭缝喷嘴2进行固定；以及两个升降机构51b，对固定构件51a进行支撑并且使其升降。再者，固定构件51a包括以X轴方向为长边方向的碳纤维(carbon fiber)强化树脂等剖面为矩形的棒状构件。

两个升降机构51b与固定构件51a的长边方向的两端部连结，分别包括交流电(alternating current，AC)伺服马达(servo motor)及滚珠螺杆(ball screw)等。利用这些升降机构51b，使固定构件51a及固定于所述固定构件51a上的狭缝喷嘴2沿垂直方向(Z轴方向)升降，对狭缝喷嘴2的喷出口与基板3的间隔，即，对喷出口相对于基板3的相对高度进行调整。再者，固定构件51a的垂直方向上的位置例如是由省略图示的线性编码器(linear encoder)来检测，所述线性编码器包括设置于升降机构51b的侧面的省略图示的刻度(scale)部、以及与所述刻度部相对向而设置于狭缝喷嘴2的侧面等的省略图示的检测传感器。

如上所述而构成的喷嘴支撑体51如图1所示，具有沿X轴方向架设于平台4的左右两端部且跨越保持面41的架桥构造。狭缝喷嘴移动部53作为相对移动元件而发挥作用，所述相对移动元件是使作为所述架桥构造体的喷嘴支撑体51以及固定保持于所述喷嘴支撑体51上的狭缝喷嘴2，相对于保持于平台4上的基板3沿Y轴方向相对移动。

狭缝喷嘴移动部53在±X侧分别包括：导轨52，沿Y轴方向引导狭缝喷嘴2的移动；线性马达54，作为驱动源；以及线性编码器55，用于检测狭缝喷嘴2的喷出口的位置。

两个导轨52分别在平台4的X轴方向上的两端部沿Y轴方向以包含从喷嘴洗涤位置(喷嘴洗涤装置的配设位置)至涂布结束位置(保持面41的-Y侧端部位置)的区间的方式延伸设置。因此，通过利用狭缝喷嘴移动部53沿所述两个导轨52对两个升降机构51b的下端部进行引导，而使狭缝喷嘴2在喷嘴洗涤位置和与保持于平台4上的基板3相对向的位置之间移动。

在本实施方式中，各线性马达54构成为包含定子(stator)54a及动子54b的AC无芯线性马达。定子54a沿Y轴方向设置于平台4的X轴方向上的两侧面。另一方面，动子54b固定设置于升降机构51b的外侧。线性马达54通过在所述定子54a与动子54b之间所产生的磁力而作为狭缝喷嘴移动部53的驱动源发挥作用。

并且，各线性编码器55分别包括刻度部55a及检测部55b。刻度部55a沿Y轴方向设置在固定设置于平台4上的线性马达54的定子54a的下部。另一方面，检测部55b固定设置于在升降机构51b上固定设置的线性马达54的动子54b的更外侧位置，与刻度部55a相对向而配置。线性编码器55基于刻度部55a与检测部55b的相对位置关系，检测Y轴方向上的狭缝喷嘴2的喷出口的位置。

图2A是狭缝喷嘴的立体图。图2B是表示图2A所示的狭缝喷嘴的内部的流路的图。狭缝喷嘴2包括使一对喷嘴构件211、喷嘴构件212与一对侧板(side plate)213、侧板214组合而成的喷嘴主体(nozzle body)21。更具体而言，如图2A所示，将一对喷嘴构件211、喷嘴构件212加以相互固定，并且在其左右的两端部安装一对侧板213、侧板214，由此形成在内部含有流路210的喷嘴主体21。再者，作为这些喷嘴构件211、喷嘴构件212及侧板213、侧板214的材料，例如可使用铝等金属。

并且，在各侧板213、侧板214上设置有供给口22，通过安装至一对喷嘴构件211、喷嘴构件212而形成有一对供给口22。并且，当将一对喷嘴构件211、喷嘴构件212加以相互固定时，在前方的喷嘴构件211的下端部与后方的喷嘴构件212的下端部之间，沿X方向形成有狭缝状的开口，其作为狭缝状的喷出口23而发挥作用。并且，在涂布装置1运转时，通过以下所说明的供给机构将涂布液从一对供给口22输送至喷嘴主体21内的流路210。并且，所述涂布液在流路210内流通，并从喷出口23向喷嘴主体21的下方喷出。

