CN106200260B - 压印装置及物品的制造方法 - Google Patents

压印装置及物品的制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN106200260B
CN106200260B CN201510490307.9A CN201510490307A CN106200260B CN 106200260 B CN106200260 B CN 106200260B CN 201510490307 A CN201510490307 A CN 201510490307A CN 106200260 B CN106200260 B CN 106200260B
Authority
CN
China
Prior art keywords
mold
substrate
imprint
imprint material
pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201510490307.9A
Other languages
English (en)
Chinese (zh)
Other versions
CN106200260A (zh
Inventor
宝田洋佑
相原泉太郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Publication of CN106200260A publication Critical patent/CN106200260A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106200260B publication Critical patent/CN106200260B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0002Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Moulds For Moulding Plastics Or The Like (AREA)
CN201510490307.9A 2014-08-14 2015-08-11 压印装置及物品的制造方法 Active CN106200260B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2014-165198 2014-08-14
JP2014165198A JP6472189B2 (ja) 2014-08-14 2014-08-14 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106200260A CN106200260A (zh) 2016-12-07
CN106200260B true CN106200260B (zh) 2020-01-21

Family

ID=55301500

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201510490307.9A Active CN106200260B (zh) 2014-08-14 2015-08-11 压印装置及物品的制造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US10514599B2 (enExample)
JP (1) JP6472189B2 (enExample)
KR (1) KR101940365B1 (enExample)
CN (1) CN106200260B (enExample)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6659104B2 (ja) * 2014-11-11 2020-03-04 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置、型、および物品の製造方法
JP6700936B2 (ja) * 2016-04-25 2020-05-27 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
JP6762853B2 (ja) * 2016-11-11 2020-09-30 キヤノン株式会社 装置、方法、及び物品製造方法
JP7150535B2 (ja) * 2018-09-13 2022-10-11 キヤノン株式会社 平坦化装置、平坦化方法及び物品の製造方法
JP7431694B2 (ja) * 2020-07-28 2024-02-15 キヤノン株式会社 情報処理装置、膜形成装置、物品の製造方法、およびプログラム
US12194671B2 (en) 2021-07-30 2025-01-14 Canon Kabushiki Kaisha Information processing apparatus, molding apparatus, molding method, and article manufacturing method
JP7361831B2 (ja) * 2021-07-30 2023-10-16 キヤノン株式会社 情報処理装置、成形装置、成形方法及び物品の製造方法
CN116277912A (zh) * 2021-12-20 2023-06-23 上海鲲游科技有限公司 压印产品的制造设备及其方法