并且，喷嘴主体21如图2A、图2B所示包含一个排出口24。排出口24设置于喷嘴主体21的上表面。因此，例如即使在狭缝喷嘴2的内部存在气体成分，所述气体成分也会在狭缝喷嘴2的洗涤时，与清洗液一起从排出口24排出至狭缝喷嘴2的外部。

图3是表示将涂布液供给至图2A所示的狭缝喷嘴的供给机构的构成的图。在所述供给机构9中，通过配管将三种储槽(tank)(供给储槽91、缓冲储槽(buffer tank)92、捕集储槽(trap tank)93)及送液泵94加以连接。此处，在对供给机构9的各构成进行详细说明之前，简单地说明将预先蓄积于供给储槽91中的涂布液从狭缝喷嘴2喷出之前的路径。

在供给机构9中，利用配管951将供给储槽91与缓冲储槽92加以连接。并且，利用配管952将缓冲储槽92与捕集储槽93加以连接。在所述实施方式中，为了使节拍时间(takt time)缩短，并列设置有两个捕集储槽93(再者，为了对两个捕集储槽93进行区分，根据需要将其中一个称作“捕集储槽93a”，并且将另一个称作“捕集储槽93b”)。即，从缓冲储槽92延伸设置的配管952的前端部分支成两个，这些分支端部分别与捕集储槽93a、捕集储槽93b连接。并且，利用配管953将捕集储槽93a、捕集储槽93b与送液泵94加以连接，进而利用配管954将送液泵94与狭缝喷嘴2加以连接。在具有包含如上所述的配管951～配管954的供给配管系统95的实施方式中，将预先蓄积于供给储槽91中的涂布液经由缓冲储槽92及捕集储槽93(捕集储槽93a、捕集储槽93b)，进而通过送液泵94而压送至狭缝喷嘴2。由此，从狭缝喷嘴2的喷出口23喷出涂布液。

供给储槽91如图3所示，收容在具有气密性的腔室911内。所述腔室911通过配管955与压缩空气的供给源(以下称作“压缩空气供给源”)96连接。作为压缩空气供给源96，可使用加压泵，或使用设置涂布装置1的工厂的必需动力装置(necessary power)。

所述配管955的基端部与压缩空气供给源96连接。并且，配管955的前端部分支成四根，其中的一根分支端部延伸设置于收容在腔室911内的供给储槽91，并且在所述分支端部上插设有送液用阀111。因此，当根据来自控制部8的开闭命令打开送液用阀111时，将压缩空气供给至供给储槽91。受到压缩空气的按压力而将供给储槽91内的涂布液经由配管951向缓冲储槽92输送。

在配管951上，依此顺序从供给储槽91侧向缓冲储槽92侧插设有三通阀(three-way valve)121、手动阀122、过滤器97、手动阀123。在三通阀121上，相对于三个端口(port)之中的一个端口连接有排放储槽(drain tank)98，根据来自控制部8的切换命令将供给储槽91的连接目的地在缓冲储槽92及排放储槽98之间切换。例如，当在供给储槽91中蓄积有对涂布处理而言充分的量的涂布液时，将供给储槽91的连接目的地切换至缓冲储槽92侧。然后，在手动阀122、手动阀123经打开的状态下，对供给储槽91供给压缩空气，由此将涂布液经由三通阀121、手动阀122、过滤器97、手动阀123输送至缓冲储槽92。这时，利用过滤器97去除涂布液中所含的异物(过滤处理)。

另一方面，当供给储槽91中的涂布液的蓄积量变少，需要更换储槽时，通过来自控制部8的切换命令而将供给储槽91的连接目的地切换至排放储槽98侧。这时，一方面在配管951之中比三通阀121更靠缓冲储槽92侧的位置上维持填充有涂布液的状态，另一方面在供给储槽91侧则伴随着储槽的更换而暴露于大气中。并且，在刚更换储槽之后，一方面在配管951之中比三通阀121更靠缓冲储槽92侧的位置上维持填充有涂布液的状态，另一方面在供给储槽91侧的配管951内存在空气。因此，当维持着所述状态使供给储槽91的连接目的地返回至供给储槽91侧，而再次开始向缓冲储槽92输送涂布液时，会将所述空气与涂布液一同输送至过滤器97。过滤器97如众所周知般包含具有小于异物的微细孔的网眼(mesh)构件，如上所述，一部分空气附着于过滤器97的网眼构件从而有可能导致过滤性能下降。因此，在本实施方式中，将在更换储槽时混入至配管951中的空气排出至排放储槽98之后，使供给储槽91的连接目的地返回至供给储槽91侧，而再次开始向缓冲储槽92输送涂布液。如上所述，当在供给储槽91与缓冲储槽92之间的配管951上插设有过滤器97时，优选的是如上所述般设置三通阀121。

缓冲储槽92具有接收经过滤器97过滤处理的涂布液并暂时加以蓄积的功能。在所述缓冲储槽92的蓄积空间内，设置有搅拌器921。搅拌器921与搅拌器驱动马达922(图4)连结。然后，当马达根据来自控制部8的旋转命令而进行旋转时，搅拌器921受到马达的旋转力而进行旋转。由此，对蓄积于缓冲储槽92中的涂布液进行搅拌。这时，通过搅拌而使溶存于涂布液中的气体成分成为比较大的气泡而浮起至涂布液的液面，从而从涂布液中加以去除(第1脱气处理)。

并且，为了将这样从涂布液中分离而去除的气泡从缓冲储槽92中有效率地排出，将缓冲储槽92经由配管956与真空泵99连接。所述真空泵99作为用于对缓冲储槽92及捕集储槽93的内部空间进行减压的负压供给源而发挥作用，并且与配管956的基端部连接。配管956的前端部分支成三根，其中的一根分支端部与缓冲储槽92连接。并且，在所述分支端部，插设有减压用阀131。因此，当根据来自控制部8的开闭命令而打开减压用阀131时，将缓冲储槽92的内部减压至低于大气压的压力，从缓冲储槽92中去除经第1脱气处理去除的比较大的气泡。再者，在本实施方式中，是使用真空泵99作为负压供给源，但是也可以使用设置涂布装置1的工厂的必需动力装置。

为了从缓冲储槽92输送这样经第1脱气处理的涂布液，在本实施方式中，设置有与供给储槽91同样的送液元件。即，将配管955的分支端部延伸设置于缓冲储槽92，并且在所述分支端部插设有送液用阀112。因此，当根据来自控制部8的开闭命令而打开送液用阀112时，将压缩空气供给至缓冲储槽92。受到压缩空气的按压力而将缓冲储槽92内的涂布液(经第1脱气处理的涂布液)经由配管952向捕集储槽93输送。

在本实施方式中，如上所述并列设置有两个捕集储槽93a、捕集储槽93b。更详细而言，如图3所示，配管952的捕集储槽侧的端部分支成两根，这些分支端部分别与捕集储槽93a、捕集储槽93b连接。并且，在这些分支端部分别插设有供给用阀124、供给用阀125。因此，如果根据来自控制部8的开闭命令而打开供给用阀124，则将从缓冲储槽92输送而来的涂布液供给至捕集储槽93a。相反地，如果关闭供给用阀124，则停止对捕集储槽93a输送涂布液。这些方面在另一个捕集储槽93b中也是同样。即，通过控制部8对供给用阀124、供给用阀125的开闭控制而可使经第1脱气处理的涂布液供给至捕集储槽93a、捕集储槽93b中的任一者或两者。

捕集储槽93(捕集储槽93a、捕集储槽93b)具有一边在内部空间暂时地静置涂布液一边受到来自真空泵99的负压，而去除比通过第1脱气处理而去除的气泡更小的气泡的功能。例如在捕集储槽93a中，与配管956的一个分支端部连接。在所述分支端部插设有减压用阀132。因此，如果根据来自控制部8的开闭命令而打开减压用阀132，则使捕集储槽93a的内部减压至低于大气压的压力。由此，小气泡从静置状态的涂布液有效率地浮起，从而可从涂布液中去除在第1脱气处理中难以去除的小气泡(第2脱气处理)。再者，在捕集储槽93b中也采用同样的构成，通过控制部8对减压用阀132、减压用阀133的开闭控制，可在捕集储槽93a、捕集储槽93b中以彼此独立的时序执行第2脱气处理。

为了从捕集储槽93a、捕集储槽93b输送这样经第2脱气处理的涂布液，设置有与供给储槽91或缓冲储槽92相同的送液元件。配管955的分支端部延伸设置于捕集储槽93a，并且在所述分支端部插设有送液用阀113。并且，将捕集储槽93a、捕集储槽93b与送液泵94加以连接的配管953如下所述般构成。即，配管953的捕集储槽侧的一个端部分支成两根，分别与捕集储槽93a、捕集储槽93b连接。并且，在这些分支端部分别插设有供给用阀126、供给用阀127。另一方面，配管953的另一端部与送液泵94连接。因此，当根据来自控制部8的开闭命令而分别打开及关闭供给用阀126、供给用阀127，并在此状态下打开送液用阀113时，将压缩空气供给至捕集储槽93a。受到压缩空气的按压力而将捕集储槽93a内的涂布液(经第2脱气处理的涂布液)经由配管953及供给用阀126向送液泵94输送。相反地，当根据来自控制部8的开闭命令而分别关闭及打开供给用阀126、供给用阀127，并在此状态下打开送液用阀114时，将压缩空气供给至捕集储槽93b。受到压缩空气的按压力而将捕集储槽93b内的涂布液(经第2脱气处理的涂布液)经由配管953及供给用阀127向送液泵94输送。如上所述可选择涂布液的供给源，但是当然也可以从捕集储槽93a、捕集储槽93b两者进行液体输送至送液泵94。并且，当送液泵94的液体输送能力高时，也可以构成为维持着停止压缩空气的供给的状态只通过供给用阀126、供给用阀127的开闭控制来进行涂布液的输送。

送液泵94如图3所示，通过配管954与狭缝喷嘴2连接。更详细而言，配管954的狭缝喷嘴侧的端部分支成两根，各分支端部与狭缝喷嘴2的供给口22连接。因此，当根据来自控制部8的动作命令，送液泵94进行运行，并且向捕集储槽93供给压缩空气时，利用送液泵94，将在捕集储槽93内经第2脱气处理的涂布液穿过配管954供给至狭缝喷嘴2。然后，将所述涂布液从狭缝喷嘴2的喷出口23喷出至基板3的上表面(涂布动作)。

图4是表示用于对图1所示的涂布装置的供给机构进行控制的电气构成的框图。在本实施方式中，为了对如上所述而构成的涂布装置1中所设置的各部的动作进行控制，设置有控制部8。所述控制部8与一般的计算机相同，包括进行各种运算处理的中央处理器(central processing unit，CPU)81、存储基本程序的读取专用的只读存储器(read only memory，ROM)82、存储各种信息的读写自如的随机存取存储器(random access memory，RAM)83、以及预先存储处理程序或数据等的固定磁盘84等。并且，控制部8通过在RAM 83中展开存储于固定磁盘84中的处理程序，利用CPU 81执行所述程序，来对涂布装置1的供给机构9的各部进行控制而执行如下处理：

·过滤处理；

·第1脱气处理；

·捕集(trap)处理；

·第2脱气处理；

·涂布处理。

以下，一边参照图5，一边对在涂布装置1中执行的涂布液的供给及涂布动作进行说明。

图5是示意性地表示图1所示的涂布装置中的供给机构的动作的图。所述图5中的虚线箭头表示供给机构9中的涂布液的流动的一例。在这里，为了使发明的特征容易理解，对如下时候的装置各部的动作进行说明：一方面在捕集储槽93a中的涂布液的蓄积量大幅下降，另一方面使经过滤处理、第1脱气处理及第2脱气处理的所有处理的涂布液，即适用于涂布处理的涂布液仅以对涂布处理而言充分的量蓄积于捕集储槽93b。

在这种情况下，控制部8关闭供给用阀125而防止新的涂布液流入至捕集储槽93b，并且关闭供给用阀126而防止涂布液从捕集储槽93a流入至送液泵94。然后，控制部8配合向基板3喷出涂布液的时序打开送液用阀114及供给用阀127。由此，通过送液泵94将蓄积于捕集储槽93b中的涂布液压送至狭缝喷嘴2，并从狭缝喷嘴2的喷出口23喷出至基板3的上表面(涂布动作)。

与所述涂布动作同时，控制部8如下所述般对装置各部进行控制，而进行过滤处理、第1脱气处理、向捕集储槽93a的捕集处理、在捕集储槽93a中的第2脱气处理。

控制部8对三通阀121进行切换以使供给储槽91的连接目的地成为缓冲储槽92侧，并且维持着手动阀122、手动阀123经打开的状态，打开送液用阀111而从压缩空气供给源96将压缩空气送入至供给储槽91。由此，蓄积于供给储槽91内的涂布液在配管951内流动，并经由三通阀121及手动阀122而压送至过滤器97，利用过滤器97进行异物去除(过滤处理)。然后，已穿过过滤器97的涂布液进而在配管951内流动，并经由手动阀123送入至缓冲储槽92。再者，在缓冲储槽92的液体输送后的适当时序，控制部8关闭送液用阀111而停止从供给储槽91输送涂布液。

为了在缓冲储槽92内对已去除异物的涂布液进行脱气，控制部8使连结于搅拌器921的马达运行而使搅拌器921旋转。并且，与搅拌器921的动作连动，控制部8打开减压用阀131而对缓冲储槽92内的压力进行减压以使其低于大气压，从而从缓冲储槽92中去除在涂布液的搅拌过程中产生的气泡。以如上所述方式可从涂布液中去除比较大的气泡(第1脱气处理)。但是，通过搅拌涂布液，比较小的气泡会分散于涂布液整体中，从而难以通过第1脱气处理将它们去除。因此，在本实施方式中，将经第1脱气处理的涂布液输送至捕集储槽93a，而暂时蓄积于所述捕集储槽93a中(捕集处理)。即，控制部8停止所述马达的旋转而使第1脱气处理结束之后，关闭减压用阀131而使缓冲储槽92内的减压停止，接着打开供给用阀124而形成从缓冲储槽92向捕集储槽93a的流路，并且打开送液用阀112而从压缩空气供给源96将压缩空气送入至缓冲储槽92。由此，使经第1脱气处理的涂布液在配管952内流动，并经由供给用阀124输送至捕集储槽93a加以捕集。然后，当向捕集储槽93a的送液量达到固定值时，控制部8关闭送液用阀112而停止从缓冲储槽92输送涂布液。

这样输送至捕集储槽93a的涂布液在静置状态下蓄积于捕集储槽93a内，因此在其蓄积过程中分散地存在于涂布液中的比较小的气泡会浮起来。并且，在使涂布液维持在静置状态的期间，控制部8打开减压用阀132而对捕集储槽93a内的压力进行减压以使其低于大气压，从而从捕集储槽93a中去除浮起来的气泡。以如上所述的方式可从涂布液中去除比较小的气泡(第2脱气处理)。由此，使适用于涂布处理的涂布液，即异物及溶存气体少的涂布液蓄积于捕集储槽93a中，从而为下一个涂布处理作准备。

然后，当蓄积于捕集储槽93b中的涂布液的量变少时，控制部8停止从捕集储槽93b的液体输送之后，开始从捕集储槽93a的液体输送而使涂布处理继续，并且与所述涂布动作同时进行过滤处理、第1脱气处理、向捕集储槽93b的捕集处理、在捕集储槽93b中的第2脱气处理。

如以上所述，在第1实施方式中，构成为对已利用过滤器97从高粘度的涂布液中去除异物的涂布液实施脱气处理，直至利用送液泵94输送至狭缝喷嘴2为止。因此，可获得如下的作用效果。如上所述，随着涂布液的粘度升高，过滤器压力损失增大，伴随于此，需要以高压力从供给储槽91输送涂布液。因此，在利用高粘度的涂布液进行涂布处理的涂布装置1中，为了良好地进行过滤处理，气体成分在涂布液中的溶解量会不可避免地增大。然而，在本实施方式中，是对已穿过过滤器97的涂布液实施脱气处理之后利用送液泵94将涂布液供给至狭缝喷嘴2。因此，可有效抑制所谓的“起泡”的产生，从而可从狭缝喷嘴2的喷出口23均匀地喷出涂布液，其结果可将涂布膜均匀地涂布于基板3的表面31上。

并且，在第1实施方式中，构成为对穿过过滤器97而来的涂布液实施互不相同的两种脱气处理，即“第1脱气处理”及“第2脱气处理”。而且，通过在缓冲储槽92内搅拌涂布液而去除比较大的气泡(第1脱气处理)，接着使已去除所述气泡的涂布液在捕集储槽93内静置而去除在第1脱气处理中难以去除的比较小的气泡。因此，尽管实施有过滤处理，也可以大幅降低溶存于涂布液中的气体成分量。其结果为，能够以高均匀性将涂布膜涂布于基板3的表面31上。

并且，在第1实施方式中，并列设置有两个捕集储槽93a、捕集储槽93b，在将蓄积于它们之中的一个中的涂布液输送至狭缝喷嘴2而进行涂布处理的同时，在另一者中进行第2脱气处理而准备涂布液。即，可同时进行涂布处理与为了在所述涂布处理之后进行的涂布处理中使用的涂布液的准备处理(过滤处理、第1脱气处理及第2脱气处理)。其结果为，无需迅速准备涂布液，便可有效率地进行涂布处理，从而可获得优异的生产能力(throughput)。再者，在第1实施方式中，并列设置有两个捕集储槽93，但是捕集储槽93的并列设置数量并不限定于此，也可以根据涂布处理的节拍时间并列设置三个以上的捕集储槽，并且与以上所述同样地同时进行涂布处理与准备处理。

再者，本发明并不限定于所述实施方式，只要不脱离其主旨，除了所述实施方式以外还可以进行各种变更。例如，在所述第1实施方式中，设置有多个捕集储槽93，但是例如也可以如图6所示，设置单个捕集储槽93(第2实施方式)。在所述第2实施方式中，也与第1实施方式同样地，通过在缓冲储槽92内进行涂布液的搅拌而进行第1脱气处理之后通过在捕集储槽93内进行涂布液的静置而进行第2脱气处理。因此，尽管实施有过滤处理，也可以大幅降低溶存于涂布液中的气体成分量。其结果为，能够以高均匀性将涂布膜涂布于基板3的表面31上。

并且，在所述第1实施方式或第2实施方式中，是分别在不同的储槽中进行第1脱气处理及第2脱气处理，但是例如也可以如图7所示，构成为在缓冲储槽92内进行两种脱气处理。即，构成为利用搅拌器921进行第1脱气处理之后，停止搅拌器921的旋转，在缓冲储槽92内使涂布液静置而进行第2脱气处理(第3实施方式)。在所述第3实施方式中，可以省略捕集储槽，而利用配管957将缓冲储槽92直接与送液泵94连接，从而与第1实施方式或第2实施方式相比可以简化装置构成。

并且，在第3实施方式中，缓冲储槽92的个数为“1”，但是例如也可以如图8所示构成为并列设置两个缓冲储槽92(缓冲储槽92a、缓冲储槽92b)，并且与第1实施方式同样地，同时进行涂布处理与准备处理(过滤处理、第1脱气处理及第2脱气处理)(第4实施方式)。在所述第4实施方式中，配管951的缓冲储槽侧的端部分支成两根，分别与缓冲储槽92a、缓冲储槽92b连接。并且，将缓冲储槽92与送液泵94加以连接的配管958也是缓冲储槽侧的端部分支成两根，分别与缓冲储槽92a、缓冲储槽92b连接。再者，如上所述在配管951、配管958的分支端部，与第1实施方式同样地，插设有供给用阀(相当于第1实施方式的供给用阀124～供给用阀127的阀)而可对涂布液的流路进行切换。

并且，在所述实施方式中，始终同时进行两种脱气处理，即第1脱气处理及第2脱气处理，但是第2脱气处理并非必需构成，而是任意构成。例如在第1实施方式中，是在捕集储槽93a、捕集储槽93b中进行第2脱气处理，但是也可以构成为捕集储槽93a、捕集储槽93b只发挥暂时捕集涂布液的捕集功能。

并且，在所述实施方式中，是使用压缩空气的按压力来从储槽输送涂布液，但是从储槽的液体输送形态并不限定于此。例如，也可以构成为利用挠性材料构成储槽，以物理方式对所述储槽进行加压来进行输送。

并且，在所述实施方式中，是将本发明应用于利用狭缝喷嘴2对作为涂布对象物的基板3的表面31涂布了涂布液的涂布装置1，但是本发明的应用范围并不限定于此。例如也可以将本发明应用于如下涂布装置：使用长条状的基材作为涂布对象物，通过使所述基材相对于狭缝喷嘴移动，而将涂布液涂布于基材的表面上的涂布装置。并且，喷嘴构成也并不限定于狭缝喷嘴。

如以上所说明般，在所述实施方式中，供给储槽91相当于本发明的“蓄积部”的一例。并且，缓冲储槽92、缓冲储槽92a、缓冲储槽92b相当于本发明的“第1脱气部”的一例。并且，捕集储槽93、捕集储槽93a、捕集储槽93b相当于本发明的“第2脱气部”或“捕集部”的一例。并且，供给配管系统95相当于本发明的“配管”的一例。并且，供给用阀124、供给用阀125相当于本发明的“输入侧阀”的一例，并且供给用阀126、供给用阀127相当于本发明的“输出侧阀”的一例，对这些构件进行控制的控制部8作为本发明的“切换控制部”而发挥作用，利用这些供给用阀124～供给用阀127及控制部8来构成本发明的“送液控制机构”。

如以上例示具体的实施方式所说明般，本发明也可以构成为还包括例如插设于第1脱气部与泵之间的配管上的第2脱气部，第1脱气部对已穿过过滤器的涂布液进行搅拌而去除气泡，第2脱气部对从第1脱气部送来的涂布液进行静置而去除比在第1脱气部中去除的气泡更小的气泡。

并且，也可以构成为还包括对从第1脱气部向第2脱气部的涂布液的液体输送进行控制，并对从第2脱气部向泵的液体输送进行控制的送液控制机构，第2脱气部并列设置有多个，送液控制机构包括：多个输入侧阀，插设于各第2脱气部的输入侧的配管；多个输出侧阀，插设于各第2脱气部的输出侧的配管；以及切换控制部，通过对多个输入侧阀及多个输出侧阀的开闭进行切换而从多个第2脱气部中已完成气泡的去除的第2脱气部输送涂布液，并且在剩下的第2脱气部中进行气泡的去除。

并且，也可以构成为第1脱气部在对已穿过过滤器的涂布液进行搅拌而去除气泡之后，对涂布液进行静置而去除比已通过涂布液的搅拌而去除的气泡更小的气泡。

并且，也可以构成为还包括对从过滤器向第1脱气部的涂布液的液体输送进行控制，并对从第1脱气部向泵的液体输送进行控制的送液控制机构，第1脱气部并列设置有多个，送液控制机构包括：多个输入侧阀，插设于各第1脱气部的输入侧的配管；多个输出侧阀，插设于各第1脱气部的输出侧的配管；以及切换控制部，通过对多个输入侧阀及多个输出侧阀的开闭进行切换而从多个第1脱气部中已完成气泡的去除的第1脱气部输送涂布液，并且在剩下的第1脱气部中进行气泡的去除。

此外，也可以构成为还包括：多个捕集部，并列地插设于第1脱气部与泵之间的配管，分别暂时蓄积从第1脱气部送来的涂布液；以及送液控制机构，对从第1脱气部向各捕集部的涂布液的液体输送进行控制，并对从各捕集部向泵的液体输送进行控制；并且送液控制机构包括：多个输入侧阀，插设于各捕集部的输入侧的配管；多个输出侧阀，插设于各捕集部的输出侧的配管；以及切换控制部，通过对多个输入侧阀及多个输出侧阀的开闭进行切换而从多个捕集部中的一个捕集部输送涂布液，并且在剩下的捕集部中进行涂布液的蓄积。

[产业上的可利用性]

本发明可应用于利用过滤器从涂布液中去除异物之后将所述涂布液涂布于基板上的所有涂布技术。

Claims (7)

1.一种涂布装置，将涂布液涂布于基板上，所述涂布装置的特征在于包括：

蓄积部，蓄积所述涂布液；

喷嘴，向所述基板喷出所述涂布液；

配管，使所述涂布液从所述蓄积部流通至所述喷嘴；

泵，插设于所述配管而将所述涂布液输送至所述喷嘴；

过滤器，插设于所述蓄积部与所述泵之间的所述配管而去除从所述蓄积部供给的所述涂布液中存在的异物；以及

第1脱气部，插设于所述过滤器与所述泵之间的所述配管而从已穿过所述过滤器的所述涂布液中去除气泡。

2.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于还包括：

第2脱气部，插设于所述第1脱气部与所述泵之间的所述配管上；

其中，所述第1脱气部对已穿过所述过滤器的所述涂布液进行搅拌而去除气泡，

所述第2脱气部将从所述第1脱气部送来的所述涂布液加以静置而去除比由所述第1脱气部去除的气泡更小的气泡。

3.根据权利要求2所述的涂布装置，其特征在于还包括：

送液控制机构，对从所述第1脱气部向所述第2脱气部的所述涂布液的液体输送进行控制，并对从所述第2脱气部向所述泵的液体输送进行控制；

其中，所述第2脱气部并列设置有多个，

所述送液控制机构包括：多个输入侧阀，插设于每一所述第2脱气部的输入侧的所述配管；多个输出侧阀，插设于每一所述第2脱气部的输出侧的所述配管；以及切换控制部，通过对所述多个输入侧阀及所述多个输出侧阀的开闭进行切换而从所述多个第2脱气部中已完成气泡去除的所述第2脱气部输送所述涂布液，并且在剩下的所述第2脱气部中进行气泡的去除。

4.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于：

所述第1脱气部在对已穿过所述过滤器的所述涂布液进行搅拌而去除气泡之后，将所述涂布液加以静置而去除比通过搅拌所述涂布液而去除的气泡更小的气泡。

5.根据权利要求1或4所述的涂布装置，其特征在于还包括：

送液控制机构，对从所述过滤器向所述第1脱气部的所述涂布液的液体输送进行控制，并对从所述第1脱气部向所述泵的液体输送进行控制；

其中，所述第1脱气部并列设置有多个，

所述送液控制机构包括：多个输入侧阀，插设于每一所述第1脱气部的输入侧的所述配管；多个输出侧阀，插设于每一所述第1脱气部的输出侧的所述配管；以及切换控制部，通过对所述多个输入侧阀及所述多个输出侧阀的开闭进行切换而从所述多个第1脱气部中已完成气泡去除的所述第1脱气部输送所述涂布液，并且在剩下的所述第1脱气部中进行气泡的去除。

6.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于还包括：

多个捕集部，并列地插设于所述第1脱气部与所述泵之间的所述配管，分别暂时地蓄积从所述第1脱气部送来的所述涂布液；以及

送液控制机构，对从所述第1脱气部向每一所述捕集部的所述涂布液的液体输送进行控制，并对从每一所述捕集部向所述泵的液体输送进行控制；

其中，所述送液控制机构包括：多个输入侧阀，插设于每一所述捕集部的输入侧的所述配管；多个输出侧阀，插设于每一所述捕集部的输出侧的所述配管；以及切换控制部，通过对所述多个输入侧阀及所述多个输出侧阀的开闭进行切换而从所述多个捕集部中的一个捕集部输送所述涂布液，并且在剩下的所述捕集部中进行所述涂布液的蓄积。

7.一种涂布方法，其特征在于包括如下步骤：

使从蓄积部供给的涂布液穿过过滤器而去除所述涂布液中存在的异物；

从已穿过所述过滤器的所述涂布液中去除气泡；以及

将经所述过滤器去除气泡的所述涂布液输送至喷嘴，并将所述涂布液从所述喷嘴喷出并涂布于基板上。