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004002702A (ja) * 2002-02-28 2004-01-08 Merck Patent Gmbh プレポリマー材料、ポリマー材料、インプリンティングプロセスおよびその使用
US6871558B2 (en) * 2002-12-12 2005-03-29 Molecular Imprints, Inc. Method for determining characteristics of substrate employing fluid geometries
US7157036B2 (en) 2003-06-17 2007-01-02 Molecular Imprints, Inc Method to reduce adhesion between a conformable region and a pattern of a mold
JP4217551B2 (ja) * 2003-07-02 2009-02-04 キヤノン株式会社 微細加工方法及び微細加工装置
JP4721393B2 (ja) * 2003-08-15 2011-07-13 キヤノン株式会社 近接場露光方法
KR101281279B1 (ko) 2007-02-06 2013-07-03 캐논 가부시끼가이샤 임프린트 방법 및 임프린트 장치
WO2008129962A1 (ja) * 2007-04-19 2008-10-30 Konica Minolta Holdings, Inc. 成形装置及びその制御方法
US8945444B2 (en) * 2007-12-04 2015-02-03 Canon Nanotechnologies, Inc. High throughput imprint based on contact line motion tracking control
JP5517423B2 (ja) 2008-08-26 2014-06-11 キヤノン株式会社 インプリント装置及びインプリント方法
US8652393B2 (en) * 2008-10-24 2014-02-18 Molecular Imprints, Inc. Strain and kinetics control during separation phase of imprint process
US8309008B2 (en) * 2008-10-30 2012-11-13 Molecular Imprints, Inc. Separation in an imprint lithography process
JP5173944B2 (ja) 2009-06-16 2013-04-03 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP5669377B2 (ja) * 2009-11-09 2015-02-12 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP5451450B2 (ja) * 2010-02-24 2014-03-26 キヤノン株式会社 インプリント装置及びそのテンプレート並びに物品の製造方法
JP5632633B2 (ja) 2010-03-26 2014-11-26 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
JP6004738B2 (ja) * 2011-09-07 2016-10-12 キヤノン株式会社 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP5938218B2 (ja) * 2012-01-16 2016-06-22 キヤノン株式会社 インプリント装置、物品の製造方法およびインプリント方法
JP6029494B2 (ja) 2012-03-12 2016-11-24 キヤノン株式会社 インプリント方法およびインプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP6180131B2 (ja) * 2012-03-19 2017-08-16 キヤノン株式会社 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP2014033050A (ja) * 2012-08-02 2014-02-20 Toshiba Corp インプリントシステム及びインプリント方法
JP6282069B2 (ja) * 2013-09-13 2018-02-21 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、検出方法及びデバイス製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR101940365B1 (ko) 2019-01-18
JP6472189B2 (ja) 2019-02-20
CN106200260A (zh) 2016-12-07
US10514599B2 (en) 2019-12-24
US20160046065A1 (en) 2016-02-18
JP2016042501A (ja) 2016-03-31
KR20160021053A (ko) 2016-02-24

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN106200260B (zh) 压印装置及物品的制造方法
US9778565B2 (en) Imprint apparatus and article manufacturing method
US7815824B2 (en) Real time imprint process diagnostics for defects
CN113412185B (zh) 生成液滴图案的方法、用于利用液滴图案使膜成形的系统、以及利用液滴图案制造物品的方法
US9910351B2 (en) Imprint apparatus and article manufacturing method
TWI671182B (zh) 壓印方法、壓印設備及物件製造方法
TW201544914A (zh) 微影裝置、決定方法及製造物品的方法
TW202105470A (zh) 壓印裝置及物品的製造方法
WO2016181644A1 (en) Imprint apparatus, imprinting method, and method of manufacturing product
JP5865332B2 (ja) インプリント装置、物品の製造方法、及びインプリント方法
JP7305430B2 (ja) 情報処理装置、プログラム、リソグラフィ装置、リソグラフィシステム、および物品の製造方法
CN109314077B (zh) 吸盘、基板保持设备、图案形成设备和制造物品的方法
TWI709161B (zh) 壓印裝置及物品的製造方法
KR20200115139A (ko) 성형 방법, 성형 장치, 임프린트 방법, 물품의 제조 방법, 및 물품 제조 시스템
JP6234207B2 (ja) インプリント方法、インプリント装置および物品の製造方法
JP2019062164A (ja) インプリント装置、インプリント方法、インプリント材の配置パターンの決定方法、および物品の製造方法
JP6450105B2 (ja) インプリント装置及び物品製造方法
KR20180051596A (ko) 임프린트 장치 및 물품 제조 방법
JP2017063111A (ja) モールド、インプリント方法、インプリント装置および物品の製造方法
JP2025034973A (ja) 異物検査方法、異物検査装置、成形方法、成型装置、及び物品の製造方法
JP2020038164A (ja) 位置検出装置、位置検出方法、型、インプリント装置および、物品の製造方法
JP2019201180A (ja) 付着物除去方法、成形装置、成形方法、および物品の製造方法
JP2023020870A (ja) 情報処理装置、成形装置、成形方法及び物品の製造方法
Amano et al. Measurement of the phase defect size using a scanning probe microscope and at-wavelength inspection tool
JP6250022B2 (ja) インプリント装置、物品の製造方法、及びインプリント方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant